JP4333147B2 - Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid - Google Patents

Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid Download PDF

Info

Publication number
JP4333147B2
JP4333147B2 JP2003021929A JP2003021929A JP4333147B2 JP 4333147 B2 JP4333147 B2 JP 4333147B2 JP 2003021929 A JP2003021929 A JP 2003021929A JP 2003021929 A JP2003021929 A JP 2003021929A JP 4333147 B2 JP4333147 B2 JP 4333147B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl group
fluorinated alkyl
sulfonic acid
containing sulfonic
alcohol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003021929A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004231570A (en
Inventor
庸行 太田黒
二郎 松尾
高章 坂本
聖史 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
DIC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DIC Corp filed Critical DIC Corp
Priority to JP2003021929A priority Critical patent/JP4333147B2/en
Publication of JP2004231570A publication Critical patent/JP2004231570A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4333147B2 publication Critical patent/JP4333147B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライドを原料とするフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
フッ素化アルキル基含有スルホン酸は、その構造から界面活性剤として利用される可能性が期待されている化合物であり、対応するフッ素化アルキル基含有スルホニルハライドの加水分解により合成可能であることが示されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0003】
しかしながら、前記特許文献1に示された合成方法ではフッ素化アルキル基含有スルホニルハライドを約100倍当量の水と約5倍当量の濃硫酸の存在下で、100℃で8時間加熱することにより、加水分解反応を行っていることから、原料として使用したフッ素化アルキル基含有スルホニルハライドと等モルのハロゲン化水素が反応系中に残存し溶解していることになる。これを除去し、目的とするフッ素化アルキル基含有スルホン酸を単離する為には、まずジエチルエーテルを用いた抽出を繰り返し、該エーテル中にフッ素化アルキル基含有スルホン酸を溶解させ、その後、該エーテルを蒸留によって取り除く必要がある。
【0004】
前述の手法を行うにあたっては、加水分解反応時に、硫酸を含む反応液を還流させていること、精製時に沸点、引火点ともに低いジエチルエーテルを多量に用いること、さらにスルホン酸を含む該エーテルを加熱し、蒸留を行うこと等、工程操作が煩雑な上、安全性の問題があり、工業的に該スルホン酸を得ることは不可能であった。また、精製後のフッ素化アルキル基含有スルホン酸中には副生成物であるハロゲン化水素由来のハロゲンイオンが多く残存し、その除去方法も確立されていない。
【0005】
【特許文献1】
米国特許第3825577号明細書(第3頁)
【0006】
【本発明が解決しようとする課題】
上記のような実情に鑑み、本発明の課題は、工業的に実用性があるハロゲンイオン含有量が少ないフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法を提供することにある。
【0007】
【問題を解決するための手段】
本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)を特定の純度のアルコール(B)中で脱ハロゲン化させてフッ素化アルキル基含有スルホン酸を得る方法は、工業的に実行可能なハロゲンイオン含有量が少ない該スルホン酸の製造方法であることを見出し、本発明を完成させた。
【0008】
即ち、本発明は、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)をガスクロマトグラフ測定による純度が99.0〜99.8%のアルコール(B)中で脱ハロゲン化することによりフッ素化アルキル基含有スルホン酸を得る、該スルホン酸の製造方法を提供するものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で製造するフッ素化アルキル基含有スルホン酸は、フッ素化アルキル基を含有することから、表面張力低下能力を有し界面活性剤として利用されることが期待できる化合物である。期待される界面活性効果としては、コーティング、モールディング用途における組成物の濡れ性、浸透性、はじき防止性、レベリング性、塗膜の均一性・均質性、表面改質性等が挙げられる。
【0010】
本発明で製造するフッ素化アルキル基含有スルホン酸としては、1分子中にフッ素化アルキル基とスルホン酸基を有するものであれば良く、特にその構造が制限されるものではない。該フッ素化アルキル基の鎖長、構造は目的とする用途、例えば界面活性剤として使用する場合には、これを添加剤として混合するコーティング材料や成形材料等の組成物の組成、目的とする性能のレベル等により適宜、選択されるものである。
【0011】
原料として使用するフッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)としては、目的とするフッ素化アルキル基含有スルホン酸と同じフッ素化アルキル基を有し、該アルキル基にスルホン酸基が結合する部位がスルホニルハライドである構造を持つ化合物であれば良く、その構造としては特に限定されるものではないが、例えば、下記一般式(1)
F(CF2)m(CH2)nSO2X (1)
(式中、Xはハロゲン原子であり、mは1〜12の整数であり、nは0〜12の整数である。)
で示されるものが挙げられる。
【0012】
前記一般式(1)中のフッ素化アルキル基〔F(CF2)m(CH2)n−〕は、優れた界面活性効果を得るために必要不可欠なセグメントであり、目的とするフッ素化アルキル基含有スルホン酸のフッ素化アルキル基と同じ構造を有する。前記一般式(1)中のmが13以上のものは原料化合物の工業的入手が難しく、且つ前記組成物に対する溶解性が悪くなり、また、前記一般式(1)中のnが13以上では前記組成物に対する溶解性が悪くなるので、式中のmが1〜12の整数であり、nが0〜12の整数であることが好ましく、界面活性効果に優れたフッ素化アルキル基含有スルホン酸が得られる点から、mは4〜8の整数であり、nが2又は4であることが特に好ましく、さらにmが6〜8の整数であり、nが2であることが最も好ましい。
【0013】
また、前記一般式(1)中のXはハロゲン原子であり、中でも塩素原子、臭素原子であることが好ましく、製造の容易さから塩素原子であることが好ましく、この場合は脱塩素反応となる。
【0014】
前記一般式(1)で示される化合物の好適なものの例としては、例えば3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクタンスルホニルクロライド、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホニルクロライド等が挙げられる。
【0015】
本発明で用いるアルコール類(B)としては、その構造について特に制限されるものではないが、炭素数1〜12のアルコール類であることが好ましく、特に反応終了後の脱溶剤工程が容易で、工程時間の短縮が可能である点から炭素数1〜4のアルコール類であることが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−メチルプロパノール等が挙げられ、これらの中でも、反応温度が低く安全性に優れる点からメタノールが特に好ましい。
【0016】
前記アルコール類(B)としては工業的に入手が可能であるアルコール類であり、ガスクロマトグラフ測定による純度が99.0〜99.8%であれば、特に制限されるものではないが、得られるフッ素化アルキル基含有スルホン酸中のハロゲンイオン含有量が低減できる点から、反応組成において系内の水分含有量がフッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)に対し1当量以下になるよう、水分含有量の少ないアルコール類(B)を使用することが好ましい。
【0017】
本発明の製造方法において、反応組成中に水分を含有する必要はなく、得られるフッ素化アルキル基含有スルホン酸中に含まれるハロゲンイオンを脱溶剤工程を行うことだけでより容易に低減できる点からは、アルコール類(B)に対し予めモレキュラーシーブ等を用いた脱水精製を行い、アルコール類(B)中の水分含有量を50ppmまで低減した脱水アルコール類を使用することも可能である。しかし、使用するアルコール類(B)中の水分を完全に除去することは難しく、かえって反応工程を煩雑にし、実用的ではないため、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)1当量に対して反応系内の水分量が0.01〜1.0当量であることが特に好ましい。
【0018】
この反応における原料仕込み比としては特に制限されるものではないが、操作が安全に行え、かつ反応終了後の精製工程が容易である点から、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)100重量部に対して、アルコール類(B)が100〜500重量部であることが好ましい。
【0019】
また、反応温度としては室温〜還流温度であり特に制限されるものではないが、脱ハロゲン化反応の工程時間が短縮できる点から50℃〜還流温度であることが好ましく、特に還流温度であることが好ましい。該反応時間としても特に制限されるものではなく、使用するアルコール類(B)及び反応温度によって適宜選択されるものであるが、0.5〜15時間であることが好ましく、反応生成物であるフッ素化アルキル基含有スルホン酸の安定性の点から、2〜7時間であることが特に好ましい。尚、反応の仕込み順序としては特に限定されるものではない。
【0020】
【実施例】
次に本発明を詳細に説明するために実施例を掲げる。尚、本発明がこれら実施例により、なんら限定されないことは勿論である。実施例中の「%」は特に断りのない限り、重量基準である。
【0021】
実施例1
撹拌機、還流装置、温度計を備えた500mlの四つ口フラスコに、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホニルクロライド50gおよびメタノール(和光純薬工業株式会社製、試薬特級、純度99.8%GC、)150gを仕込み、窒素雰囲気下、還流温度で5時間撹拌を行うことにより反応させた。この反応系において、系中に含まれる水分含有量としては、メタノール中の不純物が全て水であったとしても、原料で用いたスルホニルクロライドに対して0.18当量以下である。撹拌終了後、メタノールを減圧留去し、残った固体を室温で5時間減圧乾燥を行い、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホン酸51.2gを得た。
【0022】
実施例2
実施例1において、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホニルクロライド50gの代わりに、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチルスルホニルクロライド50gを用いる以外は実施例1と同様にして、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチルスルホン酸52.0gを得た。この反応系において、系中に含まれる水分含有量としては、メタノール中の不純物が全て水であったとしても、原料で用いたスルホニルクロライドに対して0.15当量以下である。
【0023】
実施例3
実施例1において、メタノール(試薬特級)150gの代わりにメタノール(和光純薬工業株式会社製、試薬1級、純度99.5%GC)150gを用いる以外は、実施例1と同様にして3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホン酸51.2gを得た。この反応系において、系中に含まれる水分含有量としては、メタノール中の不純物が全て水であったとしても、原料で用いたスルホニルクロライドに対して0.46当量以下である。
【0024】
実施例4
実施例1において、メタノール(試薬特級)150gの代わりに工業用メタノール(純度99.0%GC)150gを用いる以外は、実施例1と同様にして3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカンスルホン酸51.3gを得た。この反応系において、系中に含まれる水分含有量としては、メタノール中の不純物が全て水であったとしても、原料で用いたスルホニルクロライドに対して0.92当量以下である。
【0025】
試験例1〜4
実施例1〜4で得られたフッ素化アルキル基含有スルホン酸について、Metrohm社製 イオンクロマトグラフィー 761compact IC を使用してクロルイオン濃度を測定し、その結果を表1に示す。
【0026】
【表1】

Figure 0004333147
【0027】
本発明の製造方法では、クロルイオン含有量の少ないフッ素化アルキル基含有スルホン酸が容易に得られる事を確認した。
【0028】
【発明の効果】
本発明のよれば、フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)をアルコール(B)中で脱ハロゲン化反応することによりフッ素化アルキル基含有スルホン酸を得る、該スルホン酸の製造方法を提供できる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid using a fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide as a raw material.
[0002]
[Prior art]
A fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid is a compound that is expected to be used as a surfactant because of its structure, and can be synthesized by hydrolysis of the corresponding fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide. (For example, refer to Patent Document 1).
[0003]
However, in the synthesis method shown in Patent Document 1, the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide is heated at 100 ° C. for 8 hours in the presence of about 100 times equivalent of water and about 5 times equivalent of concentrated sulfuric acid. Since the hydrolysis reaction is performed, the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide used as a raw material and equimolar hydrogen halide remain in the reaction system and are dissolved. In order to remove this and isolate the desired fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid, first, extraction with diethyl ether is repeated, and the fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid is dissolved in the ether. The ether needs to be removed by distillation.
[0004]
In carrying out the above-described method, the reaction solution containing sulfuric acid is refluxed during the hydrolysis reaction, a large amount of diethyl ether having a low boiling point and flash point is used during purification, and the ether containing sulfonic acid is heated. However, the process operation such as distillation is complicated and there are safety problems, and it is impossible to obtain the sulfonic acid industrially. Further, in the fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid after purification, a large amount of halogen ions derived from hydrogen halide as a by-product remain, and a method for removing it has not been established.
[0005]
[Patent Document 1]
US Pat. No. 3,825,577 (page 3)
[0006]
[Problems to be solved by the present invention]
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a method for producing a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid having a low halogen ion content that is industrially practical.
[0007]
[Means for solving problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have dehalogenated a fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) in an alcohol (B) having a specific purity to thereby obtain a fluorinated alkyl group-containing sulfone. The method for obtaining the acid was found to be an industrially feasible method for producing the sulfonic acid with a low halogen ion content, and the present invention was completed.
[0008]
That is, the present invention provides a fluorinated alkyl group-containing sulfone by dehalogenating a fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) in an alcohol (B) having a purity of 99.0 to 99.8% as measured by gas chromatography. The present invention provides a method for producing the sulfonic acid to obtain an acid.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Since the fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid produced in the present invention contains a fluorinated alkyl group, it has a surface tension reducing ability and is expected to be used as a surfactant. Expected surface active effects include wettability, permeability, anti-repellency, leveling properties, coating film uniformity / homogeneity, surface modification properties, etc. for coating and molding applications.
[0010]
The fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid produced in the present invention is not particularly limited as long as it has a fluorinated alkyl group and a sulfonic acid group in one molecule. The chain length and structure of the fluorinated alkyl group are intended for use, for example, when used as a surfactant, the composition of a composition such as a coating material or a molding material to be mixed as an additive, and the intended performance The level is appropriately selected depending on the level.
[0011]
The fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) used as a raw material has the same fluorinated alkyl group as the target fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid, and the site where the sulfonic acid group is bonded to the alkyl group is sulfonyl. Any compound having a halide structure may be used, and the structure is not particularly limited. For example, the following general formula (1)
F (CF 2 ) m (CH 2 ) n SO 2 X (1)
(In the formula, X is a halogen atom, m is an integer of 1 to 12, and n is an integer of 0 to 12.)
The thing shown by is mentioned.
[0012]
The fluorinated alkyl group [F (CF 2 ) m (CH 2 ) n —] in the general formula (1) is an indispensable segment for obtaining an excellent surface-active effect. It has the same structure as the fluorinated alkyl group of the group-containing sulfonic acid. When m in the general formula (1) is 13 or more, it is difficult to industrially obtain the raw material compound, and the solubility in the composition is poor, and when n in the general formula (1) is 13 or more Since solubility in the composition deteriorates, m in the formula is an integer of 1 to 12, and n is preferably an integer of 0 to 12, and a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid excellent in surface-active effect. M is an integer of 4 to 8, particularly preferably n is 2 or 4, more preferably m is an integer of 6 to 8, and n is most preferably 2.
[0013]
X in the general formula (1) is a halogen atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom, more preferably a chlorine atom for ease of production. In this case, a dechlorination reaction occurs. .
[0014]
Examples of suitable compounds represented by the general formula (1) include 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctanesulfonyl. And chloride, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecanesulfonyl chloride and the like.
[0015]
The alcohols (B) used in the present invention are not particularly limited in terms of their structure, but are preferably alcohols having 1 to 12 carbon atoms, and in particular, the solvent removal step after completion of the reaction is easy, Alcohols having 1 to 4 carbon atoms are preferable from the viewpoint that the process time can be shortened, and examples thereof include methanol, ethanol, propanol, 2-methylpropanol, etc. Among these, the reaction temperature is low and safe. Methanol is particularly preferable from the viewpoint of excellent properties.
[0016]
Examples of the alcohol (B) Ri alcohols der an industrially possible availability, if 99.0 to 99.8% pure by gas chromatographic measurement, but are not particularly limited, resulting From the point that the halogen ion content in the fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid can be reduced, the water content in the system in the reaction composition is 1 equivalent or less with respect to the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A). It is preferable to use an alcohol (B) having a small content.
[0017]
In the production method of the present invention, it is not necessary to contain moisture in the reaction composition, and the halogen ions contained in the resulting fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid can be more easily reduced simply by performing a solvent removal step. Can be used by dehydrating and purifying the alcohol (B) in advance using a molecular sieve or the like, and reducing the water content in the alcohol (B) to 50 ppm. However, it is difficult to completely remove the water in the alcohol (B) to be used, which makes the reaction process complicated and impractical, so it reacts with 1 equivalent of the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A). It is particularly preferable that the amount of water in the system is 0.01 to 1.0 equivalent.
[0018]
Although it does not restrict | limit especially as raw material preparation ratio in this reaction, 100 weight part of fluorinated alkyl group containing sulfonyl halides (A) can be safely operated and the purification process after completion | finish of reaction is easy. The alcohol (B) is preferably 100 to 500 parts by weight.
[0019]
The reaction temperature is room temperature to reflux temperature and is not particularly limited, but is preferably 50 ° C. to reflux temperature from the viewpoint of shortening the process time of the dehalogenation reaction, and particularly the reflux temperature. Is preferred. The reaction time is not particularly limited and is appropriately selected depending on the alcohol (B) used and the reaction temperature, but is preferably 0.5 to 15 hours, and is a reaction product. From the viewpoint of the stability of the fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid, it is particularly preferably 2 to 7 hours. In addition, it does not specifically limit as the preparation order of reaction.
[0020]
【Example】
Next, examples are given to explain the present invention in detail. Needless to say, the present invention is not limited to these examples. In the examples, “%” is based on weight unless otherwise specified.
[0021]
Example 1
In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux apparatus and thermometer, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10 , 10-heptadecafluorodecanesulfonyl chloride and 150 g of methanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., reagent special grade, purity 99.8% GC), and stirring for 5 hours at reflux temperature in a nitrogen atmosphere Reacted. In this reaction system, the water content contained in the system is 0.18 equivalent or less with respect to the sulfonyl chloride used as a raw material, even if the impurities in methanol are all water. After completion of the stirring, the methanol was distilled off under reduced pressure, and the remaining solid was dried under reduced pressure at room temperature for 5 hours to obtain 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9, 5,1.2 g of 9,10,10,10-heptadecafluorodecanesulfonic acid was obtained.
[0022]
Example 2
In Example 1, instead of 50 g of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecanesulfonyl chloride, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctylsulfonyl chloride In the same manner as in Example 1, except for using 50 g of 3,3,4, , 4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctylsulfonic acid 52.0 g was obtained. In this reaction system, the water content contained in the system is 0.15 equivalent or less with respect to the sulfonyl chloride used as a raw material, even if the impurities in methanol are all water.
[0023]
Example 3
In Example 1, except that 150 g of methanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., reagent grade 1, purity 99.5% GC) is used instead of 150 g of methanol (special grade reagent), 3, 3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecanesulfonic acid 51.2 g was obtained. In this reaction system, the water content contained in the system is 0.46 equivalent or less with respect to the sulfonyl chloride used in the raw material, even if the impurities in methanol are all water.
[0024]
Example 4
In Example 1, except that 150 g of industrial methanol (purity 99.0% GC) was used instead of 150 g of methanol (special grade reagent), 3,3,4,4,5,5, 6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-Heptadecafluorodecanesulfonic acid 51.3 g was obtained. In this reaction system, the water content contained in the system is 0.92 equivalent or less with respect to the sulfonyl chloride used as a raw material, even if the impurities in methanol are all water.
[0025]
Test Examples 1-4
The fluorinated alkyl group-containing sulfonic acids obtained in Examples 1 to 4 were measured for chloro ion concentration using Metrohm Ion Chromatography 761compact IC, and the results are shown in Table 1.
[0026]
[Table 1]
Figure 0004333147
[0027]
In the production method of the present invention, it was confirmed that a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid having a low chloroion content was easily obtained.
[0028]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of this sulfonic acid which obtains a fluorinated alkyl group containing sulfonic acid by dehalogenating the fluorinated alkyl group containing sulfonyl halide (A) in alcohol (B) can be provided.

Claims (5)

フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)をガスクロマトグラフ測定による純度が99.0〜99.8%のアルコール(B)中で脱ハロゲン化させてフッ素化アルキル基含有スルホン酸を得ることを特徴とするフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法。The fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) is dehalogenated in an alcohol (B) having a purity of 99.0 to 99.8% by gas chromatographic measurement to obtain a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid. To produce a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid. 系内の水分量がフッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)1当量に対して0.01〜1.0当量である請求項1記載のフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法。  The method for producing a fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid according to claim 1, wherein the amount of water in the system is 0.01 to 1.0 equivalent relative to 1 equivalent of the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A). フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)が下記一般式(1)
F(CF(CHSOX (1)
(式中、Xはハロゲン原子であり、mは1〜12の整数であり、nは0〜12の整数である。)で示される化合物である請求項1又は2記載のフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法。
The fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) is represented by the following general formula (1)
F (CF 2 ) m (CH 2 ) n SO 2 X (1)
(Wherein, X is a halogen atom, m is an integer from 1 to 12, n is an integer of 0 to 12.) Fluorinated alkyl group containing of claim 1 or 2, wherein the is a compound represented by A method for producing sulfonic acid.
前記一般式(1)中のXが塩素原子であり、mが6〜8の整数であり、nが2であり、前記アルコール類(B)が炭素数1〜4のアルコールである請求項3記載のフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法。Wherein X in the general formula (1) is a chlorine atom, m is an integer of 6-8, n is 2, claim 3 wherein the alcohol (B) is an alcohol having 1 to 4 carbon atoms The manufacturing method of fluorinated alkyl group containing sulfonic acid of description. フッ素化アルキル基含有スルホニルハライド(A)を前記アルコール類(B)中、還流温度にて2〜7時間撹拌して脱ハロゲン化させる請求項1〜4のいずれか1項記載のフッ素化アルキル基含有スルホン酸の製造方法。The fluorinated alkyl group according to any one of claims 1 to 4, wherein the fluorinated alkyl group-containing sulfonyl halide (A) is dehalogenated in the alcohol (B) by stirring at reflux temperature for 2 to 7 hours. A method for producing a sulfonic acid.
JP2003021929A 2003-01-30 2003-01-30 Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid Expired - Fee Related JP4333147B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003021929A JP4333147B2 (en) 2003-01-30 2003-01-30 Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003021929A JP4333147B2 (en) 2003-01-30 2003-01-30 Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004231570A JP2004231570A (en) 2004-08-19
JP4333147B2 true JP4333147B2 (en) 2009-09-16

Family

ID=32951137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003021929A Expired - Fee Related JP4333147B2 (en) 2003-01-30 2003-01-30 Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4333147B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004231570A (en) 2004-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0898556B1 (en) A process for the production of hydrofluoroethers
KR101967822B1 (en) Bis(1,1-dichloro-3,3,3-trifluoropropyl)ether and method for producing same
JP2019500373A (en) Conversion of perfluorinated vinyl ethers to partially fluorinated saturated ether derivatives
JP4333147B2 (en) Method for producing fluorinated alkyl group-containing sulfonic acid
JP2006249160A (en) Sulfonated polyorganosilsesquioxane and its preparation method
JP4804762B2 (en) Method for producing fluorohalogen ether
TW201134791A (en) Method for purification of fluorine-containing compound
JP3954363B2 (en) Low molecular radical supply method, radical carrying molecule, polymer production method and polymer
KR101125167B1 (en) Process for preparing fluorohalogenethers
JPS6078925A (en) Production of 2,2-dihalogenohexafluoropropane
JP6074670B2 (en) Process for producing arene compounds containing perfluoroalkenyloxy groups
US7566806B2 (en) Alkylamino group-terminated fluoroether and process for producing the same
JP3172173B2 (en) Fluorocarbon compound and method for producing the same
EP3083645A2 (en) Perfluororalkylation of carbonyl compounds
JP6463364B2 (en) Process for producing oxysulfides and fluorinated derivatives by sulfination
Epifanov Studies on one-pot sulfuryl fluoride-mediated transformations of aliphatic alcohols
RU2550139C1 (en) Method for producing trimethyl(trifluoromethyl)silane
JP5267632B2 (en) Method for producing fluorinated (poly) ether-containing carbonyl fluoride
JPH07292490A (en) Production of aliphatic acid fluoride
JP2005306800A (en) Method for producing fluorine-containing ether compound
KR100780483B1 (en) Preparation of fluoroalkoxy trialkyl silane using acid catalysts supported on the imidazolium based polymer
JP2006219390A (en) Method for producing dithiosulfate compound
JP2003034676A (en) Method for producing styrene sulfonic acid esters
JP4518247B2 (en) Method for producing α, α-difluoromethyl compound
JP2015151384A (en) Ionic compound production method

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050823

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090310

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090430

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090602

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090615

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees