JP4326447B2 - 光回路およびその作製方法 - Google Patents
光回路およびその作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4326447B2 JP4326447B2 JP2004307458A JP2004307458A JP4326447B2 JP 4326447 B2 JP4326447 B2 JP 4326447B2 JP 2004307458 A JP2004307458 A JP 2004307458A JP 2004307458 A JP2004307458 A JP 2004307458A JP 4326447 B2 JP4326447 B2 JP 4326447B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical waveguide
- optical circuit
- mirror
- waveguide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
(1)他の受信部などの機能部分への悪影響を抑制するため、光路変換部で発生する漏えい光を抑制する。
(2)送信部などの他の機能部分で発生した漏えい光が、受光素子に入射するのを抑制する。
の2点の対策を行う。
従来のミラー作製方法は、ミラーを形成する材料を、エッチングやダイシング、レーザ加工等により加工して、ミラーとなる傾斜面を形成する。しかしながら、このような加工によって作製されたミラー面は面精度が低いため、反射効率の低下を招くという問題があった。そこで、本実施形態では、ミラー材料の堆積と同時に、ミラーとなる傾斜面が自己形成される方法を提供する。本実施形態は、ミラーを形成する面と対向する場所に、傾斜面を作製するための犠牲層を形成し、ECR−CVD(Electron Cyclotron Resonance − Chemical Vapor Deposition)、スパッタ法などの異方性を有する堆積方法により石英系材料を堆積する。犠牲層の上に堆積された石英系材料をリフトオフすることにより、ミラー面を形成することができる。詳細は、図4,7を参照して説明する。
このようにして、高反射率のミラーにより、光導波路37から出射された信号光を受光素子41に効率良く結合させ、他の機能部分への漏えい光を発生させない構造とすることができる。また、漏えい光をスラブ導波路40に結合させることにより、高いクロストークを有する受信機の作製を、低コストで実現することができる。
11,21,37,57,60,72,73 光導波路
12,22,41,61,77 受光素子
13,23 ミラー
24,40 スラブ導波路
31,51,71 基板
32,52 犠牲層
33,53 下部クラッド層
34,54 コア層
35,55 第1上部クラッド層
36,56 石英系材料
38,58,75 反射膜
39,59,76 第2上部クラッド層
74 残されたミラー部分
Claims (8)
- 基板上に形成された石英系ガラス材料からなる光回路であって、該光回路内の光導波路から出射された光の少なくとも一部を、前記基板の上面に配置された光学素子へ光路変換するミラーを含む光回路において、
前記光導波路の出射方向の光軸上に、前記光導波路を形成するときに異方性堆積を用いて堆積された傾斜面を有し、前記光導波路と光学的に結合する第2の光導波路であって、前記傾斜面に沿った曲げ部分を有する第2の光導波路を備え、
前記ミラーは、前記傾斜面に形成された反射膜であることを特徴とする光回路。 - 前記第2の光導波路は、スラブ導波路であることを特徴とする請求項1に記載の光回路。
- 基板上に形成された石英系ガラス材料からなる光回路であって、該光回路内の光導波路から出射された光の少なくとも一部を、前記基板の下面に配置された光学素子へ光路変換するミラーを含む光回路において、
前記光導波路は、前記光導波路の出射方向の端面に、前記光導波路を形成するときに異方性堆積を用いて堆積された傾斜面に沿った曲げ部分を有し、
前記ミラーは、前記傾斜面に形成された反射膜であることを特徴とする光回路。 - 前記光導波路の出射方向の光軸上に、前記光導波路を形成するときに異方性堆積を用いて堆積された傾斜面を有し、前記光導波路と光学的に結合する第2の光導波路であって、前記傾斜面に沿った曲げ部分を有する第2の光導波路をさらに備えたことを特徴とする請求項3に記載の光回路。
- 基板上に形成された石英系ガラス材料からなる光回路であって、該光回路内の光導波路から出射された光の少なくとも一部を、前記基板の上面に配置された光学素子へ光路変換するミラーを含む光回路の作製方法において、
前記基板上に傾斜面を作製するための犠牲層を形成する第1工程と、
前記光回路を構成する石英系材料により、下部クラッド層、コア層および第1上部クラッド層を、異方性堆積により堆積する第2工程と、
前記犠牲層を除去することにより、前記犠牲層上に堆積された前記石英系材料を取り除く第3工程と、
前記基板上に堆積された前記石英系材料をフォトリソグラフィーにより加工して導波路を形成する第4工程であって、前記導波路は、取り除かれた前記犠牲層の周囲に堆積された傾斜面に沿った曲げ部分を有する、第4工程と、
前記傾斜面に、前記ミラーとなる反射膜をコーティングする第5工程と
を備えたことを特徴とする光回路の作製方法。 - 前記第1工程は、前記犠牲層を、前記下部クラッド層、前記コア層および前記第1上部クラッド層の膜厚の合計の50%〜80%の膜厚で形成することを特徴とする請求項5に記載の光回路の作製方法。
- 前記第3工程は、HF処理により前記犠牲層の両壁に堆積された前記石英系材料を除去する工程と、有機溶剤により前記犠牲層を溶解して、前記犠牲層と前記石英系材料とを除去する工程とを含むことを特徴とする請求項5または6に記載の光回路の作製方法。
- 前記基板全体を覆う第2クラッド層を堆積する第6工程をさらに備えたことを特徴とする請求項5、6または7に記載の光回路の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004307458A JP4326447B2 (ja) | 2004-10-21 | 2004-10-21 | 光回路およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004307458A JP4326447B2 (ja) | 2004-10-21 | 2004-10-21 | 光回路およびその作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006119381A JP2006119381A (ja) | 2006-05-11 |
JP4326447B2 true JP4326447B2 (ja) | 2009-09-09 |
Family
ID=36537322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004307458A Expired - Fee Related JP4326447B2 (ja) | 2004-10-21 | 2004-10-21 | 光回路およびその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4326447B2 (ja) |
-
2004
- 2004-10-21 JP JP2004307458A patent/JP4326447B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006119381A (ja) | 2006-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7672559B2 (en) | Optical waveguide device and fabricating method thereof | |
US20040184705A1 (en) | Optical waveguide component and method of manufacturing the same | |
JP2000241645A (ja) | 光導波路回路とその製造方法 | |
JP2005070365A (ja) | 光導波路部品及びその作製方法 | |
US20060188207A1 (en) | Planar lightwave circuit with an optical protection layer and integrated optical circuit using the same | |
JP2891856B2 (ja) | 光路変換回路 | |
JP4326447B2 (ja) | 光回路およびその作製方法 | |
WO2014199831A1 (ja) | 光路変更素子、光路変更素子の接続構造、光源デバイスおよび光実装デバイス | |
JP3299191B2 (ja) | 光素子及び光部品 | |
JPH05323138A (ja) | 積層型光導波回路 | |
US20040184756A1 (en) | Method of manufacturing optical waveguide and the optical waveguide | |
US7495826B2 (en) | Hybrid integrated optical communication module comprising silicon-rich silicon oxide optical amplifier, and method for fabricating same | |
US6483964B1 (en) | Method of fabricating an optical component | |
JP3857707B2 (ja) | 光デバイスの製造方法 | |
JP4277840B2 (ja) | 光導波路デバイスの製造方法 | |
JP2009037054A (ja) | 光モジュール及びその製造方法 | |
JP4088299B2 (ja) | 光導波回路 | |
JP2002156538A (ja) | 光導波路デバイス及びその製造方法 | |
JP4003658B2 (ja) | レンズ列スポットサイズ変換型光回路 | |
JP2014153431A (ja) | 集積型受光素子 | |
JP2001091775A (ja) | 積層型石英系光導波路の製造方法 | |
JP2783817B2 (ja) | 光導波路装置の製造方法 | |
JP2001159719A (ja) | 光部品 | |
KR100335368B1 (ko) | 이중 도파로 구조를 구비하는 도파로형 광증폭기 및 그제조 방법 | |
CN118091838A (zh) | 改善光波导损耗和偏振敏感性的波导结构及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090602 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090609 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120619 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120619 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130619 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140619 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |