JP4303693B2 - Multilayer electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、地上波TV放送、携帯電話、テレビ付き携帯電話等の無線通信機器に使用され、数百MHz〜数GHzの高周波回路用のフィルタに関し、特に、たとえば、絶縁体層と導体パターンを積層して積層体内にバンドパスフィルタが形成された積層型バンドパスフィルタなどの積層型電子部品に関する。   The present invention relates to a filter for a high-frequency circuit of several hundred MHz to several GHz used for a radio communication device such as terrestrial TV broadcasting, a mobile phone, a mobile phone with a television, and more particularly, for example, an insulator layer and a conductor pattern. The present invention relates to a multilayer electronic component such as a multilayer bandpass filter that is laminated and a bandpass filter is formed in the multilayer body.

従来、たとえば特許文献1に記載されているような積層構造のバンドパスフィルタは、移動体通信機のRF回路部で使用され、要求される特性により、その回路定数を決定し、その定数を実現するために構造設計されている。   Conventionally, a band-pass filter having a laminated structure as described in, for example, Patent Document 1 is used in an RF circuit unit of a mobile communication device, and determines its circuit constant according to required characteristics and realizes the constant. Designed to be structural.

たとえば、特許文献1に示す積層型バンドパスフィルタの等価回路を図10に示す。この等価回路を実現するために、接地電極が形成された絶縁体層と、三つの容量電極が形成された絶縁体層と、接地電極およびスルーホール電極が形成された絶縁体層と、三つのコイル用導体パターンが形成された絶縁体層とが順次積層してある。そして、積層体内に3つのコイルが互いに電磁気的に結合する様に横に並べて配置してある。この構成によれば、図10に示す電気的な等価回路となり、所望の通過帯周波数のみ選択するフィルタ特性を得ている。   For example, FIG. 10 shows an equivalent circuit of the multilayer bandpass filter disclosed in Patent Document 1. In order to realize this equivalent circuit, an insulator layer in which a ground electrode is formed, an insulator layer in which three capacitor electrodes are formed, an insulator layer in which a ground electrode and a through-hole electrode are formed, and three An insulator layer on which a coil conductor pattern is formed is sequentially laminated. The three coils are arranged side by side so that the three coils are electromagnetically coupled to each other. According to this configuration, the electrical equivalent circuit shown in FIG. 10 is obtained, and a filter characteristic for selecting only a desired passband frequency is obtained.

ところで、昨今の無線通信機器のRF回路部の小型化から、必要とされるフィルタの小型化の要求は高い。フィルタ共振周波数を維持しつつ小型化するためには、同じインダクタの値を得ようとした場合、螺旋状に接続してコイルを形成する必要がある。しかしながら、コイル用導体パターンを螺旋状に接続してコイルを形成しているので、図11に示すように、3つの並列共振器を電磁気的に結合させたバンドパスフィルタを形成しようとした場合、中央の並列共振器を対称に形成することができない。   By the way, since the RF circuit part of recent wireless communication devices is downsized, there is a high demand for downsizing the required filter. In order to reduce the size while maintaining the filter resonance frequency, when trying to obtain the same inductor value, it is necessary to form a coil by connecting them spirally. However, since the coil is formed by connecting the coil conductor patterns in a spiral shape, as shown in FIG. 11, when trying to form a bandpass filter in which three parallel resonators are electromagnetically coupled, The central parallel resonator cannot be formed symmetrically.

したがって、従来の積層型バンドパスフィルタは、並列共振器1と並列共振器2との間と、並列共振器2と並列共振器3との間で、電磁気的な結合係数に差が生じ、所定の特性を得るために回路設計および構造設計が煩雑になるという問題があった。   Therefore, the conventional multilayer bandpass filter has a difference in electromagnetic coupling coefficient between the parallel resonator 1 and the parallel resonator 2 and between the parallel resonator 2 and the parallel resonator 3, and the predetermined In order to obtain the above characteristics, there has been a problem that circuit design and structure design become complicated.

また、従来では、三つのコイルを単一素子の内部で同一の平面内に収めるパターンであるために、導電パターン印刷時のズレなどにより、三つのうちの中央に位置するコイルと両側のそれぞれに位置するコイルとの電磁結合のバランスが悪くなりやすい。なお、電磁結合のバランスを悪くする製造時の原因としては、導電パターン印刷時のズレ以外に、積層体を素子ごとに切断する際のズレ、積層する際のズレなどが例示される。   In addition, conventionally, since the pattern is to fit three coils in the same plane inside a single element, the coil located at the center of the three and both sides due to misalignment when printing the conductive pattern, etc. The balance of electromagnetic coupling with the coil located is likely to deteriorate. In addition, as a cause at the time of manufacture which makes the balance of electromagnetic coupling worse, the gap | deviation at the time of cut | disconnecting a laminated body for every element other than the deviation | shift at the time of conductive pattern printing, the deviation | shift at the time of lamination | stacking, etc. are illustrated.

電磁結合のバランスが悪いと、バンドパスフィルタとしての機能を発揮する際に、広帯域化が困難になると共に、低損入損失化の設計が困難になるという課題を有する。
特開2000−295007号公報
If the balance of electromagnetic coupling is poor, when performing the function as a band-pass filter, there is a problem that it is difficult to broaden the band and it is difficult to design for low loss loss.
JP 2000-295007 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、素子のコンパクト化が可能であり、しかも、製造条件などによらず、電磁結合のバランスが良く、広帯域化が容易であると共に、低損入損失化の設計が容易であり、コイルの構造に起因する回路設計および構造設計の煩雑さを解消できる積層型バンドパスフィルタなどの電子部品を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and the object thereof is that the device can be made compact, and the electromagnetic coupling is well balanced regardless of the manufacturing conditions, etc. It is an object of the present invention to provide an electronic component such as a multilayer bandpass filter that can be easily designed with low loss and loss and can eliminate the complexity of circuit design and structural design due to the structure of the coil.

上記目的を達成するために、本発明に係る積層型電子部品は、
少なくとも三つのインダクタ(L1〜L3)が同一の素子本体内に形成されるように、導電パターン(2a〜15a)が形成された絶縁層(1〜15)が複数積層してある積層型電子部品であって、
三つの前記インダクタをそれぞれ形成するための第1コイルパターン(L1)、第2コイルパターン(L2−1,L2−2)、および第3コイルパターン(L3)のうちのいずれか一つのパターン(L2−1,L2−2)が、他の二つのコイルパターンとは異なる積層位置に形成してあり、これらの間の電磁結合(M1,M2)が、それらの間に存在する絶縁層(8)を介して積層方向に行われることを特徴としている。
In order to achieve the above object, a multilayer electronic component according to the present invention includes:
A multilayer electronic component in which a plurality of insulating layers (1-15) having conductive patterns (2a-15a) formed thereon are stacked so that at least three inductors (L1-L3) are formed in the same element body. Because
Any one of the first coil pattern (L1), the second coil pattern (L2-1, L2-2) and the third coil pattern (L3) for forming the three inductors (L2) -1, L2-2) are formed at different lamination positions from the other two coil patterns, and the electromagnetic coupling (M1, M2) between them is an insulating layer (8) between them. It is characterized by being carried out in the stacking direction.

好ましくは、任意に選択される三つの前記インダクタを等価回路で表した場合に、三つのうちの中央に位置するインダクタ(L2)を構成する第2コイルパターン(L2−1,L2−2)が、同一の前記絶縁層(7または8)の上で、二つに分割して形成される一対の第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)を有する。   Preferably, when the three arbitrarily selected inductors are represented by an equivalent circuit, the second coil pattern (L2-1, L2-2) constituting the inductor (L2) located at the center of the three inductors is provided. And a pair of second divided patterns (7a, 7b, 8a, 8b) formed in two on the same insulating layer (7 or 8).

好ましくは、一対の前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)が、同一平面において相互に線対称である。   Preferably, a pair of said 2nd division | segmentation patterns (7a, 7b, 8a, 8b) are mutually line symmetrical in the same plane.

好ましくは、一対の前記第2分割パターン(7a,7b)が、前記絶縁層(7)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の第2分割パターン(8a,8b)に対してそれぞれ接続してあり、第2分割コイルパターン(L2−1,L2−2)を形成している。   Preferably, a pair of the second divided patterns (7a, 7b) is different from another pair of second divided patterns (8a, 8b) formed at other stack positions via the insulating layer (7). Are connected to form a second divided coil pattern (L2-1, L2-2).

好ましくは、前記等価回路において、中央に位置するインダクタの両側に位置する二つのインダクタを構成する第1コイルパターン(L1)および第3コイルパターン(L3)が、同一の前記絶縁層(9または10)の上で、隣接して形成される第1パターン(9a,10a)および第3パターン(9b,10b,9c,10c)を有する。   Preferably, in the equivalent circuit, the first coil pattern (L1) and the third coil pattern (L3) constituting two inductors located on both sides of the inductor located at the center are the same in the insulating layer (9 or 10). ) Have a first pattern (9a, 10a) and a third pattern (9b, 10b, 9c, 10c) formed adjacent to each other.

好ましくは、前記第1パターン(9a,10a)および第3パターン(9b,10b)が、同一平面において、相互に線対称なパターンである。   Preferably, the first pattern (9a, 10a) and the third pattern (9b, 10b) are patterns that are line symmetrical with each other on the same plane.

好ましくは、一対の前記第1パターン(9a)および第3パターン(9b)が、前記絶縁層(9)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の前記第1パターン(10a)および第3パターン(10b)に対してそれぞれ接続してあり、それぞれ前記第1コイルパターン(L1)および第3コイルパターン(L3)を形成している。   Preferably, the pair of the first pattern (9a) and the third pattern (9b) is formed at another stack position via the insulating layer (9). And the third pattern (10b), respectively, and form the first coil pattern (L1) and the third coil pattern (L3), respectively.

好ましくは、前記第3コイルパターン(L3)が、同一の前記絶縁層(9または10)の上で、二つに分割して形成される一対の第3分割パターン(9b、9c、10b、10c)を有する。   Preferably, the third coil pattern (L3) is divided into two on the same insulating layer (9 or 10), and a pair of third divided patterns (9b, 9c, 10b, 10c) are formed. ).

好ましくは、一対の前記第3分割パターン(9b、9c、10b、10c)が、同一平面において、相互に線対称なパターンである。   Preferably, the pair of third divided patterns (9b, 9c, 10b, 10c) are patterns that are line-symmetric with each other on the same plane.

好ましくは、一対の前記第3分割パターン(9b、9c)が、前記絶縁層(9)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の前記第3分割パターン(10b、10c)に対してそれぞれ接続してあり、それぞれ第3分割コイルパターン(L3−1,L3−2)を形成している。   Preferably, a pair of the third divided patterns (9b, 9c) is formed into another pair of the third divided patterns (10b, 10c) formed at other stack positions via the insulating layer (9). The third divided coil patterns (L3-1 and L3-2) are formed respectively.

好ましくは、前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)が形成される前記絶縁層(7,8)の上に、それぞれ第4コイルパターン(L4)を形成するための第4パターン(7c,8c)が、前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)に隣接して形成してある。   Preferably, a fourth pattern (L4) for forming a fourth coil pattern (L4) is formed on the insulating layer (7, 8) on which the second divided pattern (7a, 7b, 8a, 8b) is formed. 7c, 8c) are formed adjacent to the second divided pattern (7a, 7b, 8a, 8b).

好ましくは、前記第4コイルパターン(L4)が、前記絶縁層(8)を介して、一つの前記第3分割コイルパターン(L3−2)に対して、電磁結合(M4)が行われている。   Preferably, the fourth coil pattern (L4) is electromagnetically coupled (M4) to one third divided coil pattern (L3-2) via the insulating layer (8). .

好ましくは、前記第4コイルパターン(L4)には、このコイルパターン(L4)が形成される積層位置とは異なる積層位置に形成してあるキャパシタ(C4)が電気的に接続してある。   Preferably, the fourth coil pattern (L4) is electrically connected to a capacitor (C4) formed at a lamination position different from the lamination position where the coil pattern (L4) is formed.

好ましくは、前記第1コイルパターン(L1)、第2コイルパターン(L2−1,L2−2)、および第3コイルパターン(L3,L3−1,L3−2)のそれぞれには、これらのコイルパターンが形成される積層位置とは異なる積層位置に形成してあるキャパシタ(C1,C2−1,C2−2,C3,C3−1,C3−2)がそれぞれ電気的に接続され、バンドパスフィルタを構成している。   Preferably, each of the first coil pattern (L1), the second coil pattern (L2-1, L2-2), and the third coil pattern (L3, L3-1, L3-2) includes these coils. Capacitors (C1, C2-1, C2-2, C3, C3-1, C3-2) formed at different lamination positions from the lamination position where the pattern is formed are electrically connected to each other, and a bandpass filter Is configured.

好ましくは、前記第2コイルパターン(L2−1,L2−2)に接続される第2キャパシタ(C2−1,C2−2)と、前記第1および第3コイルパターン(L1,L3,L3−1,L3−2)に接続される第1および第3キャパシタ(C1,C3,C3−1,C3−2)とは、相互に別の積層位置に形成される。   Preferably, the second capacitor (C2-1, C2-2) connected to the second coil pattern (L2-1, L2-2), and the first and third coil patterns (L1, L3, L3-). 1, L3-2) and the first and third capacitors (C1, C3, C3-1, C3-2) connected to each other are formed at different stack positions.

好ましくは、第1および第3キャパシタ(C1,C3,C3−1,C3−2)は、複数の層で相互に同じ積層位置に形成される。   Preferably, the first and third capacitors (C1, C3, C3-1, C3-2) are formed in a plurality of layers at the same stack position.

好ましくは、前記2キャパシタ(C2−1,C2−2)と前記第4キャパシタ(C4)とは、複数の層で相互に同じ積層位置に形成される。   Preferably, the two capacitors (C2-1, C2-2) and the fourth capacitor (C4) are formed in a plurality of layers at the same stack position.

本発明に係る積層型電子部品では、3つの並列共振回路を構成する第1コイルパターン(L1)、第2コイルパターン(L2−1,L2−2)、および第3コイルパターン(L3)のうちのいずれか一つのパターン(L2−1,L2−2)が、他の二つのコイルパターンとは異なる積層位置に形成してあり、これらの間の電磁結合(M1,M2)が、それらの間に存在する絶縁層(8)を介して積層方向に行われる。そのため、電磁結合(M1,M2)が平面方向に形成してある従来の構造に比較して、大幅に、素子のコンパクト化が可能となる。具体的には、3個のコイルを水平面上で構成する場合に比べ、2/3の実装面積になる。   In the multilayer electronic component according to the present invention, among the first coil pattern (L1), the second coil pattern (L2-1, L2-2), and the third coil pattern (L3) constituting three parallel resonant circuits. Any one of the patterns (L2-1, L2-2) is formed at a different lamination position from the other two coil patterns, and the electromagnetic coupling (M1, M2) between them is between them. Is carried out in the stacking direction via the insulating layer (8) present in FIG. Therefore, compared with the conventional structure in which the electromagnetic coupling (M1, M2) is formed in the plane direction, the element can be greatly downsized. Specifically, the mounting area is 2/3 compared to the case where three coils are configured on a horizontal plane.

また、導電パターン印刷時のズレ、積層体を素子ごとに切断する際のズレ、積層する際のズレなどの製造誤差があったとしても、電磁結合(M1,M2)が、絶縁層(8)を介して積層方向に形成してあるために、電磁結合(M1,M2)のバラツキを抑制することが可能になる。   In addition, even if there are manufacturing errors such as misalignment during printing of the conductive pattern, misalignment when the laminate is cut for each element, misalignment when laminating, the electromagnetic coupling (M1, M2) is not affected by the insulating layer (8). Therefore, variations in electromagnetic coupling (M1, M2) can be suppressed.

さらに、本発明では、素子本体(積層体)内に左右対称なコイルを形成することができる。この様に形成されたコイルによって作り出される電磁界分布は左右対称となり、2つの電磁結合係数は共通となる。   Furthermore, in the present invention, a symmetrical coil can be formed in the element body (laminated body). The electromagnetic field distribution produced by the coil formed in this way is symmetrical, and the two electromagnetic coupling coefficients are common.

また、この構成によれば、第1コイルパターンと第3コイルパターン(第1と第3の共振回路)は、水平方向に隣り合わせて配置することになり、この間に発生する電磁結合により、高域の周波数域に減衰域極を設けることが容易となり、選択度の高いフィルタ特性を得ることが可能となる。   In addition, according to this configuration, the first coil pattern and the third coil pattern (first and third resonance circuits) are arranged adjacent to each other in the horizontal direction, and high frequencies are generated by electromagnetic coupling generated therebetween. It is easy to provide an attenuation region pole in the frequency region, and it is possible to obtain filter characteristics with high selectivity.

したがって、本発明の積層型電子部品をバンドパスフィルタとして用いた場合に、広帯域化が容易であると共に、低損入損失化の設計が容易であり、コイルの構造に起因する回路設計および構造設計の煩雑さを解消できる。   Therefore, when the multilayer electronic component of the present invention is used as a band-pass filter, it is easy to widen the band, and it is easy to design for low loss loss, and the circuit design and structure design resulting from the coil structure Can be eliminated.

さらに、本発明において、同一の前記絶縁層(9または10)の上で、二つに分割して形成される一対の第3分割パターン(9b、9c、10b、10c)が形成される共に、第4コイルパターン(L4)が形成される場合には、単一素子の内部で、インダクタの数を増大することが可能になり、さらに、コンパクト化が可能である。しかも、この場合には、第4コイルパターン(L4)が、前記絶縁層(8)を介して、一つの前記第3分割コイルパターン(L3−2)に対して、積層方向に電磁結合(M4)が行われているので、その電磁結合(M1,M2のみでなくM4)のバラツキを抑制することが可能になる。   Furthermore, in the present invention, a pair of third divided patterns (9b, 9c, 10b, 10c) formed in two on the same insulating layer (9 or 10) are formed. When the fourth coil pattern (L4) is formed, the number of inductors can be increased inside the single element, and further downsizing can be achieved. In addition, in this case, the fourth coil pattern (L4) is electromagnetically coupled (M4) in the stacking direction to the third divided coil pattern (L3-2) via the insulating layer (8). ) Is performed, it is possible to suppress variations in the electromagnetic coupling (not only M1 and M2 but also M4).

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層型バンドパスフィルタの分解斜視図、
図2はその積層型バンドパスフィルタの全体斜視図、
図3はその積層型バンドパスフィルタの等価回路図、
図4Aは本発明の他の実施形態に係る積層型バンドパスフィルタの分解斜視図、
図4Bは積層方向の電磁結合を示す概略分解図、
図5は図4Aに示す積層型バンドパスフィルタの等価回路図、
図6は図1に示す実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフ、
図7は図1に示すパターンの水平間隔Lxを変化させた場合の実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフ、
図8は図4Aに示す実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフ、
図9は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタの等価回路図、
図10は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタのコイル部分の概略図、
図11は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフである。
第1実施形態
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is an exploded perspective view of a multilayer bandpass filter according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is an overall perspective view of the multilayer bandpass filter,
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the multilayer bandpass filter.
FIG. 4A is an exploded perspective view of a multilayer bandpass filter according to another embodiment of the present invention,
FIG. 4B is a schematic exploded view showing electromagnetic coupling in the stacking direction,
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the multilayer bandpass filter shown in FIG. 4A.
FIG. 6 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the embodiment shown in FIG.
FIG. 7 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the embodiment when the horizontal interval Lx of the pattern shown in FIG. 1 is changed.
FIG. 8 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the embodiment shown in FIG. 4A.
FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of a multilayer bandpass filter according to a comparative example of the present invention.
FIG. 10 is a schematic diagram of a coil portion of a multilayer bandpass filter according to a comparative example of the present invention,
FIG. 11 is a graph showing characteristics of the multilayer bandpass filter according to the comparative example of the present invention.
First embodiment

本発明の一実施形態に係る積層バンドパスフィルタは、3つ以上の並列共振回路を備えている。すなわち、必要な周波数に共振させるために、3対以上のインダクタおよびコンデンサを有し、これらのインダクタの電磁結合が同じとなるように構成してある。   A multilayer bandpass filter according to an embodiment of the present invention includes three or more parallel resonant circuits. That is, in order to resonate at a necessary frequency, three or more pairs of inductors and capacitors are provided, and the electromagnetic coupling of these inductors is the same.

図1〜図3に示すように、本実施形態に係る積層型バンドパスフィルタは、導電パターン2a〜15aがそれぞれ形成された絶縁層2〜15と、必要に応じて導電パターンが何ら形成されていない絶縁層1とが積層してある素子本体40を有する。図2に示すように、素子本体40は、直方体形状を有し、その大きさは、策に限定されないが、縦1.0〜2.0mm、横0.5〜1.25mm、高さ(積層方向Zに一致する)0.6〜1.0mm程度である。   As shown in FIGS. 1 to 3, the multilayer bandpass filter according to this embodiment has insulating layers 2 to 15 each having conductive patterns 2 a to 15 a formed thereon, and any conductive patterns as necessary. It has the element main body 40 laminated | stacked with the insulating layer 1 which is not. As shown in FIG. 2, the element body 40 has a rectangular parallelepiped shape, and the size thereof is not limited to the plan, but the length is 1.0 to 2.0 mm, the width is 0.5 to 1.25 mm, and the height ( About 0.6 to 1.0 mm) (corresponding to the stacking direction Z).

素子本体40の対向する長辺側の二側面には、接地端子電極42および44が形成してあり、その他の対向する短辺側の二側面には、入力端子電極46および出力端子電極48が形成してある。これらの端子電極46および48の材質は、特に限定されないが、たとえばAu、Ag、Cu、及びそれらを主成分とする合金などが用いられる。   Ground terminal electrodes 42 and 44 are formed on two opposing long side surfaces of the element body 40, and an input terminal electrode 46 and an output terminal electrode 48 are formed on the other two opposing short side surfaces. It is formed. Although the material of these terminal electrodes 46 and 48 is not specifically limited, For example, Au, Ag, Cu, an alloy mainly containing them, or the like is used.

素子本体40は、図1に示すように、積層方向Zの上から下に向けて、絶縁層1〜15が積層してある。絶縁層1〜15は、たとえば誘電体グリーンシートを積層後に焼成して得られる。絶縁層1〜15の材質は、特に限定されず、たとえばBaTiO系、BaZrO系、BaNdTi系、BaSnTi系などの誘電体材料が用いられる。各絶縁層1〜15の厚みは、好ましくは40〜80μmである。 As shown in FIG. 1, the element body 40 has insulating layers 1 to 15 stacked from the top to the bottom in the stacking direction Z. The insulating layers 1 to 15 are obtained, for example, by laminating dielectric green sheets and firing them. The material of the insulating layer 15 is not particularly limited, for example, BaTiO 3 system, BaZrO 3 system, BaNdTi system, a dielectric material such as BaSnTi system used. The thickness of each insulating layer 1-15 is preferably 40-80 μm.

各絶縁層2〜15の上に形成してある導電パターン2a〜15aは、絶縁層2〜15となる誘電体グリーンシートの表面に印刷法などで形成され、グリーンシートと共に焼成されて内部電極となる。導電パターン2a〜15aを構成する金属としては、特に限定されず、Au、Ag、Cu、及びそれらを主成分とする合金などが例示される。   The conductive patterns 2a to 15a formed on the insulating layers 2 to 15 are formed on the surface of the dielectric green sheet to be the insulating layers 2 to 15 by a printing method or the like, and are baked together with the green sheet to form the internal electrodes. Become. It does not specifically limit as a metal which comprises the conductive patterns 2a-15a, Au, Ag, Cu, an alloy which has them as a main component, etc. are illustrated.

絶縁層2の表面に形成してある導電パターン2aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42および44に接続するためのリードパターンが形成してある。   The conductive pattern 2a formed on the surface of the insulating layer 2 is a portion to be a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. And lead patterns for connection to 44 are formed.

絶縁層3の上に形成してある一対の導電パターン3a,3bは、それぞれ第2分割キャパシタC2−1およびC2−2におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。これらの導電パターン3a,3bは、それぞれコンタクトホール20および22を通して、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2を構成する第2分割導電パターン7a,7bの一端にそれぞれ接続してある。   The pair of conductive patterns 3a and 3b formed on the insulating layer 3 are portions serving as electrodes on the connection side with the inductor in the second divided capacitors C2-1 and C2-2, respectively. These conductive patterns 3a and 3b are respectively connected to one ends of second divided conductive patterns 7a and 7b constituting second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two through contact holes 20 and 22, respectively. It is.

絶縁層4の上に形成してある導電パターン4aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42および44に接続するためのリードパターンが形成してある。   The conductive pattern 4a formed on the insulating layer 4 is a portion serving as a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. And lead patterns for connection to 44 are formed.

絶縁層5の上に形成してある一対の導電パターン5a,5bは、それぞれ第2分割キャパシタC2−1およびC2−2におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。これらの導電パターン5a,5bは、それぞれコンタクトホール20および22を通して、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2を構成する第2分割導電パターン7a,7bの一端にそれぞれ接続してある。なお、一対の導電パターン5a,5bは、連絡導電パターン5cにより接続してある。この連絡導電パターン5cは、図3に示す等価回路において、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2のキャパシタ側接続部の相互を連絡する回路である。   The pair of conductive patterns 5a and 5b formed on the insulating layer 5 are portions serving as electrodes on the connection side with the inductor in the second divided capacitors C2-1 and C2-2, respectively. These conductive patterns 5a and 5b are respectively connected to one ends of second divided conductive patterns 7a and 7b constituting second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two through contact holes 20 and 22, respectively. It is. The pair of conductive patterns 5a and 5b are connected by a connecting conductive pattern 5c. This connection conductive pattern 5c is a circuit for connecting the capacitor side connection portions of the second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two in the equivalent circuit shown in FIG.

絶縁層6の上に形成してある導電パターン6aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42に接続するためのリードパターンが形成してある。   The conductive pattern 6a formed on the insulating layer 6 is a portion serving as a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. A lead pattern is formed for connection to the wire.

絶縁層7の上に形成してある一対の導電パターン7a,7bは、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2の一部を構成し、絶縁層7の上の平面において、相互に線対称なC字形状(コイル形状)のパターンである。各導電パターン7a,7bの一端は、前述したように、スルーホール20および22を通して、第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における一方の電極と接続する。また、各導電パターン7a,7bの他端は、スルーホール24および26を通して、積層方向Zの下に位置する絶縁層8の上に形成してある一対のU字形状(その他のコイル形状)の導電パターン8a,8bの各一端に対して接続してある。   A pair of conductive patterns 7 a and 7 b formed on the insulating layer 7 constitutes a part of the second divided inductors L 2-1 and L 2-2 divided into two, and a plane above the insulating layer 7. 2 are C-shaped (coil-shaped) patterns that are line-symmetric with each other. As described above, one end of each of the conductive patterns 7a and 7b is connected to one electrode of the second divided capacitors C2-1 and C2-2 through the through holes 20 and 22. The other end of each conductive pattern 7a, 7b has a pair of U-shapes (other coil shapes) formed on the insulating layer 8 located below the stacking direction Z through the through holes 24 and 26. The conductive patterns 8a and 8b are connected to the respective ends.

絶縁層8の上に形成してある導電パターン8a,8bは、上の層に形成してある導電パターン7a,7bに対してコンタクトホール24および26を通してそれぞれ接続されることで、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2の一部を構成する。これらの導電パターン8a,8bにおけるコンタクトホール24および26との接続部の反対側の端部は、リード部により共通して接続され、図2に示す接地端子42に接続されるようになっている。   The conductive patterns 8a and 8b formed on the insulating layer 8 are divided into two parts by being connected to the conductive patterns 7a and 7b formed on the upper layer through the contact holes 24 and 26, respectively. The second divided inductors L2-1 and L2-2 are partly configured. The ends of the conductive patterns 8a and 8b opposite to the connection portions with the contact holes 24 and 26 are connected in common by the lead portions and are connected to the ground terminal 42 shown in FIG. .

絶縁層8の積層方向Zの下に位置する絶縁層9の上に形成してある一対の第1および第3導電パターン9a,9bは、上の層に位置する導電パターン8a,8bと実質的に同一のコイルパターンであり、リード部により共通して接続され、図2に示す接地端子42に接続されるようになっている。   The pair of first and third conductive patterns 9a and 9b formed on the insulating layer 9 positioned below the stacking direction Z of the insulating layer 8 is substantially the same as the conductive patterns 8a and 8b positioned on the upper layer. The same coil pattern is connected in common by the lead portion, and is connected to the ground terminal 42 shown in FIG.

絶縁層9の積層方向の下方に位置する絶縁層10の表面に形成してある一対の第1および第3導電パターン10a,10bは、絶縁層10の上の平面において、相互に線対称なC字形状(コイル形状)のパターンである。すなわち、一対の第1および第3導電パターン10a,10bは、他の積層位置に形成してある一対の導電パターン7a,7bと実質的に同一のコイル状パターンである。   The pair of first and third conductive patterns 10a and 10b formed on the surface of the insulating layer 10 located below the stacking direction of the insulating layer 9 has a C line symmetry with respect to each other on a plane above the insulating layer 10. It is a character-shaped (coil shape) pattern. That is, the pair of first and third conductive patterns 10a and 10b are substantially the same coil-shaped pattern as the pair of conductive patterns 7a and 7b formed at other stacked positions.

各導電パターン10a,10bの一端は、前述したように、スルーホール28および30を通して、積層方向Zの上に位置する絶縁層9の上に形成してある一対のU字形状(コイル形状)の導電パターン9a,9bの各一端に対して接続してあり、それぞれ、第1および第3インダクタL1およびL3を構成している。   As described above, one end of each of the conductive patterns 10a and 10b has a pair of U-shapes (coil shapes) formed on the insulating layer 9 positioned above the stacking direction Z through the through holes 28 and 30. The conductive patterns 9a and 9b are connected to the respective one ends, and constitute first and third inductors L1 and L3, respectively.

各導電パターン10a,10bの他端は、スルーホール32および34を通して、その積層方向Zの下に位置する第1および第3キャパシタC1およびC3のインダクタ側電極を構成する第1および第3導電パターン12a,12b,14a,14bに接続してある。   The other ends of the conductive patterns 10a and 10b are through the through holes 32 and 34, and the first and third conductive patterns constituting the inductor side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3 located below the stacking direction Z. 12a, 12b, 14a, 14b.

絶縁層10の下方に位置する絶縁層11の上に形成してある導電パターン11aは、第1および第3キャパシタC1およびC3の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42に接続される。なお、接地端子42および44は、図3に示すように、アース接続される。   The conductive pattern 11a formed on the insulating layer 11 located below the insulating layer 10 constitutes the ground side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3, and the lead portion thereof is connected to the ground shown in FIG. Connected to terminal 42. The ground terminals 42 and 44 are grounded as shown in FIG.

絶縁層11の下方に位置する絶縁層12の上に形成してある一対の線対称な導電パターン12aおよび12bは、第1および第3キャパシタC1およびC3の入出力側電極を構成し、それぞれのリード部12c、12dが、図2に示す入力端子46および出力端子48に接続される。   A pair of line-symmetric conductive patterns 12a and 12b formed on the insulating layer 12 located below the insulating layer 11 constitutes the input / output side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3. Lead parts 12c and 12d are connected to input terminal 46 and output terminal 48 shown in FIG.

絶縁層12の下方に位置する絶縁層13の上に形成してある導電パターン13aは、第1および第3キャパシタC1およびC3の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42および44に接続される。   The conductive pattern 13a formed on the insulating layer 13 located below the insulating layer 12 constitutes the ground side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3, and the lead portion thereof is connected to the ground shown in FIG. Connected to terminals 42 and 44.

絶縁層13の下方に位置する絶縁層14の上に形成してある一対の線対称な導電パターン14aおよび14bは、第1および第3キャパシタC1およびC3の入出力側電極を構成し、コンタクトホール32および34を通して、導電パターン12a,12bに対してそれぞれ接続してある。   A pair of line-symmetric conductive patterns 14a and 14b formed on the insulating layer 14 located below the insulating layer 13 constitutes input / output side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3, and is a contact hole. 32 and 34 are connected to the conductive patterns 12a and 12b, respectively.

絶縁層14の下方に位置する絶縁層15の上に形成してある導電パターン15aは、第1および第3キャパシタC1およびC3の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42および44に接続される。   The conductive pattern 15a formed on the insulating layer 15 located below the insulating layer 14 constitutes the ground-side electrodes of the first and third capacitors C1 and C3, and the lead portion thereof is connected to the ground shown in FIG. Connected to terminals 42 and 44.

図1に示す導電パターン2a〜15aが絶縁層1〜15と共に積層され、コンタクトホール20,22,24,26,28,30,32,34を通して接続されることにより、図3に示すバンドパスフィルタの回路が構成される。   The conductive patterns 2a to 15a shown in FIG. 1 are laminated together with the insulating layers 1 to 15 and connected through the contact holes 20, 22, 24, 26, 28, 30, 32, and 34, so that the bandpass filter shown in FIG. This circuit is configured.

すなわち、図3に示すように、本実施形態では、第1インダクタL1と第1キャパシタC1とが第1の共振回路を構成し、第2インダクタL2と第2キャパシタC2とが第2の共振回路を構成し、第3インダクタL3と第3キャパシタC3とが第3の共振回路を構成する。特に本実施形態では、第2インダクタL2が二つの第2分割インダクタL2−1およびL2−2に分割してあり、第2キャパシタC2が二つの第2分割キャパシタC2−1およびC2−2に分割してある。   That is, as shown in FIG. 3, in the present embodiment, the first inductor L1 and the first capacitor C1 constitute a first resonance circuit, and the second inductor L2 and the second capacitor C2 constitute a second resonance circuit. The third inductor L3 and the third capacitor C3 form a third resonance circuit. In particular, in the present embodiment, the second inductor L2 is divided into two second divided inductors L2-1 and L2-2, and the second capacitor C2 is divided into two second divided capacitors C2-1 and C2-2. It is.

しかも本実施形態では、分割してある第2分割インダクタL2−1,L2−2のコイルパターンの一部である導電パターン8a,8bが、第1および第3インダクタL1およびL3のコイルパターンの一部を構成する導電パターン9a,9bとは、絶縁層8を介して、積層方向Zに沿って異なる積層位置に形成してある。そのため、3つのインダクタのコイルパターンを平面方向に形成してある従来の構造に比較して、大幅に、素子のコンパクト化が可能となる。具体的には、3個のコイルを水平面上に構成する場合に比べ、約2/3の実装面積になる。   Moreover, in the present embodiment, the conductive patterns 8a and 8b which are part of the divided coil patterns of the second divided inductors L2-1 and L2-2 are one of the coil patterns of the first and third inductors L1 and L3. The conductive patterns 9 a and 9 b constituting the part are formed at different stacking positions along the stacking direction Z via the insulating layer 8. Therefore, compared with the conventional structure in which the coil patterns of the three inductors are formed in the plane direction, the element can be greatly reduced in size. Specifically, the mounting area is about 2/3 as compared with the case where three coils are configured on a horizontal plane.

また、本実施形態では、対称形状の第2分割インダクタL2−1,L2−2のうちの一つのインダクタL2−1と第1インダクタL1との間の第1電磁結合M1と、他の一つのインダクタL2−2と第3インダクタL3との間の第2電磁結合M2とが、実質的に同一の結合度になる。なぜなら、絶縁層8の厚みが実質的に均一だからである。このため、導電パターン印刷時のズレ、積層体を素子ごとに切断する際のズレ、積層する際のズレなどの製造誤差があったとしても、これらの電磁結合M1,M2は、実質的に同一であり、電磁結合M1,M2のバランスが良くなる。   In the present embodiment, the first electromagnetic coupling M1 between the one inductor L2-1 and the first inductor L1 among the symmetrical second divided inductors L2-1 and L2-2, and the other one The second electromagnetic coupling M2 between the inductor L2-2 and the third inductor L3 has substantially the same degree of coupling. This is because the thickness of the insulating layer 8 is substantially uniform. For this reason, even if there is a manufacturing error such as a shift at the time of printing the conductive pattern, a shift at the time of cutting the laminated body for each element, a shift at the time of stacking, these electromagnetic couplings M1 and M2 are substantially the same. Therefore, the balance between the electromagnetic couplings M1 and M2 is improved.

しかも本実施形態では、素子本体(積層体)40内に左右対称なコイルパターンである導電パターン7a,7b,8a,8b,9a,9b,10a,10bを形成してある。この様に形成されたコイルによって作り出される電磁界分布は左右対称となり、2つの電磁結合係数は共通となる。   In addition, in the present embodiment, conductive patterns 7a, 7b, 8a, 8b, 9a, 9b, 10a, 10b, which are symmetrical coil patterns, are formed in the element body (laminated body) 40. The electromagnetic field distribution produced by the coil formed in this way is symmetrical, and the two electromagnetic coupling coefficients are common.

また、この構成によれば、第1インダクタL1のコイル状導電パターン9a,10aと第3インダクタL3のコイル状導電パターン9b、10b(第1と第3の共振回路)は、水平方向に隣り合わせて配置することになる。これらのパターン間の隙間Lx1(図1参照)が、第3の電磁結合M3を形成する。このため、この間に発生する電磁結合M3により、高域の周波数域に減衰域極を設けることが容易となり、選択度の高いフィルタ特性を得ることが可能となる。   Further, according to this configuration, the coiled conductive patterns 9a and 10a of the first inductor L1 and the coiled conductive patterns 9b and 10b (first and third resonance circuits) of the third inductor L3 are adjacent to each other in the horizontal direction. Will be placed. A gap Lx1 (see FIG. 1) between these patterns forms a third electromagnetic coupling M3. For this reason, the electromagnetic coupling M3 generated in the meantime makes it easy to provide an attenuation region pole in a high frequency region, and a filter characteristic with high selectivity can be obtained.

具体的には、一実施例に係る積層型バンドパスフィルタが、図1に示す積層構造を持ち、導電パターン10a,10b間の隙間Lx1が100μmで、各絶縁層1〜15の厚みが100μmであり、各絶縁層1〜15の比誘電率が70であり、素子本体40のサイズが1.0×1.25×1.0mmであるとすると、図6に示す特性が得られる。   Specifically, the multilayer bandpass filter according to one embodiment has the multilayer structure shown in FIG. 1, the gap Lx1 between the conductive patterns 10a and 10b is 100 μm, and the thicknesses of the insulating layers 1 to 15 are 100 μm. When the relative dielectric constant of each of the insulating layers 1 to 15 is 70 and the size of the element body 40 is 1.0 × 1.25 × 1.0 mm, the characteristics shown in FIG. 6 are obtained.

すなわち、第1および第2電磁結合M1およびM2により、比較的に広帯域で、約600MHzの中心周波数F1を持ち、電磁結合M3により、高域の周波数域(約879MHz)に減衰域極F2を設けることが可能になる。そして、図1に示す導電パターン10a,10b間の隙間Lx1を100μmと変化させることにより、図7に示すように、減衰域極F2を、約774.5MHzなどのようにずらすことも容易となる。   That is, the first and second electromagnetic couplings M1 and M2 have a relatively wide band and a center frequency F1 of about 600 MHz, and the electromagnetic coupling M3 provides the attenuation band pole F2 in the high frequency range (about 879 MHz). It becomes possible. Then, by changing the gap Lx1 between the conductive patterns 10a and 10b shown in FIG. 1 to 100 μm, the attenuation region pole F2 can be easily shifted to about 774.5 MHz as shown in FIG. .

したがって、本実施形態の積層型バンドパスフィルタは、広帯域化が容易であると共に、低損入損失化の設計が容易であり、コイルの構造に起因する回路設計および構造設計の煩雑さを解消できる。
第2実施形態
Therefore, the multilayer bandpass filter of the present embodiment can be easily widened, and can be easily designed to reduce loss and loss, thereby eliminating the complexity of circuit design and structural design due to the coil structure. .
Second embodiment

本実施形態では、図4A、図4Bおよび図5に示すように、導電パターン3a〜14cのパターンを変化させて、図5に示す等価回路の積層型バンドパスフィルタを構成する以外は、前記第1実施形態と同様にして積層型バンドパスフィルタを構成してある。以下の説明では、第1実施形態と重複する部分の説明はできる限り省略して説明する。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 4A, 4B, and 5, the first pattern is the same except that the conductive patterns 3a to 14c are changed to configure the multilayer bandpass filter of the equivalent circuit shown in FIG. A multilayer bandpass filter is configured in the same manner as in the first embodiment. In the following description, description of portions overlapping with those of the first embodiment will be omitted as much as possible.

この実施形態に係る積層バンドパスフィルタは、4つの並列共振回路を備えている。すなわち、必要な周波数に共振させるために、4対以上のインダクタおよびコンデンサを有し、これらのインダクタの電磁結合が同じとなるように構成してある。   The multilayer bandpass filter according to this embodiment includes four parallel resonant circuits. That is, in order to resonate at a necessary frequency, four or more pairs of inductors and capacitors are provided, and the electromagnetic coupling of these inductors is the same.

図4A〜図5に示すように、本実施形態に係る積層型バンドパスフィルタは、導電パターン2a〜15aがそれぞれ形成された絶縁層2〜15と、必要に応じて導電パターンが何ら形成されていない絶縁層1とが積層してある素子本体40aを有する。   As shown in FIGS. 4A to 5, the multilayer bandpass filter according to the present embodiment has insulating layers 2 to 15 each having conductive patterns 2 a to 15 a and any conductive patterns as necessary. It has the element main body 40a laminated | stacked with the insulating layer 1 which is not.

素子本体40aは、図4aに示すように、積層方向Zの上から下に向けて、絶縁層1〜15が積層してある。絶縁層2の表面に形成してある導電パターン2aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42および44に接続するためのリードパターンが形成してある。   As shown in FIG. 4 a, the element body 40 a has insulating layers 1 to 15 stacked from the top to the bottom in the stacking direction Z. The conductive pattern 2a formed on the surface of the insulating layer 2 is a portion to be a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. And lead patterns for connection to 44 are formed.

絶縁層3の上に形成してある一対の導電パターン3a,3bは、それぞれ第2分割キャパシタC2−1およびC2−2におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。しかも、この実施形態では、これらの導電パターン3a,3bに並列して、同じパターンで、さらにもう一つの導電パターン3cが形成してある。すなわち、3つの導電パターン3a〜3cが同じ絶縁層3の上に並列して形成してある。導電パターン3cは、第4キャパシタC4におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。   The pair of conductive patterns 3a and 3b formed on the insulating layer 3 are portions serving as electrodes on the connection side with the inductor in the second divided capacitors C2-1 and C2-2, respectively. Moreover, in this embodiment, another conductive pattern 3c is formed in the same pattern in parallel with these conductive patterns 3a and 3b. That is, the three conductive patterns 3 a to 3 c are formed in parallel on the same insulating layer 3. The conductive pattern 3c is a portion to be an electrode on the connection side with the inductor in the fourth capacitor C4.

一対の導電パターン3a,3bは、それぞれコンタクトホール50および52を通して、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2を構成する第2分割導電パターン7a,7bの一端にそれぞれ接続してある。また、もう一つの導電パターン3cは、コンタクトホール54を通して、第4インダクタL4を構成する第4導電パターン7cの一端に接続してある。   The pair of conductive patterns 3a and 3b are connected to one ends of the second divided conductive patterns 7a and 7b constituting the second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two through the contact holes 50 and 52, respectively. It is. The other conductive pattern 3c is connected through the contact hole 54 to one end of the fourth conductive pattern 7c constituting the fourth inductor L4.

絶縁層4の上に形成してある導電パターン4aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42および44に接続するためのリードパターンが形成してある。なお、導電パターン4aは、第4キャパシタC4における接地側の電極となる部分を兼ねる。   The conductive pattern 4a formed on the insulating layer 4 is a portion serving as a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. And lead patterns for connection to 44 are formed. The conductive pattern 4a also serves as a portion serving as a ground side electrode in the fourth capacitor C4.

絶縁層5の上に形成してある一対の導電パターン5a,5bは、それぞれ第2分割キャパシタC2−1およびC2−2におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。これらの導電パターン5a,5bは、それぞれコンタクトホール50および52を通して、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2を構成する第2分割導電パターン7a,7bの一端にそれぞれ接続してある。なお、一対の導電パターン5a,5bは、連絡導電パターン5cにより接続してある。この連絡導電パターン5cは、図5に示す等価回路において、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2のキャパシタ側接続部の相互を連絡する回路である。   The pair of conductive patterns 5a and 5b formed on the insulating layer 5 are portions serving as electrodes on the connection side with the inductor in the second divided capacitors C2-1 and C2-2, respectively. These conductive patterns 5a and 5b are respectively connected to one ends of second divided conductive patterns 7a and 7b constituting second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two through contact holes 50 and 52, respectively. It is. The pair of conductive patterns 5a and 5b are connected by a connecting conductive pattern 5c. This connection conductive pattern 5c is a circuit for connecting the capacitor side connection portions of the second divided inductors L2-1 and L2-2 divided into two in the equivalent circuit shown in FIG.

しかも、この実施形態では、これらの導電パターン5a,5bに並列して、同じパターンで、さらにもう一つの導電パターン5dが形成してある。すなわち、3つの導電パターン5a,5b,5dが同じ絶縁層5の上に並列して形成してある。導電パターン5dは、第4キャパシタC4におけるインダクタとの接続側の電極となる部分である。しかも、この導電パターン5dには、リードパターン5eが接続して形成してある。このリードパターン5eは、図5に示すように、出力端子に対して接続される。   Moreover, in this embodiment, another conductive pattern 5d is formed in the same pattern in parallel with these conductive patterns 5a and 5b. That is, three conductive patterns 5a, 5b, and 5d are formed in parallel on the same insulating layer 5. The conductive pattern 5d is a portion to be an electrode on the connection side with the inductor in the fourth capacitor C4. Moreover, a lead pattern 5e is connected to the conductive pattern 5d. The lead pattern 5e is connected to the output terminal as shown in FIG.

絶縁層6の上に形成してある導電パターン6aは、二つに分割された第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における接地側の電極となる部分であり、図2に示す接地端子42に接続するためのリードパターンが形成してある。この導電パターン6aは、第4キャパシタC4における接地側の電極でもある。   The conductive pattern 6a formed on the insulating layer 6 is a portion serving as a ground side electrode in the second divided capacitors C2-1 and C2-2 divided into two, and the ground terminal 42 shown in FIG. A lead pattern is formed for connection to the wire. The conductive pattern 6a is also an electrode on the ground side in the fourth capacitor C4.

絶縁層7の上に形成してある一対の導電パターン7a,7bは、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2の一部を構成し、絶縁層7の上の平面において、相互に線対称なC字形状(コイル形状)のパターンである。各導電パターン7a,7bの一端は、前述したように、スルーホール50および52を通して、第2分割キャパシタC2−1およびC2−2における一方の電極と接続する。また、各導電パターン7a,7bの他端は、スルーホール58および60を通して、積層方向Zの下に位置する絶縁層8の上に形成してある一対のU字形状(その他のコイル形状)の導電パターン8a,8bの各一端に対して接続してある。   A pair of conductive patterns 7 a and 7 b formed on the insulating layer 7 constitutes a part of the second divided inductors L 2-1 and L 2-2 divided into two, and a plane above the insulating layer 7. 2 are C-shaped (coil-shaped) patterns that are line-symmetric with each other. As described above, one end of each of the conductive patterns 7a and 7b is connected to one electrode of the second divided capacitors C2-1 and C2-2 through the through holes 50 and 52. The other end of each conductive pattern 7a, 7b has a pair of U shapes (other coil shapes) formed on the insulating layer 8 positioned below the stacking direction Z through the through holes 58 and 60. The conductive patterns 8a and 8b are connected to the respective ends.

絶縁層8の上に形成してある導電パターン8a,8bは、上の層に形成してある導電パターン7a,7bに対してコンタクトホール58および60を通してそれぞれ接続されることで、二つに分割された第2分割インダクタL2−1およびL2−2の一部を構成する。これらの導電パターン8a,8bにおけるコンタクトホール58および60との接続部の反対側の端部は、リード部により共通して接続され、図2に示す接地端子42に接続されるようになっている。   The conductive patterns 8a and 8b formed on the insulating layer 8 are divided into two parts by being connected to the conductive patterns 7a and 7b formed on the upper layer through the contact holes 58 and 60, respectively. The second divided inductors L2-1 and L2-2 are partly configured. The ends of the conductive patterns 8a and 8b opposite to the connection portions with the contact holes 58 and 60 are connected in common by the lead portions, and are connected to the ground terminal 42 shown in FIG. .

本実施形態では、絶縁層7の上には、導電パターン7a,7bの隣に、導電パターン7bに対して線対称に、略C字形状のコイル状導電パターン7cが形成してある。すなわち、絶縁層7の上には、三つのコイル状導電パターン7a〜7cが隣接して形成してある。導電パターン7cは、第4分割インダクタL4の一部を構成する。   In the present embodiment, a substantially C-shaped coiled conductive pattern 7c is formed on the insulating layer 7 next to the conductive patterns 7a and 7b in line symmetry with respect to the conductive pattern 7b. That is, on the insulating layer 7, three coil-shaped conductive patterns 7a to 7c are formed adjacent to each other. The conductive pattern 7c constitutes a part of the fourth split inductor L4.

導電パターン7cの一端は、前述したように、スルーホール56を通して、第4キャパシタC4における一方の電極と接続する。また、導電パターン7cの他端は、スルーホール62を通して、積層方向Zの下に位置する絶縁層8の上に形成してあるU字形状(その他のコイル形状)の導電パターン8cの一端に対して接続してある。   One end of the conductive pattern 7c is connected to one electrode of the fourth capacitor C4 through the through hole 56 as described above. Further, the other end of the conductive pattern 7c is connected to one end of the U-shaped (other coil shape) conductive pattern 8c formed on the insulating layer 8 positioned below the stacking direction Z through the through hole 62. Connected.

導電パターン8cは、導電パターン8bに対して線対称であり、上の層に形成してある導電パターン7cに対してコンタクトホール62を通して接続されることで、第4分割インダクタL4を構成する。導電パターン8cにおけるコンタクトホール62との接続部の反対側の端部は、リード部により図2に示す接地端子42に接続されるようになっている。   The conductive pattern 8c is axisymmetric with respect to the conductive pattern 8b, and is connected to the conductive pattern 7c formed in the upper layer through the contact hole 62, thereby constituting the fourth split inductor L4. An end portion of the conductive pattern 8c opposite to the connection portion with the contact hole 62 is connected to the ground terminal 42 shown in FIG. 2 by a lead portion.

絶縁層8の積層方向Zの下に位置する絶縁層9の上に形成してある第1導電パターン9aと、二分割された第3分割導電パターン9b,9cは、上の層に位置する導電パターン8a〜8cと実質的に同一のコイルパターンであり、リード部により、図2に示す接地端子42に接続されるようになっている。   The first conductive pattern 9a formed on the insulating layer 9 located below the stacking direction Z of the insulating layer 8 and the third divided conductive patterns 9b and 9c divided into two are electrically connected to the upper layer. The coil pattern is substantially the same as the patterns 8a to 8c, and is connected to the ground terminal 42 shown in FIG. 2 by a lead portion.

絶縁層9の積層方向の下方に位置する絶縁層10の表面に形成してある第1導電パターン10aおよび第3分割導電パターン10b,10cは、絶縁層10の上の平面において、隣接する相互間で、相互に線対称なC字形状(コイル形状)のパターンである。すなわち、導電パターン10a〜10cは、他の積層位置に形成してある導電パターン7a〜7cと実質的に同一のコイル状パターンである。   The first conductive pattern 10a and the third divided conductive patterns 10b and 10c formed on the surface of the insulating layer 10 located below the insulating layer 9 in the stacking direction are adjacent to each other in the plane above the insulating layer 10. Thus, they are C-shaped (coil-shaped) patterns that are line-symmetric with each other. That is, the conductive patterns 10a to 10c are substantially the same coil-shaped patterns as the conductive patterns 7a to 7c formed at other stacked positions.

各導電パターン10a〜10cの一端は、スルーホール64,66および68を通して、積層方向Zの上に位置する絶縁層9の上に形成してあるU字形状(コイル形状)の導電パターン9a〜9cの各一端に対して接続してあり、それぞれ、第1インダクタL1、二つの第3分割インダクタL3−1およびL3−2を構成している。   One end of each of the conductive patterns 10a to 10c passes through holes 64, 66 and 68, and U-shaped (coil-shaped) conductive patterns 9a to 9c formed on the insulating layer 9 positioned in the stacking direction Z. The first inductor L1 and the two third split inductors L3-1 and L3-2 are respectively configured.

各導電パターン10a〜10cの他端は、スルーホール70,72および74を通して、その積層方向Zの下に位置する第1キャパシタC1、二つの第3分割キャパシタC3−1およびC3−2のインダクタ側電極を構成する第1および第3導電パターン12a,12b,12e,14a,14bに接続してある。   The other ends of the respective conductive patterns 10a to 10c pass through the through holes 70, 72 and 74, and are on the inductor side of the first capacitor C1 and the two third divided capacitors C3-1 and C3-2 located below the stacking direction Z. The first and third conductive patterns 12a, 12b, 12e, 14a and 14b constituting the electrodes are connected.

絶縁層10の下方に位置する絶縁層11の上に形成してある導電パターン11aは、第1キャパシタC1および第3分割キャパシタC3−1およびC3−2の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42に接続される。   The conductive pattern 11a formed on the insulating layer 11 located below the insulating layer 10 constitutes the ground-side electrode of the first capacitor C1, the third divided capacitors C3-1 and C3-2, and its lead portion Is connected to the ground terminal 42 shown in FIG.

絶縁層11の下方に位置する絶縁層12の上に形成してある3つの導電パターン12a,12bおよび12eのうちの一つの第1導電パターン12aは、第1キャパシタC1の入力端子側電極を構成する。また、他の導電パターン12bおよび12eは、二つの第3キャパシタC3−1およびC3−2のインダクタ側電極を構成する。導電パターン12aに形成してあるリード部12cは、図2に示す入力端子46に接続される。他の二つの導電パターン12b,12eを連絡する連絡パターン12dは、図5に示すように、二つの第3分割インダクタL3−1およびL3−2のキャパシタ側接続部を接続する。   One of the three conductive patterns 12a, 12b and 12e formed on the insulating layer 12 located below the insulating layer 11 constitutes the input terminal side electrode of the first capacitor C1. To do. The other conductive patterns 12b and 12e constitute inductor-side electrodes of the two third capacitors C3-1 and C3-2. The lead portion 12c formed on the conductive pattern 12a is connected to the input terminal 46 shown in FIG. As shown in FIG. 5, the connection pattern 12d that connects the other two conductive patterns 12b and 12e connects the capacitor side connection portions of the two third divided inductors L3-1 and L3-2.

絶縁層12の下方に位置する絶縁層13の上に形成してある導電パターン13aは、第1キャパシタC1および第3分割キャパシタC3−1,C3−2の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42および44に接続される。   The conductive pattern 13a formed on the insulating layer 13 positioned below the insulating layer 12 constitutes the ground side electrodes of the first capacitor C1 and the third divided capacitors C3-1 and C3-2, and the lead portion thereof. Are connected to the ground terminals 42 and 44 shown in FIG.

絶縁層13の下方に位置する絶縁層14の上に形成してある三つの導電パターン14a〜14cのうちの第1導電パターン14aは、第1キャパシタC1の入側電極を構成し、コンタクトホール70を通して、導電パターン12aに対して接続してある。また、その他の第3分割導電パターン14bおよび14cは、第3分割キャパシタC3−1およびC3−2のインダクタ側電極を構成し、コンタクトホール72および76を通して、導電パターン12b,12eに対してそれぞれ接続してある。   Of the three conductive patterns 14a to 14c formed on the insulating layer 14 located below the insulating layer 13, the first conductive pattern 14a constitutes the entrance electrode of the first capacitor C1, and the contact hole 70 And connected to the conductive pattern 12a. The other third divided conductive patterns 14b and 14c constitute inductor side electrodes of the third divided capacitors C3-1 and C3-2, and are connected to the conductive patterns 12b and 12e through the contact holes 72 and 76, respectively. It is.

絶縁層14の下方に位置する絶縁層15の上に形成してある導電パターン15aは、第1キャパシタC1および第3分割キャパシタC3−1およびC3−2の接地側電極を構成し、そのリード部が、図2に示す接地端子42および44に接続される。   The conductive pattern 15a formed on the insulating layer 15 located below the insulating layer 14 constitutes the ground-side electrode of the first capacitor C1, the third divided capacitors C3-1 and C3-2, and its lead portion Are connected to the ground terminals 42 and 44 shown in FIG.

図1に示す導電パターン2a〜15aが絶縁層1〜15と共に積層され、コンタクトホール50,52,54,56,58,60,62,64、66,68,70,72,74,76を通して接続されることにより、図5に示すバンドパスフィルタの回路が構成される。   Conductive patterns 2a to 15a shown in FIG. 1 are laminated together with insulating layers 1 to 15 and connected through contact holes 50, 52, 54, 56, 58, 60, 62, 64, 66, 68, 70, 72, 74, and 76. As a result, the band-pass filter circuit shown in FIG. 5 is configured.

すなわち、図5に示すように、本実施形態では、第1インダクタL1と第1キャパシタC1とが第1の共振回路を構成し、第2インダクタL2と第2キャパシタC2とが第2の共振回路を構成し、第3インダクタL3と第3キャパシタC3とが第3の共振回路を構成し、第4インダクタL4と第4キャパシタ
C4とが第4の共振回路を構成する。
That is, as shown in FIG. 5, in the present embodiment, the first inductor L1 and the first capacitor C1 constitute a first resonance circuit, and the second inductor L2 and the second capacitor C2 constitute a second resonance circuit. The third inductor L3 and the third capacitor C3 constitute a third resonance circuit, and the fourth inductor L4 and the fourth capacitor C4 constitute a fourth resonance circuit.

特に本実施形態では、第2インダクタL2が二つの第2分割インダクタL2−1およびL2−2に分割してあり、第2キャパシタC2が二つの第2分割キャパシタC2−1およびC2−2に分割してある。また、第3インダクタL3が二つの第3分割インダクタL3−1およびL3−2に分割してあり、第3キャパシタC3が二つの第3分割キャパシタC3−1およびC3−2に分割してある。   In particular, in the present embodiment, the second inductor L2 is divided into two second divided inductors L2-1 and L2-2, and the second capacitor C2 is divided into two second divided capacitors C2-1 and C2-2. It is. The third inductor L3 is divided into two third divided inductors L3-1 and L3-2, and the third capacitor C3 is divided into two third divided capacitors C3-1 and C3-2.

しかも本実施形態では、分割してある第2分割インダクタL2−1,L2−2のコイルパターンの一部である導電パターン8a,8bと、第1インダクタL1および第3分割インダクタL3−1のコイルパターンの一部を構成する導電パターン9a,9bとは、絶縁層8を介して、積層方向Zに沿って異なる積層位置に形成してある。また、第4インダクタL4のコイルパターンの一部である第4導電パターン8cと、第3分割インダクタL3−2のコイルパターンの一部を構成する導電パターン9cとは、絶縁層8を介して、積層方向Zに沿って異なる積層位置に形成してある。   Moreover, in the present embodiment, the conductive patterns 8a and 8b, which are part of the coil pattern of the divided second divided inductors L2-1 and L2-2, and the coils of the first inductor L1 and the third divided inductor L3-1. The conductive patterns 9a and 9b constituting part of the pattern are formed at different stacking positions along the stacking direction Z via the insulating layer 8. In addition, the fourth conductive pattern 8c that is a part of the coil pattern of the fourth inductor L4 and the conductive pattern 9c that forms a part of the coil pattern of the third split inductor L3-2 are interposed via the insulating layer 8. They are formed at different stacking positions along the stacking direction Z.

本実施形態では、第1実施形態の作用効果に加えて、単一素子の内部で、インダクタの数を増大することが可能になり、さらに、コンパクト化が可能である。しかも、この場合には、図4Bに示すように、第4インダクタL4が、絶縁層8を介して、一つの第3分割インダクタL3−2に対して、積層方向に第4の電磁結合M4が形成される。本実施形態では、第1および第2電磁結合M1およびM2のみでなく、第4電磁結合M1のバランスが良くなる。   In the present embodiment, in addition to the operational effects of the first embodiment, the number of inductors can be increased inside a single element, and further downsizing can be achieved. In addition, in this case, as shown in FIG. 4B, the fourth inductor L4 has a fourth electromagnetic coupling M4 in the stacking direction with respect to one third split inductor L3-2 via the insulating layer 8. It is formed. In the present embodiment, not only the first and second electromagnetic couplings M1 and M2 but also the balance of the fourth electromagnetic coupling M1 is improved.

なお、第2分割インダクタL2−2と第4インダクタL4との間の第5の電磁結合M5は、導電パターン8b、8cの間の距離Lx2により決定される。   The fifth electromagnetic coupling M5 between the second split inductor L2-2 and the fourth inductor L4 is determined by the distance Lx2 between the conductive patterns 8b and 8c.

この実施例に係る積層型バンドパスフィルタが、図4Aに示す積層構造を持ち、導電パターン9a,9b間の隙間Lx1が100μmで、各絶縁層1〜15の厚みが40μmであり、各絶縁層1〜15の比誘電率が70であり、素子本体40のサイズが2.0×1.25×1.0mmであるとすると、図8に示す特性が得られる。   The laminated bandpass filter according to this example has the laminated structure shown in FIG. 4A, the gap Lx1 between the conductive patterns 9a and 9b is 100 μm, the thickness of each insulating layer 1 to 15 is 40 μm, and each insulating layer If the relative dielectric constant of 1 to 15 is 70 and the size of the element body 40 is 2.0 × 1.25 × 1.0 mm, the characteristics shown in FIG. 8 are obtained.

すなわち、第1〜第2電磁結合M1〜M2により、比較的に広帯域で、約600MHzの中心周波数F1を持ち、第3電磁結合M3により、減衰域極F2を設けることが可能になる。さらに、第4および第5電磁結合M4およびM5により、減衰域極F3を設けることが可能になる。   That is, the first and second electromagnetic couplings M1 and M2 have a relatively wide band and a center frequency F1 of about 600 MHz, and the third electromagnetic coupling M3 makes it possible to provide the attenuation region pole F2. Further, the attenuation band pole F3 can be provided by the fourth and fifth electromagnetic couplings M4 and M5.

なお、図9および図10に示す従来例に係る積層型バンドパスフィルタでは、図11に示すような特性が得られ、広帯域化と低損入損失化の設計が困難になる。   In the multilayer bandpass filter according to the conventional example shown in FIGS. 9 and 10, the characteristics shown in FIG. 11 are obtained, and it is difficult to design a wide band and a low loss loss.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.

たとえば、絶縁層1〜15の比誘電率は、全て同じとする必要はなく、たとえば絶縁層8の誘電率のみを他と変化させることにより、電磁結合度の調節が可能となり、通過帯の帯域幅の調節が可能となる。   For example, the dielectric constants of the insulating layers 1 to 15 do not have to be all the same. For example, by changing only the dielectric constant of the insulating layer 8 with another, the degree of electromagnetic coupling can be adjusted, and the band of the passband can be adjusted. The width can be adjusted.

図1は本発明の一実施形態に係る積層型バンドパスフィルタの分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view of a multilayer bandpass filter according to an embodiment of the present invention. 図2はその積層型バンドパスフィルタの全体斜視図である。FIG. 2 is an overall perspective view of the multilayer bandpass filter. 図3はその積層型バンドパスフィルタの等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the multilayer bandpass filter. 図4Aは本発明の他の実施形態に係る積層型バンドパスフィルタの分解斜視図である。FIG. 4A is an exploded perspective view of a multilayer bandpass filter according to another embodiment of the present invention. 図4Bは積層方向の電磁結合を示す概略分解図である。FIG. 4B is a schematic exploded view showing electromagnetic coupling in the stacking direction. 図5は図4Aに示す積層型バンドパスフィルタの等価回路図である。FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the multilayer bandpass filter shown in FIG. 4A. 図6は図1に示す実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the embodiment shown in FIG. 図7は図1に示すパターンの水平間隔Lxを変化させた場合の実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the example when the horizontal interval Lx of the pattern shown in FIG. 1 is changed. 図8は図4Aに示す実施例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing the characteristics of the multilayer bandpass filter according to the embodiment shown in FIG. 4A. 図9は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタの等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of a multilayer bandpass filter according to a comparative example of the present invention. 図10は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタのコイル部分の概略図である。FIG. 10 is a schematic view of a coil portion of a multilayer bandpass filter according to a comparative example of the present invention. 図11は本発明の比較例に係る積層型バンドパスフィルタの特性を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing characteristics of the multilayer bandpass filter according to the comparative example of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1〜15… 絶縁層
1a〜15a… 導電パターン
40,40a… 素子本体
L1〜L4… インダクタ
C1〜C4… キャパシタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1-15 ... Insulating layer 1a-15a ... Conductive pattern 40, 40a ... Element main body L1-L4 ... Inductor C1-C4 ... Capacitor

Claims (16)

少なくとも三つのインダクタ(L1〜L3)が同一の素子本体内に形成されるように、導電パターン(2a〜15a)が形成された絶縁層(1〜15)が複数積層してある積層型電子部品であって、
三つの前記インダクタをそれぞれ形成するための第1コイルパターン(L1)、第2コイルパターン(L2−1,L2−2)、および第3コイルパターン(L3)のうちのいずれか一つのパターン(L2−1,L2−2)が、他の二つのコイルパターンとは異なる積層位置に形成してあり、
任意に選択される三つの前記インダクタを等価回路で表した場合に、三つのうちの中央に位置するインダクタ(L2)を構成する第2コイルパターン(L2−1,L2−2)が、前記絶縁層(1〜15)のうちの所定の絶縁層(7または8)の上で、二つに分割して形成される一対の第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)を有し、
前記等価回路において、中央に位置するインダクタの両側に位置する二つのインダクタを構成する第1コイルパターン(L1)および第3コイルパターン(L3)が、前記第2コイルパターン(L2−1,L2−2)が形成された絶縁層に積層方向に隣接する他の絶縁層(9または10)の上で、同一平面で隣接して形成される第1パターン(9a,10a)および第3パターン(9b,10b,9c,10c)を有し、
前記第1パターン(9a,10a)の端部と前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)の端部と前記第3パターン(9b,10b,9c,10c)の端部は共通の接地端子(42,44)に接続され、
前記第1コイルパターン(L1)または前記第3コイルパターン(L3)と前記第2コイルパターン(L2−1,L2−2)との間の電磁結合(M1,M2)が、それらの間に存在する絶縁層(8)を介して積層方向に行われ、
前記第1コイルパターン(L1)、第2コイルパターン(L2−1,L2−2)、および第3コイルパターン(L3,L3−1,L3−2)のそれぞれには、これらのコイルパターンが形成される積層位置とは異なる積層位置に形成してあるキャパシタ(C1,C2−1,C2−2,C3,C3−1,C3−2)がそれぞれ電気的に接続され、バンドパスフィルタを構成することを特徴とする積層型電子部品。
A multilayer electronic component in which a plurality of insulating layers (1-15) having conductive patterns (2a-15a) formed thereon are stacked so that at least three inductors (L1-L3) are formed in the same element body. Because
Any one of the first coil pattern (L1), the second coil pattern (L2-1, L2-2) and the third coil pattern (L3) for forming the three inductors (L2) −1, L2-2) are formed at different lamination positions from the other two coil patterns,
When three arbitrarily selected inductors are represented by an equivalent circuit, the second coil pattern (L2-1, L2-2) constituting the inductor (L2) located at the center of the three inductors is the insulating circuit. A pair of second division patterns (7a, 7b, 8a, 8b) formed in two on the predetermined insulating layer (7 or 8) of the layers (1-15) ;
In the equivalent circuit, the first coil pattern (L1) and the third coil pattern (L3) constituting two inductors located on both sides of the inductor located at the center are the second coil patterns (L2-1, L2-). The first pattern (9a, 10a) and the third pattern (9b) formed adjacent to each other in the same plane on the other insulating layer (9 or 10) adjacent to the insulating layer in which 2) is formed in the stacking direction. , 10b, 9c, 10c)
The end of the first pattern (9a, 10a), the end of the second divided pattern (7a, 7b, 8a, 8b) and the end of the third pattern (9b, 10b, 9c, 10c) are common. Connected to the ground terminals (42, 44),
Electromagnetic coupling (M1, M2) between the first coil pattern (L1) or the third coil pattern (L3) and the second coil pattern (L2-1, L2-2) exists between them. Is performed in the stacking direction through the insulating layer (8)
Each of the first coil pattern (L1), the second coil pattern (L2-1, L2-2), and the third coil pattern (L3, L3-1, L3-2) is formed with these coil patterns. Capacitors (C1, C2-1, C2-2, C3, C3-1, C3-2) formed at different lamination positions from each other are electrically connected to form a bandpass filter. A multilayer electronic component characterized by that.
前記第1コイルパターン(L1)と前記第3コイルパターン(L3)との間には、電磁結合(M3)が平面方向に行われている請求項1に記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to claim 1, wherein electromagnetic coupling (M3) is performed in a plane direction between the first coil pattern (L1) and the third coil pattern (L3). 一対の前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)が、同一平面において相互に線対称である請求項1または2に記載の積層型電子部品。   3. The multilayer electronic component according to claim 1, wherein the pair of second division patterns (7 a, 7 b, 8 a, 8 b) are line-symmetric with each other on the same plane. 一対の前記第2分割パターン(7a,7b)が、前記絶縁層(7)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の第2分割パターン(8a,8b)に対してそれぞれ接続してあり、第2分割コイルパターン(L2−1,L2−2)を形成している請求項3に記載の積層型電子部品。   A pair of the second divided patterns (7a, 7b) is connected to another pair of second divided patterns (8a, 8b) formed at other stacked positions via the insulating layer (7). The multilayer electronic component according to claim 3, wherein the second divided coil pattern (L2-1, L2-2) is formed. 前記第1パターン(9a,10a)および第3パターン(9b,10b)が、同一平面において、相互に線対称なパターンである請求項1〜4のいずれかに記載の積層型電子部品。   5. The multilayer electronic component according to claim 1, wherein the first pattern (9 a, 10 a) and the third pattern (9 b, 10 b) are mutually line-symmetric patterns on the same plane. 一対の前記第1パターン(9a)および第3パターン(9b)が、前記絶縁層(9)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の前記第1パターン(10a)および第3パターン(10b)に対してそれぞれ接続してあり、それぞれ前記第1コイルパターン(L1)および第3コイルパターン(L3)を形成している請求項5に記載の積層型電子部品。   A pair of the first pattern (9a) and the third pattern (9b) are formed in another stack position via the insulating layer (9), and another pair of the first pattern (10a) and the third pattern The multilayer electronic component according to claim 5, wherein the electronic component is connected to the pattern (10b) and forms the first coil pattern (L1) and the third coil pattern (L3), respectively. 前記第3コイルパターン(L3)が、同一の前記絶縁層(9または10)の上で、二つに分割して形成される一対の第3分割パターン(9b、9c、10b、10c)を有する請求項1に記載の積層型電子部品。   The third coil pattern (L3) has a pair of third divided patterns (9b, 9c, 10b, 10c) formed in two on the same insulating layer (9 or 10). The multilayer electronic component according to claim 1. 一対の前記第3分割パターン(9b、9c、10b、10c)が、同一平面において、相互に線対称なパターンである請求項7に記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to claim 7, wherein the pair of third divided patterns (9 b, 9 c, 10 b, 10 c) are patterns that are line-symmetric with each other on the same plane. 一対の前記第3分割パターン(9b、9c)が、前記絶縁層(9)を介して他の積層位置に形成してある別の一対の前記第3分割パターン(10b、10c)に対してそれぞれ接続してあり、それぞれ第3分割コイルパターン(L3−1,L3−2)を形成している請求項8に記載の積層型電子部品。   A pair of the third divided patterns (9b, 9c) is different from another pair of the third divided patterns (10b, 10c) formed at other stack positions via the insulating layer (9). The multilayer electronic component according to claim 8, wherein the electronic components are connected to each other to form a third divided coil pattern (L 3-1, L 3-2). 前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)が形成される前記絶縁層(7,8)の上に、それぞれ第4コイルパターン(L4)を形成するための第4パターン(7c,8c)が、前記第2分割パターン(7a,7b,8a,8b)に隣接して形成してある請求項8または9に記載の積層型電子部品。   Fourth patterns (7c, 8c) for forming a fourth coil pattern (L4) on the insulating layers (7, 8) on which the second divided patterns (7a, 7b, 8a, 8b) are formed, respectively. ) Is formed adjacent to the second divided pattern (7a, 7b, 8a, 8b). 前記第4コイルパターン(L4)が、前記絶縁層(8)を介して、一つの前記第3分割コイルパターン(L3−2)に対して、電磁結合(M4)が行われている請求項10に記載の積層型電子部品。   The fourth coil pattern (L4) is electromagnetically coupled (M4) to one third divided coil pattern (L3-2) via the insulating layer (8). The multilayer electronic component according to 1. 前記第4コイルパターン(L4)には、このコイルパターン(L4)が形成される積層位置とは異なる積層位置に形成してあるキャパシタ(C4)が電気的に接続してある請求項11に記載の積層型電子部品。   The capacitor (C4) formed in the lamination position different from the lamination position where this coil pattern (L4) is formed is electrically connected to the fourth coil pattern (L4). Multilayer electronic components. 前記第2コイルパターン(L2−1,L2−2)に接続される第2キャパシタ(C2−1,C2−2)と、前記第1および第3コイルパターン(L1,L3,L3−1,L3−2)に接続される第1および第3キャパシタ(C1,C3,C3−1,C3−2)とは、相互に別の積層位置に形成される請求項1〜12のいずれかに記載の積層型電子部品。   Second capacitors (C2-1, C2-2) connected to the second coil patterns (L2-1, L2-2), and the first and third coil patterns (L1, L3, L3-1, L3). -2) The first and third capacitors (C1, C3, C3-1, C3-2) connected to (2) are formed in mutually different stacked positions. Multilayer electronic components. 第1および第3キャパシタ(C1,C3,C3−1,C3−2)は、複数の層で相互に同じ積層位置に形成される請求項13に記載の積層型電子部品。   14. The multilayer electronic component according to claim 13, wherein the first and third capacitors (C1, C3, C3-1, C3-2) are formed in a plurality of layers at the same lamination position. 前記2キャパシタ(C2−1,C2−2)と前記第4キャパシタ(C4)とは、複数の層で相互に同じ積層位置に形成される請求項13または14に記載の積層型電子部品。   The multilayer electronic component according to claim 13 or 14, wherein the two capacitors (C2-1, C2-2) and the fourth capacitor (C4) are formed in a plurality of layers at the same multilayer position. 二つの前記第2キャパシタ(C2−1,C2−2)が、互いに連絡導電パターン(5c)により接続してあることを特徴とする請求項13〜15のいずれかに記載の積層型電子部品。 The multilayer electronic component according to any one of claims 13 to 15 , wherein the two second capacitors (C2-1, C2-2) are connected to each other by a connecting conductive pattern (5c) .
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