JP4286657B2 - 走査電子顕微鏡を用いたライン・アンド・スペースパターンの測定方法 - Google Patents
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Description
図3は、本発明の測定方法に用いられる走査電子顕微鏡の概略ブロック図である。鏡体部301に設置された電子銃302から発せられた電子線303は、図示しない電子レンズによって収束され、試料305に照射される。電子線照射によって試料表面から発生する二次電子あるいは反射電子の強度は電子検出器306によって検出され、検出信号は増幅器307によって増幅される。制御用計算機310の制御信号308によって制御される偏向器304は、電子線303を試料表面上でラスタ走査させる。増幅器307から出力される信号は画像処理プロセッサ309内でAD変換され、デジタル画像データが作成される。画像データは表示装置311に表示される。また、画像処理プロセッサ309は、デジタル画像データを格納する画像メモリと各種の画像処理を行う画像処理回路、表示制御を行う表示制御回路を有する。制御用計算機310には、キーボードやマウス等の入力手段312が接続される。半導体デバイス作成時、ウェハ上に描かれた微細なパターンの線幅を計測する場合にこのような走査電子顕微鏡が使用される。
平均ライン幅=(ラインa+ラインb+ラインc+ラインd)/4
平均スペース幅、平均ピッチにおいても同様に求めることができる。
Claims (10)
- 試料に形成された周期性を有するライン・アンド・スペースパターンの測定方法において、
走査電子顕微鏡を用いて複数のライン及びスペースパターンを含む倍率で試料画像を取得するステップと、
ラインの2つのエッジについてピークが現れるように、取得した画像を微分処理するステップと、
前記微分処理した画像をずらして画像の自己相関値を計算することによって、前記2つのエッジの一方の側の第1ピークと当該2つのエッジの他方の側の第2ピークとの間に所定の一致度が認められたときの第1のずらし量と、前記ラインパターンに隣接する他のラインパターンの2つのエッジの一方の側の第3のピークと前記第2のピークとの間に所定の一致度が認められたときの第2のずらし量と、前記第1のピークと前記第3のピークとの間に、所定の一致度が認められたときの第3のずらし量を算出し、前記第1乃至第3のずらし量に基づいて、前記ライン・アンド・スペースパターンの平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅の全てを算出するステップと、
を含むことを特徴とする測定方法。 - 試料に形成された周期性を有するライン・アンド・スペースパターンの測定方法において、
走査電子顕微鏡を用いて複数のライン及びスペースパターンを含む倍率で試料画像を取得するステップと、
ラインの2つのエッジについてピークが現れるように、取得した画像を微分処理するステップと、
前記微分処理した画像の全画素値を横軸もしくは縦軸に投影してプロジェクションデータを得るステップと、
前記プロジェクションデータをずらして画像の自己相関値を計算することによって、前記2つのエッジの一方の側の第1ピークと当該2つのエッジの他方の側の第2ピークとの間に所定の一致度が認められたときの第1のずらし量と、前記ラインパターンに隣接する他のラインパターンの2つのエッジの一方の側の第3のピークと前記第2のピークとの間に所定の一致度が認められたときの第2のずらし量と、前記第1のピークと前記第3のピークとの間に、所定の一致度が認められたときの第3のずらし量を算出し、前記第1乃至第3のずらし量に基づいて、前記ライン・アンド・スペースパターンの平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅の全てを算出するステップと、
を含むことを特徴とする測定方法。 - 請求項1又は2記載の測定方法において、前記自己相関値を求める際の画像移動の方向をライン・アンド・スペースパターンの周期方向に平行な方向とすることを特徴とする測定方法。
- 請求項2記載の測定方法において、前記プロジェクションデータを得るための投影方向をライン・アンド・スペースパターンの周期方向に垂直な方向とすることを特徴とする測定方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の測定方法において、
ライン・アンド・スペースパターンと横軸もしくは縦軸との角度を算出するステップと、
ライン・アンド・スペースパターンが横軸もしくは縦軸と垂直もしくは平行になるように画像を回転処理するステップとを有することを特徴とする測定方法。 - 請求項1又は2記載の測定方法において、前記ライン・アンド・スペースパターンに関する既知の情報を用いて、算出に必要なピークを選別することを特徴とする測定方法。
- 請求項1又は2記載の測定方法において、前記試料画像上に計測したい領域を設定し、その領域内におけるライン・アンド・スペースパターンの平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅の少なくとも1つを算出することを特徴とする測定方法。
- 請求項1又は2記載の測定方法において、前記試料画像上に計測したい領域を複数設定し、その領域毎のライン・アンド・スペースパターンの平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅の少なくとも1つを算出し、各領域間の平均、分散を算出することを特徴とする測定方法。
- 請求項1又は2記載の測定方法において、測定対象のライン又はスペースが予め定められた所定の数以上含まれる領域を試料画像取得領域として指定することを特徴とする測定方法。
- 請求項9記載の測定方法において、試料画像内に含まれるライン又はスペースの数が前記所定の数より少ない時、当該ライン又はスペースの数が前記所定の数より多くなるように倍率を変化させて試料画像を取得することを特徴とする測定方法。
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