JP4286035B2 - Substrate transfer device - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置は、主にクリーンルーム内で使用されるため、設置スペースの削減が要求されている。
【０００３】
図１８は、基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である（特許文献１参照）。
【０００４】
図１８に示す基板処理装置９００では、互いに平行な搬送路１５１および搬送路１５２ならびにこれらを結合する反転経路１５３が形成されている。
【０００５】
基板処理装置９００においては、インデクサ部１１１のカセットＣに収納された基板が一枚ずつ取り出されて、搬送路１５１、反転経路１５３および搬送路１５２のほぼＵ字状の順に搬送されつつ処理が施され、再びインデクサ部１１１のカセットＣ内に収納される。
【０００６】
図１８の基板処理装置９００の搬送路１５１には、コンベア１１２、紫外線照射部１１３、オゾンアッシング部１１４およびブラシ水洗部１１５が順に配置され、基板処理装置９００の搬送路１５２には、紫外線照射部１１９、エアーナイフ部１１８、水洗部１１７が順に配置されている。
【０００７】
また、基板処理装置９００の反転経路１５３には、基板搬送装置８００、薬液処理を行う薬液処理部８１０および基板搬送装置８０１が順に配置されている。薬液処理部８１０においては、基板の表面処理の均一化のため、基板を所定の角度だけ傾斜姿勢にさせて処理が行われる。
【０００８】
図１９は図１８の基板搬送装置８０１の横断面図であり、図２０は図１９の基板搬送装置８０１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００９】
図１９および図２０において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。図１９に示すように、基板が搬送室３００の基板搬入口３１０からＹ方向に搬入され、基板搬出口３２０からＸ方向に搬出される。
【００１０】
図１９の基板搬送装置８０１の搬送室３００内には、複数の搬送軸８０ａと複数の搬送軸８０ｂとが所定の間隔Ｌ１０を隔ててそれぞれＸ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｃは、搬送軸８０ａと搬送軸８０ｂとの間の所定の間隔Ｌ１０内でＹ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｄは、搬送軸８０ａ，８０ｂの間にＹ方向に沿って配置されている。
【００１１】
各搬送軸８０ａ，８０ｂには複数のローラＰ１１０が設けられ、各搬送軸８０ｃには複数のローラＰ２１０が設けられ、各搬送軸８０ｄには複数のローラＰ２１１が設けられている。
【００１２】
また、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ１に連結され、その伝達機構Ｇ１から複数の搬送軸８０ａに回転力が伝達される。同様に、搬送室３００外に設けられたモータＭ２０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ２に連結され、その伝達機構Ｇ２から複数の搬送軸８０ｂに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ１１０が複数の搬送軸８０ａ，８０ｂとともに回転する。
【００１３】
さらに、搬送室３００外に設けられたモータＭ３０は、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ３に連結され、その伝達機構Ｇ３から複数の搬送軸８０ｃに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ２１０が複数の搬送軸８０ｃとともに回転する。
【００１４】
図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂは水平面に対して傾斜した状態で設けられる。搬送軸８０ｃ，８０ｄは、固定台９０の上方に複数の支持部材９６により支持される。固定台９０は、シリンダ９５により上下方向に駆動される。
【００１５】
図１９の基板搬入口３１０から搬入された基板２００は、図２０に示すように、傾斜姿勢でローラＰ１１０により支持される。搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０により伝達機構Ｇ１，Ｇ２を介して搬送軸８０ａ，８０ｂのローラＰ１１０が回転し、基板２００がＹ方向に搬送される。
【００１６】
続いて、基板２００が所定の位置まで搬送されると、モータＭ１０，モータＭ２０は回転動作を停止する。それにより、複数のローラＰ１１０の回転が停止し、基板２００が停止する。
【００１７】
続いて、シリンダ９５により固定台９０がＺ方向に持ち上げられる。それにより、複数の支持部材９６に支持された複数の搬送軸８０ｃのローラＰ２１０および複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１が、複数のローラＰ１１０よりも上方へ移動する。したがって、基板２００がローラＰ１１０から離れ、ローラＰ２１０，２１１に支持されて上方に持ち上げられる。
【００１８】
さらに、搬送軸８０ｃ，８０ｄが上方に移動した際、図１９のモータＭ３０および伝達機構Ｇ３のギア（図示せず）と搬送軸８０ｃに設けられたギア（図示せず）とが噛み合う。それにより、複数のローラＰ２１０にモータ（Ｍ３０）の回転力が伝達されてローラＰ２１０が回転する。その結果、ローラＰ２１０，Ｐ２１１に支持された基板２００が基板搬出口３２０から矢印Ｘの方向に搬出される。
【００１９】
このように、基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢でＸ方向に搬入された基板２００を水平姿勢でＹ方向へ搬出することができる。
【００２０】
【特許文献１】
特開２０００−３１２３９号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢で基板２００が支持される際に、図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂの間隔Ｌ１０において基板２００が支持されていない。そのため、基板２００の大径化に伴い基板２００の自重による撓みが発生し、基板２００に過度の負荷が加わることにより破損する懸念がある。
【００２２】
また、複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１は、傾斜姿勢での搬送時には複数の搬送軸８０ａ，８０ｂの下方に位置し、水平姿勢での搬送時には複数の搬送軸８０ａ，８０ｂより上方に上昇する。そのため、搬送軸８０ｄおよびローラＰ２１１は、複数の搬送軸８０ａ，８０ｂと干渉しないように設けられる必要がある。そのため、全てのローラＰ２１１に回転力を伝達することは困難であり、基板２００の搬送力が低下する。その結果、基板２００の搬送不良が生じる。さらに、図２０の伝達機構Ｇ１と接触しないように基板２００を搬送しなければならないためシリンダ９５のストローク量を大きく設定する必要があり、上下方向の省スペース化が困難である。
【００２３】
本発明の目的は、簡単な構造で基板を変形および破損させることなく確実に搬送することが可能な基板搬送装置を提供することである。
【００２４】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
（第１の発明）
第１の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸とを備え、複数の第１の回転軸は、複数の第２の回転軸の上方で複数の第２の回転軸と互いに交差するように設けられ、複数の第１の回転軸の各々に複数の第１のローラが当該第１の回転軸と同心に設けられ、複数の第２の回転軸の各々に複数の第２のローラが当該第２の回転軸と同心に設けられ、複数の第１のローラの直径は複数の第２のローラの直径よりも小さく、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段をさらに備え、複数の第１および第２の回転軸が第１の状態にある場合に複数の第１のローラの頂部が複数の第２のローラの頂部よりも上方に位置し、第２の状態にある場合に複数の第２のローラの頂部が複数の第１のローラの頂部よりも上方に位置するように複数の第１の回転軸および複数の第２の回転軸が配置されたものである。
【００２５】
第１の発明に係る基板搬送装置においては、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより、互いに交差するように設けられた複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係が状態変更手段により第１の状態または第２の状態に変更される。
【００２６】
この場合、第１の状態では複数の第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第１のローラにより支持される。また、第２の状態では複数の第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第２のローラにより支持される。その結果、基板に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００２７】
また、複数の第１のローラまたは複数の第２のローラに回転力が伝達されるので、基板の搬送不良を防止することができる。したがって、基板を変形および破損させることなく所定の角度の第１の状態および第２の状態に変更させるとともに基板の搬送の方向を転換させることができる。
【００２８】
さらに、基板を第１の状態および第２の状態に変更させる際の上下方向のストローク量を低減することが可能となり、省スペース化を実現することができる。
【００２９】
（第２の発明）
第２の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸とを備え、複数の第１の回転軸は、複数の第２の回転軸と互いに略平行に設けられ、複数の第１の回転軸の各々に複数の第１のローラが当該第１の回転軸と同心に設けられ、複数の第２の回転軸の各々に複数の第２のローラが当該第２の回転軸と同心に設けられ、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段をさらに備え、状態変更手段は、複数の第１および第２の回転軸が第１の状態で複数の第１のローラの頂部が複数の第２のローラの頂部よりも上方に位置し、第２の状態で複数の第２のローラの頂部が複数の第１のローラの頂部よりも上方に位置するように複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させるものである。
【００３０】
第２の発明に係る基板搬送装置においては、複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させることにより、略平行状態の複数の第１の回転軸と複数の第２の回転軸との位置関係が状態変更手段により第１の状態または第２の状態に変更される。
【００３１】
この場合、第１の状態では、複数の第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第１のローラにより支持される。また、第２の状態では、複数の第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置する。それにより、基板が複数の第２のローラにより支持される。その結果、基板に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００３２】
また、複数の第１のローラまたは複数の第２のローラに回転力が伝達されるので、基板の搬送不良を防止することができる。したがって、基板を変形および破損させることなく第１の状態および第２の状態に変更させることができる。
【００３３】
（第３の発明）
第３の発明に係る基板搬送装置は、第１または第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なるものである。
【００３４】
この場合、第１の状態で第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なるため、水平面に対する基板の傾斜角度を変更しつつ第１のローラおよび第２のローラにより基板を搬送することができる。
【００３５】
（第４の発明）
第４の発明に係る基板搬送装置は、第１または第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいものである。
【００３６】
この場合、第１の状態で複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と第２の状態で複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいため、水平面に対する基板の傾斜角度を維持しつつ第１のローラおよび第２のローラにより基板を搬送することができる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００３８】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【００３９】
図１に示す基板処理装置５００は、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板を処理する装置である。
【００４０】
基板処理装置５００は、インデクサ部６０、コンベア６１，６９、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４、一次水洗部６５、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８および基板搬送装置１００，１０１から構成される。
【００４１】
図１の基板処理装置５００では、互いに平行な搬送路１５４および搬送路１５６並びにこれらを結合する反転経路１５５が形成されている。搬送路１５４，１５６と反転経路１５５とはほぼ直交している。
【００４２】
基板処理装置５００の搬送路１５４には、コンベア６１、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４が順に設けられている。基板処理装置５００の反転経路１５５には、基板搬送装置１００、一次水洗部６５および基板搬送装置１００が順に設けられている。基板搬送装置５００の搬送路１５６には、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８およびコンベア６９が順に設けられている。
【００４３】
まず、基板処理装置５００のインデクサ部６０に、複数の基板２００が収納されたカセットＣが搬入される。カセットＣ内に収納された基板２００は、搬送装置（図示せず）により１枚ずつ取り出され、コンベア６１に搬入される。ここで、搬送路１５４では、基板処理の均一化のために基板２００が水平面から所定の角度だけ傾斜した姿勢で処理される。
【００４４】
コンベア６１への搬入時に基板２００の姿勢が水平姿勢から所定の角度だけ傾斜した姿勢（以下、傾斜姿勢と呼ぶ。）に変更される。傾斜姿勢の基板２００がコンベア６１により紫外線（ＵＶ）照射部６２に搬送される。紫外線（ＵＶ）照射部６２において、基板２００に紫外線が照射される。その結果、基板２００の表面に付着した有機物および油分が分解され、基板２００の塗れ性が向上する。その後、薬液処理部６３，６４において基板２００にエッチング等の薬液の処理が施される。
【００４５】
続いて、搬送路１５５において基板２００に一次水洗処理が行われる。基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに傾斜姿勢で搬送されてきた基板２００を水平姿勢に変更させる。そして、基板２００は一次水洗部６５に搬送される。一次水洗部６５において、水平姿勢で基板２００の表面に水洗処理が行われる。一次水洗処理は、基板２００の表面が乾燥して、不純物が析出して固着することを防止するために行う。したがって、本実施の形態における基板搬送装置１００，１０１においても、基板２００を搬送するとともに上方から基板２００に対して純水が噴射される。
【００４６】
次に、基板２００は基板搬送装置１００に搬送される。本実施の形態においては、搬送路１５６において基板２００が傾斜姿勢で処理される。したがって、基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で搬送されてきた基板２００を傾斜姿勢に変更させる。そして、基板２００は二次水洗部６６，６７に搬送される。
【００４７】
次いで、二次水洗部６６，６７において基板２００の表面が純水で洗浄される。さらに、エアーナイフ部６８に基板２００が搬送される。エアーナイフ部６８において基板２００にカーテン状の空気が噴射される。その後、基板２００がコンベア６９により搬送され、搬送装置（図示せず）により基板２００がカセットＣ内に収納される。処理済の複数の基板２００を収納するＣは、インデクサ部６０から搬出される。
【００４８】
次に、基板搬送装置１００，１０１の詳細について説明する。なお、基板搬送装置１００と基板搬送装置１０１とは、ほぼ同一構造を有する。以下、基板搬送装置１００について説明する。
【００４９】
図２は、基板搬送装置１００の横断面図である。図２において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００５０】
図２に示す基板搬送装置１００は、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００５１】
基板搬送装置１００は、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００５２】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００５３】
複数の搬送軸１０の一端近傍は、支持部材１２ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端近傍は、支持部材１５ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００５４】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００５５】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００５６】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構造の詳細については後述する。
【００５７】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【００５８】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ｂおよびマグネット円板８ｂの構造の詳細については後述する。
【００５９】
図３および図４は、図２の基板搬送装置１００のＡ−Ａ線断面図である。図３は、基板２００を傾斜姿勢で支持した状態を示し、図４は基板２００を水平姿勢で支持した状態を示す。
【００６０】
搬送軸１０の一端近傍が、支持部材１２ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸１０の他端が支持部材１５ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【００６１】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【００６２】
図３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により傾斜姿勢で支持される。
【００６３】
また、図３に示すように、搬送室３０の側壁３０ｄの一部には、鉛直方向からやや傾斜した傾斜壁３０ｅが設けられている。マグネット円板８ａは、傾斜壁３０ｅの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、傾斜壁３０ｅの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００６４】
図４に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【００６５】
この場合、搬送軸１０の一端に設けられたマグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅから離れる方向へ移動する。それにより、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合でも、マグネット円板８ａは回転しない。その結果、搬送軸１０および小型搬送ローラ１１が回転しない。
【００６６】
図５は、図２の基板搬送装置１００のＢ−Ｂ線断面図である。
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂは側壁３０ａ，３０ｃに水平状態で固定されている。それにより、搬送軸２０ｂは水平状態となっている。
【００６７】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂとともに回転する。
【００６８】
次に、マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構成について図６に基づき説明する。図６は、マグネット円板の内部構造を示す図である。図６（ａ）は、マグネット円板の横断面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のマグネット円板のＤ−Ｄ線断面図、図６（ｃ）は傾斜壁３０ｅを挟んで対向するマグネット円板の側面図である。
【００６９】
図６（ａ），（ｂ）に示すようにマグネット円板７ａの内部には、一面側にＳ極を有し他面側にＮ極を有する磁石７１と、一面側にＮ極を有し他面側にＳ極を有する磁石７２とが交互に円形に設けられている。マグネット円板８ａの構造はマグネット円板７ａの構造と同様である。
【００７０】
また、図６（ｂ）に示すように、マグネット円板７ａは、ボルト７７ａにより回転軸１０の端面に固定されている。
【００７１】
本発明の実施の形態において、マグネット円板７ａは、非磁性体で形成される。例えば、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン），ＰＣＴＦＥ（三フッ化エチレン）等のフッ素樹脂、ＰＣＶ（ポリ塩化ビニル）等の樹脂またはチタン、アルミニウム、ステンレス等の非磁性体の金属若しくは合金を用いることができる。また、上記の非磁性体の金属および合金は例示であって、これに限定されるものではなく、他の非磁性体を用いることもできる。
【００７２】
図６（ｃ）に示すように、傾斜壁３０ｅの一面にマグネット円板７ａが対向し、傾斜壁３０ｅの他面にマグネット円板８ａが対向する。
【００７３】
この場合、図２のモータＭ１による回転運動が、ベルトＢ１を介して軸７６ａに伝達され、マグネット円板７ａが回転する。マグネット円板７ａの内部の磁石７１とマグネット円板８ａの内部の磁石８２とが磁石により引き合い、マグネット円板７ａの内部の磁石７２とマグネット円板８ａの内部の磁石８１とが磁石により引き合う。それにより、マグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００７４】
なお、傾斜壁３０ｅのマグネット円板７ａとマグネット円板８ａとで挟まれた部分は、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の磁力を強く作用させるために、他の部分の側壁３０ｄよりも厚みが薄くなっている。
【００７５】
次に、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【００７６】
図７（ａ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達される状態を示す図であり、図７（ｂ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない状態を示す図である。
【００７７】
図３に示したように、搬送軸１０が傾斜した状態では、図７（ａ）に示すように、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短いため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに確実に伝達される。
【００７８】
図４に示したように、搬送軸１０が水平の状態では、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石７１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない。
【００７９】
図８は、図２〜図５の基板搬送装置１００の動作を説明するための斜視図である。
【００８０】
図８（ａ）は搬送軸１０が傾斜した状態を示し、図８（ｂ）は搬送軸１０の傾斜途中の状態を示し、図８（ｃ）は搬送軸１０が水平になった状態を示す。
【００８１】
図８（ａ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最大の場合、複数の搬送軸１０は、Ｘ−Ｙ平面（水平面）より角度θの傾斜した状態で支持される。この場合、複数の搬送軸１０が回転することにより基板２００が搬送軸１０の小型搬送ローラ１１によりＸ方向に搬入される。なお、図８においては、小型搬送ローラ１１の図示を省略している。
【００８２】
基板２００が所定の位置まで搬送されると、図８（ｂ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が徐々に減少し、複数の搬送軸１０が角度θ傾斜した状態からＸ−Ｙ平面に平行な状態へ移行する。
【００８３】
図８（ｃ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最小になると、複数の搬送軸１０がＸ−Ｙ平面に平行な状態になる。それにより、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の外周面の頂部が、大型搬送ローラ２１の外周面の頂部よりも下方に位置する。その結果、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１により支持されていた基板２００が、大型搬送ローラ２１により支持される。したがって、大型搬送ローラ２１が回転することにより基板２００がＹ方向に搬出される。
【００８４】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、傾斜姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１により支持され、水平姿勢において基板２００の全域が大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００８５】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく所定の角度のθの傾斜姿勢から水平姿勢に変更させるとともに基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【００８６】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、基板２００に部分的に過度の負荷を加えることなく、基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【００８７】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【００８８】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００においては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【００８９】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００の小型化および省スペース化を実現することができる。
【００９０】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【００９１】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢搬入された基板の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で基板を搬出する。以下、第２の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ａについて説明する。
【００９２】
図９は、基板搬送装置１００ａの横断面図である。図９において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００９３】
図９に示す基板搬送装置１００ａは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００９４】
基板搬送装置１００ａは、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００９５】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００９６】
複数の搬送軸１０の一端は、側壁３０ｄに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端は、側壁３０ｂに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００９７】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｃにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｃにより回転可能に支持され、支持部材１２ｃおよび支持部材１５ｃは、支持部材１２ｄおよび支持部材１５ｄにより支持される。複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００９８】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００９９】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。
【０１００】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１０１】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。
【０１０２】
図１０および図１１は、図９の基板搬送装置１００ａのＣ−Ｃ線断面図である。図１０は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１１は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１０３】
搬送軸２０は、支持部材１５ｃにより支持されている。支持部材１５ｃの一端近傍が、支持部材１２ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。支持部材１５ｃの他端が支持部材１５ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１０４】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１０５】
図１０に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により水平姿勢で支持される。
【０１０６】
また、図１０に示すように、マグネット円板８ａは、搬送室３０の側壁３０ｄの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、側壁３０ｄの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが側壁３０ｄを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【０１０７】
図１１に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【０１０８】
図１２および図１３は、図９の基板搬送装置１００ａのＤ−Ｄ線断面図である。図１２は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１３は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１０９】
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂの下方にシリンダ１６が設けられている。
【０１１０】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。
【０１１１】
図１２に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合でも、マグネット円板８ｂは回転しない。その結果、搬送軸２０および大型搬送ローラ２１が回転しない。
【０１１２】
一方、図１３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂおよび大型搬送ローラ２１とともに回転する。
【０１１３】
本実施の形態に係るマグネット円板７ａ、７ｂ，８ａ，８ｂの内部構造については、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂと同様である。
【０１１４】
次に、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａのマグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【０１１５】
図１４（ａ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達される状態を示す図であり、図１４（ｂ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない状態を示す図である。
【０１１６】
図１０および図１２に示したように、支持部材１５ｃが傾斜した状態では、図１４（ａ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが上下方向にずれて配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない。
【０１１７】
図１１および図１３に示したように、支持部材１５ｃが水平の状態では、図１４（ｂ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが対向可能な位置に配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに確実に伝達される。
【０１１８】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａでは、水平姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１または大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１１９】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく基板の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１２０】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１２１】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１２２】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００ａの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１２３】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【０１２４】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢で搬入された基板の姿勢を変更して傾斜姿勢で基板を搬出する。以下、第３の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ｂについて説明する。
【０１２５】
図１５は、基板搬送装置１００ｂの横断面図である。図１５において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１２６】
図１５に示す基板搬送装置１００ｂは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｃには基板搬出口３４が設けられる。
【０１２７】
基板搬送装置１００ｂは、基板搬入口３３から搬送室３０内に水平姿勢で搬入された基板２００の姿勢を変更して基板搬出口３４から傾斜姿勢で基板２００を搬出する。
【０１２８】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０ｂがＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０ｂもＹ方向に沿って配置されている。搬送軸１０ｂの各々には、複数の搬送ローラ１１ｂがほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０ｂの各々には、複数の搬送ローラ２１ｂが等間隔で設けられている。
【０１２９】
複数の搬送軸１０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１３０】
複数の搬送軸２０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１３１】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０ｂを回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１３２】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０ｂが、搬送ローラ１１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ１１ｂ上に支持された基板２００を傾斜姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ａ，８ａの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，８ａの構造と同様である。
【０１３３】
搬送室３０の側壁３０ｂと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０ｂを回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｂを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１３４】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０ｂが、搬送ローラ２１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ２１ｂ上に支持された基板２００を水平姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ｂ，８ｂの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ｂ，８ｂの構造と同様である。
【０１３５】
図１６および図１７は、図１５の基板搬送装置１００ｂのＥ−Ｅ線断面図である。図１６は、基板２００を搬送ローラ２１ｂで支持した状態を示し、図１７は基板２００を搬送ローラ１１ｂで支持した状態を示す。
【０１３６】
搬送軸２０ｂの一端近傍が、支持部材１２ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸２０ｂの他端が支持部材１５ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１３７】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１３８】
図１６に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが水平状態となる。この状態で、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ２１ｂにより水平姿勢で支持される。
【０１３９】
この場合、搬送軸２０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ｂとマグネット円板７ｂとが側壁３０ｂを介して対抗し、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合、マグネット円板８ｂが回転し、搬送軸２０ｂとともに搬送ローラ２１ｂが回転する。
【０１４０】
また、図１７に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが傾斜姿勢となる。この状態では、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも下方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ１１ｂにより傾斜姿勢で支持される。
【０１４１】
この場合、搬送軸１０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ａとマグネット円板７ａとが側壁３０ｄを介して対抗し、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合、マグネット円板８ａが回転し、搬送軸１０ｂとともに搬送ローラ１１ｂが回転する。
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂでは、傾斜姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ１１ｂにより支持され、水平姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ２１ｂにより支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１４２】
また、全ての搬送ローラ１１ｂおよび搬送ローラ２１ｂに回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく水平姿勢から所定の角度のθの傾斜姿勢に変更させることができる。
【０１４３】
また、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１４４】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７１，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１４５】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。また、基板２００を傾斜姿勢から水平姿勢に変更する際のシリンダ９５のストローク量を低減することができる。したがって、基板搬送装置１００ｂの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１４６】
なお、本実施の形態においては、支持部材１２ｆを水平面に対して支持軸１３Ａを中心として回動させることとしたが、支持部材１２ｆを上下に平行移動させてもよい。
【０１４７】
本実施の形態においては、搬送軸１０が複数の第１の回転軸に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラに相当し、搬送軸２０が複数の第２の回転軸に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラに相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【図２】基板搬送装置の横断面図である。
【図３】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図２の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】マグネット円板の内部構造を示す図である。
【図７】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図８】図２〜図５の基板搬送装置の動作を説明するための斜視図である。
【図９】基板搬送装置の横断面図である。
【図１０】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１２】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１３】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１４】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図１５】基板搬送装置の横断面図である。
【図１６】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１７】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１８】基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である。
【図１９】図１８の基板搬送装置の横断面図である。
【図２０】図１９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂ マグネット円板
１０，２０ 搬送軸
１１ 小型搬送ローラ
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ，１２ｇ 支持部材
１３ 支持台
１３Ａ 支持軸
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇ 支持部材
１６ シリンダ
１６ａ ピストン
２１ 大型搬送ローラ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ 側壁
３０ｅ 傾斜壁
３１，３２ 周壁
７１，７２，８１，８２ 磁石
１００，１０１ 基板搬送装置
２００ 基板
５００ 基板処理装置
Ｂ１，Ｂ２ ベルト
Ｍ１，Ｍ２ モータ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate.
[0002]
[Prior art]
Substrate processing apparatuses are used to perform various processes on substrates such as glass substrates for liquid crystal display devices, glass substrates for photomasks, glass substrates for optical disks, and semiconductor wafers. Since such a substrate processing apparatus is mainly used in a clean room, a reduction in installation space is required.
[0003]
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a substrate processing apparatus that saves space by shortening the overall length of the substrate processing apparatus (see Patent Document 1).
[0004]
In the substrate processing apparatus 900 shown in FIG. 18, a transport path 151 and a transport path 152 that are parallel to each other and a reverse path 153 that couples them are formed.
[0005]
In the substrate processing apparatus 900, the substrates stored in the cassette C of the indexer unit 111 are taken out one by one and processed while being transported in the order of the U-shape of the transport path 151, the reverse path 153, and the transport path 152. Then, it is stored again in the cassette C of the indexer unit 111.
[0006]
A conveyor 112, an ultraviolet irradiation unit 113, an ozone ashing unit 114, and a brush rinsing unit 115 are sequentially arranged in the conveyance path 151 of the substrate processing apparatus 900 of FIG. 18, and an ultraviolet irradiation unit is disposed in the conveyance path 152 of the substrate processing apparatus 900. 119, the air knife part 118, and the water washing part 117 are arrange | positioned in order.
[0007]
In addition, a substrate transport apparatus 800, a chemical processing unit 810 that performs chemical processing, and a substrate transport apparatus 801 are sequentially arranged on the reverse path 153 of the substrate processing apparatus 900. In the chemical solution processing unit 810, processing is performed by inclining the substrate by a predetermined angle in order to make the surface treatment of the substrate uniform.
[0008]
19 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 801 of FIG. 18, and FIG. 20 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 801 of FIG.
[0009]
In FIG. 19 and FIG. 20, two directions orthogonal to each other in the horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction. As shown in FIG. 19, the substrate is loaded in the Y direction from the substrate carry-in port 310 of the transfer chamber 300 and is carried out in the X direction from the substrate carry-out port 320.
[0010]
In the transfer chamber 300 of the substrate transfer apparatus 801 of FIG. 19, a plurality of transfer shafts 80a and a plurality of transfer shafts 80b are respectively arranged along the X direction with a predetermined interval L10. The plurality of transport shafts 80c are arranged along the Y direction within a predetermined distance L10 between the transport shaft 80a and the transport shaft 80b. The plurality of transport shafts 80d are arranged along the Y direction between the transport shafts 80a and 80b.
[0011]
Each transport shaft 80a, 80b is provided with a plurality of rollers P110, each transport shaft 80c is provided with a plurality of rollers P210, and each transport shaft 80d is provided with a plurality of rollers P211.
[0012]
Further, the shaft of the motor M10 provided outside the transfer chamber 300 penetrates the side wall of the transfer chamber 300 and is connected to the transmission mechanism G1, and the rotational force is transmitted from the transmission mechanism G1 to the plurality of transfer shafts 80a. Similarly, the shaft of the motor M20 provided outside the transfer chamber 300 passes through the side wall of the transfer chamber 300 and is connected to the transmission mechanism G2, and the rotational force is transmitted from the transmission mechanism G2 to the plurality of transfer shafts 80b. . Thereby, the plurality of rollers P110 rotate together with the plurality of transport shafts 80a and 80b.
[0013]
Furthermore, the motor M30 provided outside the transfer chamber 300 passes through the side wall of the transfer chamber 300 and is connected to the transmission mechanism G3, and the rotational force is transmitted from the transmission mechanism G3 to the plurality of transfer shafts 80c. Thereby, the plurality of rollers P210 rotate together with the plurality of transport shafts 80c.
[0014]
As shown in FIG. 20, the conveyance shafts 80 a and 80 b are provided in an inclined state with respect to the horizontal plane. The transport shafts 80 c and 80 d are supported by a plurality of support members 96 above the fixed base 90. The fixed base 90 is driven in the vertical direction by the cylinder 95.
[0015]
The substrate 200 carried in from the substrate carry-in port 310 in FIG. 19 is supported by the roller P110 in an inclined posture as shown in FIG. Motors M10 and M20 provided outside the transfer chamber 300 rotate the rollers P110 of the transfer shafts 80a and 80b via the transmission mechanisms G1 and G2, and the substrate 200 is transferred in the Y direction.
[0016]
Subsequently, when the substrate 200 is transported to a predetermined position, the motor M10 and the motor M20 stop rotating. Thereby, the rotation of the plurality of rollers P110 stops, and the substrate 200 stops.
[0017]
Subsequently, the fixed base 90 is lifted in the Z direction by the cylinder 95. As a result, the rollers P210 of the plurality of transport shafts 80c and the rollers P211 of the plurality of transport shafts 80d supported by the plurality of support members 96 move higher than the plurality of rollers P110. Accordingly, the substrate 200 is separated from the roller P110, supported by the rollers P210 and 211, and lifted upward.
[0018]
Further, when the transport shafts 80c and 80d move upward, the gear (not shown) of the motor M30 and the transmission mechanism G3 in FIG. 19 and the gear (not shown) provided on the transport shaft 80c mesh. Thereby, the rotational force of the motor (M30) is transmitted to the plurality of rollers P210, and the roller P210 rotates. As a result, the substrate 200 supported by the rollers P210 and P211 is unloaded from the substrate unloading port 320 in the direction of the arrow X.
[0019]
As described above, the substrate transport apparatus 801 can carry out the substrate 200 loaded in the X direction in the inclined posture in the Y direction in the horizontal posture.
[0020]
[Patent Document 1]
JP 2000-31239 A
[0021]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional substrate transport apparatus 801, when the substrate 200 is supported in an inclined posture, the substrate 200 is not supported at the distance L10 between the transport shafts 80a and 80b as shown in FIG. For this reason, there is a concern that the substrate 200 may be bent due to its own weight as the diameter of the substrate 200 increases, and the substrate 200 may be damaged by applying an excessive load.
[0022]
Further, the rollers P211 of the plurality of transport shafts 80d are positioned below the plurality of transport shafts 80a and 80b when transporting in the inclined posture, and are raised above the plurality of transport shafts 80a and 80b when transporting in the horizontal posture. Therefore, the conveyance shaft 80d and the roller P211 need to be provided so as not to interfere with the plurality of conveyance shafts 80a and 80b. Therefore, it is difficult to transmit the rotational force to all the rollers P211, and the conveyance force of the substrate 200 is reduced. As a result, a conveyance failure of the substrate 200 occurs. Furthermore, since the substrate 200 must be transported so as not to come into contact with the transmission mechanism G1 in FIG. 20, it is necessary to set a large stroke amount of the cylinder 95, and space saving in the vertical direction is difficult.
[0023]
An object of the present invention is to provide a substrate transport apparatus that can transport a substrate with a simple structure without being deformed or damaged.
[0024]
[Means for Solving the Problems and Effects of the Invention]
(First invention)
A substrate transport apparatus according to a first aspect of the present invention is a substrate transport apparatus for transporting a substrate, which is rotatably provided and has a plurality of first rotation shafts that support the substrate. , A plurality of second rotation shafts provided rotatably and supporting the substrate; With The plurality of first rotation shafts are provided to intersect with the plurality of second rotation shafts above the plurality of second rotation shafts, A plurality of first rollers are provided on each of the plurality of first rotation shafts so as to be concentric with the first rotation shaft, and a plurality of second rollers are provided on each of the plurality of second rotation shafts. Concentric with the rotating shaft, The diameter of the first roller is plural The plurality of first rotation shafts and the plurality of second rotations are smaller than the diameter of the second roller, and the plurality of first rotation shafts and the plurality of second rotation shafts are relatively inclined or moved. State changing means for changing the positional relationship with the shaft to the first state or the second state Further Provided, when the plurality of first and second rotating shafts are in the first state. plural The top of the first roller plural When located above the top of the second roller and in the second state plural The top of the second roller plural A plurality of first rotating shafts and a plurality of second rotating shafts are arranged so as to be positioned above the top of the first roller.
[0025]
In the substrate transfer apparatus according to the first aspect of the present invention, the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts are relatively inclined or moved so as to intersect with each other. The positional relationship between one rotating shaft and the plurality of second rotating shafts is changed to the first state or the second state by the state changing means.
[0026]
In this case, in the first state, the tops of the plurality of first rollers are positioned above the tops of the second rollers. Thereby, the substrate is supported by the plurality of first rollers. In the second state, the tops of the plurality of second rollers are located above the tops of the first rollers. Thereby, the substrate is supported by the plurality of second rollers. As a result, it is possible to prevent the substrate from being bent due to its own weight and to prevent an excessive load from being partially applied to the substrate.
[0027]
In addition, since the rotational force is transmitted to the plurality of first rollers or the plurality of second rollers, it is possible to prevent substrate conveyance failure. Therefore, the substrate can be changed to the first state and the second state at a predetermined angle without being deformed and damaged, and the direction of transport of the substrate can be changed.
[0028]
Furthermore, it is possible to reduce the amount of stroke in the vertical direction when changing the substrate to the first state and the second state, thereby realizing space saving.
[0029]
(Second invention)
A substrate transport apparatus according to a second invention is a substrate transport apparatus for transporting a substrate, and is provided rotatably and includes a plurality of first rotation shafts that support the substrate. , A plurality of second rotation shafts provided rotatably and supporting the substrate; With The plurality of first rotation axes are provided substantially parallel to the plurality of second rotation axes, A plurality of first rollers are provided on each of the plurality of first rotation shafts so as to be concentric with the first rotation shaft, and a plurality of second rollers are provided on each of the plurality of second rotation shafts. Provided concentrically with the rotation axis, The positional relationship between the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts is set to the first state by relatively tilting or moving the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts. Or state changing means for changing to the second state Further The state changing means includes a plurality of first and second rotating shafts in the first state. plural The top of the first roller plural Located above the top of the second roller, in the second state plural The top of the second roller plural The plurality of first rotation shafts and the plurality of second rotation shafts are relatively moved or inclined so as to be positioned above the top of the first roller.
[0030]
In the substrate transfer apparatus according to the second invention, the plurality of first rotation shafts in a substantially parallel state are obtained by relatively moving or tilting the plurality of first rotation shafts and the plurality of second rotation shafts. And the plurality of second rotating shafts are changed to the first state or the second state by the state changing means.
[0031]
In this case, in the first state, the tops of the plurality of first rollers are positioned above the tops of the second rollers. Thereby, the substrate is supported by the plurality of first rollers. In the second state, the tops of the plurality of second rollers are located above the tops of the first rollers. Thereby, the substrate is supported by the plurality of second rollers. As a result, it is possible to prevent the substrate from being bent due to its own weight and to prevent an excessive load from being partially applied to the substrate.
[0032]
In addition, since the rotational force is transmitted to the plurality of first rollers or the plurality of second rollers, it is possible to prevent substrate conveyance failure. Therefore, the substrate can be changed to the first state and the second state without being deformed and damaged.
[0033]
(Third invention)
According to a third aspect of the present invention, there is provided the substrate transport apparatus according to the first or second aspect of the present invention, wherein the plurality of first rotation axes and the second plane in the first state are In this state, the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane is different.
[0034]
In this case, the angle formed by the first rotation axis with respect to the horizontal plane in the first state is different from the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane in the second state. The substrate can be conveyed by the first roller and the second roller while changing the angle.
[0035]
(Fourth invention)
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the substrate transport apparatus according to the first or second aspect of the present invention, wherein the plurality of first rotation axes and the second plane in the first state are the second angle. In this state, the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane is equal.
[0036]
In this case, the angle formed by the plurality of first rotation axes with respect to the horizontal plane in the first state is equal to the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane in the second state. The substrate can be transported by the first roller and the second roller while maintaining the tilt angle.
[0037]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0038]
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus provided with a substrate transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention.
[0039]
A substrate processing apparatus 500 shown in FIG. 1 is an apparatus for processing a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for an optical disk, or a semiconductor wafer.
[0040]
The substrate processing apparatus 500 includes an indexer unit 60, conveyors 61 and 69, an ultraviolet (UV) irradiation unit 62, chemical solution processing units 63 and 64, a primary water washing unit 65, secondary water washing units 66 and 67, an air knife unit 68, and a substrate transport. The apparatus 100 and 101 are comprised.
[0041]
In the substrate processing apparatus 500 of FIG. 1, a transport path 154 and a transport path 156 that are parallel to each other and an inversion path 155 that couples them are formed. The conveyance paths 154 and 156 and the reversing path 155 are substantially orthogonal.
[0042]
A conveyor path 154, an ultraviolet (UV) irradiation unit 62, and chemical processing units 63 and 64 are sequentially provided in the transport path 154 of the substrate processing apparatus 500. The substrate transfer apparatus 100, the primary water washing unit 65, and the substrate transfer apparatus 100 are sequentially provided on the reversing path 155 of the substrate processing apparatus 500. In the transport path 156 of the substrate transport apparatus 500, secondary water washing sections 66 and 67, an air knife section 68, and a conveyor 69 are provided in this order.
[0043]
First, a cassette C in which a plurality of substrates 200 are stored is loaded into the indexer unit 60 of the substrate processing apparatus 500. The substrates 200 stored in the cassette C are taken out one by one by a transport device (not shown) and are carried into the conveyor 61. Here, in the transport path 154, the substrate 200 is processed in a posture inclined by a predetermined angle from the horizontal plane in order to make the substrate processing uniform.
[0044]
At the time of loading on the conveyor 61, the posture of the substrate 200 is changed to a posture inclined by a predetermined angle from the horizontal posture (hereinafter referred to as a tilted posture). The inclined substrate 200 is conveyed to the ultraviolet (UV) irradiation unit 62 by the conveyor 61. In the ultraviolet (UV) irradiation unit 62, the substrate 200 is irradiated with ultraviolet rays. As a result, organic substances and oil adhering to the surface of the substrate 200 are decomposed, and the paintability of the substrate 200 is improved. Thereafter, chemical processing such as etching is performed on the substrate 200 in the chemical processing units 63 and 64.
[0045]
Subsequently, a primary water washing process is performed on the substrate 200 in the transport path 155. In the substrate transport apparatus 100, the transport direction of the substrate 200 is changed and the substrate 200 transported in an inclined posture is changed to a horizontal posture. Then, the substrate 200 is transferred to the primary water washing unit 65. In the primary water washing unit 65, the water washing process is performed on the surface of the substrate 200 in a horizontal posture. The primary water washing treatment is performed in order to prevent the surface of the substrate 200 from being dried and impurities being deposited and fixed. Therefore, also in the substrate transport apparatuses 100 and 101 in the present embodiment, the substrate 200 is transported and pure water is jetted onto the substrate 200 from above.
[0046]
Next, the substrate 200 is transferred to the substrate transfer apparatus 100. In the present embodiment, the substrate 200 is processed in an inclined posture in the transport path 156. Therefore, in the substrate transport apparatus 100, the transport direction of the substrate 200 is changed, and the substrate 200 transported in a horizontal posture is changed to an inclined posture. Then, the substrate 200 is transported to the secondary water washing units 66 and 67.
[0047]
Next, the surface of the substrate 200 is washed with pure water in the secondary water washing sections 66 and 67. Further, the substrate 200 is transported to the air knife portion 68. Curtain-like air is sprayed onto the substrate 200 in the air knife portion 68. Thereafter, the substrate 200 is transported by the conveyor 69, and the substrate 200 is stored in the cassette C by a transport device (not shown). C that accommodates the plurality of processed substrates 200 is unloaded from the indexer unit 60.
[0048]
Next, details of the substrate transfer apparatuses 100 and 101 will be described. The substrate transfer device 100 and the substrate transfer device 101 have substantially the same structure. Hereinafter, the substrate transfer apparatus 100 will be described.
[0049]
FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 100. In FIG. 2, two directions orthogonal to each other in the horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0050]
A substrate transfer apparatus 100 shown in FIG. 2 has a transfer chamber 30. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 b of the transfer chamber 30.
[0051]
The substrate transfer apparatus 100 changes the direction of the substrate 200 loaded in the X direction from the substrate carry-in port 33 into the transfer chamber 30 and carries the substrate 200 out of the substrate carry-out port 34 in the Y direction.
[0052]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10 are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20 are arranged along the X direction. Each of the transport shafts 10 is provided with a plurality of small transport rollers 11 at substantially equal intervals. A plurality of large transport rollers 21 are provided at equal intervals on each transport shaft 20.
[0053]
The vicinity of one end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by a support member 12a, and the vicinity of the other end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by a support member 15a. The magnet discs 8a are respectively attached.
[0054]
The vicinity of one end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 12b, and the vicinity of the other end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 15b. The magnet discs 8b are respectively attached.
[0055]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotationally driving the plurality of transfer shafts 10 are provided. Each magnet disk 7a is disposed so as to face the magnet disk 8a through the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet discs 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet discs 7a rotate in the same direction.
[0056]
As the magnet disk 7a rotates, the magnet disk 8a rotates. Thereby, the conveyance shaft 10 rotates together with the small conveyance roller 11. As a result, the substrate 200 supported on the small transport roller 11 can be transported in the X direction. Details of the structure of the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described later.
[0057]
In the space surrounded by the side wall 30c and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2, a belt B2, and a plurality of magnet disks 7b for driving the plurality of transfer shafts 20 are provided. Each magnet disk 7b is disposed so as to face the magnet disk 8b through the side wall 30c. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b, and the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction as the shaft of the motor M2 rotates.
[0058]
As the magnet disk 7b rotates, the magnet disk 8b rotates. Thereby, the conveyance shaft 20 rotates together with the large conveyance roller 21. As a result, the substrate 200 supported on the large transport roller 21 can be transported in the Y direction. Details of the structure of the magnet disk 7b and the magnet disk 8b will be described later.
[0059]
3 and 4 are cross-sectional views taken along line AA of the substrate transfer apparatus 100 of FIG. 3 shows a state in which the substrate 200 is supported in an inclined posture, and FIG. 4 shows a state in which the substrate 200 is supported in a horizontal posture.
[0060]
The vicinity of one end of the transport shaft 10 is rotatably supported above the support base 13 by the support member 12a. The other end of the transport shaft 10 is rotatably supported above the support base 13 by a support member 15a.
[0061]
Further, one end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A. The other end of the support base 13 is supported by a cylinder 16 so as to be movable up and down. The tip of the piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support base 13.
[0062]
As shown in FIG. 3, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R10. Thereby, the conveyance axis | shaft 10 will be in an inclined state. In this state, the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is positioned above the top of the large transport roller 21 of the transport shaft 20. Accordingly, the substrate 200 is supported in an inclined posture by the small transport roller 11.
[0063]
As shown in FIG. 3, an inclined wall 30 e that is slightly inclined from the vertical direction is provided on a part of the side wall 30 d of the transfer chamber 30. The magnet disk 8a faces the inner surface of the inclined wall 30e in parallel. The magnet disc 7a is attached to the shaft 76a so as to face the outer surface of the inclined wall 30e in parallel. Thereby, the magnet disc 8a opposes the magnet disc 7a through the inclined wall 30e. Therefore, when the magnet disk 7a is rotated together with the shaft 76a by the belt B1, the magnet 8a is rotated together with the transport shaft 10 by the magnet acting between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a.
[0064]
As shown in FIG. 4, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R11. Thereby, the conveyance axis | shaft 10 becomes a horizontal attitude | position. In this state, the top of the large transport roller 21 of the substrate 200 is positioned above the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10. Accordingly, the substrate 200 is supported in a horizontal posture by the large transport roller 21.
[0065]
In this case, the magnet disk 8a provided at one end of the transport shaft 10 moves in a direction away from the inclined wall 30e. As a result, the distance between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a increases, and no magnetic force acts between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a. Therefore, even when the magnet disk 7a is rotated by the belt B1, the magnet disk 8a does not rotate. As a result, the conveyance shaft 10 and the small conveyance roller 11 do not rotate.
[0066]
FIG. 5 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 100 of FIG.
The vicinity of one end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support base 13B by the support member 12b, and the vicinity of the other end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support base 13B by the support member 15b. The support base 13B is fixed to the side walls 30a and 30c in a horizontal state. Thereby, the conveyance shaft 20b is in a horizontal state.
[0067]
The magnet disk 8b faces the inner surface of the side wall 30c in parallel. The magnet disc 7b is attached to the shaft 76b so as to face the outer surface of the side wall 30c in parallel. Thereby, the magnet disk 8b faces the magnet disk 7b in parallel via the side wall 30c. Therefore, when the magnet disk 7b is rotated together with the shaft 76b by the belt B2, the magnet disk 8b is rotated together with the conveying shaft 20b by the magnetic force acting between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b.
[0068]
Next, the configuration of the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram showing the internal structure of the magnet disk. 6A is a transverse sectional view of the magnet disk, FIG. 6B is a sectional view taken along the line DD of the magnet disk in FIG. 6A, and FIG. It is a side view of the opposing magnet disk.
[0069]
As shown in FIGS. 6A and 6B, the magnet disk 7a has a magnet 71 having an S pole on one side and an N pole on the other side, and an N pole on the other side. Magnets 72 having S poles on the other surface side are alternately provided in a circular shape. The structure of the magnet disk 8a is the same as that of the magnet disk 7a.
[0070]
Further, as shown in FIG. 6B, the magnet disk 7a is fixed to the end surface of the rotary shaft 10 by a bolt 77a.
[0071]
In the embodiment of the present invention, the magnet disk 7a is formed of a nonmagnetic material. For example, a fluororesin such as PTFE (tetrafluoroethylene) or PCTFE (ethylene trifluoride), a resin such as PCV (polyvinyl chloride), or a non-magnetic metal or alloy such as titanium, aluminum, or stainless steel may be used. it can. Further, the non-magnetic metal and alloy described above are merely examples, and the present invention is not limited thereto, and other non-magnetic substances can be used.
[0072]
As shown in FIG. 6C, the magnet disk 7a faces one surface of the inclined wall 30e, and the magnet disk 8a faces the other surface of the inclined wall 30e.
[0073]
In this case, the rotational motion by the motor M1 in FIG. 2 is transmitted to the shaft 76a via the belt B1, and the magnet disk 7a rotates. The magnet 71 inside the magnet disc 7a and the magnet 82 inside the magnet disc 8a are attracted by the magnet, and the magnet 72 inside the magnet disc 7a and the magnet 81 inside the magnet disc 8a are attracted by the magnet. As a result, the magnet disk 8 a rotates with the transport shaft 10.
[0074]
Note that the portion of the inclined wall 30e sandwiched between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a acts on the side wall 30d of the other portion in order to exert a strong magnetic force between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a. The thickness is thinner than.
[0075]
Next, transmission and interruption of the rotational force between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described.
[0076]
FIG. 7A is a diagram illustrating a state in which the rotational force of the magnet disk 7a is transmitted to the magnet disk 8a, and FIG. 7B is a diagram in which the rotational force of the magnet disk 7a is not transmitted to the magnet disk 8a. It is a figure which shows a state.
[0077]
As shown in FIG. 3, in the state where the conveying shaft 10 is inclined, as shown in FIG. 7A, the distance between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a is the magnet 71 of the magnet disc 7a. Is shorter than the limit distance where the attractive force acts between the magnet 82 and the magnet 82 of the magnet disk 8a and the limit distance where the attractive force acts between the magnet 72 of the magnet disk 7a and the magnet 81 of the magnet disk 8a. The rotational force of the disk 7a is reliably transmitted to the magnet disk 8a.
[0078]
As shown in FIG. 4, when the conveying shaft 10 is in a horizontal state, the distance between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a is such that the magnet 71 of the magnet disc 7a and the magnet 82 of the magnet disc 8a. Since the limit distance between which the attractive force is exerted and the limit distance where the attractive force is exerted between the magnet 72 of the magnet disk 7a and the magnet 71 of the magnet disk 8a are longer, the rotational force of the magnet disk 7a is It is not transmitted to the plate 8a.
[0079]
FIG. 8 is a perspective view for explaining the operation of the substrate transfer apparatus 100 of FIGS.
[0080]
8A shows a state where the transport shaft 10 is tilted, FIG. 8B shows a state where the transport shaft 10 is being tilted, and FIG. 8C shows a state where the transport shaft 10 is horizontal. .
[0081]
As shown in FIG. 8A, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 is maximum, the plurality of transport shafts 10 are supported in an inclined state with an angle θ from the XY plane (horizontal plane). In this case, the plurality of transport shafts 10 are rotated so that the substrate 200 is carried in the X direction by the small transport rollers 11 of the transport shaft 10. In FIG. 8, the small conveyance roller 11 is not shown.
[0082]
When the substrate 200 is transported to a predetermined position, as shown in FIG. 8 (b), the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 gradually decreases, and the plurality of transport shafts 10 are tilted by an angle θ from the X− direction. Transition to a state parallel to the Y plane.
[0083]
As shown in FIG. 8C, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 is minimized, the plurality of transport shafts 10 are in a state parallel to the XY plane. Thereby, the top of the outer peripheral surface of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is positioned below the top of the outer peripheral surface of the large transport roller 21. As a result, the substrate 200 that has been supported by the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is supported by the large transport roller 21. Accordingly, the substrate 200 is unloaded in the Y direction as the large transport roller 21 rotates.
[0084]
In the substrate transport apparatus 100 according to the present embodiment, the entire region of the substrate 200 is supported by the small transport roller 11 in the inclined posture, and the entire region of the substrate 200 is supported by the large transport roller 21 in the horizontal posture. This prevents the substrate 200 from being bent due to its own weight and prevents an excessive load from being partially applied to the substrate 200.
[0085]
In addition, since the rotational force is transmitted to all the small transport rollers 11 and the large transport rollers 21, it is possible to prevent the transport failure of the substrate 200. Therefore, the substrate 200 can be changed from the inclined posture of θ at a predetermined angle to the horizontal posture without being deformed and damaged, and the transport direction of the substrate 200 can be changed from the X direction to the Y direction.
[0086]
In the substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment, the transfer direction of the substrate 200 can be changed from the X direction to the Y direction without partially applying an excessive load to the substrate 200.
[0087]
Further, since it is not necessary to provide holes in the side walls 30a to 30d in order to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20, the atmosphere containing the processing liquid is prevented from leaking outside the transport chamber 30. Is done.
[0088]
Further, in the substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment, a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transfer shafts 10 and 20 is provided outside the transfer chamber 30. The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer apparatus 100, vibration due to the magnet disks 71, 7b, 8a, 8b does not occur. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0089]
Furthermore, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the conveyance shafts 10 and 20 is provided outside the conveyance chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the conveyance chamber 30. There is no need to supply the lubricant into the transfer chamber 30. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified. Further, the stroke amount of the cylinder 95 when the substrate 200 is changed from the tilted posture to the horizontal posture can be reduced. Therefore, it is possible to realize a reduction in size and space saving of the substrate transport apparatus 100.
[0090]
In the present embodiment, the conveying shaft 10 corresponds to a plurality of first rotating shafts, the small conveying roller 11 corresponds to a first roller, the conveying shaft 20 corresponds to a plurality of second rotating shafts, The large conveyance roller 21 corresponds to a second roller, and the cylinder 16 and the piston 16a correspond to a state changing unit.
[0091]
(Second Embodiment)
The substrate transport apparatus according to the second embodiment changes the transport direction of a substrate carried in a horizontal posture and unloads the substrate in a horizontal posture. Hereinafter, the substrate transfer apparatus 100a of the substrate processing apparatus according to the second embodiment will be described.
[0092]
FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 100a. In FIG. 9, two directions orthogonal to each other in the horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0093]
A substrate transfer apparatus 100 a shown in FIG. 9 has a transfer chamber 30. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 b of the transfer chamber 30.
[0094]
The substrate transfer apparatus 100a changes the direction of the substrate 200 carried in the X direction from the substrate carry-in port 33 into the transfer chamber 30, and carries the substrate 200 out of the substrate carry-out port 34 in the Y direction.
[0095]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10 are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20 are arranged along the X direction. Each of the transport shafts 10 is provided with a plurality of small transport rollers 11 at substantially equal intervals. A plurality of large transport rollers 21 are provided at equal intervals on each transport shaft 20.
[0096]
One end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported on the side wall 30d, the other end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported on the side wall 30b, and one end of the plurality of transport shafts 10 has a magnet disk. 8a is attached to each.
[0097]
The vicinity of one end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 12c, the vicinity of the other end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 15c, and the support member 12c and the support member 15c are It is supported by the support member 12d and the support member 15d. Magnet disks 8b are attached to one ends of the plurality of transport shafts 20, respectively.
[0098]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotationally driving the plurality of transfer shafts 10 are provided. Each magnet disk 7a is disposed so as to face the magnet disk 8a through the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet discs 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet discs 7a rotate in the same direction.
[0099]
As the magnet disk 7a rotates, the magnet disk 8a rotates. Thereby, the conveyance shaft 10 rotates together with the small conveyance roller 11. As a result, the substrate 200 supported on the small transport roller 11 can be transported in the X direction.
[0100]
In the space surrounded by the side wall 30c and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2, a belt B2, and a plurality of magnet disks 7b for driving the plurality of transfer shafts 20 are provided. Each magnet disk 7b is disposed so as to face the magnet disk 8b through the side wall 30c. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b, and the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction as the shaft of the motor M2 rotates.
[0101]
As the magnet disk 7b rotates, the magnet disk 8b rotates. Thereby, the conveyance shaft 20 rotates together with the large conveyance roller 21. As a result, the substrate 200 supported on the large transport roller 21 can be transported in the Y direction.
[0102]
10 and 11 are cross-sectional views taken along the line CC of the substrate transfer apparatus 100a of FIG. FIG. 10 shows a state where the substrate 200 is supported by the small transport roller 11, and FIG. 11 shows a state where the substrate 200 is supported by the large transport roller 21.
[0103]
The transport shaft 20 is supported by a support member 15c. The vicinity of one end of the support member 15c is rotatably supported above the support base 13 by the support member 12d. The other end of the support member 15c is rotatably supported above the support table 13 by the support member 15d.
[0104]
Further, one end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A. The other end of the support base 13 is supported by a cylinder 16 so as to be movable up and down. The tip of the piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support base 13.
[0105]
As shown in FIG. 10, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R11. As a result, the support member 15c is inclined. In this state, the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is positioned above the top of the large transport roller 21 of the transport shaft 20. Accordingly, the substrate 200 is supported in a horizontal posture by the small transport roller 11.
[0106]
Further, as shown in FIG. 10, the magnet disk 8 a faces the inner surface of the side wall 30 d of the transfer chamber 30 in parallel. The magnet disc 7a is attached to the shaft 76a so as to face the outer surface of the side wall 30d in parallel. Thereby, the magnet disk 8a opposes the magnet disk 7a through the side wall 30d. Therefore, when the magnet disc 7a is rotated together with the shaft 76a by the belt B1, the magnet disc 8a is rotated together with the conveying shaft 10 by the magnet acting between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a.
[0107]
As shown in FIG. 11, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R10. Thereby, the support member 15c becomes a horizontal posture. In this state, the top of the large transport roller 21 of the substrate 200 is positioned above the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10. Accordingly, the substrate 200 is supported in a horizontal posture by the large transport roller 21.
[0108]
12 and 13 are sectional views taken along line D-D of the substrate transfer apparatus 100a of FIG. FIG. 12 shows a state where the substrate 200 is supported by the small transport roller 11, and FIG. 13 shows a state where the substrate 200 is supported by the large transport roller 21.
[0109]
The vicinity of one end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support base 13B by the support member 12c, and the vicinity of the other end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support base 13B by the support member 15c. A cylinder 16 is provided below the support base 13B.
[0110]
The magnet disk 8b faces the inner surface of the side wall 30c in parallel. The magnet disc 7b is attached to the shaft 76b so as to face the outer surface of the side wall 30c in parallel.
[0111]
As shown in FIG. 12, when the projecting amount of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b increases, and the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b increases. The magnetic force does not work. Therefore, even when the magnet disk 7b is rotated by the belt B2, the magnet disk 8b does not rotate. As a result, the conveyance shaft 20 and the large conveyance roller 21 do not rotate.
[0112]
On the other hand, as shown in FIG. 13, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the magnet disk 8b faces the magnet disk 7b in parallel via the side wall 30c. Therefore, when the magnet disc 7b rotates with the shaft 76b by the belt B2, the magnet disc 8b rotates with the transport shaft 20b and the large transport roller 21 by the magnetic force acting between the magnet disc 7b and the magnet disc 8b.
[0113]
The internal structure of the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b according to the present embodiment is the same as that of the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b according to the first embodiment.
[0114]
Next, transmission and interruption of rotational force between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b of the substrate transfer apparatus 100a according to the present embodiment will be described.
[0115]
FIG. 14A is a diagram showing a state in which the rotational force of the magnet disc 7b is transmitted to the magnet disc 8b, and FIG. 14B is a diagram in which the rotational force of the magnet disc 7b is not transmitted to the magnet disc 8b. It is a figure which shows a state.
[0116]
As shown in FIGS. 10 and 12, when the support member 15c is inclined, as shown in FIG. 14 (a), the magnet disk 7b and the magnet disk 8b are displaced in the vertical direction. . Therefore, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b is the limit distance at which the attractive force acts between the magnet 71 of the magnet disk 7b and the magnet 82 of the magnet disk 8b, and the magnet of the magnet disk 7b. 72 and the magnet 81 of the magnet disk 8b is longer than the limit distance at which the attractive force works, so that the rotational force of the magnet disk 7b is not transmitted to the magnet disk 8b.
[0117]
As shown in FIGS. 11 and 13, when the support member 15c is in a horizontal state, as shown in FIG. 14B, the magnet disk 7b and the magnet disk 8b are arranged at positions where they can face each other. . Therefore, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b is the limit distance at which the attractive force acts between the magnet 71 of the magnet disk 7b and the magnet 82 of the magnet disk 8b, and the magnet of the magnet disk 7b. 72 and the magnet 81 of the magnet disk 8b is shorter than the limit distance at which the attractive force acts, so that the rotational force of the magnet disk 7b is reliably transmitted to the magnet disk 8b.
[0118]
In the substrate transport apparatus 100a according to the present embodiment, the entire area of the substrate 200 is supported by the small transport roller 11 or the large transport roller 21 in a horizontal posture. This prevents the substrate 200 from being bent due to its own weight and prevents an excessive load from being partially applied to the substrate 200.
[0119]
In addition, since the rotational force is transmitted to all the small transport rollers 11 and the large transport rollers 21, it is possible to prevent the transport failure of the substrate 200. Therefore, the substrate transport direction can be changed from the X direction to the Y direction without deforming and damaging the substrate 200.
[0120]
Further, since it is not necessary to provide holes in the side walls 30a to 30d in order to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20, the atmosphere containing the processing liquid is prevented from leaking outside the transport chamber 30. Is done.
[0121]
Further, in the substrate transfer apparatus 100a according to the present embodiment, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1, M2 to the transfer shafts 10, 20 is provided outside the transfer chamber 30, the transmission mechanism The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer apparatus 100, vibration due to the magnet disks 71, 7b, 8a, 8b does not occur. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0122]
Furthermore, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the conveyance shafts 10 and 20 is provided outside the conveyance chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the conveyance chamber 30. There is no need to supply the lubricant into the transfer chamber 30. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified. Further, the stroke amount of the cylinder 95 when the substrate 200 is changed from the tilted posture to the horizontal posture can be reduced. Therefore, it is possible to realize a reduction in size and space saving of the substrate transport apparatus 100a.
[0123]
In the present embodiment, the conveying shaft 10 corresponds to a plurality of first rotating shafts, the small conveying roller 11 corresponds to a first roller, the conveying shaft 20 corresponds to a plurality of second rotating shafts, The large conveyance roller 21 corresponds to a second roller, and the cylinder 16 and the piston 16a correspond to a state changing unit.
[0124]
(Third embodiment)
The substrate transfer apparatus according to the third embodiment changes the posture of the substrate loaded in the horizontal posture and carries out the substrate in an inclined posture. Hereinafter, the substrate transfer apparatus 100b of the substrate processing apparatus according to the third embodiment will be described.
[0125]
FIG. 15 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus 100b. In FIG. 15, two directions orthogonal to each other in the horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0126]
A substrate transfer apparatus 100 b shown in FIG. 15 has a transfer chamber 30. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 c of the transfer chamber 30.
[0127]
The substrate transfer apparatus 100 b changes the posture of the substrate 200 that is carried in the horizontal posture from the substrate carry-in port 33 into the transfer chamber 30 and carries the substrate 200 out of the substrate carry-out port 34 in an inclined posture.
[0128]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10b are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20b are also arranged along the Y direction. A plurality of transport rollers 11b are provided at substantially equal intervals on each of the transport shafts 10b. A plurality of transport rollers 21b are provided at equal intervals on each of the transport shafts 20b.
[0129]
The vicinity of one end of the plurality of transport shafts 10b is rotatably supported by a support member 12f, and the vicinity of the other end of the plurality of transport shafts 10b is rotatably supported by a support member 15f. The magnet discs 8a are respectively attached.
[0130]
The vicinity of one end of the plurality of transport shafts 20b is rotatably supported by the support member 12g, and the vicinity of the other end of the plurality of transport shafts 20b is rotatably supported by the support member 15g, and is connected to the other end of the plurality of transport shafts 20b. Are respectively attached with magnet disks 8b.
[0131]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotationally driving the plurality of transfer shafts 10b are provided. Each magnet disk 7a is disposed so as to face the magnet disk 8a through the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet discs 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet discs 7a rotate in the same direction.
[0132]
As the magnet disk 7a rotates, the magnet disk 8a rotates. Thereby, the conveyance shaft 10b rotates with the conveyance roller 11b. As a result, the substrate 200 supported on the transport roller 11b can be transported in an inclined posture. The details of the structure of the magnet disks 7a and 8a are the same as the structure of the magnet disks 7a and 8a according to the first embodiment.
[0133]
In a space surrounded by the side wall 30b and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2, a belt B2, and a plurality of magnet disks 7b for rotationally driving the plurality of transfer shafts 20b are provided. Each magnet disk 7b is disposed so as to face the magnet disk 8b via the side wall 30b. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b, and the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction as the shaft of the motor M2 rotates.
[0134]
As the magnet disk 7b rotates, the magnet disk 8b rotates. Thereby, the conveyance shaft 20b rotates with the conveyance roller 21b. As a result, the substrate 200 supported on the transport roller 21b can be transported in a horizontal posture. The details of the structure of the magnet disks 7b and 8b are the same as the structure of the magnet disks 7b and 8b according to the first embodiment.
[0135]
16 and 17 are cross-sectional views taken along the line EE of the substrate transfer apparatus 100b of FIG. 16 shows a state where the substrate 200 is supported by the transport roller 21b, and FIG. 17 shows a state where the substrate 200 is supported by the transport roller 11b.
[0136]
The vicinity of one end of the transport shaft 20b is rotatably supported above the support base 13 by the support member 12e. The other end of the transport shaft 20b is rotatably supported above the support base 13 by a support member 15e.
[0137]
Further, one end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A. The other end of the support base 13 is supported by a cylinder 16 so as to be movable up and down. The tip of the piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support base 13.
[0138]
As shown in FIG. 16, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R11. Thereby, the support member 12f is in a horizontal state. In this state, the top of the transport roller 21b of the transport shaft 20b is positioned above the top of the transport roller 11b of the transport shaft 10b. Accordingly, the substrate 200 is supported in a horizontal posture by the transport roller 21b.
[0139]
In this case, the magnet disk 8b and the magnet disk 7b provided at one end of the transport shaft 20b are opposed to each other via the side wall 30b, and a magnetic force acts between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b. Therefore, when the magnet disc 7b is rotated by the belt B2, the magnet disc 8b is rotated, and the transport roller 21b is rotated together with the transport shaft 20b.
[0140]
Also, as shown in FIG. 17, when the protrusion amount of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support base 13 rotates about the support shaft 13A in the direction of the arrow R10. As a result, the support member 12f is inclined. In this state, the top of the transport roller 21b of the transport shaft 20b is positioned below the top of the transport roller 11b of the transport shaft 10b. Accordingly, the substrate 200 is supported in an inclined posture by the transport roller 11b.
[0141]
In this case, the magnet disk 8a and the magnet disk 7a provided at one end of the transport shaft 10b face each other via the side wall 30d, and a magnetic force acts between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a. Therefore, when the magnet disc 7a is rotated by the belt B1, the magnet disc 8a is rotated, and the transport roller 11b is rotated together with the transport shaft 10b.
In the substrate transport apparatus 100b according to the present embodiment, the entire region of the substrate 200 is supported by the transport roller 11b in the inclined posture, and the entire region of the substrate 200 is supported by the transport roller 21b in the horizontal posture. This prevents the substrate 200 from being bent due to its own weight and prevents an excessive load from being partially applied to the substrate 200.
[0142]
Further, since the rotational force is transmitted to all the transport rollers 11b and the transport rollers 21b, the transport failure of the substrate 200 can be prevented. Therefore, the substrate 200 can be changed from the horizontal posture to the inclined posture of θ at a predetermined angle without deforming and damaging the substrate 200.
[0143]
Further, since it is not necessary to provide holes in the side walls 30a to 30d in order to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20, the atmosphere containing the processing liquid is prevented from leaking outside the transport chamber 30. Is done.
[0144]
In the substrate transfer apparatus 100b according to the present embodiment, a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transfer shafts 10b and 20b is provided outside the transfer chamber 30. The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer apparatus 100, vibration due to the magnet disks 71, 7b, 8a, 8b does not occur. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0145]
Furthermore, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1, M2 to the conveyance shafts 10b, 20b is provided outside the conveyance chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the conveyance chamber 30. There is no need to supply the lubricant into the transfer chamber 30. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified. Further, the stroke amount of the cylinder 95 when the substrate 200 is changed from the tilted posture to the horizontal posture can be reduced. Accordingly, it is possible to realize a reduction in size and space saving of the substrate transfer apparatus 100b.
[0146]
In the present embodiment, the support member 12f is rotated about the support shaft 13A with respect to the horizontal plane. However, the support member 12f may be translated up and down.
[0147]
In the present embodiment, the conveying shaft 10 corresponds to a plurality of first rotating shafts, the small conveying roller 11 corresponds to a first roller, the conveying shaft 20 corresponds to a plurality of second rotating shafts, The large conveyance roller 21 corresponds to a second roller, and the cylinder 16 and the piston 16a correspond to a state changing unit.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus.
3 is a cross-sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
4 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 2 along the line AA.
5 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 2 taken along line BB.
FIG. 6 is a diagram showing an internal structure of a magnet disk.
7A is a diagram showing a state where the rotational force of the magnet disc is transmitted to the magnet disc, and FIG. 7B is a diagram showing a state where the rotational force of the magnet disc is not transmitted to the magnet disc. It is.
FIG. 8 is a perspective view for explaining the operation of the substrate transfer apparatus of FIGS.
FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus.
10 is a cross-sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
11 is a cross-sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
12 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 9 taken along the line B-B.
13 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 9 taken along the line BB.
14A is a diagram showing a state in which the rotational force of the magnet disk is transmitted to the magnet disc, and FIG. 14B is a diagram showing a state in which the rotational force of the magnet disc is not transmitted to the magnet disc. It is.
FIG. 15 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus.
16 is a cross-sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
17 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 15 along the line AA.
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a substrate processing apparatus in which the overall length of the substrate processing apparatus is shortened to save space.
19 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG.
20 is a cross-sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
[Explanation of symbols]
7a, 7b, 8a, 8b Magnet disk
10,20 Transport axis
11 Small transport roller
12a, 12b, 12c, 12d, 12e, 12f, 12g Support member
13 Support stand
13A Support shaft
15a, 15b, 15c, 15d, 15e, 15f, 15g Support member
16 cylinders
16a piston
21 Large transport roller
30a, 30b, 30c, 30d side wall
30e inclined wall
31, 32 wall
71, 72, 81, 82 Magnet
100, 101 Substrate transfer device
200 substrates
500 Substrate processing equipment
B1, B2 belt
M1, M2 motor

Claims (4)

基板を搬送する基板搬送装置であって、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸とを備え、
前記複数の第１の回転軸は、前記複数の第２の回転軸の上方で前記複数の第２の回転軸と互いに交差するように設けられ、
前記複数の第１の回転軸の各々に複数の第１のローラが当該第１の回転軸と同心に設けられ、
前記複数の第２の回転軸の各々に複数の第２のローラが当該第２の回転軸と同心に設けられ、
前記複数の第１のローラの直径は前記複数の第２のローラの直径よりも小さく、
前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段をさらに備え、
前記複数の第１および第２の回転軸が前記第１の状態にある場合に前記複数の第１のローラの頂部が前記複数の第２のローラの頂部よりも上方に位置し、前記第２の状態にある場合に前記複数の第２のローラの頂部が前記複数の第１のローラの頂部よりも上方に位置するように前記複数の第１の回転軸および前記複数の第２の回転軸が配置されたことを特徴とする基板搬送装置。A substrate transfer device for transferring a substrate,
A plurality of first rotation shafts provided rotatably and supporting the substrate ;
A plurality of second rotation shafts that are rotatably provided and support the substrate ;
The plurality of first rotation axes are provided above the plurality of second rotation axes so as to intersect with the plurality of second rotation axes,
A plurality of first rollers are provided on each of the plurality of first rotation shafts, and are concentric with the first rotation shaft,
A plurality of second rollers are provided on each of the plurality of second rotation shafts, concentrically with the second rotation shaft,
Wherein the diameter of the plurality of first rollers smaller than the diameter of the plurality of second rollers,
The positional relationship between the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts is obtained by relatively tilting or moving the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts. It further comprises state changing means for changing to the first state or the second state,
Said top portions of the plurality of first and second when said rotating shaft is in said first state a plurality of first rollers is positioned above the top of said plurality of second rollers, the second wherein the plurality of second rollers second rotary shaft top portion of the plurality of first rotational axis and the plurality so as to be positioned above the top of said plurality of first rollers when in the state A substrate transfer apparatus characterized in that is disposed. 基板を搬送する基板搬送装置であって、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第１の回転軸と、
回転可能に設けられ、基板を支持する複数の第２の回転軸とを備え、
前記複数の第１の回転軸は、前記複数の第２の回転軸と互いに略平行に設けられ、
前記複数の第１の回転軸の各々に複数の第１のローラが当該第１の回転軸と同心に設けられ、
前記複数の第２の回転軸の各々に複数の第２のローラが当該第２の回転軸と同心に設けられ、
前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に傾斜または移動させることにより前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸との位置関係を第１の状態または第２の状態に変更する状態変更手段をさらに備え、
前記状態変更手段は、前記複数の第１および第２の回転軸が前記第１の状態で前記複数の第１のローラの頂部が前記複数の第２のローラの頂部よりも上方に位置し、前記第２の状態で前記複数の第２のローラの頂部が前記複数の第１のローラの頂部よりも上方に位置するように前記複数の第１の回転軸と前記複数の第２の回転軸とを相対的に移動または傾斜させることを特徴とする基板搬送装置。A substrate transfer device for transferring a substrate,
A plurality of first rotation shafts provided rotatably and supporting the substrate ;
A plurality of second rotation shafts that are rotatably provided and support the substrate ;
The plurality of first rotation axes are provided substantially parallel to the plurality of second rotation axes,
A plurality of first rollers are provided on each of the plurality of first rotation shafts, and are concentric with the first rotation shaft,
A plurality of second rollers are provided on each of the plurality of second rotation shafts, concentrically with the second rotation shaft,
The positional relationship between the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts is obtained by relatively tilting or moving the plurality of first rotating shafts and the plurality of second rotating shafts. It further comprises state changing means for changing to the first state or the second state,
Said state changing means is located above the top of said plurality of first and second rotary shaft first of the plurality in the first state of the roller second roller top portion of said plurality of, wherein the plurality of second rollers second rotary shaft and the plurality of first rotational axis such top portion is positioned above the top of said plurality of first roller of said plurality of second state Are moved or inclined relative to each other. 前記第１の状態で前記複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と前記第２の状態で前記複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが異なることを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。  The angle formed by the plurality of first rotation axes with respect to the horizontal plane in the first state is different from the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane in the second state. The substrate transfer apparatus according to claim 1 or 2. 前記第１の状態で前記複数の第１の回転軸が水平面に対してなす角度と前記第２の状態で前記複数の第２の回転軸が水平面に対してなす角度とが等しいことを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。  The angle formed by the plurality of first rotation axes with respect to the horizontal plane in the first state is equal to the angle formed by the plurality of second rotation axes with respect to the horizontal plane in the second state. The substrate transfer apparatus according to claim 1 or 2.

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