JP4284226B2 - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
Vss<│Vtp│<VREF …(1)
この実施の形態のセンスアンプ回路3のもう一つの特徴は、ベリファイ読み出し動作において、差動アンプ31がデータセンスを行う前(具体的には、ビット線データが差動アンプ31に転送される前)に、差動アンプ31が保持する書き込みデータが、データ記憶回路32に転送されることである。言い換えれば、データセンスのためのビット線放電動作が開始される前に、書き込みデータがデータ記憶回路32に転送される。これは、データセンス後のセンスデータをデータ記憶回路に転送するという従来のセンスアンプ回路とは異なり、これにより高速センスを可能としている。
Vref=Vdd・C3/(C3+C4) …(2)
この参照電圧Vrefは、タイミングt24でのセルデータ“1”のときのビット線電圧より高く、より具体的には、タイミングt25後の入力ノードPDCの“H”レベルと“L”レベルの間の値に設定される。そしてNMOSトランジスタMN3,MN7をオフにした後、タイミングt26でSEN=“H”,SEP=“L”として差動アンプ31を活性化する。これにより、セルデータが“0”のときはノードPDC,RDCがそれぞれVdd,Vssに増幅され、セルデータが“1”のときは、ノードPDC,RDCがそれぞれVss,Vccに増幅される。
図11は、ディジタルスチルカメラの基本的な構成を示す。被写体からの光は、レンズ103により集光されて撮像装置104に入力される。撮像装置104は例えばCMOSイメージセンサであり、入力された光を光電変換し、アナログ信号を出力する。このアナログ信号は、アナログ増幅器(AMP)により増幅された後、A/Dコンバータによりディジタル変換される。変換された信号は、カメラ信号処理回路105に入力され、例えば自動露出制御(AE)、自動ホワイトバランス制御(AWB)、及び色分離処理を行った後、輝度信号と色差信号に変換される。
Claims (3)
- 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセルが配列されたセルアレイと、
前記セルアレイのデータ読み出し及び書き込みを行うセンスアンプ回路とを備え、
前記センスアンプ回路は、
第1及び第2の入力ノードを有し、これらの入力ノードの差電圧を増幅する差動アンプと、
前記差動アンプの第1の入力ノードを前記セルアレイのビット線に選択的に接続するためのデータ転送回路と、
前記差動アンプの第2の入力ノードにトランジスタを介して参照電圧を与える参照電圧設定回路と、
前記差動アンプの第1の入力ノードにロードされた書き込みデータを一時記憶し、その書き込みデータに応じて前記差動アンプの第2の入力ノードに前記トランジスタを介して与えられた参照電圧を、前記トランジスタを非活性化させた後に調整するためのデータ記憶回路と、
を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記データ転送回路は、
前記セルアレイのビット線とセンスノードとの間に配置された、ビット線電圧をクランプするためのプリセンスアンプを兼ねたクランプ用トランジスタと、
前記センスノードに接続されてそのセンスノード及び前記セルアレイのビット線をプリチャージするためプリチャージ用トランジスタと、
前記差動アンプの第1の入力ノードと前記センスノードの間に配置されてデータ書き込み時に選択的にオン駆動される転送用NMOSトランジスタと、
前記差動アンプの第1の入力ノードと前記センスノードの間に配置されてデータ読み出し時に選択的にオン駆動される転送用PMOSトランジスタとを有する
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。 - データ書き込みサイクル内のベリファイ読み出し動作において、ビット線データが前記差動アンプに転送される前に、前記差動アンプは、第1の入力ノードが保持する書き込みデータが前記データ記憶回路に転送された後非活性化され、次いで前記参照電圧設定回路により第2の入力ノードに参照電圧が設定され、引き続き前記データ記憶回路が保持する書き込みデータに基づいて前記第2の入力ノードの参照電圧が調整される
ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
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