JP4280843B2 - Design method of electromagnetic shielding film and mesh structure pattern thereof - Google Patents
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Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ分野で、特にPDP(プラズマディスプレイ)用に多く用いられる電磁シールド膜に関し、特に電磁シールド膜のメッシュ構造のパターンの設計方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic shielding film often used in the field of flat panel displays, particularly for PDP (plasma display), and more particularly to a method for designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film.
従来から、ディスプレイ装置には、その前面から漏洩する電磁波を遮蔽するための電磁シールド膜が前面板として装着されている。一方、大型の平面ディスプレイ装置として開発されているプラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」と称する。)は、その前面から漏洩する電磁波が従来からの冷陰極線管(CRT)と比較して大きいため、より有効に電磁波をシールドし得る電磁シールド膜の開発が望まれている。 Conventionally, an electromagnetic shielding film for shielding electromagnetic waves leaking from the front surface of the display device is mounted as a front plate. On the other hand, a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”), which has been developed as a large flat display device, has a larger electromagnetic wave leaking from its front surface than a conventional cold cathode ray tube (CRT). Development of an electromagnetic shielding film that can shield electromagnetic waves more effectively is desired.
電磁波を発生させる電子装置からの電磁波を除去するには、通常、導電性物質で周囲を覆い、電磁波を吸収させ、それをア−スによって地面へ流すことでシールド(遮蔽)する。PDP等のディスプレイでは、電磁波が直接人体へ所定以上当らないよう規格が定められている。また、ディスプレイでは、画像を映すという本質上、シールド方法は透明でなければならない。そのため、ITO等の透明導電性材料が検討されている。 In order to remove electromagnetic waves from an electronic device that generates an electromagnetic wave, the surroundings are usually covered with a conductive material, the electromagnetic wave is absorbed, and shielded (shielded) by flowing it to the ground with an earth. In a display such as a PDP, a standard is set so that electromagnetic waves do not directly hit the human body for a predetermined amount or more. In addition, in the display, the shielding method must be transparent because of the nature of displaying an image. Therefore, transparent conductive materials such as ITO have been studied.
例えば、導電性格子パターンと導電層とを積層して透明基板上に設けた電磁シールド膜が提案されているが(特開昭57−154898号公報)、かかる電磁シールド膜に用いられている導電層は、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物(以下、「ITO」と称する。)層または金属層がそれぞれ単独で用いられているため、この電磁シールド膜をPDP用の前面板として用いた場合には、結果として可視光線の透過率が低下したり、反射率が大きくなる傾向にあった。また、導電性格子パターンと導電層とは透明基板の内部で接触した状態で積層されているため、電磁シールド膜の可視光線の表面反射を低減するには、電磁シールド膜の表面に別途、反射防止層などを設ける必要もあった。つまり、ITO等を厚く塗ると、光の透過性が悪くなるというジレンマがある。通常、光の透過量は90%以上が望まれているが、ITOでは60%以下となってしまう。また、ITO等の膜はスパッタリング法や蒸着法などの薄膜作製方法で作られるので高価であり、コスト面でも代替が望まれている。 For example, an electromagnetic shielding film in which a conductive lattice pattern and a conductive layer are laminated and provided on a transparent substrate has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 57-154898). As the layer, a composite oxide (hereinafter referred to as “ITO”) layer of indium oxide and tin oxide or a metal layer is used alone, so this electromagnetic shielding film was used as a front plate for PDP. In some cases, the visible light transmittance tends to decrease or the reflectance increases as a result. In addition, since the conductive lattice pattern and the conductive layer are laminated in contact with each other inside the transparent substrate, the surface of the electromagnetic shield film is separately reflected to reduce the surface reflection of visible light from the electromagnetic shield film. It was also necessary to provide a prevention layer. That is, there is a dilemma that light transmission becomes worse when ITO or the like is applied thickly. Usually, it is desired that the amount of transmitted light is 90% or more, but for ITO, it is 60% or less. In addition, a film of ITO or the like is expensive because it is formed by a thin film manufacturing method such as a sputtering method or a vapor deposition method, and an alternative is desired in terms of cost.
その代替法として、金属メッシュ法がある。通常、金属メッシュ法では、プラスチックフィルム基板上に、無電解メッキや蒸着で全面に金属薄膜を形成し、ついで、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーを用いて金属薄膜の不要部をエッチングで除去する方法がとられる。銅などの金属薄膜をメッシュ状に形成すると、ITO等のベタ塗り法に比べて導電性が一桁以上大きいという長所がある。つまりシールド性は勝っている。しかし、金属メッシュ法でも光の透過率の確保は容易ではない。線幅を細くすることで、透過率を90%以上を確保している。 An alternative method is a metal mesh method. Usually, in the metal mesh method, a metal thin film is formed on the entire surface of a plastic film substrate by electroless plating or vapor deposition, and then unnecessary portions of the metal thin film are removed by etching using photolithography using a photoresist. Is taken. When a metal thin film such as copper is formed in a mesh shape, there is an advantage that the conductivity is larger by one digit or more than a solid coating method such as ITO. In other words, the shielding property is better. However, it is not easy to secure light transmittance even by the metal mesh method. By reducing the line width, a transmittance of 90% or more is secured.
電磁波の波長によって、吸収されやすいメッシュパターンのピッチは異なってくる。一般にディスプレイから放出される波長幅は広いので、一定のピッチでは、充分に吸収できない波長帯が出てくる可能性がある。その意味でも、パターンのピッチはある程度の変化を付ける必要があると考えられる。 The pitch of the mesh pattern that is easily absorbed varies depending on the wavelength of the electromagnetic wave. In general, since the wavelength width emitted from the display is wide, there is a possibility that a wavelength band that cannot be sufficiently absorbed may appear at a constant pitch. In that sense, it is considered that the pattern pitch needs to be changed to some extent.
また、金属メッシュ法での最大の問題は、モワレフリンジの発生である。一般に、モワレフリンジの発生は、メッシュパターンがPDPの表示走査線と30度の角度をなすときが最小であるとはいわれているが、メッシュパターンが規則正しく、かつ直線状に並んでいるとき、特に際立ち不愉快なものである。 The biggest problem with the metal mesh method is the generation of moire fringes. In general, the occurrence of moire fringe is said to be minimal when the mesh pattern forms an angle of 30 degrees with the display scanning line of the PDP. However, when the mesh pattern is regularly arranged in a straight line, It stands out and is unpleasant.
この問題に対して、特開平11−121978号公報では、図1に示すように、メッシュパターン1の縦線2,横線3の間隔を、ある乱れ度で配置している。しかし、この場合、縦線,横線は直線で構成されているので、現在の構造と本質は同じであり、モワレフリンジに対する効果は小さい。
In order to deal with this problem, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-121978, as shown in FIG. 1, the intervals between the
特開平11−150388号公報には、図2のように、メッシュパターン4はL字型メッシュ5を組み合わせたもので、2個組み合わせれば、結局、規則正しい矩形メッシュになるのでモワレフリンジには効果がないと思われる。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-150388, as shown in FIG. 2, the
特開2000−114773号公報には、図3に示すように、メッシュパターン6は、円形メッシュ7が組み合わされている。円形メッシュのエッジの並びは、縦方向および横方向に規則正しく直線状になっているので、モワレフリンジには大きな効果はないと思われる。また、円メッシュとその隙間の大きさの差が大きく、発光源を隠す要素が大きく、光透過量の減少を招く可能性がある。
上記のように、従来のパターンのよるメッシュ構造を用いた場合、規則正しく並んだ発光源であるセルに対してモワレフリンジが出てしまう。それを避けるため、メッシュ構造を蛍光体セル列に対して45度傾けて、できるだけモワレフリンジが出ないようにはしているが、それでも方向,画像によってモワレフリンジが出てしまう問題点がある。 As described above, when a mesh structure with a conventional pattern is used, moire fringes appear for cells that are regularly arranged light emitting sources. In order to avoid this, the mesh structure is tilted by 45 degrees with respect to the phosphor cell row so that the moire fringe does not appear as much as possible, but there is still a problem that the moire fringe appears depending on the direction and the image.
本発明の目的は、モワレフリンジが出ないメッシュ構造のパターンをコンピュータを利用して設計する方法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for designing a pattern having a mesh structure free from moire fringe using a computer.
本発明の他の目的は、モワレフリンジが出ないメッシュ構造のパターンをコンピュータを利用して設計する場合に、コンピュータ上で実行されるプログラムを提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a program that is executed on a computer when a pattern having a mesh structure that does not produce moire fringe is designed using the computer.
本発明のさらに他の目的は、モワレフリンジが出ないメッシュ構造のパターンを有する電磁シールド膜を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern in which moire fringes do not appear.
発明者は、互いに直交する直線状の銅線によるメッシュ構造が規則正しい構造をしていることからモワレフリンジが出るのであって、矩形のサイズあるいは配列を不規則にすることによって、各矩形の各辺が互いに直線状に並ばない乱れた略矩形群よりなるメッシュ構造を作れば、規則正しく並んだ発光源であるセルに対してモワレフリンジが現出することがなくなることを見出し、本発明をなすに至った。 The inventor makes a moire fringe because the mesh structure of straight copper wires orthogonal to each other has a regular structure, and by making the size or arrangement of the rectangles irregular, each side of each rectangle If the mesh structure is formed of disordered substantially rectangular groups that are not arranged in a straight line with each other, it is found that moire fringes do not appear in cells that are regularly arranged light emitting sources, and the present invention has been made. It was.
このようなメッシュ構造の略矩形群は、各矩形を乱数を用いて上下,左右に平行移動させ、および/または、各矩形の各辺の長さを乱数を用いて変えることにより形成できる。本発明によれば、このようなメッシュ構造のパターンは、コンピュータにより演算で求める。 The substantially rectangular group having such a mesh structure can be formed by translating each rectangle vertically and horizontally using random numbers and / or changing the length of each side of each rectangle using random numbers. According to the present invention, such a mesh structure pattern is obtained by calculation by a computer.
本発明の第1の態様は、メッシュ構造の電磁シールド膜である。この電磁シールド膜は、メッシュ構造が、互いに直交する2つの直線の方向に略矩形が配列された略矩形群よりなるパターンを有し、各略矩形の各辺が、2つの直線の方向に互いに直線状に並ばないことを特徴とする。 The first aspect of the present invention is an electromagnetic shield film having a mesh structure. The electromagnetic shielding film has a pattern in which a mesh structure is formed by a substantially rectangular group in which approximately rectangular shapes are arranged in two linear directions orthogonal to each other, and each side of each approximately rectangular shape is mutually aligned in two linear directions. It is characterized by not being arranged in a straight line.
本発明の第2の態様は、ディスプレイ用装置の前面板として用いる電磁シールド膜のメッシュ構造のパターンを、コンピュータを用いて設計する方法である。この方法は、
入力部から演算部へ、数値a,bが入力されるステップと、
演算部で、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
演算部で、前記仮想矩形を記憶部から読出された乱数を用いてx座標軸および/またはy座標軸方向に平行移動させるステップと、
演算部で、前記平行移動された仮想矩形の各辺の長さa,bを、記憶部から読出された乱数を用いて変更して、略矩形群を形成するステップとを含んでいる。
A second aspect of the present invention is a method for designing a pattern of a mesh structure of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device using a computer. This method
A step in which numerical values a and b are input from the input unit to the calculation unit;
A step of creating virtual coordinates composed of an x-coordinate axis and a y-coordinate axis in an arithmetic unit;
In the calculation unit, a virtual rectangle group is formed on the virtual coordinate by a virtual rectangle formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis and having side lengths a and b. Steps,
A translation unit that translates the virtual rectangle in the x-coordinate axis and / or y-coordinate axis direction using a random number read from the storage unit;
And changing the lengths a and b of each side of the translated virtual rectangle by using a random number read from the storage unit to form a substantially rectangular group.
本発明の第3の態様は、ディスプレイ用装置の前面板として用いる電磁シールド膜のメッシュ構造のパターンを設計するためのプログラムである。 A third aspect of the present invention is a program for designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device.
このプログラムの一例は、
数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とを取込むステップと、
x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2
YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2
YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
ni1=n0 +2i+1,ni2=n0 +2i+2(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0+2j+1,mj2=m0+2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とするとき(nは、ni1またはni2を示し、mはmj1またはmj2を示す)、n=ni1行の奇数番目(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目(m0 が奇数の場合))の列m=mj1列の仮想矩形(mj1,ni1)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj1,ni1))×a,(1+RB(mj1,ni1))×bとなるように変更するステップと、
変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
で求めるステップと、
変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni1行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni1)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2,ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求めるステップと、
仮想矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、左隣の矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとするステップと、
n=ni2行の、偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2)において、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変化させて、
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
を求めるステップと、
仮想矩形(m,ni2)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標であるYE,YFとすることによって略矩形を作成するステップと、
i,jのすべて整数について略矩形を作成し、略矩形群を作成するステップとを実行する。
An example of this program is
Taking numerical values a and b, and disturbance degrees RXmax, RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0) and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0);
creating virtual coordinates comprising an x-coordinate axis and a y-coordinate axis;
Creating, on the virtual coordinates, a group of virtual rectangles formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis, each of which has a length of a and b.
Introducing two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates, and are parallel to and orthogonal to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively. The center position of the virtual rectangle (m, n) is defined as (X 0 (m, n), Y 0 (m, n) with the intersection of the virtual center lines of the virtual rectangle (1, 1) in one row and one column as the origin. ), The center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
The position of each virtual rectangle in n rows is a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns is the degree of disturbance RXmax. In contrast, the random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | is translated in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is relative to the degree of disturbance RYmax. Random numbers RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) |, or random numbers RY (n) satisfying RYmax ≧ | RY (n) | ) To obtain the center position (X 0 ′ (m, n)), (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n),
The coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2
YE = Y 0 '(m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2
YF = Y 0 '(m, n) + b / 2
Steps to find in
n i1 = n 0 + 2i + 1, n i2 = n 0 + 2i + 2 (where n 0 is 0 or any positive integer, i = 0, 1, 2, 3,...), m j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = M 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or any positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...) (N indicates n i1 or n i2 , and m is m j1 Or m j2 ), n = n i1 rows of odd-numbered (when m 0 is even) (or even-numbered (when m 0 is odd)) m = m j1 columns of virtual rectangles (m j1 , n i1 ) is set to a random number RA (m, n) satisfying RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. ), RB (m, n), and changing to (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a, (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b ,
Change the coordinates of the vertices E and F of the rectangle
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Steps to find in
Using the rectangle defined by the coordinates of the vertices E and F after the change as a reference, n = n i1 rows, even-numbered columns (when m 0 is even) (or odd-numbered columns (when m 0 is odd)) In an m = m j2 column of virtual rectangles (m j2 , n i1 ), only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
A step of seeking
The x coordinate on the left side of the virtual rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the rectangle on the left (m j1 , n i1 ), and the x coordinate on the right side is the rectangle on the right (m (j + 1) 1 , N i1 ) as XE,
In a virtual rectangle (m, n i2 ) of m = m j1 or m = m j2 column that is an even-numbered column or an odd-numbered column of n = n i2 rows, only the x coordinates of the left and right sides of the virtual rectangle are random numbers RA. Vary with (m, n)
XE = X 0 ′ (m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
A step of seeking
A step of creating a substantially rectangular shape by extending the left and right sides of the virtual rectangle (m, n i2 ) up and down and setting the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows as YE and YF as the respective y coordinates. When,
A substantially rectangular shape is created for all integers i and j, and a step of creating a substantially rectangular group is executed.
本発明は、PDPを始めとするFED(電界放出ディスプレイ),CRTなどのディスプレイ装置の前面から漏洩する電磁波を遮蔽するため前面板に装着されている電磁シールド膜のメッシュ構造の、各仮想矩形を乱数に応じて上下,左右に平行移動させ、および/または、各仮想矩形の各辺の長さを乱数を用いて変形させることにより、矩形のサイズあるいは配列を不規則にすることによって、略矩形の各辺が互いに直線状に並ばない略矩形群よりなるパターンを有するメッシュ構造を作れば、規則正しく並んだ発光源であるセルに対してモワレフリンジが現出することがない電磁シールド膜を提供できる。 In the present invention, each virtual rectangle having a mesh structure of an electromagnetic shielding film attached to a front plate for shielding electromagnetic waves leaking from the front surface of a display device such as an FED (field emission display) such as a PDP or a CRT is provided. Roughly rectangular by making the size or arrangement of the rectangle irregular by translating up and down, left and right according to the random number and / or transforming the length of each side of each virtual rectangle using the random number By creating a mesh structure having a pattern made up of a substantially rectangular group in which the sides of each are not arranged in a straight line, it is possible to provide an electromagnetic shield film in which moire fringes do not appear for cells that are regularly arranged light emitting sources. .
図4に、本発明の電磁シールド膜のメッシュ構造の設計方法を実施するコンピュータの基本構成を示す。コンピュータ10は、演算部(CPU)12と、記憶部14と、入力部16と、出力部18とから構成される。電磁シールド膜のメッシュ構造のパターンの形成は、記憶部に格納された乱数およびプログラムに基づいて、演算部で実行される。
FIG. 4 shows the basic configuration of a computer that implements the electromagnetic shielding film mesh structure designing method of the present invention. The
図5は、演算部12の機能ブロック図である。演算部12は、仮想座標上に仮想矩形群を作成する仮想矩形群作成部20と、乱数発生部22と、仮想矩形を平行移動する平行移動処理部24と、仮想矩形の辺の長さを変更する長さ変更処理部26とから構成されている。
FIG. 5 is a functional block diagram of the
コンピュータでの処理を説明する前に、メッシュ構造のパターン設計についての要件を説明しておく。
(1)仮想座標の導入
メッシュ構造のパターンをコンピュータで設計する場合、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を導入する。この仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって、設計の元となる矩形を作成する。矩形のx座標軸方向の長さをa、y座標軸方向の長さをbとする。矩形は正方形(a=b)、あるいは長方形(a≠b)のいずれであってもよい。
Before describing the processing by the computer, the requirements for the pattern design of the mesh structure will be described.
(1) Introduction of virtual coordinates When designing a pattern of a mesh structure with a computer, virtual coordinates including an x coordinate axis and a y coordinate axis are introduced. On this virtual coordinate, a rectangle to be designed is created by a straight line parallel to the x coordinate axis and a straight line parallel to the y coordinate axis. The length of the rectangle in the x coordinate axis direction is a, and the length in the y coordinate axis direction is b. The rectangle may be either a square (a = b) or a rectangle (a ≠ b).
以下、この明細書では、仮想座標上に作成された元となる矩形を、仮想矩形と言い、このような仮想矩形の集合を仮想矩形群と言うものとする。 Hereinafter, in this specification, the original rectangle created on the virtual coordinates is referred to as a virtual rectangle, and such a set of virtual rectangles is referred to as a virtual rectangle group.
仮想矩形群では、矩形は行(x座標軸方向)×列(y座標軸方向)マトリックス状に配列されており、n行,m列(n,mは正の整数)の仮想矩形を、矩形(m,n)と表すものとする。 In the virtual rectangle group, the rectangles are arranged in a matrix (row (x coordinate axis direction) × column (y coordinate axis direction) matrix), and a virtual rectangle of n rows and m columns (n and m are positive integers) is defined as a rectangle (m , N).
以下の説明では、便宜上、横方向,縦方向という表現を用いるが、横方向はx座標軸方向を、縦方向はy座標軸方向を意味している。
(2)乱れ度の導入
本発明の設計方法では、仮想矩形を平行移動および/または辺の長さの変更を行うときに、乱数を用いて行う。このような乱数の絶対値の最大値を制限するものとして、乱れ度という概念を導入する。
In the following description, for the sake of convenience, expressions such as the horizontal direction and the vertical direction are used. The horizontal direction means the x coordinate axis direction, and the vertical direction means the y coordinate axis direction.
(2) Introduction of Disturbance Degree In the design method of the present invention, when a virtual rectangle is translated and / or the length of a side is changed, a random number is used. In order to limit the maximum absolute value of such random numbers, the concept of degree of disturbance is introduced.
本発明では、最大4種類の乱れ度を導入する。各仮想矩形の辺の長さの乱れ度RAmax,RBmaxは次のように定義される。仮想矩形の横辺の長さ(x座標軸方向の長さ)、縦辺の長さ(y座標軸方向の長さ)は、各々乱数RA(m,n),RB(m,n)で変更を受ける。ここで、1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0であり、
RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|
である。
In the present invention, a maximum of four types of turbulence are introduced. The degree of disturbance RAmax and RBmax of the side length of each virtual rectangle is defined as follows. The horizontal side length (length in the x-coordinate axis direction) and vertical side length (length in the y-coordinate axis direction) of the virtual rectangle are changed by random numbers RA (m, n) and RB (m, n), respectively. receive. Here, 1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0,
RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) |
It is.
また、仮想矩形の平行移動の乱れ度RXmax,RYmaxを定義する。ここで、1≧RXmax≧0,≧RYmax≧0であり、n行の矩形の左右(x座標軸方向)の平行移動を規定する乱数をRX(n)、m列の矩形の左右の平行移動を規定する乱数をRX(m)と表し、RXmax≧|RX(m)|,RXmax≧|RX(n)|とする。 Also, the degree of translational disturbance RXmax, RYmax of the virtual rectangle is defined. Here, 1 ≧ RXmax ≧ 0, ≧ RYmax ≧ 0, a random number defining the left-right translation (in the x-coordinate axis direction) of the rectangle of n rows is RX (n), and the left-right translation of the m-column rectangle is The prescribed random number is expressed as RX (m), and RXmax ≧ | RX (m) |, RXmax ≧ | RX (n) |.
また、n行の矩形の上下(y座標軸方向)の平行移動を規定する乱数をRY(n)と表し、m列の矩形の上下方向の平行移動を規定する乱数をRY(m)と表し、RYmax≧|RY(n)|,Ymax≧|RY(m)|とする。 In addition, a random number defining the vertical translation of the n rows of rectangles (y coordinate axis direction) is represented as RY (n), and a random number defining the vertical translation of the m columns of rectangles is represented as RY (m). Let RYmax ≧ | RY (n) |, Ymax ≧ | RY (m) |.
ここで、RAmax=RBmax,RXmax=RYmaxとすれば、乱れ度を4種類から2種類に減らすこともできる。 Here, if RAmax = RBmax and RXmax = RYmax, the degree of disturbance can be reduced from four types to two types.
乱数は、記憶部に格納されている乱数を用いる。同じ乱れ度でも異なる乱数列を用いれば、全く異なるパターンになりうるが、しかし、効果は乱れ度で決まるものであり、パターンは異なっても同じ効果が得られる。
(3)略矩形の定義
仮想座標上で仮想矩形を平行移動および/または辺の長さの変更を行うことによって、最終的にメッシュ構造のパターンを作成できる。メッシュ構造を構成する要素の形状は、平行移動および/または辺の長さの変更という処理によって、矩形または矩形でない形状となる。
As the random number, a random number stored in the storage unit is used. If different random number sequences are used even with the same degree of disturbance, the pattern can be completely different, but the effect is determined by the degree of disturbance, and the same effect can be obtained even if the pattern is different.
(3) Definition of substantially rectangular shape A pattern of a mesh structure can be finally created by translating the virtual rectangle on the virtual coordinates and / or changing the length of the side. The shape of the elements constituting the mesh structure becomes a rectangular shape or a non-rectangular shape by a process of parallel movement and / or change of the side length.
図6は、矩形でない形状の例を示す。正確な矩形になっておらず、細かく見ると隣接する矩形が上に重なった形になっている。本明細書では、メッシュ構造を構成する矩形および矩形でないものを総称して、略矩形と言うものとする。すなわち、設計されたメッシュ構造のパターンは、略矩形の集合、すなわち略矩形群で構成される。 FIG. 6 shows an example of a non-rectangular shape. It is not an exact rectangle, and when you look closely, the adjacent rectangles overlap. In this specification, the rectangle which comprises a mesh structure, and the thing which is not a rectangle shall be named generically, and shall be called a substantially rectangle. That is, the designed mesh structure pattern is composed of a substantially rectangular set, that is, a substantially rectangular group.
なお、本発明では、行を最初に指定して、行内の偶数列または奇数列に略矩形を作成し、これら略矩形の間に、略矩形を作成するという過程を経ているが、仮想座標上で行および列は直交する関係にある相対的なものであるから、行と列を入れ替える、すなわち、列を最初に指定して、列内の偶数行または奇数行に略矩形を作成し、これら略矩形の間に、略矩形を作成するという過程を経てもよい。あるいは、x座標とy座標を入れ替えた定義と考えても同じであるのは言うまでもない。 In the present invention, a process is performed in which a row is first designated, a substantially rectangular shape is created in even or odd columns in the row, and a substantially rectangular shape is created between these roughly rectangular shapes. Since the rows and columns are relative in an orthogonal relationship, the rows and columns are swapped, i.e., the columns are specified first to create an approximate rectangle for even or odd rows in the columns, and these You may pass through the process of producing a substantially rectangle between substantially rectangles. Alternatively, it goes without saying that the definition is the same when the x and y coordinates are interchanged.
以下、コンピュータによるメッシュ構造のパターンの作成例について説明する。
(1)メッシュ構造の作成例1
作成例1は、本発明の設計方法の概略を説明するためのものである。
Hereinafter, an example of creating a mesh structure pattern by a computer will be described.
(1) Mesh structure creation example 1
Preparation Example 1 is for explaining the outline of the design method of the present invention.
図7に、作成例1における演算部12での処理を説明するためのフローチャートを示す。
FIG. 7 shows a flowchart for explaining the processing in the
図4に示したコンピュータ10の記憶部14には、パターン作成のためのプログラム、および乱数が格納されている。入力部16からは、仮想矩形の各辺の長さa,bの値、および各仮想矩形の平行移動に対する乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)および各仮想矩形の辺の長さに対する乱れ度RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)が演算部12に入力される(ステップS1)。
A program for creating a pattern and a random number are stored in the
演算部12の仮想矩形群作成部20では、入力された矩形サイズa,bにより、図8に示すように、x座標軸方向の直線32およびy座標軸方向の直線34によって、横辺の長さa、縦辺の長さbの仮想矩形36よりなる仮想矩形群38を作成する(ステップS2)。図8では、a=bとする。
In the virtual rectangle
一方、演算部12の乱数発生部22では、入力された乱れ度により、RXmax≧|RX(m)|,RXmax≧|RX(n)|,RYmax≧|RY(n)|,RYmax≧|RY(m)|を満たす矩形(m,n)に作用する乱数RX(m),RX(n),RY(n),RY(m)が読出され、およびRAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす矩形(m,n)に作用する乱数RA(m,n),RB(m,n)が読出される(ステップS3)。
On the other hand, in the random
演算部12の平行移動処理部24では、各m列の仮想矩形を乱数RX(m)で左右に平行移動させ、または各n行の仮想矩形を乱数RX(n)で左右に平行移動させ、および/または、各n行の仮想矩形を乱数RY(n)で上下に平行移動させ、または各m列の仮想矩形を乱数RY(m)で上下に平行移動させる(ステップS4)。
In the
次に、演算部12の長さ変更処理部26では、乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、平行移動された各仮想矩形の辺の長さを、(1+RA(m,n))×a、(1+RB(m,n))×bとなるように変更する(ステップS4)。以上のステップにより、略矩形群が形成される。このような略矩形群は、メッシュ構造のパターンを形成する。
Next, the length
以上の例では、平行移動および辺の長さの変更を行ったが、平行移動のみ、あるいは長さの変更のみを行って、略矩形群を作成することができる。 In the above example, the parallel movement and the change in the length of the side are performed. However, the substantially rectangular group can be created by performing only the parallel movement or the change in the length.
平行移動のみ行う場合には、RAmax=RBmax=0とすればよい。 If only translation is performed, RAmax = RBmax = 0 may be set.
また、辺の長さの変更のみ行う場合には、RXmax=RYmax=0とすればよい。 When only the side length is changed, RXmax = RYmax = 0.
以下に説明する、作成例においても同様である。
(2)メッシュ構造の作成例2
作成例2では、作成例1よりも、より詳しく説明する。
The same applies to the creation example described below.
(2) Mesh structure creation example 2
The creation example 2 will be described in more detail than the creation example 1.
図9に、作成例2における演算部12での処理を説明するためのフローチャートを示す。
FIG. 9 shows a flowchart for explaining the processing in the
仮想座標を作成し、仮想矩形群を作成し、乱数を発生させるまでの処理は、作成例1と同じである。
(a)仮想中心線の導入
図10に示すように、仮想座標上で仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標軸方向,y座標軸方向に平行で、直交する2本の仮想中心線42,44を作成する(図9,ステップS4)。
The processes from creating virtual coordinates, creating a virtual rectangle group, and generating a random number are the same as in creation example 1.
(A) Introduction of virtual center line As shown in FIG. 10, two orthogonal points that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) on the virtual coordinates and are parallel to the x coordinate axis direction and the y coordinate axis direction, respectively.
まず、1行,1列の矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心座標(X0 (m,n),Y0 (m,n))を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
により求める(ステップS5)。
First, with the intersection of the virtual center lines of the rectangle (1, 1) in one row and one column as the origin, the center coordinates (X 0 (m, n), Y 0 (m, n) of the virtual rectangle (m, n) )
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
(Step S5).
以下の説明では、図10に示すように、座標E(XE,YE)を仮想矩形(m,n)の左上の頂点とし、F(XF,YF)を仮想矩形(m,n)の右下の頂点として説明するが、座標E(XE,YE)を仮想矩形(m,n)の左下の頂点とし、F(XF,YF)を仮想矩形(m,n)の右上の頂点としてもよい。
(b)矩形の平行移動
n行の各仮想矩形の位置をRXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置をRXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、左右に平行移動させ、および/または、m列の各矩形の位置をRYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各矩形の位置をRYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)で上下に平行移動させる(ステップS6)。図11には、仮想矩形(m,n)を、平行移動した状態を示す。
In the following description, as shown in FIG. 10, the coordinates E (XE, YE) is the upper left vertex of the virtual rectangle (m, n), and F (XF, YF) is the lower right corner of the virtual rectangle (m, n). However, the coordinates E (XE, YE) may be the lower left vertex of the virtual rectangle (m, n) and F (XF, YF) may be the upper right vertex of the virtual rectangle (m, n).
(B) Rectangle translation The position of each virtual rectangle in n rows is a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) |, or the position of each virtual rectangle in m columns is RXmax ≧ | RX (m ) | Is translated to the left and right by a random number RX (m) that satisfies | and / or the position of each rectangle in m columns is a random number RY (m) that satisfies RYmax ≧ | RY (m) | or n rows The position of each rectangle is translated up and down with a random number RY (n) that satisfies RYmax ≧ | RY (n) | (step S6). FIG. 11 shows a state where the virtual rectangle (m, n) is translated.
平行移動された仮想矩形(m,n)の中心座標(X0 ′(m,n)、Y0 ′(m,n))を求める(ステップS7)。 The center coordinates (X 0 ′ (m, n), Y 0 ′ (m, n)) of the translated virtual rectangle (m, n) are obtained (step S7).
左右への移動を各m列ごとに行い、上下の移動を各n行で行う場合、中心座標は、
X0 ′(m,n)=a×(n−1)+RX(m)×a
Y0 ′(m,n)=b×(m−1)+RY(n)×b
と表すことができる。
When moving left and right in every m columns and moving up and down in each n rows, the center coordinates are
X 0 '(m, n) = a × (n-1) + RX (m) × a
Y 0 ′ (m, n) = b × (m−1) + RY (n) × b
It can be expressed as.
また、左右の移動を各n行ごとに行い、上下方向の移動を各m列で行う場合、中心座標は、
X0 ′(m,n)=a×(n−1)+RX(n)×a
Y0 ′(m,n)=b×(m−1)+RY(m)×b
と表される。左右移動と上下移動は、上記の行ごと、列ごと別の組み合わせも可能であることは、いうまでもない。
In addition, when moving left and right every n rows and moving up and down in each m columns, the center coordinates are
X 0 '(m, n) = a × (n-1) + RX (n) × a
Y 0 ′ (m, n) = b × (m−1) + RY (m) × b
It is expressed. Needless to say, the horizontal movement and the vertical movement can be combined for each row and column.
平行移動された仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点の座標をE(XE,YE),F(XF,YF)とし、位置E点,F点の座標を、
E(X0 ′(m,n)−a/2,Y0 ′(m,n)−b/2)
F(X0 ′(m,n)+a/2,Y0 ′(m,n)+b/2)
により求める(ステップS8)。
(c)平行移動された仮想矩形の辺の長さの変更
乱数RA(m,n)、RB(m,n)を用いて、平行移動された仮想矩形(m,n)の横辺,縦辺の長さを変更し(ステップS9)、変更後のE点,F点の座標を、
E(X0 ′(m,n)−(1+RA(m,n))×a/2,Y0 ′(m,n)−(1+RB(m,n))×b/2)
F(X0 ′(m,n)+(1+RA(m,n))×a/2,Y0 ′(m,n)+(1+RB(m,n))×b/2)
により求める(ステップS10)。
The coordinates of a pair of opposite vertices of the translated virtual rectangle (m, n) are E (XE, YE) and F (XF, YF), and the coordinates of the position E point and F point are
E (X 0 '(m, n) -a / 2, Y 0' (m, n) -b / 2)
F (X 0 '(m, n) + a / 2, Y 0 ' (m, n) + b / 2)
(Step S8).
(C) Changing the length of the side of the translated virtual rectangle Using the random numbers RA (m, n) and RB (m, n), the horizontal and vertical sides of the translated virtual rectangle (m, n) The length of the side is changed (step S9), and the coordinates of point E and F after the change are
E (X 0 '(m, n) - (1 + RA (m, n)) × a / 2, Y 0' (m, n) - (1 + RB (m, n)) × b / 2)
F (X 0 ′ (m, n) + (1 + RA (m, n)) × a / 2, Y 0 ′ (m, n) + (1 + RB (m, n)) × b / 2)
(Step S10).
以上の矩形の平行移動および矩形の辺の長さの変更を行うことによって、略矩形群を得ることができる。 A substantially rectangular group can be obtained by performing the above parallel translation of the rectangle and changing the length of the sides of the rectangle.
これにより、各略矩形の各辺が互いに直線状に並ばないようメッシュ構造のパターンを作成できる。
(3)メッシュ構造の作成例3
作成例3は、具体的な一つの例である。
Thereby, the pattern of a mesh structure can be created so that each side of each substantially rectangular shape does not line up mutually linearly.
(3) Mesh structure creation example 3
Creation example 3 is a specific example.
図12に、作成例3における演算部12での処理を説明するためのフローチャートを示す。
FIG. 12 is a flowchart for explaining the processing in the
仮想座標を作成し、仮想矩形群を作成し、乱数を発生させ、仮想中心線を作成し、仮想矩形(m,n)の中心座標を求め、仮想矩形を平行移動させ、平行移動させた仮想矩形の中心座標を求め、E点,F点の座標を求めるまでの処理は、作成例2と同じである。
(a)辺の長さの変更
n,mを偶数または奇数として区別する。したがって、ni1=n0 +2i+1、ni2=n0 +2i+2(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0 +2j+1、mj2=m0 +2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とする。nは、ni1またはni2を示し、mはmj1またはmj2を示す。
Create virtual coordinates, create a group of virtual rectangles, generate random numbers, create a virtual center line, determine the center coordinates of the virtual rectangle (m, n), translate the virtual rectangle, and translate the virtual The processing from obtaining the center coordinates of the rectangle to obtaining the coordinates of the points E and F is the same as that in the creation example 2.
(A) Change of side length n and m are distinguished as even or odd. Therefore, n i1 = n 0 + 2i + 1, n i2 = n 0 + 2i + 2 (where n 0 is 0 or any positive integer, i = 0, 1, 2, 3,...), M j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = m 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or any positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...). n represents n i1 or n i2 , and m represents m j1 or m j2 .
n=ni1行の奇数番目(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目(m0 が奇数の場合))の列m=mj1列の平行移動された仮想矩形(mj1,ni1)の辺の長さを、乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて変更し(ステップS9)、変更後のE点,F点の座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
により求め、これにより変更された略矩形(mj1,ni1)が作成される(ステップS10)。
n = n i1 rows of odd-numbered (when m 0 is even) (or even-numbered (when m 0 is odd)) m = m j1 translated virtual rectangles (m j1 , n i1 ) Is changed using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) (step S9), and the coordinates of the E and F points after the change are changed,
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Thus, a substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) changed by this is created (step S10).
i,jのすべてについて、略矩形(mj1,ni1)を作成する。図13には、作成された略矩形(mj1,ni1)を実線で示す。ただし、図をわかりやすくするため、仮想矩形を平行移動せず、辺の長さを変更した場合を示している。 A substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) is created for all i and j. In FIG. 13, the created substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) is indicated by a solid line. However, in order to make the figure easy to understand, the case where the length of the side is changed without moving the virtual rectangle is shown.
以上のようにして作成された略矩形を基準として、
1)n=ni1行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni1)において、図14に示すように、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変更して、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2,ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求める(ステップS11)。図14には、変更させた上下の辺を、太い実線で示している。
Based on the approximate rectangle created as described above,
1) Virtual rectangle (m j2 , n i1 ) of m = m j2 columns which are even-numbered columns (when m 0 is even) (or odd-numbered columns (when m 0 is odd)) of n = n i1 rows. ), Only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed with a random number RB (m, n) as shown in FIG.
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
Is obtained (step S11). In FIG. 14, the changed upper and lower sides are indicated by thick solid lines.
矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、図15に示すように、左隣の略矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の略矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとする(ステップS12)。図15には、変更した左右の辺を、太い実線で示している。 As shown in FIG. 15, the x coordinate of the left side of the rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the adjacent rectangle (m j1 , n i1 ) on the left side, and the x coordinate on the right side is the approximate rectangle on the right side. It is assumed that it is the same as XE of (m (j + 1) 1 , n i1 ) (step S12). In FIG. 15, the changed left and right sides are indicated by thick solid lines.
以上の処理により、略矩形(mj2,ni1)が形成される。
2)次に、n=ni2行は、図16に示すように、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の矩形(mj2,ni2)に対して、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RR(m,n)で変更して、
XE=X0 ′(mj2,ni2)−(1+RA(mj2,ni2))×a/2
XF=X0 ′(mj2、ni2)+(1+RA(mj2、ni2))×a/2
を求める(ステップS13)。図16には、変更した左右の辺を、太い実線で示している。
Through the above processing, a substantially rectangular shape (m j2 , n i1 ) is formed.
2) Next, as shown in FIG. 16, the n = n i2 row is an even-numbered column (when m 0 is an even number) (or an odd-numbered column (when m 0 is an odd number)) m = m j2 For the row rectangle (m j2 , n i2 ), change only the x coordinate of the left and right sides of the virtual rectangle with a random number RR (m, n),
XE = X 0 '(m j2 , n i2 ) − (1 + RA (m j2 , n i2 )) × a / 2
XF = X 0 ′ (m j2 , n i2 ) + (1 + RA (m j2 , n i2 )) × a / 2
Is obtained (step S13). In FIG. 16, the changed left and right sides are indicated by thick solid lines.
矩形(mj2,ni2)の左右の辺を、図16に示すように上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標、YE,YFとする(ステップS14)。 The left and right sides of the rectangle (m j2 , n i2 ) are extended vertically as shown in FIG. 16, and the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows are the respective y coordinates, YE, YF (step S14).
以上の処理により、略矩形(mj2,ni2)が形成される。偶数番目の略矩形が形成されることにより、奇数番目列(mj1,ni2)の略矩形は自動的に定まる。この場合に、図16からもわかるように、一番端の奇数番目列の端部である左辺または右辺は定まらず、略矩形が作成されない。 Through the above processing, a substantially rectangular shape (m j2 , n i2 ) is formed. By forming the even-numbered approximate rectangles, the approximate rectangles of the odd-numbered columns (m j1 , n i2 ) are automatically determined. In this case, as can be seen from FIG. 16, the left side or the right side, which is the end of the odd-numbered row at the end, is not determined, and a substantially rectangular shape is not created.
実際には、作製された電磁シールド膜の端の部分は切り取って使用されるので、端部に略矩形が作成されなくても問題はない。 Actually, since the end portion of the produced electromagnetic shield film is cut out and used, there is no problem even if a substantially rectangular shape is not formed at the end portion.
しかし、設計上、端部の略矩形を完成させる必要がある場合には、中心座標から−a/2または+a/2のx座標の位置で左辺または右辺を定めるとよい。
3)以下、i,jのすべて整数について略矩形を作成する(ステップS13)。
However, when it is necessary to complete a substantially rectangular shape at the end of the design, the left side or the right side may be determined at the x coordinate position of −a / 2 or + a / 2 from the center coordinate.
3) Hereinafter, a substantially rectangular shape is created for all integers i and j (step S13).
上記処理を行うことによって、各略矩形の各辺が互いに直線状に並ばないようメッシュ構造のパターンを作成することができる。
(7)メッシュ構造の作成例4
作成例4は、具体的な他の例である。
By performing the above processing, it is possible to create a mesh structure pattern so that the sides of each substantially rectangular shape do not line up with each other.
(7) Mesh structure creation example 4
Creation example 4 is another specific example.
図17A,図17Bに、作成例4における演算部での処理を説明するためのフローチャートを示す。 FIG. 17A and FIG. 17B are flowcharts for explaining processing in the calculation unit in creation example 4.
仮想座標を作成し、仮想矩形群を作成し、乱数を発生させ、仮想中心線を作成し、仮想矩形(m,n)の中心座標を求め、仮想矩形を平行移動させ、平行移動させた仮想矩形の中心座標を求め、E点,F点の座標を求めるまでの処理は、作成例2と同じである。
(a)辺の長さの変更
nを4の倍数に対して1,2,3,4を加えたものとして区別し、mを偶数または奇数とする。したがって、ni1=n0+4i+1、ni2=n0+4i+2、ni3=n0+4i+3、ni4=n0+4i+4(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0+2j+1、mj2=m0+2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とする。nは、ni1,ni2,ni3またはni4を示し、mはmj1またはmj2を示す。
Create virtual coordinates, create a group of virtual rectangles, generate random numbers, create a virtual center line, determine the center coordinates of the virtual rectangle (m, n), translate the virtual rectangle, and translate the virtual The processing from obtaining the center coordinates of the rectangle to obtaining the coordinates of the points E and F is the same as that in the creation example 2.
(A) Change of side length n is distinguished as a multiple of 4
n=ni1行の奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の矩形(mj1,ni1)の辺の長さを、乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、図18に示すように変更し(ステップS9)、変更後のE点,F点の座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
より求め、これにより変更された略矩形(mj1,ni1)が作成される(ステップS10)。図18には、作成された略矩形(mj1,ni1)を実線で示す。ただし、図をわかりやすくするため、仮想矩形を平行移動せず、辺の長さを変更した場合を示している。
n = n i1 row odd-numbered column (when m 0 is even) (or even-numbered column (when m 0 is odd)) m = m j1 column rectangle (m j1 , n i1 ) The length is changed as shown in FIG. 18 using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) (step S9), and the coordinates of the changed points E and F are
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Thus, a substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) changed thereby is created (step S10). In FIG. 18, the substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) created is shown by a solid line. However, in order to make the figure easy to understand, the case where the length of the side is changed without moving the virtual rectangle is shown.
以上のようにして作成された略矩形を基準として、
1)n=ni1行において、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の矩形(mj2,ni1)に対して、図19に示すように、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2, ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求める(ステップS11)。図19には、変更した上下の辺を、太い実線で示している。
Based on the approximate rectangle created as described above,
1) In an n = n i1 row, m = m j2 column rectangles (m j2 , n i1 ) which are even-numbered columns (when m 0 is even) (or odd-numbered columns (when m 0 is odd)) On the other hand, as shown in FIG. 19, only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
Is obtained (step S11). In FIG. 19, the changed upper and lower sides are indicated by thick solid lines.
さらに、図20に示すように、矩形(mj2,ni1)左辺のx座標は、左隣の略矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の略矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとする(ステップS12)。図20は、変更した左右の辺を、太い実線で示している。 Furthermore, as shown in FIG. 20, the x coordinate of the left side of the rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the substantially rectangular shape (m j1 , n i1 ) on the left side, and the x coordinate on the right side is the abbreviated right side. It is assumed that it is the same as the XE of the rectangle (m (j + 1) 1 , n i1 ) (step S12). FIG. 20 shows the changed left and right sides with thick solid lines.
以上の処理により、略矩形(mj2,ni1)が形成される。
2)次に、n=ni3行の偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の矩形(mj2,ni3)の辺の長さを、図21に示すように、乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて変更し(ステップS13)、変更後のE点,F点の座標を、
XE=X0 ′(mj2,ni3)−(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YE=Y0 ′(mj2,ni3)−(1+RB(mj2,ni3))×b/2
XF=X0 ′(mj2,ni3)+(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YF=Y0 ′(mj2,ni3)+(1+RB(mj2,ni3))×b/2
により求め、これにより変更された略矩形(mj2,ni3)が作成される(ステップS14)。図21には、作成された略矩形(mj2,ni3)を実線で示す。ただし、図をわかりやすくするため、仮想矩形を平行移動せず、辺の長さを変更した場合を示している。
Through the above processing, a substantially rectangular shape (m j2 , n i1 ) is formed.
2) Next, an rectangle of m = m j2 column (m j2 , n) which is an even-numbered column of n = n i3 rows (when m 0 is an even number) (or odd-numbered column (when m 0 is an odd number)). The side length of i3 ) is changed using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) as shown in FIG. 21 (step S13), and the coordinates of the E and F points after the change are changed. The
XE = X 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RA (m j2 , n i3 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j2 , n i3) + (1 + RA (m j2, n i3)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) + (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
Thus, a substantially rectangular shape (m j2 , n i3 ) changed by this is created (step S14). In FIG. 21, the created substantially rectangular shape (m j2 , n i3 ) is indicated by a solid line. However, in order to make the figure easy to understand, the case where the length of the side is changed without moving the virtual rectangle is shown.
以上のようにして作成された略矩形を基準として、
3)n=ni3行において、奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の矩形(mj1,ni3)に対して、図22に示すように、矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj1,ni3)−(1+RB(mj1, ni3))×b/2
YF=Y0 ′(mj1,ni3)+(1+RB(mj1,ni3))×b/2
を求める(ステップS15)。図22には、変更した上下の辺を、太い実線で示している。
Based on the approximate rectangle created as described above,
3) m = m j1 column rectangle (m j1 , n i3 ) which is an odd-numbered column (when m 0 is even) (or even-numbered column (when m 0 is odd)) in n = n i3 row On the other hand, as shown in FIG. 22, only the y coordinate of the upper and lower sides of the rectangle is changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) − (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) + (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
Is obtained (step S15). In FIG. 22, the changed upper and lower sides are indicated by thick solid lines.
さらに、図23に示すように、矩形(mj1,ni3)の左辺のx座標は、左隣の矩形(m(j-1)2,ni3)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の略矩形(mj2,ni3)のXEと同じとする(ステップS16)。図23には、変更した左右の辺を、太い実線で示している。この場合において、一番端の矩形を完成させる必要がある場合には、中心座標から−a/2または+a/2のx座標の位置で左辺または右辺を定めるとよい。 Further, as shown in FIG. 23, the x coordinate of the left side of the rectangle (m j1 , n i3 ) is the same as the XF of the rectangle (m (j−1) 2 , n i3 ) on the left side, and the x coordinate of the right side Is the same as the XE of the approximate rectangle (m j2 , n i3 ) on the right (step S16). In FIG. 23, the changed left and right sides are indicated by thick solid lines. In this case, when it is necessary to complete the rectangle at the extreme end, the left side or the right side may be determined at the x-coordinate position of −a / 2 or + a / 2 from the center coordinate.
以上の処理により、略矩形(mj1,ni3)が形成される。
4)ni2行とni4行については、各行の偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1列あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2),(m,ni4)に対して、図24に示すように、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変更して、仮想矩形(m,ni2)については
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
を求め、仮想矩形(m,ni4)については
XE=X0 ′(m,ni4)−(1+RA(m,ni4))×a/2
XF=X0 ′(m,ni4)+(1+RA(m,ni4))×a/2
を求める(ステップS17)。図24には、変更した左右の辺を、太い実線で示している。
Through the above processing, a substantially rectangular shape (m j1 , n i3 ) is formed.
4) For n i2 and n i4 rows, virtual rectangles (m, n i2 ), (m, n i4 ) of m = m j1 columns or m = m j2 columns which are even-numbered columns or odd-numbered columns of each row respect, as shown in FIG. 24, by changing only the x-coordinate of the left and right sides of the virtual rectangle random RA (m, n), a virtual rectangle (m, n i2) XE = X 0 ' for ( m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XE = X 0 '(m, n i4 ) − (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2 for the virtual rectangle (m, n i4 )
XF = X 0 '(m, n i4 ) + (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2
Is obtained (step S17). In FIG. 24, the changed left and right sides are indicated by thick solid lines.
矩形(mj2,ni2),(mj2,ni4)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標、YE,YFとする(ステップS18)。 The left and right sides of the rectangles (m j2 , n i2 ) and (m j2 , n i4 ) are extended vertically, and the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows are set as the respective y coordinates, YE, YF ( Step S18).
以上の偶数番目列の矩形の処理により、略矩形(mj2,ni2),(mj2,ni4)が形成される。偶数番目の略矩形が形成されることにより、奇数番目列(mj1,ni2),(mj1,ni4)の略矩形は自動的に定まる。
5)以下、i,jのすべて整数について略矩形を作成する(ステップS19)。
By the processing of the rectangles in the even-numbered columns, substantially rectangles (m j2 , n i2 ) and (m j2 , n i4 ) are formed. By forming the even-numbered approximate rectangles, the approximate rectangles of the odd-numbered columns (m j1 , n i2 ) and (m j1 , n i4 ) are automatically determined.
5) Hereinafter, a substantially rectangular shape is created for all integers i and j (step S19).
上記処理を行うことによって、各略矩形の各辺が互いに直線状に並ばないようメッシュ構造のパターンを作成することができる。 By performing the above processing, it is possible to create a mesh structure pattern so that the sides of each substantially rectangular shape do not line up with each other.
作成例4に従って、メッシュ構造のパタ−ンを作成した例を図25に示す。ここで使用した乱れ度は、
RXmax=0.7,RYmax=0.7
RAmax=0.3,RBmax=0.3
である。図25からわかるように、x座標軸方向,y座標軸方向どちらから見ても、略矩形は直線状に並んでおらず、また各略矩形のサイズもあるばらつき度で様々なものがあることがわかる。
FIG. 25 shows an example of creating a mesh structure pattern in accordance with creation example 4. The degree of disturbance used here is
RXmax = 0.7, RYmax = 0.7
RAmax = 0.3, RBmax = 0.3
It is. As can be seen from FIG. 25, when viewed from either the x-coordinate axis direction or the y-coordinate axis direction, the approximate rectangles are not arranged in a straight line, and the sizes of the approximate rectangles vary depending on the degree of variation. .
本作成例では、行を最初に指定して、行内の偶数列または奇数列に略矩形を作成し、これら略矩形の間に、略矩形を作成するという過程を経ているが、仮想座標上で行および列は直交する関係にある相対的なものであるから、行と列を入れ替える、すなわち、列を最初に指定して、列内の偶数行または奇数行に略矩形を作成し、これら略矩形の間に、略矩形を作成するという過程を経てもよい。 In this creation example, a process is performed in which a row is specified first, a substantially rectangular shape is created in even or odd columns in the row, and a substantially rectangular shape is created between these roughly rectangular shapes. Since the rows and columns are relative in an orthogonal relationship, the rows and columns are swapped, i.e., the columns are specified first to create a rectangle for even or odd rows in the columns, and these abbreviations. You may pass through the process of producing a substantially rectangle between rectangles.
実施例の説明を行う前に、電磁シールド膜の一般的な作製方法を説明しておく。 Before describing the examples, a general method for producing an electromagnetic shielding film will be described.
電磁シールド膜の作製方法には以下のように大きくわけて、電着法(メッキ)とエッチング法の2種類あり、さらに、それぞれ、直接法と転写法がある。
1)電着法−直接法
この方法では、以下の手順で電着を行う。
(i)透明導電性基板の上にレジスト等で、本発明により作成された電磁シールド膜のメッシュ構造の所望のパターンを作る。
(ii)電磁シールド膜に使用する金属の電解液に浸漬して電着により導電性パターンを作る。この導電性パターンは、電磁シールド膜のメッシュ構造を形成する。
(iii )電子シールド膜の表面が金属光沢が残っていると画面の目視中に視認性が悪くなるので、金属の表面を黒化処理する。
2)電着法−転写法
この方法については、図26に示す。
(i)導電性基板60の上に絶縁性レジスト62で、本発明により作成された電磁シールド膜のメッシュ構造の所望のパターンを作る。
(ii)電磁シールド膜に使用する金属の電解液に浸漬して電着により金属パターン64を作る。
(iii )透明接着材66を一方の面に塗った導電性基板を、電着を行った透明導電性基板68に接着させる。ここで、透明接着材66は、金属にはよく接着するが、レジストには接着性の悪いものを選ぶことが好ましい。
(iv)その後、図26に示すように、金属パターン64を透明導電性基板68の側に接着させた状態で、透明導電性基板68を、導電性基板60から剥離させる。
The electromagnetic shield film can be roughly divided into the following two methods: an electrodeposition method (plating) and an etching method, and a direct method and a transfer method, respectively.
1) Electrodeposition method—direct method In this method, electrodeposition is performed according to the following procedure.
(I) A desired pattern of the mesh structure of the electromagnetic shielding film made according to the present invention is made with a resist or the like on a transparent conductive substrate.
(Ii) A conductive pattern is formed by electrodeposition by dipping in a metal electrolyte used for the electromagnetic shielding film. This conductive pattern forms a mesh structure of the electromagnetic shielding film.
(Iii) If the surface of the electron shield film has a metallic luster, the visibility deteriorates during visual observation of the screen, so the metal surface is blackened.
2) Electrodeposition method-transfer method This method is shown in FIG.
(I) A desired pattern of the mesh structure of the electromagnetic shielding film prepared according to the present invention is formed on the
(Ii) A
(Iii) A conductive substrate coated with a transparent adhesive 66 on one surface is adhered to a transparent
(Iv) Thereafter, as shown in FIG. 26, the transparent
以上の工程により、電磁シールド膜が形成される。
3)エッチング法−直接法
この方法については、図27に示す。
(i)透明絶縁性基板70(例えば、ガラス基板)の上に、金属層72をメッキで全面に積層する。
(ii)金属層72の上に、エッチングレジストパターン74を形成する。このパターンは、本発明により作成されたメッシュ構造のパターンである。
(iii )レジストで保護されていない金属層部分のみをエッチングで除去する。
(iv)透明な硬化性のアクリル系樹脂を塗布し硬化させ、保護膜76とする。レジストパターンは必ずしも除去する必要はない。レジストパターンにあらかじめ、カーボンブラック等を含めておけば、金属光沢を消す効果がある。
Through the above steps, an electromagnetic shielding film is formed.
3) Etching method-direct method This method is shown in FIG.
(I) On the transparent insulating substrate 70 (for example, a glass substrate), a metal layer 72 is laminated on the entire surface by plating.
(Ii) An etching resist pattern 74 is formed on the metal layer 72. This pattern is a mesh structure pattern created according to the present invention.
(Iii) Only the metal layer portion not protected by the resist is removed by etching.
(Iv) A transparent curable acrylic resin is applied and cured to form the protective film 76. It is not always necessary to remove the resist pattern. If carbon black or the like is included in the resist pattern in advance, it has the effect of removing the metallic luster.
以上の工程により、電磁シールド膜が形成される。
4)エッチング法−転写法
この方法については、図28に示す。
(i)導電性基板80の上に金属層82を接着する。
(ii)エッチングレジスト84で本発明により作成されたメッシュ構造のパターンを作る。
(iii )金属層82をエッチングし、金属パターンを形成する。
(iv)パターンに接着材86を流し込む。
(v)接着材の上に透明導電性膜88を成膜する。
(vi)金属パターン82と接着材86の層とを導電性基板80からはがす。
(vii )表面に透明保護膜90を成膜する。
Through the above steps, an electromagnetic shielding film is formed.
4) Etching Method-Transfer Method This method is shown in FIG.
(I) A metal layer 82 is bonded on the
(Ii) A pattern having a mesh structure created by the present invention is formed by the etching resist 84.
(Iii) The metal layer 82 is etched to form a metal pattern.
(Iv) Pour adhesive 86 into the pattern.
(V) A transparent conductive film 88 is formed on the adhesive.
(Vi) The metal pattern 82 and the adhesive 86 layer are peeled off from the
(Vii) A transparent protective film 90 is formed on the surface.
以上の工程により、電磁シールド膜が形成される。
(実施例1)
乱れ度とモワレフリンジの関係を調べるために、以下の方法で電磁シールド膜サンプルを作製した。
Through the above steps, an electromagnetic shielding film is formed.
(Example 1)
In order to investigate the relationship between the degree of disturbance and moire fringe, an electromagnetic shielding film sample was prepared by the following method.
電磁シールド膜サンプルは、エッチング法−直接法で作製した。ガラス基板(有効領域300mm×300mm)の上に銅の金属膜をスパッタリング法により約0.1μmほど積層したのち、メッキ法によって20μm積層した試料を多数作り、各種乱れ度に応じて銅パターンを作製した。銅パターン作製は、通常のフォトレジスト法によりエッチングレジストを作り、レジストのない部分を塩化第2鉄エッチング液で銅を除去することにより行った。線幅は、すべて20μmとした。金属パターンの上に、アクリル系の保護層をつけた。レジストは、市販のネガ型フォトレジスト(東京応化株式会社 商品名 KOR)を用いた。 The electromagnetic shielding film sample was produced by an etching method-direct method. After laminating about 0.1 μm of copper metal film on a glass substrate (effective area 300 mm × 300 mm) by sputtering, make many samples with 20 μm by plating, and create copper patterns according to various disturbances did. The copper pattern was produced by making an etching resist by a normal photoresist method and removing copper from the portion without the resist with a ferric chloride etching solution. The line widths were all 20 μm. An acrylic protective layer was applied on the metal pattern. As the resist, a commercially available negative photoresist (trade name: KOR, Tokyo Ohka Co., Ltd.) was used.
以上のようにして作製された電磁シールド膜を、ディスプレイ、例えば、43型PDPに取り付けた。このPDPの規格を示す。 The electromagnetic shielding film produced as described above was attached to a display, for example, a 43-type PDP. This PDP standard is shown.
・画面サイズ:952mm×536mm
・1280(横)×768(縦)画素
・0.930mm(横)×0.698mm(縦)の画素ピッチ
モワレフリンジの判定は目視によって行った。
1)電磁シールド膜のメッシュ構造が、矩形の位置のみを乱数で変化させ、矩形の辺の長さを変えないものであるとき、すなわち、乱れ度R1=RAmax=RBmax=0であり、RXmax,RYmaxのみを変化させたものであるとき。
(a)電磁シールド膜の矩形の各辺の向きが、PDPの画素列の向きに同じであるとき。
・ Screen size: 952mm × 536mm
-1280 (horizontal) x 768 (vertical) pixels-Judgment of 0.930 mm (horizontal) x 0.698 mm (vertical) pixel pitch moire fringe was made visually.
1) When the mesh structure of the electromagnetic shielding film is such that only the position of the rectangle is changed by a random number and the length of the side of the rectangle is not changed, that is, the degree of disturbance R1 = RAmax = RBmax = 0, and RXmax, When only RYmax is changed.
(A) When the direction of each side of the rectangle of the electromagnetic shield film is the same as the direction of the pixel column of the PDP.
R2=RXmax=RYmaxとしたとき、R2<0.2では、モワレフリンジが確認できたが、R2≧0.4では、この画素と矩形の配置の場合は、モワレフリンジは確認できなかった。また0.2≦R2<0.4では、モワレフリンジの存在は不明確であった。画像の種類によってモワレフリンジの発現は依存する範囲であると考えられた。
(b)メッシュ構造の矩形の各辺の向きが、PDPの画素列の向きに対して、30度の傾きがあるとき。
When R2 = RXmax = RYmax, a moire fringe could be confirmed when R2 <0.2, but when R2 ≧ 0.4, a moire fringe could not be confirmed when the pixel and the rectangle were arranged. In addition, when 0.2 ≦ R2 <0.4, the presence of moire fringe was unclear. The expression of moire fringe was considered to depend on the type of image.
(B) When the direction of each side of the rectangular mesh structure has an inclination of 30 degrees with respect to the direction of the pixel column of the PDP.
R2=RXmax=RYmaxとしたとき、R2<0.2では、わずかにモワレフリンジが確認できたが、R2≧0.3では、モワレフリンジは見えなかった。
2)電磁シールド膜のメッシュ構造が、矩形の位置を変化させず、矩形の辺の長さを変更したものであるとき、すなわちR2=RXmax=RYmax=0であり、RAmax,RBmaxのみを変化させたものであるとき。
When R2 = RXmax = RYmax, a moire fringe was slightly confirmed when R2 <0.2, but no moire fringe was seen when R2 ≧ 0.3.
2) When the mesh structure of the electromagnetic shielding film is one in which the rectangular position is changed without changing the rectangular position, that is, R2 = RXmax = RYmax = 0, and only RAmax and RBmax are changed. When it is.
R1=RAmax=RBmaxとして、電磁シールド膜の矩形の辺がPDPの画素列と平行のとき、R1<0.1では、モワレフリンジが確認できたが、R1≧0.1であると、電磁シールド膜の矩形の辺がPDPの画素列に平行であろうが、角度30度をなしていようが、モワレフリンジは確認できなかった。
3)電磁シールド膜のメッシュ構造が、矩形の位置を変化させ、かつ、矩形の辺の長さを変更したものであるとき。
When R1 = RAmax = RBmax and the rectangular side of the electromagnetic shield film is parallel to the pixel column of the PDP, moire fringe could be confirmed when R1 <0.1, but when R1 ≧ 0.1, the electromagnetic shield Moire fringes could not be confirmed whether the rectangular sides of the film were parallel to the pixel columns of the PDP or at an angle of 30 degrees.
3) When the mesh structure of the electromagnetic shielding film changes the rectangular position and changes the length of the rectangular side.
R1=RAmax=RBmax,R2=RXmax=RYmaxであって、R1≧0.1,R2≧0.1であれば、モワレフリンジは確認できなかった。
4)乱れ度とモワレフリンジ
上記の測定によって得られた結果を、乱れ度(R1,R2)とモアレフリンジとの関係として、図29に示す。
If R1 = RAmax = RBmax, R2 = RXmax = RYmax, and R1 ≧ 0.1 and R2 ≧ 0.1, moire fringe could not be confirmed.
4) Disturbance degree and moire fringe The results obtained by the above measurement are shown in FIG. 29 as the relationship between the disturbance degree (R1, R2) and moire fringe.
点々を付した領域がモワレフリンジの確認できない領域である。特に、R1≒0.3、R2≒0.5付近では、どのような画面でもモワレフリンジは確認できなかった。 Areas with dots are areas where moire fringes cannot be confirmed. In particular, in the vicinity of R1≈0.3 and R2≈0.5, no moire fringe could be confirmed on any screen.
図29から、R1/2+R2/4>0.075、かつ、R1<0.9
の範囲にある乱れ度R1,R2を用いて作成された略矩形群からなるメッシュ構造は、モワレフリンジが出ないことがわかる。
(実施例2)
乱れ度:R1=RAmax=RBmax=0,R2=RXmax=RYmax=0.4のメッシュ構造パターンを有する電磁シールド膜を、エッチング法−直接法で作製した。ガラス基板のサイズや評価に用いたPDPも実施例1と同様とした。作製した電磁シールド膜のパターンを図30に示す。
From FIG. 29, R1 / 2 + R2 / 4> 0.075 and R1 <0.9
It can be seen that a moire fringe does not appear in the mesh structure made up of substantially rectangular groups created using the degree of disturbance R1, R2 in the range of.
(Example 2)
Disturbance degree: An electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern of R1 = RAmax = RBmax = 0, R2 = RXmax = RYmax = 0.4 was produced by an etching method-direct method. The size of the glass substrate and the PDP used for evaluation were the same as in Example 1. The pattern of the produced electromagnetic shielding film is shown in FIG.
これで、PDPを利用して目視でモワレフリンジを観測したところ、長いレンジにわたるものは観測されなかった。
(実施例3)
乱れ度:R1=RAmax=RBmax=0,R2=RXmax=RYmax=0.8のメッシュ構造パターンを有する電磁シールド膜を作製した。
Thus, when the moire fringe was visually observed using the PDP, nothing over a long range was observed.
(Example 3)
Disturbance degree: An electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern of R1 = RAmax = RBmax = 0 and R2 = RXmax = RYmax = 0.8 was produced.
得られたメッシュ構造のパターンは図31に示す通りであった。この場合は、モワレフリンジはまったく観測されなかった。メッシュ構造の略矩形の辺とPDPの画素列との角度は無関係であった。R1=0の場合は、各略矩形の面積はほぼ等しいので、透過光量に関しては、乱れ度がないときと同じであった。
(実施例4)
乱れ度:R1=RAmax=RBmax=0.4,R2=RXmax=RYmax=0のメッシュ構造パターンを有する電磁シールド膜を作製した。得られたパターンは図32に示す通りであった。
The resulting mesh structure pattern was as shown in FIG. In this case, no moire fringe was observed. The angle between the substantially rectangular side of the mesh structure and the pixel column of the PDP was irrelevant. In the case of R1 = 0, the areas of the substantially rectangular shapes are almost the same, so the amount of transmitted light is the same as when there is no degree of disturbance.
(Example 4)
Disturbance degree: An electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern of R1 = RAmax = RBmax = 0.4 and R2 = RXmax = RYmax = 0 was produced. The resulting pattern was as shown in FIG.
この条件では、各略矩形の辺の長さが変化するので、モワレフリンジが発現しにくさは、R1=0の時よりも効果があった。この場合、各略矩形の中心はx座標軸,y座標軸に平行に並んでいる。
(実施例5)
乱れ度:R1=1.0,R2=0のメッシュ構造パターンを有する電磁シールド膜を作製した。得られたパターンは図33に示す通りであった。
Under these conditions, the length of the sides of each substantially rectangular shape is changed, so that the difficulty of expressing moire fringe is more effective than when R1 = 0. In this case, the centers of the substantially rectangular shapes are arranged in parallel to the x coordinate axis and the y coordinate axis.
(Example 5)
Disturbance degree: An electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern of R1 = 1.0 and R2 = 0 was produced. The resulting pattern was as shown in FIG.
図33に見られるように、大きい略矩形と小さい略矩形が混在しているため、特に小さい矩形のかたまって存在しているところがあり、それが、実際の画像では黒点のように見えるところはあったが、モワレフリンジについては確認できなかった。
(実施例6)
R1,R2を同時に変化させ、R1=0.3,R2=0.5のメッシュ構造パターンの電磁シールド膜を作製した。得られたパターンは図34に示す通りであった。
As can be seen in FIG. 33, large and small rectangles are mixed, so there are places where small rectangles exist in particular, and there are places where it looks like black dots in an actual image. However, no moire fringe could be confirmed.
(Example 6)
R1 and R2 were changed at the same time to produce an electromagnetic shield film having a mesh structure pattern of R1 = 0.3 and R2 = 0.5. The resulting pattern was as shown in FIG.
略矩形のサイズのばらつき、位置のばらつきもちょうど良く、モワレフリンジも見えないし、黒点も確認できなかった。
(実施例7)
R1=R2=0.6のメッシュ構造パターンを有する電磁シールド膜を作製した。得られたパターンは図35の通りであった。
Variations in the size and position of the rectangle were just right, no moire fringes were visible, and no black spots could be confirmed.
(Example 7)
An electromagnetic shielding film having a mesh structure pattern of R1 = R2 = 0.6 was produced. The resulting pattern was as shown in FIG.
このパターンは、略矩形のサイズ、位置ともに最も相関がないように見える配置となっており、モワレフリンジも見えないし、黒点も確認できなかった。 This pattern was arranged so that the size and position of the substantially rectangular shape seemed to have the least correlation, and no moire fringe could be seen and no black spots could be confirmed.
1,4,6 メッシュ構造パターン
10 コンピュータ
12 演算部(CPU)
14 記憶部
16 入力部
18 出力部
20 仮想矩形群作成部
22 乱数発生部
24 平行移動処理部
26 長さ変更処理部
32 x座標軸方向の直線
34 y座標軸方向の直線
38 仮想矩形群
42,44 仮想中心線
1, 4, 6
DESCRIPTION OF
Claims (17)
入力部から演算部へ、数値a,bが入力されるステップと、
演算部で、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
演算部で、前記仮想矩形を記憶部から読出された乱数を用いてx座標軸および/またはy座標軸方向に平行移動させるステップと、
演算部で、前記平行移動された仮想矩形の各辺の長さa,bを、記憶部から読出された乱数を用いて変更して、略矩形群を形成するステップとを含み、
前記仮想座標上で、前記略矩形群の各略矩形の各辺がx座標軸およびy座標軸方向に互いに直線状に並ばないメッシュ構造のパターンを作成する設計方法。 A method of designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device using a computer,
A step in which numerical values a and b are input from the input unit to the calculation unit;
A step of creating virtual coordinates composed of an x-coordinate axis and a y-coordinate axis in an arithmetic unit;
In the calculation unit, a virtual rectangle group is formed on the virtual coordinate by a virtual rectangle formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis and having side lengths a and b. Steps,
A translation unit that translates the virtual rectangle in the x-coordinate axis and / or y-coordinate axis direction using a random number read from the storage unit;
And changing the lengths a and b of each side of the translated virtual rectangle using a random number read from the storage unit to form a substantially rectangular group in the calculation unit,
A design method for creating a mesh structure pattern in which the sides of each of the substantially rectangular groups of the substantially rectangular group are not arranged in a straight line in the x-coordinate axis and y-coordinate axis directions on the virtual coordinates.
入力部から演算部へ乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧R
Ymax≧0)が入力されるステップと、
各m列の矩形を、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)でx座標軸
方向に平行移動させるか、あるいは、各n行の略矩形を、RXmax≧|RX(n)
|を満たす乱数RX(n)でx座標軸方向に平行移動させるか、および/または、各
n行の略矩形を、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)を用いてy座
標軸方向に平行移動させるか、あるいは、各m列の略矩形を、RYmax≧|RY(
m)|を満たす乱数RY(m)を用いてy座標軸方向に平行移動させるステップとを
含み、
前記各矩形の各辺の長さを乱数を用いて変更するステップは、
入力部から演算部へ乱れ度RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧R
Bmax≧0)が入力されるステップと、
演算部で、前記仮想座標上でn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)(m,nは
正の整数)の各辺の長さa,bを、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧
|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+
RA(m,n))×a,(1+RB(m,n))×bとなるように変更するステッ
プとを含む、
請求項1に記載の設計方法。 The step of translating each virtual rectangle in the x-coordinate and y-coordinate directions using random numbers,
Disturbances RXmax, RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ R) from the input unit to the calculation unit
Ymax ≧ 0) is input,
Each m-column rectangle is translated in the direction of the x-coordinate axis with a random number RX (m) that satisfies RXmax ≧ | RX (m) |, or each rectangle of approximately n-th row is RXmax ≧ | RX (n)
Is translated in the x-coordinate axis direction by a random number RX (n) satisfying | and / or a substantially rectangular shape of each n rows is y-coordinated using a random number RY (n) satisfying RYmax ≧ | RY (n) | Either translate in the direction of the standard axis, or make each m-column approximately rectangular shape RYmax ≧ | RY (
m) using a random number RY (m) that satisfies ||
The step of changing the length of each side of each rectangle using a random number,
Disturbance degrees RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ R) from the input unit to the calculation unit
Bmax ≧ 0) is input,
In the calculation unit, the lengths a and b of each side of the virtual rectangle (m, n) (m and n are positive integers) existing in n rows and m columns on the virtual coordinates are set as RAmax ≧ | RA (m , N) |, RBmax ≧
Using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) satisfying | RB (m, n) |
RA (m, n)) × a, (1 + RB (m, n)) × b.
The design method according to claim 1.
入力部から演算部へ、数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とが入力されるステップと、
演算部で、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
演算部で、n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
演算部で、平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2,YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2,YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
演算部で、平行移動した仮想矩形(m,n)の各辺の長さa,bを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(m,n))×a,(1+RB(m,n))×bとなるように変更するステップと、
演算部で、変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(m,n)−(1+RA(m,n))×a/2,
YE=Y0 ′(m,n)−(1+RB(m,n))×b/2
XF=X0 ′(m,n)+(1+RA(m,n))×a/2,
YF=Y0 ′(m,n)+(1+RB(m,n))×b/2
で求めるステップとを含み、
前記仮想座標上で、前記略矩形群の各略矩形の各辺がx座標軸およびy座標軸方向に互いに直線状に並ばないメッシュ構造のパターンを作成する設計方法。 A method of designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device using a computer,
Numerical values a and b, disturbance degrees RXmax and RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0), and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0) from the input unit to the arithmetic unit And a step in which
A step of creating virtual coordinates composed of an x-coordinate axis and a y-coordinate axis in an arithmetic unit;
In the calculation unit, a virtual rectangle group is formed on the virtual coordinate by a virtual rectangle formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis and having side lengths a and b. Steps,
Two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates and are parallel to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively, at right angles And the center position of the virtual rectangle (m, n) is set to (X 0 (m, n), Y 0 ( m, n)), the center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
In the calculation unit, the position of each virtual rectangle in n rows is set to a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns. , The random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | with respect to the degree of disturbance RXmax, and parallel translation in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is the degree of disorder RYmax In contrast, the random number RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) | or the position of each virtual rectangle in n rows satisfies RYmax ≧ | RY (n) | with respect to the degree of disturbance RYmax. The center position (X 0 ′ (m, n)) and (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n) is obtained by translation with the random number RY (n) to the y coordinate axis. Steps,
In the calculation unit, coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2, YE = Y 0' (m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2, YF = Y 0' (m, n) + b / 2
Steps to find in
The length a, b of each side of the virtual rectangle (m, n) translated in the arithmetic unit is set to RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. Using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) satisfying (m, n) |, (1 + RA (m, n)) × a, (1 + RB (m, n)) × b Step to change to
In the calculation unit, change the coordinates of the changed vertices E and F of the rectangle.
XE = X 0 '(m, n) - (1 + RA (m, n)) × a / 2,
YE = Y 0 '(m, n)-(1 + RB (m, n)) × b / 2
XF = X 0 '(m, n) + (1 + RA (m, n)) × a / 2,
YF = Y 0 ′ (m, n) + (1 + RB (m, n)) × b / 2
Including the step of
A design method for creating a mesh structure pattern in which the sides of each of the substantially rectangular groups of the substantially rectangular group are not arranged in a straight line in the x-coordinate axis and y-coordinate axis directions on the virtual coordinates.
入力部から演算部へ、数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とが入力されるステップと、
演算部で、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
演算部で、n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
演算部で、平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2
YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2
YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
演算部で、ni1=n0 +2i+1,ni2=n0 +2i+2(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0+2j+1,mj2=m0+2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とするとき(nは、ni1またはni2を示し、mはmj1またはmj2を示す)、n=ni1行の奇数番目(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目(m0 が奇数の場合))の列m=mj1列の仮想矩形(mj1,ni1)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj1,ni1))×a,(1+RB(mj1,ni1))×bとなるように変更するステップと、
演算部で、変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
で求めるステップと、
演算部で、変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni1行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni1)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2,ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求めるステップと、
演算部で、仮想矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、左隣の矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとするステップと、
演算部で、n=ni2行の、偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2)において、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変化させて、
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
を求めるステップと、
演算部で、仮想矩形(m,ni2)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標であるYE,YFとすることによって略矩形を作成するステップと、
演算部で、i,jのすべて整数について略矩形を作成し、略矩形群を作成するステップとを含み、
前記仮想座標上で、前記略矩形群の各略矩形の各辺がx座標軸およびy座標軸方向に互いに直線状に並ばないメッシュ構造のパターンを作成する設計方法。 A method of designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device using a computer,
Numerical values a and b, disturbance degrees RXmax and RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0), and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0) from the input unit to the arithmetic unit And a step in which
A step of creating virtual coordinates composed of an x-coordinate axis and a y-coordinate axis in an arithmetic unit;
In the calculation unit, a virtual rectangle group is formed on the virtual coordinate by a virtual rectangle formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis and having side lengths a and b. Steps,
Two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates and are parallel to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively, at right angles And the center position of the virtual rectangle (m, n) is set to (X 0 (m, n), Y 0 ( m, n)), the center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
In the calculation unit, the position of each virtual rectangle in n rows is set to a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns. , The random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | with respect to the degree of disturbance RXmax, and parallel translation in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is the degree of disorder RYmax In contrast, the random number RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) | or the position of each virtual rectangle in n rows satisfies RYmax ≧ | RY (n) | with respect to the degree of disturbance RYmax. The center position (X 0 ′ (m, n)) and (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n) is obtained by translation with the random number RY (n) to the y coordinate axis. Steps,
In the calculation unit, coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2
YE = Y 0 '(m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2
YF = Y 0 '(m, n) + b / 2
Steps to find in
N i1 = n 0 + 2i + 1, n i2 = n 0 + 2i + 2 (where n 0 is 0 or any positive integer, i = 0, 1, 2, 3,...), M j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = m 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or any positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...) (N indicates n i1 or n i2 , m represents m j1 or m j2 ), n = n i1 rows of odd-numbered (when m 0 is even) (or even-numbered (when m 0 is odd)) m = m j1 column virtual rectangle The length of each side of (m j1 , n i1 ) is a random number RA that satisfies RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. Using (m, n) and RB (m, n), change to (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a, (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b. Steps,
In the calculation unit, change the coordinates of the changed vertices E and F of the rectangle.
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Steps to find in
In the arithmetic unit, with the rectangle defined by the coordinates of the vertices E and F after the change as a reference, the even-numbered column (when m 0 is an even number) of n = n i1 rows (or the odd-numbered column (m 0 is an odd number) In the case of m = m j2 columns of virtual rectangles (m j2 , n i1 ), only the y coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
A step of seeking
In the calculation unit, the x coordinate of the left side of the virtual rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the left adjacent rectangle (m j1 , n i1 ), and the x coordinate of the right side is the right side rectangle (m (j +1) 1 , n i1 ) the same step as XE;
The x coordinate of the left and right sides of the virtual rectangle in the virtual rectangle (m, n i2 ) of the even-numbered column or the odd-numbered column of m = m j1 or m = m j2 column in the n = n i2 row in the arithmetic unit. Only with a random number RA (m, n)
XE = X 0 ′ (m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
A step of seeking
In the calculation unit, the left and right sides of the virtual rectangle (m, n i2 ) are extended vertically, and the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows are set to YE and YF, which are the respective y-coordinates. The steps of creating
Creating a substantially rectangular shape for all integers of i and j in the computing unit, and creating a substantially rectangular group,
A design method for creating a mesh structure pattern in which the sides of each of the substantially rectangular groups of the substantially rectangular group are not arranged in a straight line in the x-coordinate axis and y-coordinate axis directions on the virtual coordinates.
入力部から演算部へ、数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とが入力されるステップと、
演算部で、x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
演算部で、前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
演算部で、n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
演算部で、平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2
YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2
YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
演算部で、ni1=n0 +4i+1,ni2=n0 +4i+2,ni3=n0 +4i+3,ni4=n0 +4i+4(ここで、n0 は0または正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0 +2j+1,mj2=m0 +2j+2(ここで、m0 は0または正の整数、j=0,1,2,3,…)とするとき(nは、ni1、ni2、ni3またはni4を示し、mはmj1またはmj2を示す)、n=ni1行の、奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の仮想矩形(mj1,ni1)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj1,ni1))×a,(1+RB(mj1,ni1))×bとなるように変更するステップと、
演算部で、変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
で求めるステップと、
演算部で、変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni1行において、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0が奇数の場合))であるm=mj2列の矩形(mj2,ni1)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2, ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求めるステップと、
演算部で、仮想矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、左隣の矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとするステップと、
演算部で、n=ni3行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni3)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj2,ni3))×a,(1+RB(mj2,ni3))×bとなるように変更するステップと、
演算部で、変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj2,ni3)−(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YE=Y0 ′(mj2,ni3)−(1+RB(mj2,ni3))×b/2
XF=X0 ′(mj2,ni3)+(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YF=Y0 ′(mj2,ni3)+(1+RB(mj2,ni3))×b/2
で求めるステップと、
演算部で、変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni3行の奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の仮想矩形(mj1,ni3)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj1,ni3)−(1+RB(mj1, ni3))×b/2
YF=Y0 ′(mj1,ni3)+(1+RB(mj1,ni3))×b/2
を求めるステップと、
演算部で、仮想矩形(mj1,ni3)の左辺のx座標は、左隣の矩形(m(j-1)2,ni3)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(mj2,ni3)のXEと同じとするステップと、
演算部で、ni2行とni4行については、各行の偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1列あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2),(m,ni4)において、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変化させて、
矩形(m,ni2)については
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
矩形(m,ni4)については
XE=X0 ′(m,ni4)−(1+RA(m,ni4))×a/2
XF=X0 ′(m,ni4)+(1+RA(m,ni4))×a/2
を求めるステップと、
演算部で、仮想矩形(mj2,ni2),(mj2,ni4)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標であるYE,YFとすることによって略矩形を作成するステップと、
i,jのすべて整数について略矩形を作成し、略矩形群を作成するステップとを含み、
前記仮想座標上で、前記略矩形群の各略矩形の各辺がx座標軸およびy座標軸方向に互いに直線状に並ばないメッシュ構造のパターンを作成する設計方法。 A method of designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device using a computer,
Numerical values a and b, disturbance degrees RXmax and RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0), and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0) from the input unit to the arithmetic unit And a step in which
A step of creating virtual coordinates composed of an x-coordinate axis and a y-coordinate axis in an arithmetic unit;
In the calculation unit, a virtual rectangle group is formed on the virtual coordinate by a virtual rectangle formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis and having side lengths a and b. Steps,
Two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates and are parallel to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively, at right angles And the center position of the virtual rectangle (m, n) is set to (X 0 (m, n), Y 0 ( m, n)), the center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
In the calculation unit, the position of each virtual rectangle in n rows is set to a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns. , The random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | with respect to the degree of disturbance RXmax, and parallel translation in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is the degree of disorder RYmax In contrast, the random number RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) | or the position of each virtual rectangle in n rows satisfies RYmax ≧ | RY (n) | with respect to the degree of disturbance RYmax. The center position (X 0 ′ (m, n)) and (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n) is obtained by translation with the random number RY (n) to the y coordinate axis. Steps,
In the calculation unit, coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2
YE = Y 0 '(m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2
YF = Y 0 '(m, n) + b / 2
Steps to find in
In the calculation unit, n i1 = n 0 + 4i + 1, n i2 = n 0 + 4i + 2, n i3 = n 0 + 4i + 3, n i4 = n 0 + 4i + 4 (where n 0 is 0 or a positive integer, i = 0, 1, 2, 3,..., M j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = m 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or a positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...) (N Represents n i1 , n i2 , n i3 or n i4 , m represents m j1 or m j2 ), n = n i1 row, odd-numbered column (when m 0 is even) (or even-numbered column) (When m 0 is an odd number)), the length of each side of the virtual rectangle (m j1 , n i1 ) of m = m j1 column is set to RAmax ≧ | RA (m , N) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | using random numbers RA (m, n) and RB (m, n) satisfying (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a, (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b
In the calculation unit, change the coordinates of the changed vertices E and F of the rectangle.
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Steps to find in
In the calculation unit, with the rectangle defined by the coordinates of the changed vertices E and F as a reference, in the n = n i1 row, the even-numbered column (m 0 Is an even number) (or an even-numbered column (when m 0 is an odd number)), and only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are random numbers RB in m = m j2 column rectangles (m j2 , n i1 ). Vary with (m, n)
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
A step of seeking
In the calculation unit, the x coordinate of the left side of the virtual rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the left adjacent rectangle (m j1 , n i1 ), and the x coordinate of the right side is the right side rectangle (m (j +1) 1 , n i1 ) the same step as XE;
In the calculation unit, n = n i3 rows of even-numbered columns (when m 0 is even) (or odd-numbered columns (when m 0 is odd)) m = m j2 columns of virtual rectangles (m j2 , n i3 ) is set to a random number RA (m, n) satisfying RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. ), RB (m, n) and changing to (1 + RA (m j2 , n i3 )) × a, (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b;
In the calculation unit, change the coordinates of the changed vertices E and F of the rectangle.
XE = X 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RA (m j2 , n i3 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j2 , n i3) + (1 + RA (m j2, n i3)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) + (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
Steps to find in
In the arithmetic unit, with reference to the rectangle defined by the coordinates of the changed vertices E and F, the odd-numbered column of n = n i3 rows (when m 0 is even) (or even-numbered column (m 0 is odd) In the case of m = m j1 columns of virtual rectangles (m j1 , n i3 ) where only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) − (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) + (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
A step of seeking
In the calculation unit, the x coordinate of the left side of the virtual rectangle (m j1 , n i3 ) is the same as the XF of the rectangle on the left (m (j-1) 2 , n i3 ), and the x coordinate of the right side is the right side The same step as XE of the rectangle (m j2 , n i3 ),
In the arithmetic unit, for the n i2 and n i4 rows, virtual rectangles (m, n i2 ), (m, n) of m = m j1 columns or m = m j2 columns which are even-numbered columns or odd-numbered columns of each row. i4 ), only the x-coordinates of the left and right sides of the virtual rectangle are changed by a random number RA (m, n),
For the rectangle (m, n i2 ), XE = X 0 ′ (m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
For the rectangle (m, n i4 ), XE = X 0 ′ (m, n i4 ) − (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i4 ) + (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2
A step of seeking
In the calculation unit, the left and right sides of the virtual rectangles (m j2 , n i2 ), (m j2 , n i4 ) are extended vertically, and the intersections with the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows are the respective y coordinates. Creating a substantially rectangular shape by setting YE and YF;
creating a substantially rectangular shape for all integers of i and j and creating a substantially rectangular group,
A design method for creating a mesh structure pattern in which the sides of each of the substantially rectangular groups of the substantially rectangular group are not arranged in a straight line in the x-coordinate axis and y-coordinate axis directions on the virtual coordinates.
R1=RAmax=RBmax,R2=RXmax=RYmax
である場合に、R1,R2は、
R1/2+R2/4>0.075、かつ、R1<0.9であることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の設計方法。 The degree of disturbance input from the input unit to the calculation unit is
R1 = RAmax = RBmax, R2 = RXmax = RYmax
R1 and R2 are
6. The design method according to claim 2, wherein R1 / 2 + R2 / 4> 0.075 and R1 <0.9.
数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とを取込むステップと、
x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2
YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2
YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
ni1=n0 +2i+1,ni2=n0 +2i+2(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0+2j+1,mj2=m0+2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とするとき(nは、ni1またはni2を示し、mはmj1またはmj2を示す)、n=ni1行の奇数番目(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目(m0 が奇数の場合))の列m=mj1列の仮想矩形(mj1,ni1)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj1,ni1))×a,(1+RB(mj1,ni1))×bとなるように変更するステップと、
変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
で求めるステップと、
変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni1行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni1)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2,ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求めるステップと、
仮想矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、左隣の矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとするステップと、
n=ni2行の、偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2)において、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変化させて、
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
を求めるステップと、
仮想矩形(m,ni2)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標であるYE,YFとすることによって略矩形を作成するステップと、
i,jのすべて整数について略矩形を作成し、略矩形群を作成するステップと、
を実行するプログラム。 A program for designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device,
Taking numerical values a and b, and disturbance degrees RXmax, RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0) and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0);
creating virtual coordinates comprising an x-coordinate axis and a y-coordinate axis;
Creating, on the virtual coordinates, a group of virtual rectangles formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis, each of which has a length of a and b.
Introducing two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates, and are parallel to and orthogonal to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively. The center position of the virtual rectangle (m, n) is defined as (X 0 (m, n), Y 0 (m, n) with the intersection of the virtual center lines of the virtual rectangle (1, 1) in one row and one column as the origin. ), The center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
The position of each virtual rectangle in n rows is a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns is the degree of disturbance RXmax. In contrast, the random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | is translated in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is relative to the degree of disturbance RYmax. Random numbers RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) |, or random numbers RY (n) satisfying RYmax ≧ | RY (n) | ) To obtain the center position (X 0 ′ (m, n)), (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n),
The coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2
YE = Y 0 '(m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2
YF = Y 0 '(m, n) + b / 2
Steps to find in
n i1 = n 0 + 2i + 1, n i2 = n 0 + 2i + 2 (where n 0 is 0 or any positive integer, i = 0, 1, 2, 3,...), m j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = M 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or any positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...) (N indicates n i1 or n i2 , and m is m j1 Or m j2 ), n = n i1 rows of odd-numbered (when m 0 is even) (or even-numbered (when m 0 is odd)) m = m j1 columns of virtual rectangles (m j1 , n i1 ) is set to a random number RA (m, n) satisfying RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. ), RB (m, n), and changing to (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a, (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b ,
Change the coordinates of the vertices E and F of the rectangle
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Steps to find in
Using the rectangle defined by the coordinates of the vertices E and F after the change as a reference, n = n i1 rows, even-numbered columns (when m 0 is even) (or odd-numbered columns (when m 0 is odd)) In an m = m j2 column of virtual rectangles (m j2 , n i1 ), only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
A step of seeking
The x coordinate on the left side of the virtual rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the rectangle on the left (m j1 , n i1 ), and the x coordinate on the right side is the rectangle on the right (m (j + 1) 1 , N i1 ) as XE,
In a virtual rectangle (m, n i2 ) of m = m j1 or m = m j2 column that is an even-numbered column or an odd-numbered column of n = n i2 rows, only the x coordinates of the left and right sides of the virtual rectangle are random numbers RA. Vary with (m, n)
XE = X 0 ′ (m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
A step of seeking
A step of creating a substantially rectangular shape by extending the left and right sides of the virtual rectangle (m, n i2 ) up and down and setting the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows as YE and YF as the respective y coordinates. When,
creating a substantially rectangular shape for all integers of i and j and creating a substantially rectangular group;
A program that executes.
数値a,bと、乱れ度RXmax,RYmax(1≧RXmax≧0,1≧RYmax≧0)、および、RAmax,RBmax(1≧RAmax≧0,1≧RBmax≧0)とを取込むステップと、
x座標軸,y座標軸よりなる仮想座標を作成するステップと、
前記仮想座標上に、x座標軸に平行な直線とy座標軸に平行な直線とによって形成される、各辺の長さがa,bである仮想矩形よりなる仮想矩形群を作成するステップと、
前記仮想座標のn行,m列に存在する仮想矩形(m,n)の中心位置を通過し、それぞれx座標方向,y座標方向に平行で、直交する2本の仮想中心線を導入し、1行,1列の仮想矩形(1,1)の仮想中心線の交点を原点として、仮想矩形(m,n)の中心位置を(X0 (m,n),Y0(m,n))と表すとき、仮想矩形(m,n)の中心位置を、
X0 (m,n)=a×(m−1),Y0 (m,n)=b×(n−1)
で求めるステップと、
n行の各仮想矩形の位置を、前記乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(n)|を満たす乱数RX(n)で、あるいは、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RXmaxに対して、RXmax≧|RX(m)|を満たす乱数RX(m)で、x座標軸方向に平行移動させ、および/または、m列の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(m)|を満たす乱数RY(m)で、あるいは、n行の各仮想矩形の位置を、乱れ度RYmaxに対して、RYmax≧|RY(n)|を満たす乱数RY(n)でy座標軸に平行移動させ、移動された各仮想矩形(m,n)の中心位置(X0 ′(m,n)),(Y0 ′(m,n))を求めるステップと、
平行移動した仮想矩形(m,n)の互いに相対する1対の頂点E,Fの座標E(XE,YE),F(XF,YF)を、
XE=X0 ′(m,n)−a/2
YE=Y0 ′(m,n)−b/2
XF=X0 ′(m,n)+a/2
YF=Y0 ′(m,n)+b/2
で求めるステップと、
ni1=n0 +4i+1,ni2=n0 +4i+2,ni3=n0 +4i+3,ni4=n0 +4i+4(ここで、n0 は0または任意の正の整数、i=0,1,2,3,…)、mj1=m0 +2j+1,mj2=m0 +2j+2(ここで、m0 は0または任意の正の整数、j=0,1,2,3,…)とするとき(nは、ni1、ni2、ni3またはni4を示し、mはmj1またはmj2を示す)、n=ni1行の、奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の仮想矩形(mj1,ni1)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|、RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj1,ni1))×a,(1+RB(mj1,ni1))×bとなるように変更するステップと、
変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj1,ni1)−(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YE=Y0 ′(mj1,ni1)−(1+RB(mj1,ni1))×b/2
XF=X0 ′(mj1,ni1)+(1+RA(mj1,ni1))×a/2
YF=Y0 ′(mj1,ni1)+(1+RB(mj1,ni1))×b/2
で求めるステップと、
変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni1行において、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0が奇数の場合))であるm=mj2列の矩形(mj2,ni1)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj2,ni1)−(1+RB(mj2, ni1))×b/2
YF=Y0 ′(mj2,ni1)+(1+RB(mj2,ni1))×b/2
を求めるステップと、
仮想矩形(mj2,ni1)の左辺のx座標は、左隣の矩形(mj1,ni1)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(m(j+1)1,ni1)のXEと同じとするステップと、
n=ni3行の、偶数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは奇数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj2列の仮想矩形(mj2,ni3)の各辺の長さを、前記乱れ度RAmax,RBmaxに対して、RAmax≧|RA(m,n)|,RBmax≧|RB(m,n)|を満たす乱数RA(m,n),RB(m,n)を用いて、(1+RA(mj2,ni3))×a,(1+RB(mj2,ni3))×bとなるように変更するステップと、
変更後の矩形の頂点E,Fの座標を、
XE=X0 ′(mj2,ni3)−(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YE=Y0 ′(mj2,ni3)−(1+RB(mj2,ni3))×b/2
XF=X0 ′(mj2,ni3)+(1+RA(mj2,ni3))×a/2
YF=Y0 ′(mj2,ni3)+(1+RB(mj2,ni3))×b/2
で求めるステップと、
変更後の頂点E,Fの座標で定義される矩形を基準として、n=ni3行の奇数番目列(m0 が偶数の場合)(あるいは偶数番目列(m0 が奇数の場合))であるm=mj1列の仮想矩形(mj1,ni3)において、仮想矩形の上下の辺のy座標のみを乱数RB(m,n)で変化させて、
YE=Y0 ′(mj1,ni3)−(1+RB(mj1, ni3))×b/2
YF=Y0 ′(mj1,ni3)+(1+RB(mj1,ni3))×b/2
を求めるステップと、
仮想矩形(mj1,ni3)の左辺のx座標は、左隣の矩形(m(j-1)2,ni3)のXFと同じとし、右辺のx座標は右隣の矩形(mj2,ni3)のXEと同じとするステップと、
ni2行とni4行については、各行の偶数番目列あるいは奇数番目列であるm=mj1列あるいはm=mj2列の仮想矩形(m,ni2),(m,ni4)において、仮想矩形の左右の辺のx座標のみを乱数RA(m,n)で変化させて、
矩形(m,ni2)については
XE=X0 ′(m,ni2)−(1+RA(m,ni2))×a/2
XF=X0 ′(m,ni2)+(1+RA(m,ni2))×a/2
矩形(m,ni4)については
XE=X0 ′(m,ni4)−(1+RA(m,ni4))×a/2
XF=X0 ′(m,ni4)+(1+RA(m,ni4))×a/2
を求めるステップと、
仮想矩形(mj2,ni2),(mj2,ni4)の左右の辺を上下に延長して、上下の行の矩形の横辺と交わるところをそれぞれのy座標であるYE,YFとすることによって略矩形を作成するステップと、
i,jのすべて整数について略矩形を作成し、略矩形群を作成するステップと、
を実行するプログラム。 A program for designing a mesh structure pattern of an electromagnetic shielding film used as a front plate of a display device,
Taking numerical values a and b, and disturbance degrees RXmax, RYmax (1 ≧ RXmax ≧ 0, 1 ≧ RYmax ≧ 0) and RAmax, RBmax (1 ≧ RAmax ≧ 0, 1 ≧ RBmax ≧ 0);
creating virtual coordinates comprising an x-coordinate axis and a y-coordinate axis;
Creating, on the virtual coordinates, a group of virtual rectangles formed by a straight line parallel to the x-coordinate axis and a straight line parallel to the y-coordinate axis, each of which has a length of a and b.
Introducing two virtual center lines that pass through the center position of the virtual rectangle (m, n) existing in the n rows and m columns of the virtual coordinates, and are parallel to and orthogonal to the x coordinate direction and the y coordinate direction, respectively. The center position of the virtual rectangle (m, n) is defined as (X 0 (m, n), Y 0 (m, n) with the intersection of the virtual center lines of the virtual rectangle (1, 1) in one row and one column as the origin. ), The center position of the virtual rectangle (m, n)
X 0 (m, n) = a × (m−1), Y 0 (m, n) = b × (n−1)
Steps to find in
The position of each virtual rectangle in n rows is a random number RX (n) that satisfies RXmax ≧ | RX (n) | with respect to the degree of disturbance RXmax, or the position of each virtual rectangle in m columns is the degree of disturbance RXmax. In contrast, the random number RX (m) satisfying RXmax ≧ | RX (m) | is translated in the x-coordinate axis direction, and / or the position of each virtual rectangle in the m columns is relative to the degree of disturbance RYmax. Random numbers RY (m) satisfying RYmax ≧ | RY (m) |, or random numbers RY (n) satisfying RYmax ≧ | RY (n) | ) To obtain the center position (X 0 ′ (m, n)), (Y 0 ′ (m, n)) of each moved virtual rectangle (m, n),
The coordinates E (XE, YE), F (XF, YF) of a pair of vertices E, F facing each other of the translated virtual rectangle (m, n) are
XE = X 0 '(m, n) -a / 2
YE = Y 0 '(m, n) -b / 2
XF = X 0 '(m, n) + a / 2
YF = Y 0 '(m, n) + b / 2
Steps to find in
n i1 = n 0 + 4i + 1, n i2 = n 0 + 4i + 2, n i3 = n 0 + 4i + 3, n i4 = n 0 + 4i + 4 (where n 0 is 0 or any positive integer, i = 0, 1, 2, 3,..., M j1 = m 0 + 2j + 1, m j2 = m 0 + 2j + 2 (where m 0 is 0 or any positive integer, j = 0, 1, 2, 3,...) (N Represents n i1 , n i2 , n i3 or n i4 , m represents m j1 or m j2 ), n = n i1 row, odd-numbered column (when m 0 is even) (or even-numbered column) (When m 0 is an odd number)), the length of each side of the virtual rectangle (m j1 , n i1 ) of m = m j1 column is set to RAmax ≧ | RA (m , n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | random satisfy RA (m, n), RB (m, n) with, (1 + RA (m j1 , n i1) × a, and changing such that (1 + RB (m j1, n i1)) × b,
Change the coordinates of the vertices E and F of the rectangle
XE = X 0 '(m j1 , n i1 ) − (1 + RA (m j1 , n i1 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) − (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j1 , n i1) + (1 + RA (m j1, n i1)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i1 ) + (1 + RB (m j1 , n i1 )) × b / 2
Steps to find in
With the rectangle defined by the coordinates of the vertices E and F after the change as a reference, in the n = n i1 row, the even-numbered column (m 0 Is an even number) (or an even-numbered column (when m 0 is an odd number)), and only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are random numbers RB in m = m j2 column rectangles (m j2 , n i1 ). Vary with (m, n)
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) − (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i1 ) + (1 + RB (m j2 , n i1 )) × b / 2
A step of seeking
The x coordinate on the left side of the virtual rectangle (m j2 , n i1 ) is the same as the XF of the rectangle on the left (m j1 , n i1 ), and the x coordinate on the right side is the rectangle on the right (m (j + 1) 1 , N i1 ) as XE,
n = n i3 rows of even-numbered columns (when m 0 is an even number) (or odd-numbered columns (when m 0 is an odd number)) of m = m j2 columns of virtual rectangles (m j2 , n i3 ) The length of each side is set to random numbers RA (m, n), RB () satisfying RAmax ≧ | RA (m, n) |, RBmax ≧ | RB (m, n) | with respect to the degree of disturbance RAmax, RBmax. m, n) and changing to (1 + RA (m j2 , n i3 )) × a, (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b;
Change the coordinates of the vertices E and F of the rectangle
XE = X 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RA (m j2 , n i3 )) × a / 2
YE = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) − (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
XF = X 0 '(m j2 , n i3) + (1 + RA (m j2, n i3)) × a / 2
YF = Y 0 ′ (m j2 , n i3 ) + (1 + RB (m j2 , n i3 )) × b / 2
Steps to find in
With reference to the rectangle defined by the coordinates of the vertices E and F after the change, in the odd-numbered column of n = n i3 rows (when m 0 is even) (or even-numbered column (when m 0 is odd)) In a certain m = m j1 column of virtual rectangles (m j1 , n i3 ), only the y-coordinates of the upper and lower sides of the virtual rectangle are changed by a random number RB (m, n),
YE = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) − (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
YF = Y 0 ′ (m j1 , n i3 ) + (1 + RB (m j1 , n i3 )) × b / 2
A step of seeking
The x coordinate of the left side of the virtual rectangle (m j1 , n i3 ) is the same as the XF of the left adjacent rectangle (m (j−1) 2 , n i3 ), and the x coordinate of the right side is the right adjacent rectangle (m j2 , N i3 ) as XE,
For the n i2 row and the n i4 row, in the virtual rectangles (m, n i2 ) and (m, n i4 ) of m = m j1 column or m = m j2 column which are even-numbered columns or odd-numbered columns of each row, Only the x coordinate of the left and right sides of the virtual rectangle is changed with a random number RA (m, n),
For the rectangle (m, n i2 ), XE = X 0 ′ (m, n i2 ) − (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i2 ) + (1 + RA (m, n i2 )) × a / 2
For the rectangle (m, n i4 ), XE = X 0 ′ (m, n i4 ) − (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2
XF = X 0 '(m, n i4 ) + (1 + RA (m, n i4 )) × a / 2
A step of seeking
The left and right sides of the virtual rectangles (m j2 , n i2 ) and (m j2 , n i4 ) are extended up and down, and the intersections of the horizontal sides of the rectangles in the upper and lower rows are the Y coordinates YE and YF, respectively. Creating a generally rectangular shape by:
creating a substantially rectangular shape for all integers of i and j and creating a substantially rectangular group;
A program that executes.
である場合に、R1,R2は、
R1/2+R2/4>0.075、かつ、R1<0.9であることを特徴とする請求項9または10に記載のプログラム。 R1 = RAmax = RBmax, R2 = RXmax = RYmax
R1 and R2 are
11. The program according to claim 9, wherein R1 / 2 + R2 / 4> 0.075 and R1 <0.9.
メッシュ構造が、互いに直交する2つの直線の方向に略矩形が配列された略矩形群よりなるパターンを有し、各略矩形の各辺が、前記2つの直線の方向に互いに直線状に並ばないことを特徴とする電磁シールド膜。 In electromagnetic shielding film with mesh structure,
The mesh structure has a pattern composed of a substantially rectangular group in which a substantially rectangular group is arranged in the direction of two straight lines orthogonal to each other, and each side of each substantially rectangular shape is not aligned in a straight line with each other in the direction of the two straight lines. An electromagnetic shielding film characterized by that.
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