JP4254780B2 - Thin film magnetic head having near-field light generating layer, head gimbal assembly having the same, and magnetic disk drive - Google Patents

Thin film magnetic head having near-field light generating layer, head gimbal assembly having the same, and magnetic disk drive Download PDF

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Description

本発明は、信号磁界の書き込み及び読み出しを行う薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置に関する。特に、本発明は、近接場光を利用して熱アシスト磁気記録方式により信号の書き込みを行う垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたＨＧＡ及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置に関する。   The present invention relates to a thin film magnetic head for writing and reading a signal magnetic field, a head gimbal assembly (HGA) including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA. In particular, the present invention relates to a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording in which signals are written by using a near-field light by a heat-assisted magnetic recording method, an HGA including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA. .

磁気ディスク装置の高記録密度化に伴い、薄膜磁気ヘッドのさらなる性能の向上が要求されている。薄膜磁気ヘッドとしては、読み出し用の磁気抵抗（ＭＲ）効果素子と書き込み用の電磁コイル素子とを積層した構造である複合型薄膜磁気ヘッドが広く用いられており、これらの素子によって磁気記録媒体である磁気ディスクに信号データが読み書きされる。   As the recording density of magnetic disk devices increases, further improvements in performance of thin film magnetic heads are required. As a thin film magnetic head, a composite thin film magnetic head having a structure in which a magnetoresistive (MR) effect element for reading and an electromagnetic coil element for writing are stacked is widely used. Signal data is read from and written to a magnetic disk.

磁気記録媒体は、いわば、磁性微粒子が集合した不連続体であり、それぞれの磁性微粒子は単磁区構造となっている。ここで、１つの記録ビットは、複数の磁性微粒子から構成されている。従って、記録密度を高めるためには、磁性微粒子を小さくして、記録ビットの境界の凹凸を減少させなければならない。しかし、磁性微粒子を小さくすると、体積減少に伴う磁化の熱安定性の低下が問題となる。   The magnetic recording medium is a so-called discontinuous body in which magnetic fine particles are aggregated, and each magnetic fine particle has a single magnetic domain structure. Here, one recording bit is composed of a plurality of magnetic fine particles. Therefore, in order to increase the recording density, the magnetic fine particles must be made smaller to reduce the irregularities at the boundaries of the recording bits. However, if the magnetic fine particles are made smaller, a decrease in the thermal stability of magnetization accompanying volume reduction becomes a problem.

磁化の熱安定性の目安は、ＫＵＶ／ｋＢＴで与えられる。ここで、ＫＵは磁性微粒子の磁気異方性エネルギー、Ｖは１つの磁性微粒子の体積、ｋＢはボルツマン定数、Ｔは絶対温度である。磁性微粒子を小さくするということは、まさにＶを小さくすることであり、そのままではＫＵＶ／ｋＢＴが小さくなって熱安定性が損なわれる。この対策として、同時にＫＵを大きくすることが考えられるが、このＫＵの増加は、媒体の保磁力の増加をもたらす。これに対して、磁気ヘッドによる書き込み磁界強度は、ヘッド内の磁極を構成する軟磁性材料の飽和磁束密度でほぼ決定されてしまう。従って、保持力が、この書き込み磁界強度の限界から決まる許容値を超えると書き込みが不可能となってしまう。 A measure of the thermal stability of magnetization is given by K U V / k B T. Here, K U is the magnetic anisotropy energy, V the magnetic microparticle volume of one magnetic particle, k B the Boltzmann constant, T is the absolute temperature. Making the magnetic fine particles smaller means exactly reducing V, and if it is left as it is, K U V / k B T becomes smaller and thermal stability is impaired. As a countermeasure, it is conceivable to increase the K U simultaneously, increase in K U results in an increase in the coercive force of the medium. On the other hand, the write magnetic field strength by the magnetic head is almost determined by the saturation magnetic flux density of the soft magnetic material constituting the magnetic pole in the head. Therefore, if the coercive force exceeds an allowable value determined from the limit of the write magnetic field strength, writing becomes impossible.

この磁化の熱安定性の問題を解決する第１の方法として、面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式への移行が考えられる。垂直磁気記録媒体では記録層厚をより大きくすることが可能であり、結果として、Ｖを大きくして熱安定性を向上させることができる。第２の方法として、パターンドメディアの使用が考えられる。通常の磁気記録では、上述したように1つの記録ビットをＮ個の磁性微粒子によって構成して記録しているが、パターンドメディアを用いて、1つの記録ビットを体積ＮＶの１つの領域とすることによって、熱安定性の指標がＫＵＮＶ／ｋＢＴとなり飛躍的に向上する。 As a first method for solving the problem of the thermal stability of magnetization, a shift from the in-plane magnetic recording method to the perpendicular magnetic recording method can be considered. In the perpendicular magnetic recording medium, the recording layer thickness can be increased, and as a result, V can be increased to improve the thermal stability. As a second method, use of patterned media can be considered. In normal magnetic recording, as described above, one recording bit is composed of N magnetic fine particles and recorded, but using a patterned medium, one recording bit is set as one area of volume NV. As a result, the thermal stability index becomes K U NV / k B T, which is dramatically improved.

熱安定性の問題を解決する第３の方法として、ＫＵの大きな磁性材料を用いるが、書き込み磁界印加の直前に、媒体に熱を加えることによって、保磁力を小さくして書き込みを行う、いわゆる熱アシスト磁気記録方式が提案されている。この方式は光磁気記録方式とよく似ているが、光磁気記録方式は空間分解能を光に持たせているのに対し、熱アシスト磁気記録方式は空間分解能を磁界に持たせている。 As a third method for solving the thermal stability problem, uses a large magnetic material K U, just before the write field is applied, by applying heat to the medium, writing is performed by reducing the coercive force, the so-called A heat-assisted magnetic recording method has been proposed. This method is very similar to the magneto-optical recording method, but the magneto-optical recording method gives the spatial resolution to the light, whereas the thermally assisted magnetic recording method gives the spatial resolution to the magnetic field.

従来、提案されている熱アシスト磁気記録方式として、例えば、特許文献１においては、基板上に形成された円錐体等の形状をした金属の散乱体と、その散乱体の周辺に形成された誘電体等の膜とを備えた近接場光プローブを用いる光記録方式に関する技術が開示されている。また、特許文献２においては、記録再生装置において固体イマージョン・レンズを用いたヘッドを利用し、光磁気ディスクに超微細な光ビームスポットで超微細な磁区信号を記録する技術が開示されている。また、特許文献３においては、斜めに切断した光ファイバ等の端面に、ピンホールが形成された金属膜を設けた構成が開示されている。さらに、特許文献４においては、内蔵したレーザ素子部からの光を、媒体に対向した微小光学開口に照射して熱アシストを行う技術が開示されている。さらに、特許文献５には、近接場光プローブを構成する散乱体を、その照射される面が記録媒体に垂直となるように、垂直磁気記録用単磁極書き込みヘッドの主磁極に接して形成された構成が開示されている。さらにまた、非特許文献１には、水晶のスライダ上に形成されたＵ字状の近接場光プローブを用いて近接場光と磁界とを発生させ、７０ｎｍ程度のトラック幅を有する記録パターンを形成する技術が開示されている。   As a conventionally proposed thermally assisted magnetic recording system, for example, in Patent Document 1, a metal scatterer having a shape such as a cone formed on a substrate and a dielectric formed around the scatterer are disclosed. A technique relating to an optical recording method using a near-field optical probe provided with a film such as a body is disclosed. Patent Document 2 discloses a technique for recording a superfine magnetic domain signal with a superfine light beam spot on a magneto-optical disk using a head using a solid immersion lens in a recording / reproducing apparatus. Patent Document 3 discloses a configuration in which a metal film having pinholes is provided on an end face of an optical fiber or the like cut obliquely. Further, Patent Document 4 discloses a technique for performing heat assist by irradiating light from a built-in laser element unit to a minute optical aperture facing a medium. Further, in Patent Document 5, a scatterer constituting a near-field optical probe is formed in contact with the main pole of a single magnetic pole write head for perpendicular magnetic recording so that the irradiated surface is perpendicular to the recording medium. The configuration is disclosed. Furthermore, Non-Patent Document 1 forms a recording pattern having a track width of about 70 nm by generating near-field light and a magnetic field using a U-shaped near-field optical probe formed on a quartz slider. Techniques to do this are disclosed.

これらの技術の中でも、近接場光プローブ又は散乱体にレーザを照射することにより近接場光を発生させて、この近接場光によって媒体を加熱する方法は、所望の近接場光を比較的容易に得られることから非常に有望と考えられる。   Among these techniques, a method of generating near-field light by irradiating a near-field light probe or scatterer with a laser and heating a medium by this near-field light makes it possible to relatively easily generate desired near-field light. It is considered very promising because it is obtained.

特開２００１−２５５２５４号公報JP 2001-255254 A 特開平１０−１６２４４４号公報JP-A-10-162444 特開２０００−１７３０９３号公報JP 2000-173093 A 特開２００１−２８３４０４号公報JP 2001-283404 A 特開２００４−１５８０６７号公報JP 2004-158067 A Shintaro Miyanishi等 ”Near-field Assisted Magnetic Recording” IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, VOL.41,NO.10, 第２８１７頁〜第２８２１頁、２００５年Shintaro Miyanishi et al. “Near-field Assisted Magnetic Recording” IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, VOL.41, NO.10, pp. 2817-2821, 2005

しかしながら、例えば、特許文献５に記載された技術においては、散乱体に適切に光を照射するために、光源はヘッド端面近傍の記録媒体に非常に近い位置に設置されている。この構成は、光源位置が記録媒体に接触する可能性を有しており、装置の信頼性という観点から好ましくない。一方で、同文献においては、ミラーを用いて光路を途中で９０度屈折させるという工夫を行うことにより、光源を媒体面から遠ざける構成を提案している。しかし、この場合には、ミラーによる反射と光路の実効的な延長によって光強度の損失が大きくなる問題が発生する。また、ミラーのような構造物をヘッド端面近傍に形成することは、光源の設置と同じく装置の信頼性上問題となる。   However, for example, in the technique described in Patent Document 5, in order to appropriately irradiate light to the scatterer, the light source is installed at a position very close to the recording medium in the vicinity of the head end surface. This configuration has the possibility of the light source position coming into contact with the recording medium, and is not preferable from the viewpoint of the reliability of the apparatus. On the other hand, the document proposes a configuration in which the light source is moved away from the medium surface by using a mirror to refract the optical path by 90 degrees in the middle. However, in this case, there arises a problem that the loss of light intensity increases due to reflection by the mirror and effective extension of the optical path. Further, forming a structure such as a mirror in the vicinity of the end surface of the head is a problem in terms of device reliability as with the installation of the light source.

さらに、非特許文献１に記載された技術によれば、ミラーを用いることなく、光源を媒体面から遠ざけた状態において光が入射可能となる。しかしながら、この技術は、近接場光プローブの集積面と媒体対向面とが平行である構成を前提としており、素子形成面と媒体対向面とが直交する一般的な薄膜磁気ヘッドの構成とは全く異なる。すなわち、例えば、垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッドに適用することが非常に困難である。   Furthermore, according to the technique described in Non-Patent Document 1, light can be incident in a state where the light source is away from the medium surface without using a mirror. However, this technique is based on the premise that the integration surface of the near-field optical probe and the medium facing surface are parallel to each other, which is completely different from the structure of a general thin film magnetic head in which the element formation surface and the medium facing surface are orthogonal to each other. Different. That is, for example, it is very difficult to apply to a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording.

従って、本発明の目的は、素子形成面と媒体対向面とが直交する構成において、光源が媒体面から十分離れた位置に設けられて装置の信頼性が高く、光源からの光が、近接場光の発生体に直接的にかつ効率良く入射するような薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたＨＧＡ及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a highly reliable apparatus in which the light source is provided at a position sufficiently away from the medium surface in a configuration in which the element formation surface and the medium facing surface are orthogonal to each other. An object of the present invention is to provide a thin film magnetic head that directly and efficiently enters a light generator, an HGA including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA.

本発明について説明する前に、明細書において使用される用語の定義を行う。基板の素子形成面に形成された磁気ヘッド素子の積層構造において、基準となる層よりも基板側にある構成要素を、基準となる層の「下」又は「下方」にあるとし、基準となる層よりも積層される方向側にある構成要素を、基準となる層の「上」又は「上方」にあるとする。   Before describing the present invention, the terms used in the specification are defined. In the laminated structure of magnetic head elements formed on the element formation surface of the substrate, the component on the substrate side with respect to the reference layer is assumed to be “below” or “below” the reference layer, which becomes the reference It is assumed that the component on the side in the direction of stacking from the layer is “above” or “above” the reference layer.

本発明によれば、媒体対向面及びこの媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、この素子形成面に形成されており、主磁極層、補助磁極層及びコイル層を有する書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体を加熱するための少なくとも１つの近接場光発生層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、この少なくとも１つの近接場光発生層が、媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、媒体対向面側のヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており、
この近接場光発生部が、素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていて媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光が少なくとも一部に照射され得る受光面を有しており、
少なくとも１つの近接場光発生層の少なくとも１つが、近接場光発生部の媒体対向面とは反対側に、素子形成面と平行な第１の反射面を有する第１の反射部をさらに備えている薄膜磁気ヘッドが提供される。 According to the present invention, a substrate having a medium facing surface and an element forming surface perpendicular to the medium facing surface, and a writing layer formed on the element forming surface and having a main magnetic pole layer, an auxiliary magnetic pole layer, and a coil layer. A thin-film magnetic head comprising an electromagnetic coil element and at least one near-field light generating layer for generating near-field light and heating a magnetic recording medium during writing, the at least one near-field light generating layer, have a shape tapered toward the head end surface of the bearing surface side, has a near-field light generating portion including a distal end reaching the head end surface of the medium facing surface,
Near-field light generating part of this is, light incident from the head end surface opposite to the medium facing surface inclined in the medium facing surface is raised or lowered form the element formation surface can be irradiated with at least a portion receiving Has a surface ,
At least one of the at least one near-field light generating layer further includes a first reflecting portion having a first reflecting surface parallel to the element formation surface on the side opposite to the medium facing surface of the near-field light generating portion. A thin film magnetic head is provided.

このような薄膜磁気ヘッドにおいては、素子形成面と媒体対向面とが直交する構成において、近接場光発生部の受光面が、素子形成面に対して傾いているので、媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射するレーザ光が、この受光面に直接的にかつ効率良く入射する。これにより、近接場光発生層にプラズモンが効率良く励起され、近接場光発生層の先端近傍に非常に強い電界強度を有する近接場光が発生する。この十分に強い近接場光によって磁気ディスク表面の対向する局所部分が十分に加熱される。これにより、この局所部分の保磁力が、書き込み磁界による書き込みが可能な大きさまでに確実に低下するので、高密度記録用の高保磁力の磁気ディスクを使用しても、電磁コイル素子による書き込みが十分に可能となる。さらに、光源が、薄膜磁気ヘッドの外部に設置可能であるので、装置の信頼性が向上する。   In such a thin film magnetic head, in the configuration in which the element formation surface and the medium facing surface are orthogonal to each other, the light receiving surface of the near-field light generating unit is inclined with respect to the element forming surface, so that it is opposite to the medium facing surface. The laser beam incident from the side head end surface directly and efficiently enters the light receiving surface. Thereby, plasmons are efficiently excited in the near-field light generating layer, and near-field light having a very strong electric field strength is generated near the tip of the near-field light generating layer. This sufficiently strong near-field light sufficiently heats the opposing local portions of the magnetic disk surface. As a result, the coercive force of this local portion is surely reduced to a size that allows writing by a write magnetic field, so that even if a high-coercivity magnetic disk for high-density recording is used, writing by an electromagnetic coil element is sufficient. It becomes possible. Furthermore, since the light source can be installed outside the thin film magnetic head, the reliability of the apparatus is improved.

このような反射面は、ヘッド端面を介して入射したレーザ光の一部を反射させて、受光面に向けさせることによって、受光面ａの受光量を補う役割を果たす。これにより、近接場光の発生効率が向上する。   Such a reflecting surface plays a role of supplementing the amount of light received by the light receiving surface a by reflecting a part of the laser light incident through the head end surface and directing it toward the light receiving surface. Thereby, the generation efficiency of near-field light improves.

また、主磁極層が、少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの受光面とは反対側に位置しており、この少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つにおける近接場光発生部とこの主磁極層の媒体対向面側の端部とが、誘電体層を介して又は直接に重なっていることが好ましい。その際、近接場光発生部と主磁極層の媒体対向面側の端部とが、素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていることも好ましい。   In addition, the main magnetic pole layer is located on the opposite side to the light receiving surface of at least one near-field light generating layer, and the near-field light in one of the at least one near-field light generating layers. It is preferable that the generation portion and the end portion of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side overlap each other via the dielectric layer. At this time, it is also preferable that the near-field light generating portion and the end portion of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side are inclined such that the medium facing surface side is raised or lowered with respect to the element forming surface.

さらに、主磁極層が、少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの受光面の側に位置しており、この主磁極層及びこの少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つが、主磁極層の媒体対向面側の端と少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの媒体対向面側のヘッド端面に達した先端とにおいてのみ、互いに接触又は近接していることも好ましい。   Further, the main magnetic pole layer is located on the side of one light receiving surface of the at least one near-field light generating layer, and the main magnetic pole layer and one of the at least one near-field light generating layer are It is also preferable that only the end of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side and the tip of the at least one near-field light generating layer reaching the head end surface on the medium facing surface side are in contact with or close to each other.

さらに、少なくとも１つの近接場光発生層が２つの近接場光発生層であって、この２つの近接場光発生層において、受光面が素子形成面に対して媒体対向面側がそれぞれ上がる及び下がる形で傾いていて、媒体対向面側のヘッド端面に達した先端が互いに接するように又は近傍に位置するように配置されていることも好ましい。   Further, at least one near-field light generating layer is two near-field light generating layers, and in these two near-field light generating layers, the light-receiving surface is raised and lowered on the medium facing surface side with respect to the element formation surface, respectively. It is also preferable that they are arranged so that their tips that reach the head end surface on the medium facing surface side are in contact with each other or located in the vicinity.

さらに、電磁コイル素子及び近接場光発生層を覆うように素子形成面上に形成された被覆層をさらに備えており、この被覆層のうち、媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光の受光面までの光路を含む領域が、ＳｉＯ２又は少なくとも１つの添加元素が添加されたＳｉＯ２によって形成されていることが好ましい。 Furthermore, it further includes a coating layer formed on the element forming surface so as to cover the electromagnetic coil element and the near-field light generating layer, and the incident light is incident from the head end surface opposite to the medium facing surface. area including the optical path to the light receiving surface of the light, it is preferably formed by a SiO 2 to SiO 2 or at least one additive element is added.

本発明によれば、さらに、上述した記載の薄膜磁気ヘッドと、この薄膜磁気ヘッドを支持する支持機構と、書き込み用の電磁コイル素子、及びこの薄膜磁気ヘッドが読み出し用の磁気抵抗効果素子を備えている場合はこの磁気抵抗効果素子のための信号線とを備えており、この薄膜磁気ヘッドの媒体対向面とは反対側のヘッド端面から光を入射させるための光ファイバをさらに備えているＨＧＡが提供される。   According to the present invention, the thin film magnetic head described above, a support mechanism for supporting the thin film magnetic head, a write electromagnetic coil element, and the thin film magnetic head further include a magnetoresistive effect element for reading. A signal line for the magnetoresistive effect element, and an HGA further comprising an optical fiber for allowing light to enter from the head end surface opposite to the medium facing surface of the thin film magnetic head. Is provided.

本発明によれば、さらにまた、上述したＨＧＡを少なくとも１つ備えており、少なくとも１つの磁気ディスクと、上述した光ファイバに光を供給するための光源と、この少なくとも１つの磁気ディスクに対して薄膜磁気ヘッドが行う書き込み及び読み出し動作を制御するとともに、この光源の発光動作を制御するための記録再生及び発光制御回路とをさらに備えている磁気ディスク装置が提供される。   Further, according to the present invention, at least one HGA described above is provided, at least one magnetic disk, a light source for supplying light to the optical fiber described above, and the at least one magnetic disk. There is provided a magnetic disk drive further comprising a recording / reproducing and light emission control circuit for controlling write and read operations performed by the thin film magnetic head and controlling the light emission operation of the light source.

本発明による薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたＨＧＡ及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置によれば、素子形成面と媒体対向面とが直交しており、光源が媒体面から十分離れた位置に設けられている構成において、光源からの光が、近接場光発生層に直接的にかつ効率良く入射する。これにより、装置の信頼性を十分維持した上で、例えば、垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッドにおいて効率の良い熱アシスト磁気記録を実現することが可能となる。   According to the thin film magnetic head, the HGA including the thin film magnetic head, and the magnetic disk device including the HGA according to the present invention, the element formation surface and the medium facing surface are orthogonal to each other, and the light source is sufficiently separated from the medium surface. In the structure provided at the position, the light from the light source is directly and efficiently incident on the near-field light generating layer. As a result, it is possible to realize efficient heat-assisted magnetic recording, for example, in a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording while maintaining the reliability of the apparatus sufficiently.

以下に、本発明を実施するための形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一の要素は、同一の参照番号を用いて示されている。また、図面中の構成要素内及び構成要素間の寸法比は、図面の見易さのため、それぞれ任意となっている。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is demonstrated in detail, referring an accompanying drawing. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals. In addition, the dimensional ratios in the components in the drawings and between the components are arbitrary for easy viewing of the drawings.

図１は、本発明による磁気ディスク装置の一実施形態における要部の構成を概略的に示す斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration of a main part in an embodiment of a magnetic disk apparatus according to the present invention.

同図において、１０はスピンドルモータ１１の回転軸の回りを回転する複数の垂直磁気記録用の磁気記録媒体である磁気ディスク、１２は垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッド（スライダ）２１をトラック上に位置決めするためのアセンブリキャリッジ装置、１３は、この薄膜磁気ヘッド２１の書き込み及び読み出し動作を制御し、さらに後に詳述する熱アシスト用のレーザ光を発生させる光源である半導体レーザ１８を制御するための記録再生及び発光制御回路をそれぞれ示している。   In the figure, reference numeral 10 denotes a magnetic disk which is a plurality of magnetic recording media for perpendicular magnetic recording rotating around the rotation axis of a spindle motor 11, and 12 denotes a thin film magnetic head (slider) 21 for perpendicular magnetic recording on a track. The assembly carriage device 13 for positioning controls the writing and reading operations of the thin film magnetic head 21 and further controls the semiconductor laser 18 which is a light source for generating a laser beam for heat assist, which will be described in detail later. The recording / reproducing and light emission control circuits are shown.

アセンブリキャリッジ装置１２には、複数の駆動アーム１４が設けられている。これらの駆動アーム１４は、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）１５によってピボットベアリング軸１６を中心にして角揺動可能であり、この軸１６に沿った方向にスタックされている。各駆動アーム１４の先端部には、ＨＧＡ１７が取り付けられている。各ＨＧＡ１７には、スライダ２１が、各磁気ディスク１０の表面に対向するように設けられている。磁気ディスク１０、駆動アーム１４、ＨＧＡ１７及びスライダ２１は、単数であってもよい。   The assembly carriage device 12 is provided with a plurality of drive arms 14. These drive arms 14 can be angularly swung about a pivot bearing shaft 16 by a voice coil motor (VCM) 15 and are stacked in a direction along the shaft 16. An HGA 17 is attached to the tip of each drive arm 14. Each HGA 17 is provided with a slider 21 so as to face the surface of each magnetic disk 10. A single magnetic disk 10, drive arm 14, HGA 17, and slider 21 may be provided.

半導体レーザ１８は、光ファイバ２６にレーザ光を供給するものであり、自身の活性層の位置に、第１のファイバホルダ１９によって光ファイバ２６の端断面が接続されている。発振レーザの波長は、例えば、８００ｎｍである。   The semiconductor laser 18 supplies laser light to the optical fiber 26, and the end cross section of the optical fiber 26 is connected to the position of its active layer by a first fiber holder 19. The wavelength of the oscillation laser is, for example, 800 nm.

図２は、本発明によるＨＧＡの一実施形態を示す斜視図である。ここで、図２（Ａ）は、ＨＧＡ１７の媒体に対向する側の構成を示しており、図２（Ｂ）は、ＨＧＡ１７の媒体に対向する側とは反対側の構成を示している。   FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of the HGA according to the present invention. Here, FIG. 2A shows the configuration of the side of the HGA 17 facing the medium, and FIG. 2B shows the configuration of the side opposite to the side of the HGA 17 facing the medium.

図２（Ａ）によれば、ＨＧＡ１７は、サスペンション２０の先端部に、磁気ヘッド素子を有するスライダ２１を固着し、さらにそのスライダ２１の端子電極に配線部材２５の一端を電気的に接続して構成される。   As shown in FIG. 2A, the HGA 17 has a slider 21 having a magnetic head element fixed to the tip of the suspension 20, and one end of the wiring member 25 is electrically connected to the terminal electrode of the slider 21. Composed.

サスペンション２０は、ロードビーム２２と、このロードビーム２２上に固着され支持された弾性を有するフレクシャ２３と、ロードビーム２２の基部に設けられたベースプレート２４と、フレクシャ２３上に設けられておりリード導体及びその両端に電気的に接続された接続パッドからなる配線部材２５とから主として構成されている。   The suspension 20 includes a load beam 22, a flexure 23 having elasticity fixedly supported on the load beam 22, a base plate 24 provided at the base of the load beam 22, and a lead conductor provided on the flexure 23. And the wiring member 25 which consists of the connection pad electrically connected to the both ends is comprised mainly.

図２（Ｂ）によれば、ＨＧＡ１７は、後に詳述するように、薄膜磁気ヘッド２１のヘッド端面からレーザ光を入射させるための光ファイバ２６をさらに備えている。光ファイバ２６の出光側の端部は、フレクシャ２３に設けられた第２のファイバホルダ２７によって、レーザ光が薄膜磁気ヘッド２１の所定のヘッド端面から入射可能となる位置に固定される。ここで、光ファイバ２６の出光側の端部の直径は、約５.０μｍ〜約５００μｍであり、放射されるレーザ光のビーム径もまた、約５.０μｍ〜約５００μｍである。   As shown in FIG. 2B, the HGA 17 further includes an optical fiber 26 for allowing laser light to enter from the head end face of the thin film magnetic head 21, as will be described in detail later. The end portion on the light output side of the optical fiber 26 is fixed at a position where the laser light can be incident from a predetermined head end surface of the thin film magnetic head 21 by a second fiber holder 27 provided in the flexure 23. Here, the diameter of the end portion on the light output side of the optical fiber 26 is about 5.0 μm to about 500 μm, and the beam diameter of the emitted laser light is also about 5.0 μm to about 500 μm.

なお、本発明のＨＧＡ１７におけるサスペンションの構造は、以上述べた構造に限定されるものではないことは明らかである。なお、図示されていないが、サスペンション２０の途中にヘッド駆動用ＩＣチップ又は光ファイバ２６にレーザ光を供給するための半導体レーザを装着してもよい。   It is obvious that the suspension structure in the HGA 17 of the present invention is not limited to the structure described above. Although not shown, a semiconductor laser for supplying laser light to the head driving IC chip or the optical fiber 26 may be mounted in the middle of the suspension 20.

図３（Ａ）は、図２に示すＨＧＡの先端部に装着されている、本発明による薄膜磁気ヘッド（スライダ）の一実施形態を示す斜視図である。また、図３（Ｂ）は、この薄膜磁気ヘッドにおける磁気ヘッド素子部分の構成を示す平面図である。   FIG. 3A is a perspective view showing an embodiment of a thin film magnetic head (slider) according to the present invention, which is attached to the tip of the HGA shown in FIG. FIG. 3B is a plan view showing the configuration of the magnetic head element portion in this thin film magnetic head.

図３（Ａ）によれば、本実施形態における薄膜磁気ヘッド２１は、適切な浮上量を得るように加工された媒体対向面である浮上面（ＡＢＳ）３０を有するスライダ基板２１０と、スライダ基板２１０のＡＢＳ３０に垂直な素子形成面３１上に形成された磁気ヘッド素子３２と、熱アシスト磁気記録のための近接場光を発生させる近接場光発生層３５と、素子形成面３１上に形成された被覆層４０の層面から露出した合計４つの信号端子電極３６及び３７とを備えている。信号端子電極３６及び３７は、磁気ヘッド素子３２が備えている読み出し用のＭＲ効果素子及び書き込み用の電磁コイル素子にそれぞれ接続されている。なお、これらの信号端子電極の数及び位置は、図３（Ａ）の形態に限定されるものではない。同図において端子電極は４つであるが、例えば、電極を３つとした上でグランドをスライダ基板に接地した形態でもよい。   According to FIG. 3A, the thin film magnetic head 21 in the present embodiment includes a slider substrate 210 having an air bearing surface (ABS) 30 which is a medium facing surface processed so as to obtain an appropriate flying height, and a slider substrate. The magnetic head element 32 formed on the element forming surface 31 perpendicular to the ABS 30 of 210, the near-field light generating layer 35 for generating near-field light for heat-assisted magnetic recording, and the element forming surface 31 are formed. A total of four signal terminal electrodes 36 and 37 exposed from the layer surface of the covering layer 40 are provided. The signal terminal electrodes 36 and 37 are connected to the MR effect element for reading and the electromagnetic coil element for writing provided in the magnetic head element 32, respectively. Note that the number and position of these signal terminal electrodes are not limited to the form shown in FIG. In the figure, there are four terminal electrodes. However, for example, a configuration in which three electrodes are provided and the ground is grounded to the slider substrate may be employed.

ここで、光ファイバ２６からの光は、ＡＢＳ３０側にあって同じく媒体に対向する面となっているヘッド端面３００とは反対側のヘッド端面３０１から、近接場光発生層３５に向けて入射される。   Here, the light from the optical fiber 26 is incident toward the near-field light generating layer 35 from the head end surface 301 on the ABS 30 side opposite to the head end surface 300 which is also a surface facing the medium. The

図３（Ｂ）によれば、磁気ヘッド素子３２は、読み出し用のＭＲ効果素子３３と、書き込み用の電磁コイル素子３４とを備えている。ＭＲ効果素子３３及び電磁コイル素子３４の一端は、ヘッド端面３００に達している。書き込み又は読み出し動作時には、薄膜磁気ヘッド２１が回転する磁気ディスク表面上において流体力学的に所定の浮上量をもって浮上する。この際、これらの素子端が磁気ディスクと対向することによって、信号磁界の感受による読み出しと信号磁界の印加による書き込みとが行われる。   According to FIG. 3B, the magnetic head element 32 includes an MR effect element 33 for reading and an electromagnetic coil element 34 for writing. One end of the MR effect element 33 and the electromagnetic coil element 34 reaches the head end surface 300. During the writing or reading operation, the thin film magnetic head 21 floats hydrodynamically on the surface of the rotating magnetic disk with a predetermined flying height. At this time, when the element ends face the magnetic disk, reading by sensing the signal magnetic field and writing by applying the signal magnetic field are performed.

近接場光発生層３５は、本実施形態において、電磁コイル素子３４上に設けられており、媒体に対向する面であるヘッド端面３００に向かって先細りした形状を有している。ここで、近接場光発生層３５は、光ファイバ２６からレーザ光を受けることにより近接場光を発生させる近接場光発生部３５０と、光ファイバ２６からのレーザ光を近接場光発生部３５０に向けるための反射面３５１ａを有する反射部３５１とを備えている。   In the present embodiment, the near-field light generating layer 35 is provided on the electromagnetic coil element 34 and has a shape tapered toward the head end surface 300 that is a surface facing the medium. Here, the near-field light generating layer 35 includes a near-field light generating unit 350 that generates near-field light by receiving laser light from the optical fiber 26 and a laser beam from the optical fiber 26 to the near-field light generating unit 350. And a reflecting portion 351 having a reflecting surface 351a for directing.

近接場光発生部３５０は、ヘッド端面３００に達した先端を含んでいて、例えば、２等辺三角形の形状を有しており、さらに、受光面３５０ａを有している。光ファイバ２６からのレーザ光がこの受光面３５０ａに照射されると、後に詳述するように、近接場光発生部３５０のヘッド端面３００に達した先端から非常に強い電界強度を有する近接場光が発生する。この近接場光を用いて熱アシスト動作が行われる。   The near-field light generating unit 350 includes a tip reaching the head end surface 300, has an isosceles triangular shape, for example, and further has a light receiving surface 350a. When the light receiving surface 350a is irradiated with the laser light from the optical fiber 26, as will be described in detail later, the near-field light having a very strong electric field strength from the tip reaching the head end surface 300 of the near-field light generating unit 350. Will occur. A heat assist operation is performed using the near-field light.

図４（Ａ）は、図３に示した薄膜磁気ヘッドの要部の構成を概略的に示す図３（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。また、図４（Ｂ）は、互いに重ねられた近接場光発生層及び主磁極層の端部の構成を示す斜視図である。なお、図４（Ａ）におけるコイル層の巻き数は図を簡略化するため、実際の巻き数より少なく表されている。   4A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 3A schematically showing the configuration of the main part of the thin film magnetic head shown in FIG. FIG. 4B is a perspective view showing the configuration of the end portions of the near-field light generating layer and the main magnetic pole layer that are superposed on each other. Note that the number of turns of the coil layer in FIG. 4A is shown smaller than the actual number of turns in order to simplify the drawing.

図４（Ａ）によれば、ＭＲ効果素子３３は、ＭＲ効果積層体３３２と、この積層体を挟む位置に配置されている下部電極層３３０及び上部電極層３３４とを備えている。ＭＲ効果積層体３３２は、磁化自由層と磁化固定層とがトンネルバリア層を挟んで積層されたトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）効果多層膜、垂直通電型巨大磁気抵抗（ＣＰＰ（Current Perpendicular to Plain）−ＧＭＲ）効果多層膜、及び面内通電型巨大磁気抵抗（ＣＩＰ（Current In Plain）−ＧＭＲ）効果多層膜のうちのいずれか１つを備えている。いずれであっても、非常に高い感度で磁気ディスクからの信号磁界を感受して読み出しを行う。なお、ＭＲ効果積層体３３２がＣＩＰ−ＧＭＲ多層膜を備えている場合、上下部電極層３３４及び３３０の代わりに、ＭＲ効果積層体との間にシールドギャップ層を介する上下部シールド層がそれぞれ設けられ、さらにＭＲ効果積層体にセンス電流を供給するための素子リード導体層が設けられることになる。   As shown in FIG. 4A, the MR effect element 33 includes an MR effect multilayer 332 and a lower electrode layer 330 and an upper electrode layer 334 disposed at positions sandwiching the multilayer. The MR effect multilayer 332 is a tunnel magnetoresistive (TMR) effect multilayer film in which a magnetization free layer and a magnetization fixed layer are sandwiched with a tunnel barrier layer sandwiched therebetween, a perpendicular conduction type giant magnetoresistance (CPP (Current Perpendicular to Plain) − Any one of a GMR effect multilayer film and an in-plane energization type giant magnetoresistive (CIP (Current In Plain) -GMR) effect multilayer film is provided. In either case, the signal magnetic field from the magnetic disk is sensed with very high sensitivity and reading is performed. When the MR effect multilayer 332 includes a CIP-GMR multilayer film, upper and lower shield layers are provided between the MR effect multilayer and the MR effect multilayer in place of the upper and lower electrode layers 334 and 330, respectively. In addition, an element lead conductor layer for supplying a sense current to the MR effect laminate is provided.

下部シールド層３３０は、アルティック（Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ）等からなるスライダ基板２１０の素子形成面３１に積層されており、例えば、厚さ約０.３μｍ〜約３μｍのＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ、ＣｏＦｅ、ＦｅＮ又はＦｅＺｒＮ等から形成されている。上部シールド層３３４は、例えば、厚さ約０.３μｍ〜約４μｍのＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ、ＣｏＦｅ、ＦｅＮ又はＦｅＺｒＮ等から形成されている。なお、上下部シールド層３３４及び３３０の間隔である再生ギャップ長は、約０.０２μｍ〜約１μｍである。 The lower shield layer 330 is laminated on the element formation surface 31 of the slider substrate 210 made of AlTiC (Al 2 O 3 —TiC) or the like. For example, NiFe, NiFeCo, CoFe having a thickness of about 0.3 μm to about 3 μm. , FeN or FeZrN. The upper shield layer 334 is made of, for example, NiFe, NiFeCo, CoFe, FeN, or FeZrN having a thickness of about 0.3 μm to about 4 μm. The reproduction gap length, which is the distance between the upper and lower shield layers 334 and 330, is about 0.02 μm to about 1 μm.

電磁コイル素子３４は、垂直磁気記録用であり、補助磁極層３４０、コイル層３４１、コイル絶縁層３４２、ギャップ層３４３及び主磁極層３４４を備えている。主磁極層３４４は、コイル層３４１によって誘導された磁束を、書き込みがなされる磁気ディスクの記録層まで収束させながら導くための導磁路である。ここで、主磁極層３４４のヘッド端面３００側の端部３４４ａの層厚方向の長さ（厚さ）は、他の部分に比べて小さくなっている。この結果、高記録密度化に対応した微細な書き込み磁界が発生可能となる。   The electromagnetic coil element 34 is for perpendicular magnetic recording, and includes an auxiliary magnetic pole layer 340, a coil layer 341, a coil insulating layer 342, a gap layer 343, and a main magnetic pole layer 344. The main magnetic pole layer 344 is a magnetic path for guiding the magnetic flux induced by the coil layer 341 while converging it to the recording layer of the magnetic disk on which writing is performed. Here, the length (thickness) in the layer thickness direction of the end 344a on the head end surface 300 side of the main magnetic pole layer 344 is smaller than the other portions. As a result, it is possible to generate a fine write magnetic field corresponding to an increase in recording density.

ここで、補助磁極層３４０は、例えば、厚さ約０.５μｍ〜約５μｍのＮｉ、Ｆｅ及びＣｏのうちいずれか２つ若しくは３つからなる合金、又はこれらを主成分として所定の元素が添加された合金等から形成されている。コイル層３４１は、例えば厚さ約０.５μｍ〜約３μｍのＣｕ等から形成されている。コイル絶縁層３４２は、例えば、厚さ約０.１μｍ〜約５μｍの熱硬化されたレジスト層等から形成されている。ギャップ層３４３は、例えば、厚さ約０.０１μｍ〜約０.５μｍのＡｌ２Ｏ３又はＤＬＣ等から形成されている。主磁極層３４４は、例えば、ＡＢＳ側の端部での全厚が約０.０１μｍ〜約０.５μｍであって、この端部以外での全厚が約０.５μｍ〜約３.０μｍのＮｉ、Ｆｅ及びＣｏのうちいずれか２つ若しくは３つからなる合金、又はこれらを主成分として所定の元素が添加された合金等から形成されている。 Here, the auxiliary magnetic pole layer 340 is, for example, an alloy composed of any two or three of Ni, Fe and Co having a thickness of about 0.5 μm to about 5 μm, or a predetermined element containing these as a main component. It is formed from the alloy etc. which were made. The coil layer 341 is made of, for example, Cu having a thickness of about 0.5 μm to about 3 μm. The coil insulating layer 342 is formed of, for example, a heat-cured resist layer having a thickness of about 0.1 μm to about 5 μm. The gap layer 343 is made of, for example, Al 2 O 3 or DLC having a thickness of about 0.01 μm to about 0.5 μm. The main magnetic pole layer 344 has, for example, a total thickness of about 0.01 μm to about 0.5 μm at an end portion on the ABS side, and a total thickness of other than the end portion is about 0.5 μm to about 3.0 μm. It is formed from an alloy composed of any two or three of Ni, Fe, and Co, or an alloy to which a predetermined element is added as a main component thereof.

なお、ＭＲ効果素子３３と電磁コイル素子３４との間に、さらに、素子間シールド層及び／又はバッキングコイルが形成されていてもよい。バッキングコイルは、電磁コイル素子３４から発生してＭＲ効果素子３３の上下部電極層を経由する磁束ループを打ち消す磁束を発生させて、磁気ディスクへの不要な書き込み又は消去動作である広域隣接トラック消去（ＷＡＴＥ）現象の抑制を図っている。なお、コイル層３４１は、図４（Ａ）において１層であるが、２層以上又はヘリカルコイルでもよい。   An inter-element shield layer and / or a backing coil may be further formed between the MR effect element 33 and the electromagnetic coil element 34. The backing coil generates a magnetic flux that is generated from the electromagnetic coil element 34 and cancels the magnetic flux loop that passes through the upper and lower electrode layers of the MR effect element 33, thereby erasing a wide area adjacent track that is an unnecessary write or erase operation on the magnetic disk. (WATE) phenomenon is suppressed. Note that the coil layer 341 is one layer in FIG. 4A, but may be two or more layers or a helical coil.

また、同じく図４（Ａ）において、近接場光発生層３５は、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ若しくはＩｒ、若しくはこれらのうちのいくつかの組合せからなる合金、又はＡｌ、Ｃｕ等が添加されたこれらの合金等からなる近接場光発生部３５０及び反射部３５１を備えている。近接場光発生部３５０が有する受光面３５０ａは、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いていて、光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。実際の熱アシスト動作においては、コヒーレントなレーザ光が、光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して近接場光発生部３５０の受光面３５０ａに照射されると、Ａｕ等の内部の自由電子がレーザ光の電界によって一様に強制振動させられることによりプラズモンが励起される。このプラズモンは、近接場光発生部３５０の、ヘッド端面３００側の頂点である先端３５ａに向かって伝播し、この先端３５ａの近傍に非常に強い電界強度を有する近接場光を発生させる。この近接場光によって磁気ディスク表面の対向する局所部分が加熱される。これにより、この局所部分の保磁力が、書き込み磁界による書き込みが可能な大きさまでに低下するので、高密度記録用の高保磁力の磁気ディスクを使用しても、電磁コイル素子３４による書き込みが可能となる。   Also in FIG. 4A, the near-field light generating layer 35 is added with Au, Pd, Pt, Rh, Ir, or an alloy made of some combination thereof, Al, Cu, or the like. A near-field light generating part 350 and a reflecting part 351 made of such an alloy are provided. The light receiving surface 350a of the near-field light generating unit 350 is inclined such that the head end surface 300 side is raised with respect to the element forming surface 31, and at least a part of the laser light incident from the optical fiber 26 via the head end surface 301 is included. It is formed at a position where it can be irradiated. In the actual heat assist operation, when coherent laser light is irradiated from the optical fiber 26 to the light receiving surface 350a of the near-field light generating unit 350 via the head end surface 301, internal free electrons such as Au are laser light. Plasmons are excited by being forced to vibrate uniformly by the electric field. This plasmon propagates toward the tip 35a of the near-field light generator 350, which is the apex on the head end surface 300 side, and generates near-field light having a very strong electric field strength in the vicinity of the tip 35a. This near field light heats the opposing local portion of the magnetic disk surface. As a result, the coercive force of this local portion is reduced to a size that allows writing by a write magnetic field, so that even if a high coercivity magnetic disk for high-density recording is used, writing by the electromagnetic coil element 34 is possible. Become.

実際には、このような熱アシスト磁気記録方式を適用することにより、高保磁力の磁気ディスクに垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッドを用いて書き込みを行い、記録ビットを極微細化することによって、１Ｔbits／in２級の記録密度を達成することが可能となる。 Actually, by applying such a heat-assisted magnetic recording system, writing is performed on a magnetic disk having a high coercive force by using a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording, and the recording bits are made extremely fine, thereby obtaining 1 Tbits. / In Second class recording density can be achieved.

反射部３５１は、近接場光発生部３５０のヘッド端面３００とは反対側に設けられており、素子形成面３１と平行な反射面３５１ａを有する。反射面３５１ａは、光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光の一部を反射させて、受光面３５０ａに向けさせることによって、受光面３５０ａの受光量を補う役割を果たす。これにより、近接場光の発生効率が向上する。   The reflection portion 351 is provided on the side opposite to the head end surface 300 of the near-field light generation portion 350 and has a reflection surface 351 a parallel to the element formation surface 31. The reflecting surface 351a plays a role of supplementing the amount of light received by the light receiving surface 350a by reflecting a part of the laser light incident from the optical fiber 26 through the head end surface 301 and directing it toward the light receiving surface 350a. Thereby, the generation efficiency of near-field light improves.

なお、近接場光発生層３５は、上述したように、Ａｕ等から形成されているが、層厚は、例えば、約５０ｎｍ〜約５００ｎｍである。また、ヘッド端面３００から反対側の端までの距離は、例えば、約１０μｍ〜約５００μｍである。また、反射部３５１でのトラック幅方向の幅は、例えば、約２０μｍ〜約５００μｍである。さらに、先端３５ａの幅は、約１５ｎｍ〜約４０ｎｍである。このような近接場光発生層の先端３５ａからは、上記の層厚又は先端の幅程度の幅の近接場光が発生する。この近接場光の電界強度は、この幅以上の領域では指数関数的に減衰するので、非常に局所的に記録層部分を加熱することができる。また、近接場光は、先端から磁気ディスク方向に向かって、同じく上記の層厚又は先端の幅程度までの領域に存在する。従って、１０ｎｍ又はそれ以下の浮上量である現状において、近接場光は、十分に記録層部分に到達する。   The near-field light generating layer 35 is made of Au or the like as described above, and the layer thickness is, for example, about 50 nm to about 500 nm. The distance from the head end surface 300 to the opposite end is, for example, about 10 μm to about 500 μm. Further, the width in the track width direction at the reflecting portion 351 is, for example, about 20 μm to about 500 μm. Further, the width of the tip 35a is about 15 nm to about 40 nm. From the tip 35a of such a near-field light generating layer, near-field light having a width approximately equal to the layer thickness or the width of the tip is generated. Since the electric field intensity of the near-field light is exponentially attenuated in a region of this width or more, the recording layer portion can be heated very locally. Further, the near-field light is present in the region from the tip toward the magnetic disk direction up to the layer thickness or the width of the tip. Accordingly, in the present situation where the flying height is 10 nm or less, the near-field light sufficiently reaches the recording layer portion.

被覆層４０は、ＭＲ効果素子３３、電磁コイル素子３４及び近接場光発生層３５を覆うように、素子形成面３１上に形成されている。この被覆層４０は、積層方向（素子形成面３１に垂直である方向）において、素子形成面から主磁極層３４４の端部３４４ａを除く上面までの領域を占める第１の被覆層４００と、この上面から近接場光発生部よりも上方までの領域を占める第２の被覆層４０１と、この領域上の領域を占める第３の被覆層４０２との積層構造となっている。   The covering layer 40 is formed on the element forming surface 31 so as to cover the MR effect element 33, the electromagnetic coil element 34, and the near-field light generating layer 35. The covering layer 40 includes a first covering layer 400 that occupies a region from the element forming surface to the upper surface excluding the end portion 344a of the main magnetic pole layer 344 in the stacking direction (direction perpendicular to the element forming surface 31). It has a laminated structure of a second coating layer 401 that occupies a region from the upper surface to above the near-field light generating portion, and a third coating layer 402 that occupies a region on this region.

ここで、第２の被覆層４０１は、ヘッド端面３０１から入射した光の受光面３５０ａまでの光路をすべて含んでおり、半導体レーザ１８（図１）から発生するレーザ光の透過率が十分に高い、ＳｉＯ２又はＳｉＯ２を主成分とする酸化物によって形成されている。これにより、薄膜磁気ヘッドに入射したレーザ光の減衰をできるだけ小さくすることができるので、結果として受光面３５０ａが受ける光量が増加して近接場光発生効率が向上する。なお、第１及び第３の被覆層４００及び４０２は、被覆用として通常用いられるＡｌ２Ｏ３から形成されている。なお、第２の被覆層４０１は、受光面３５０ａまでの光路を含んでおればよいので、例えば、この光路を含む所定のトラック幅方向の幅を有する層であってもよい。この場合、この層のトラック幅方向の両側に、Ａｌ２Ｏ３からなる層を形成することにより、この層を挟む第１及び第３の被覆層間の密着強度が高まり、被覆層の機械的強度を十分に維持することができる。 Here, the second coating layer 401 includes all of the optical path from the head end surface 301 to the light receiving surface 350a, and has a sufficiently high transmittance of the laser light generated from the semiconductor laser 18 (FIG. 1). , SiO 2 or an oxide containing SiO 2 as a main component. As a result, the attenuation of the laser light incident on the thin film magnetic head can be made as small as possible. As a result, the amount of light received by the light receiving surface 350a is increased and the near-field light generation efficiency is improved. The first and third coating layers 400 and 402 are made of Al 2 O 3 that is usually used for coating. Note that the second coating layer 401 only needs to include an optical path to the light receiving surface 350a. For example, the second coating layer 401 may be a layer having a width in a predetermined track width direction including the optical path. In this case, by forming a layer made of Al 2 O 3 on both sides in the track width direction of this layer, the adhesion strength between the first and third coating layers sandwiching this layer is increased, and the mechanical strength of the coating layer is increased. Can be maintained sufficiently.

主磁極層３４４は、近接場光発生層３５の受光面３５０ａとは反対側に位置していて、近接場光発生層３５のリーディング側に設けられている。さらに、主磁極層３４４の端部３４４ａと、近接場光発生部３５０とは互いに直接重なっている。図４（Ｂ）に、両者の重なっている様子を斜視図で示す。このような重なった構造により、磁気ディスクの記録層の書き込もうとしている部分（トラック）が確実に加熱可能となる。さらに、接面している主磁極層３４４の端部３４４ａが、近接場光発生部３５０自身の過度の温度上昇を防止するヒートシンクとしての役割を果たす。   The main magnetic pole layer 344 is located on the side opposite to the light receiving surface 350 a of the near-field light generating layer 35 and is provided on the leading side of the near-field light generating layer 35. Further, the end 344a of the main magnetic pole layer 344 and the near-field light generating part 350 are directly overlapped with each other. FIG. 4B shows a perspective view of the overlapping state. This overlapping structure makes it possible to reliably heat the portion (track) to be written on the recording layer of the magnetic disk. Further, the end portion 344a of the main magnetic pole layer 344 in contact with the surface serves as a heat sink that prevents an excessive temperature rise of the near-field light generating unit 350 itself.

なお、本実施形態においては、書き込み磁界の主要発生箇所である主磁極層３４４の端部３４４ａが、近接場光の主要発生箇所である近接場光発生部３５０の先端３５ａのリーディング側に位置しているので、熱アシスト動作と書き込み動作を同時に行うか、又は熱アシスト作用を受けた記録層部分が少なくとも１回転してヘッド位置に戻った後、書き込み動作を行うことになる。   In the present embodiment, the end 344a of the main magnetic pole layer 344, which is the main generation location of the write magnetic field, is positioned on the leading side of the tip 35a of the near-field light generation portion 350, which is the main generation location of the near-field light. Therefore, the heat assist operation and the write operation are performed simultaneously, or the write layer operation is performed after the recording layer portion subjected to the heat assist action has rotated at least once and returned to the head position.

さらに、主磁極層３４４の端部３４４ａと近接場光発生部３５０とが、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いている。この両者の傾きの大きさが及ぼす効果について以下に説明する。   Furthermore, the end portion 344 a of the main magnetic pole layer 344 and the near-field light generating portion 350 are inclined with respect to the element forming surface 31 such that the head end surface 300 side is raised. The effect of the magnitude of the inclination of both will be described below.

図５（Ａ）は、この傾きθを定義するための概略図であり、図５（Ｂ）は、傾きθの及ぼす効果を説明するための概念的なグラフである。   FIG. 5A is a schematic diagram for defining this inclination θ, and FIG. 5B is a conceptual graph for explaining the effect of the inclination θ.

図５（Ａ）において、傾きθを、主磁極層３４４の端部３４４ａ及び近接場光発生部３５０からなる積層部分が、素子形成面３１との間でなす角度とする。ここで、主磁極層３４４の端部３４４ａから発生する書き込み磁界強度は、図５（Ｂ）の曲線Ａが示すように、傾きθが大きくなるに従ってその垂直成分が減少するので小さくなる。一方、近接場光発生部３５０の熱アシスト作用による磁気ディスクの記録層の温度上昇分は、図５（Ｂ）の曲線Ｂが示すように、傾きθが大きくなるに従って、受光面による受光量が増加するので大きくなる。すなわち、傾きθの値は、記録層の保磁力を熱アシストによって十分に低減させる条件と、有効な書き込み磁界強度を十分に維持する条件との間で、ある程度の幅を持って選択可能である。なお、θ値の設計の際、フレクシャの振動等によって光ファイバからのレーザ光が所定範囲内で変動しても、近接場光発生層の受光面が、ある程度のマージンを持って確実に必要な量を受光可能とするように、θ値をある程度大きくすることも好ましい。なお、図４の実施形態において、θは、約４０度〜約５０度である。   In FIG. 5A, the inclination θ is an angle formed between the element forming surface 31 and the stacked portion including the end portion 344 a of the main magnetic pole layer 344 and the near-field light generating portion 350. Here, the intensity of the write magnetic field generated from the end portion 344a of the main magnetic pole layer 344 becomes smaller because the vertical component decreases as the inclination θ increases, as shown by the curve A in FIG. On the other hand, the amount of increase in the temperature of the recording layer of the magnetic disk due to the heat assisting action of the near-field light generator 350 increases as the inclination θ increases, as the curve θ in FIG. It increases because it increases. That is, the value of the inclination θ can be selected with a certain width between the condition for sufficiently reducing the coercive force of the recording layer by thermal assist and the condition for sufficiently maintaining the effective writing magnetic field strength. . When designing the θ value, even if the laser light from the optical fiber fluctuates within a predetermined range due to flexure vibration or the like, the light receiving surface of the near-field light generating layer is surely required with a certain margin. It is also preferable to increase the θ value to some extent so that the quantity can be received. In the embodiment of FIG. 4, θ is about 40 degrees to about 50 degrees.

図６及び図７は、本発明による薄膜磁気ヘッドが備えている近接場光発生層についての種々の実施形態を示す断面図及び斜視図である。   6 and 7 are sectional views and perspective views showing various embodiments of the near-field light generating layer provided in the thin film magnetic head according to the present invention.

図６（Ａ）によれば、近接場光発生層６１の近接場光発生部６１０が有する受光面６１０ａは、図４に示す実施形態と同じく、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いていて、ヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。また、主磁極層６０は、近接場光発生層６１の受光面６１０ａとは反対側に位置していて、近接場光発生層６１のリーディング側に設けられている。しかしながら、本実施形態においては、主磁極層６０の端部６０ａは、近接場光発生部６１０と重なっていない。従って、主磁極層６０の端部６０ａから発生する書き込み磁界強度は、傾くことによる垂直成分の減少がないので、十分な大きさに維持される。なお、本実施形態においては、ヘッド端面３００において、書き込み位置が熱アシスト動作位置よりも所定の距離だけリーディング側にずれているので、実際の書き込みにおいては、熱アシスト作用を受けた記録層部分が少なくとも１回転してヘッド位置に戻った後、書き込み動作を行うことになる。   According to FIG. 6A, the light receiving surface 610a of the near-field light generating part 610 of the near-field light generating layer 61 is raised on the head end surface 300 side with respect to the element forming surface 31 as in the embodiment shown in FIG. It is inclined in a shape, and is formed at a position where at least part of the laser beam incident through the head end surface 301 can be irradiated. The main magnetic pole layer 60 is located on the side opposite to the light receiving surface 610 a of the near-field light generating layer 61 and is provided on the leading side of the near-field light generating layer 61. However, in the present embodiment, the end portion 60 a of the main magnetic pole layer 60 does not overlap the near-field light generation unit 610. Therefore, the intensity of the write magnetic field generated from the end portion 60a of the main magnetic pole layer 60 is maintained at a sufficient level because there is no decrease in the vertical component due to tilting. In the present embodiment, the writing position on the head end surface 300 is shifted to the reading side by a predetermined distance from the heat assist operation position. Therefore, in actual writing, the recording layer portion that has received the heat assist action is After at least one rotation and returning to the head position, the writing operation is performed.

図６（Ｂ）によれば、互いに重なった主磁極層６２の端部６２ａ及び近接場光発生部６３０が、図４に示す実施形態と同じく、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いている。しかしながら、本実施形態においては、主磁極層３４４と近接場光発生層６４との間に、ＳｉＯ２又は少なくとも１つの所定の添加元素が添加されたＳｉＯ２からなる誘電体層６８が形成されている。その結果、近接場光発生層６３が電気的に孤立し、近接場光発生部６３０、特に端６３ａにおいて、局在プラズモンが多量に励起される条件を設計し易くなる。これにより、端６３ａ近傍での近接場光の強度をより強くすることが可能となるので、さらに十分な熱アシスト動作を行うことができる。 According to FIG. 6B, the end portion 62a of the main magnetic pole layer 62 and the near-field light generating portion 630 that are overlapped with each other are raised on the head end surface 300 side with respect to the element forming surface 31 as in the embodiment shown in FIG. Tilt in shape. However, in the present embodiment, between the near-field light generating layer 64 and the main magnetic pole layer 344, a dielectric layer 68 made of SiO 2 to SiO 2 or at least one predetermined additive elements are added is formed Yes. As a result, the near-field light generating layer 63 is electrically isolated, and it becomes easy to design a condition in which a large amount of localized plasmons are excited in the near-field light generating part 630, particularly the end 63a. As a result, the intensity of the near-field light in the vicinity of the end 63a can be further increased, so that a further sufficient heat assist operation can be performed.

図６（Ｃ）によれば、互いに重なった主磁極層６４の端部６４ａ及び近接場光発生部６５０が、図４に示す実施形態と同じく、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いている。しかしながら、本実施形態においては、近接場光発生層６５が、近接場光発生部６５０と反射部（第１の反射部）６５１との間に、受光面６５０ａよりも小さな傾きθを持つ第２の反射面６５２ａを有する第２の反射部６５２をさらに備えている。第２の反射面６５２ａは、第１の反射面６５１ａとともに、ヘッド端面３０１を介して入射した光の一部を反射させて、受光面６５０ａに向けさせることによって、受光面６５０ａの受光量を補う役割を果たす。ここで、第１の反射面６５１ａに加えて第２の反射面６５２ａを設けることによって、これらの反射面の集光効果により受光面６５０ａの受光量をさらに高める設計が可能となる。その結果、近接場光の発生効率がより向上する。   According to FIG. 6C, the end portion 64a of the main magnetic pole layer 64 and the near-field light generating portion 650 which are overlapped with each other are raised on the head end surface 300 side with respect to the element forming surface 31, as in the embodiment shown in FIG. Tilt in shape. However, in the present embodiment, the near-field light generation layer 65 has a second inclination θ between the near-field light generation unit 650 and the reflection unit (first reflection unit) 651 that is smaller than the light receiving surface 650a. The second reflecting portion 652 having the reflecting surface 652a is further provided. The second reflecting surface 652a, together with the first reflecting surface 651a, reflects part of the light incident through the head end surface 301 and directs it toward the light receiving surface 650a, thereby supplementing the amount of light received by the light receiving surface 650a. Play a role. Here, by providing the second reflecting surface 652a in addition to the first reflecting surface 651a, the light receiving amount of the light receiving surface 650a can be further increased due to the condensing effect of these reflecting surfaces. As a result, the generation efficiency of near-field light is further improved.

また、反射部は、近接場光発生層６５０と第１の反射部６５１との間に、さらに２つ以上設けられてもよい。この場合、集光効果を高めるために、各反射面の傾きθが、第１の反射面６５１ａから受光面６５０ａに向けて順次大きくなるように設定されることが好ましい。なお、この反射部の数を十分に大きくした極限として、反射面が、受光面に向けて徐々に傾きが大きくなる曲面となっている場合も、本発明の範囲に含まれる。   Two or more reflecting portions may be further provided between the near-field light generating layer 650 and the first reflecting portion 651. In this case, in order to enhance the light collecting effect, it is preferable that the inclination θ of each reflecting surface is set so as to increase sequentially from the first reflecting surface 651a toward the light receiving surface 650a. It should be noted that a case where the reflection surface is a curved surface whose inclination gradually increases toward the light receiving surface as a limit where the number of reflection portions is sufficiently large is also included in the scope of the present invention.

図６（Ｄ）によれば、互いに重なった主磁極層６６の端部６６ａと近接場光発生部６７０とが、図４に示す実施形態と同じく、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いている。しかしながら、本実施形態においては、主磁極層６６の端部６６ａ及び近接場光発生部６７０における、ヘッド端面３００側の部分が、他の部分から折れ曲がっており、素子形成面３１と平行になっている。その結果、書き込み磁界強度は、端部６６ａの素子形成面３１と平行である部分において垂直成分の減少がほとんどないので、十分な大きさに維持される。また、近接場光発生部６７０において、受光面６７０ａの面積を十分に確保することによって必要な近接場光を発生させることが可能となる。   According to FIG. 6D, the end portion 66a of the main magnetic pole layer 66 and the near-field light generating portion 670 that overlap each other are arranged so that the head end surface 300 side is closer to the element forming surface 31 than in the embodiment shown in FIG. It is tilted up. However, in the present embodiment, the head end surface 300 side portion of the end portion 66 a of the main magnetic pole layer 66 and the near-field light generating portion 670 is bent from the other portions and is parallel to the element formation surface 31. Yes. As a result, the write magnetic field strength is maintained at a sufficient level because there is almost no decrease in the vertical component in the portion parallel to the element formation surface 31 of the end portion 66a. In the near-field light generating unit 670, necessary near-field light can be generated by sufficiently securing the area of the light receiving surface 670a.

図７（Ａ）によれば、電磁コイル素子７１において、主磁極層７１１が、補助磁極層７１０の下側（リーディング側）に設けられている。また、さらに、近接場光発生層７２が、主磁極層７１１の下側（リーディング側）に設けられている。さらに、互いに重なった主磁極層７１１の端部７１１ａ及び近接場光発生部７２０が、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が下がる形で傾いている。このような実施形態においては、ヘッド端面３００において、書き込み位置が熱アシスト動作位置に隣接してトレーリング側となる。その結果、実際の書き込みにおいて、書き込まれるべき記録層部分が熱アシスト作用を受けた直後に、書き込み動作が、同部分に確実に行われることになる。   According to FIG. 7A, in the electromagnetic coil element 71, the main magnetic pole layer 711 is provided on the lower side (leading side) of the auxiliary magnetic pole layer 710. Furthermore, a near-field light generating layer 72 is provided below the main magnetic pole layer 711 (leading side). Further, the end portion 711 a and the near-field light generating portion 720 of the main magnetic pole layer 711 that are overlapped with each other are inclined such that the head end surface 300 side is lowered with respect to the element forming surface 31. In such an embodiment, on the head end surface 300, the writing position is on the trailing side adjacent to the heat assist operation position. As a result, in actual writing, immediately after the recording layer portion to be written is subjected to the heat assist action, the writing operation is reliably performed on the portion.

なお、本実施形態においては、光ファイバ２６からの光は、ＭＲ効果素子７０及び電磁コイル素子７１の間の領域にある近接場光発生層７２の受光面７２０ａに向けて放射されることになる。この際、近接場光発生層７２の反射面７２１ａのみならず、ＭＲ効果素子７０の上部電極層７０４の上面が、入射した光の一部を反射させて、受光面７２０ａに向けさせることによって、受光面７２０ａの受光量を補う役割を果たす。この際、上部電極層７０４とは独立して、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ又はそれらのうちのいくつかの組合せの合金等からなる反射層７３が、上部電極層７０４の上面に接して又は上方に設けてもよい。   In the present embodiment, light from the optical fiber 26 is radiated toward the light receiving surface 720a of the near-field light generating layer 72 in the region between the MR effect element 70 and the electromagnetic coil element 71. . At this time, not only the reflection surface 721a of the near-field light generating layer 72 but also the upper surface of the upper electrode layer 704 of the MR effect element 70 reflects a part of the incident light and directs it toward the light receiving surface 720a. It plays a role of supplementing the amount of light received by the light receiving surface 720a. At this time, the reflective layer 73 made of Au, Al, Cu, or an alloy of some combination thereof is provided in contact with or above the upper surface of the upper electrode layer 704 independently of the upper electrode layer 704. May be.

図７（Ｂ１）によれば、近接場光発生層７５の近接場光発生部７５０が有する受光面７５０ａは、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が下がる形で傾いていて、ヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。また、主磁極層７４が、近接場光発生層７５の受光面７５０ａの側であってリーディング側に位置している。さらに、主磁極層７４及び近接場光発生層７５が、主磁極層７４のヘッド端面３００側の端７４ｂと近接場光発生層７５のヘッド端面３００側の先端７５ａとにおいてのみ、互いに接触又は近接している。端７４ｂと先端７５ａとが接触している場合の形態を図７（Ｂ２）に示す。このような構成により、近接場光発生部７５０の先端７５ａ近傍から発生する近接場光によって熱アシスト作用を受けた記録層部分に対して確実に、書き込み動作を行うことが可能となる一方、主磁極層７４の端７４ｂから発生する書き込み磁界強度は、傾くことによる垂直成分の減少がないので、十分な大きさに維持される。   According to FIG. 7B 1, the light receiving surface 750 a included in the near-field light generating unit 750 of the near-field light generating layer 75 is inclined so that the head end surface 300 side is lowered with respect to the element forming surface 31. Is formed at a position where at least a part of the laser beam incident through can be irradiated. The main magnetic pole layer 74 is located on the leading side of the near-field light generating layer 75 on the light receiving surface 750a side. Further, the main magnetic pole layer 74 and the near-field light generating layer 75 are in contact with or close to each other only at the end 74 b of the main magnetic pole layer 74 on the head end surface 300 side and the front end 75 a of the near-field light generating layer 75 on the head end surface 300 side. is doing. FIG. 7B2 shows a mode in which the end 74b and the tip 75a are in contact with each other. With such a configuration, it is possible to reliably perform the writing operation on the recording layer portion that has been subjected to the heat assisting action by the near-field light generated from the vicinity of the tip 75a of the near-field light generating unit 750. The intensity of the write magnetic field generated from the end 74b of the pole layer 74 is maintained at a sufficient level because there is no decrease in the vertical component due to tilting.

なお、本実施形態においては、光ファイバ２６からの光は、主磁極層７４及び近接場光発生層７５の反射部７５１の間の領域に向けて放射されることになる。この際、反射面７５１ａのみならず、主磁極層７４の上面が、入射した光の一部を反射させて、受光面７５０ａに向けさせることによって、受光面７５０ａの受光量を補う役割を果たす。また、主磁極層７４とは独立して、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ又はそれらのうちのいくつかの組合せの合金等からなる反射層７６が、主磁極層７４の上面に接して又は上方に設けてもよい。   In the present embodiment, the light from the optical fiber 26 is emitted toward the region between the main magnetic pole layer 74 and the reflection portion 751 of the near-field light generating layer 75. At this time, not only the reflection surface 751a but also the upper surface of the main magnetic pole layer 74 reflects part of the incident light and directs it toward the light reception surface 750a, thereby supplementing the amount of light received by the light reception surface 750a. Independent of the main magnetic pole layer 74, a reflective layer 76 made of Au, Al, Cu, or an alloy of some combination thereof is provided in contact with or above the upper surface of the main magnetic pole layer 74. Also good.

また、本実施形態の変更態様として、主磁極層が、補助磁極層の下側（リーディング側）に設けられていて、さらに、近接場光発生層が、主磁極層の下側（リーディング側）に設けられていてもよい。この変更態様においても上述した効果と同様の効果が得られることは明らかである。   As a modification of the present embodiment, the main magnetic pole layer is provided below the auxiliary magnetic pole layer (leading side), and the near-field light generating layer is provided below the main magnetic pole layer (leading side). May be provided. It is clear that the same effect as described above can be obtained in this modified mode.

図７（Ｃ１）によれば、互いに重なった主磁極層７７の端部７７ａ及び第１の近接場光発生層７８の第１の近接場光発生部７８０が、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いている。本実施形態においては、さらに、第２の近接場光発生層７９が第１の近接場光発生層７８の上方に設けられており、第２の近接場光発生層７９の近接場光発生部７９０が、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が下がる形で傾いている。また、さらに、第１及び第２の近接場光発生層７８及び７９のヘッド端面３００に達している先端７８ａ及び７９ａが、互いに接するように又は近傍に位置するように配置されている。   According to FIG. 7C 1, the end 77 a of the main magnetic pole layer 77 and the first near-field light generating portion 780 of the first near-field light generating layer 78 that overlap each other are The end face 300 side is inclined so as to rise. In the present embodiment, the second near-field light generating layer 79 is further provided above the first near-field light generating layer 78, and the near-field light generating part of the second near-field light generating layer 79 is provided. 790 is inclined with respect to the element forming surface 31 such that the head end surface 300 side is lowered. Further, the tips 78a and 79a of the first and second near-field light generating layers 78 and 79 reaching the head end surface 300 are arranged so as to be in contact with each other or in the vicinity thereof.

図７（Ｃ２）に、主磁極層７７の端７７ｂと先端７８ａとが接しており、先端７８ａと先端７９ａとが接触している場合の形態を示す。このような構成によれば、図４に示した実施形態の効果を得るだけではなく、第１及び第２の近接場光発生層７８及び７９の両者の作用による、より強力な近接場光を得ることが可能となる。これにより、より十分であって確実な熱アシスト動作を行うことができる。実際、受光面の面積が両者の和となって増加しており、さらに、近接場光が発生する条件を満たす箇所を、第１及び第２の近接場光発生層７８及び７９のそれぞれに、さらに両者の間に設けることができるため、より強力な近接場光を発生させるための設計が容易となる。   FIG. 7C2 shows a configuration in which the end 77b of the main magnetic pole layer 77 and the tip 78a are in contact with each other, and the tip 78a and the tip 79a are in contact with each other. According to such a configuration, not only the effect of the embodiment shown in FIG. 4 is obtained, but also stronger near-field light due to the action of both the first and second near-field light generation layers 78 and 79 is obtained. Can be obtained. Thereby, a more sufficient and reliable heat assist operation can be performed. Actually, the area of the light receiving surface is increased as the sum of both, and furthermore, the locations satisfying the conditions for generating near-field light are respectively added to the first and second near-field light generating layers 78 and 79. Furthermore, since it can provide between both, the design for generating more powerful near field light becomes easy.

特に、第２の近接場光発生層７９は、主磁極層等の導電体とは接しておらず、被覆層等の誘電体に囲まれている。その結果、第２の近接場光発生層は電気的に孤立しており、局在プラズモンが多量に励起される条件を設計し易くなる。   In particular, the second near-field light generating layer 79 is not in contact with a conductor such as the main magnetic pole layer and is surrounded by a dielectric such as a coating layer. As a result, the second near-field light generating layer is electrically isolated, and it becomes easy to design a condition under which a large amount of localized plasmons are excited.

なお、本実施形態においては、光ファイバ２６からの光は、第１の近接場光発生層７８の反射面７８１ａと第２の近接場光発生層７９の反射面７９１ａとの間の領域に向けて放射されることになる。従って、この領域に入射した光は、減衰分を除いてほぼ全量、受光面７８０ａ及び７９０ａに到達する。その結果、近接場光の発生効率がより向上する。   In the present embodiment, the light from the optical fiber 26 is directed to a region between the reflection surface 781a of the first near-field light generation layer 78 and the reflection surface 791a of the second near-field light generation layer 79. Will be emitted. Accordingly, almost all of the light incident on this region reaches the light receiving surfaces 780a and 790a except for the attenuation. As a result, the generation efficiency of near-field light is further improved.

また、本実施形態の変更態様として、主磁極層が、補助磁極層の下側（リーディング側）に設けられており、第１の近接場光発生層が、主磁極層の下側（リーディング側）に設けられていて、さらに、第２の近接場光発生層が、第１の近接場光発生層の下側（リーディング側）に設けられていてもよい。この変更態様においても上述した効果と同様の効果が得られることは明らかである。   As a modification of the present embodiment, the main magnetic pole layer is provided below the auxiliary magnetic pole layer (leading side), and the first near-field light generating layer is provided below the main magnetic pole layer (leading side). In addition, the second near-field light generating layer may be provided on the lower side (leading side) of the first near-field light generating layer. It is clear that the same effect as described above can be obtained in this modified mode.

図８は、素子形成面に対して傾いている主磁極層の端部及び近接場光発生部の形成方法の一実施形態を説明する断面図である。具体的には、図８（Ａ）〜（Ｃ）において、図４（Ａ）に示した薄膜磁気ヘッドの製造工程のうち、主磁極層３４４の端部３４４ａ及び近接場光発生部３５０の形成工程部分を順次示している。   FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of a method of forming the end portion of the main magnetic pole layer and the near-field light generating portion inclined with respect to the element formation surface. Specifically, in FIGS. 8A to 8C, in the manufacturing process of the thin film magnetic head shown in FIG. 4A, the end 344a of the main magnetic pole layer 344 and the near-field light generator 350 are formed. The process part is shown sequentially.

図８（Ａ）において、最初に、主磁極層となる磁性膜を成膜し、ＳｉＯ２等の誘電体膜を成膜した後、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）法等を用いて平坦化を行い、上面が共に同一面に平坦化された、主磁極層のベース部分８０及び平坦化層８１を形成する。次いで、主磁極層のベース部分８０上に、リフトオフ用のレジストパターン８２を形成し、その後、スパッタリング法等を用いてＳｉＯ２等の誘電体膜を成膜して、傾斜した側面を有する絶縁層８３を形成する。この後、レジストパターン８２及びその上の誘電体膜が、いわゆるリフトオフにより除去される。 In FIG. 8A, first, a magnetic film to be a main magnetic pole layer is formed, a dielectric film such as SiO 2 is formed, and then planarized using a chemical mechanical polishing (CMP) method or the like. The base portion 80 of the main magnetic pole layer and the flattening layer 81 are formed with the top surfaces flattened on the same surface. Next, a lift-off resist pattern 82 is formed on the base portion 80 of the main magnetic pole layer, and then a dielectric film such as SiO 2 is formed using a sputtering method or the like, so that the insulating layer has an inclined side surface. 83 is formed. Thereafter, the resist pattern 82 and the dielectric film thereon are removed by so-called lift-off.

次いで、図８（Ｂ）に示すように、主磁極層のベース部分８０及び絶縁層８３上に、主磁極層の端部となるべき磁性層８４と、近接場光発生層となるべき、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ若しくはＩｒ、若しくはこれらのうちのいくつかの組合せからなる合金、又はＡｌ、Ｃｕ等が添加されたこれらの合金等の層８５とを形成する。さらに、それらの上に、被覆層となるべき誘電体膜８６を成膜する。   Next, as shown in FIG. 8B, on the base portion 80 and the insulating layer 83 of the main magnetic pole layer, a magnetic layer 84 to be an end portion of the main magnetic pole layer and an Au to be a near-field light generating layer. , Pd, Pt, Rh or Ir, or an alloy made of some combination thereof, or a layer 85 of these alloys to which Al, Cu or the like is added. Further, a dielectric film 86 to be a coating layer is formed thereon.

以上の形成工程を含む、薄膜磁気ヘッドのウエハ基板工程が終了した後、形成工程が終了したウエハ基板を切断して複数の磁気ヘッド素子が一列状に並んだバー部材を形成する。次いで、このバー部材を研磨することによって所望のＭＲハイトを得るべく、ＭＲハイト加工を行う。その後、ＭＲハイト加工が施されたバー部材を個々のスライダ（薄膜磁気ヘッド）に切断分離することによって薄膜磁気ヘッドの製造工程が終了する。   After the wafer substrate process of the thin film magnetic head including the above formation process is completed, the wafer substrate after the formation process is cut to form a bar member in which a plurality of magnetic head elements are arranged in a line. Next, MR height processing is performed to obtain a desired MR height by polishing the bar member. Thereafter, the bar member that has been subjected to MR height processing is cut and separated into individual sliders (thin film magnetic heads), thereby completing the manufacturing process of the thin film magnetic head.

ここで、図８（Ｃ）によれば、上述のＭＲハイト加工によって、磁性層８４、Ａｕ等の層８５及び誘電体膜８６が研削されることにより、主磁極層３４４、近接場光発生層３５及び被覆層４０が完成される。ここで、主磁極層３４４の端部３４４ａ及び近接場光発生部３５０は、絶縁層８３の傾斜した側面上に形成されていた結果として、素子形成面に対して傾いている。   Here, according to FIG. 8C, the magnetic layer 84, the layer 85 such as Au, and the dielectric film 86 are ground by the above-described MR height processing, so that the main magnetic pole layer 344, the near-field light generation layer. 35 and the covering layer 40 are completed. Here, the end portion 344a of the main magnetic pole layer 344 and the near-field light generating portion 350 are inclined with respect to the element formation surface as a result of being formed on the inclined side surface of the insulating layer 83.

図９は、図１に示した磁気ディスク装置の記録再生及び発光制御回路１３の回路構成を示すブロック図である。   FIG. 9 is a block diagram showing a circuit configuration of the recording / reproducing and light emission control circuit 13 of the magnetic disk apparatus shown in FIG.

図９において、９０は制御ＬＳＩ、９１は、制御ＬＳＩ９０から記録データを受け取るライトゲート、９２はライト回路、９３は、半導体レーザ１８に供給する動作電流値の制御用テーブル等を格納するＲＯＭ、９５は、ＭＲ効果素子３３へセンス電流を供給する定電流回路、９６は、ＭＲ効果素子３３の出力電圧を増幅する増幅器、９７は、制御ＬＳＩ９０に対して再生データを出力する復調回路、９８は温度検出器、９９は、半導体レーザ１８の制御回路をそれぞれ示している。   In FIG. 9, 90 is a control LSI, 91 is a write gate that receives recording data from the control LSI 90, 92 is a write circuit, 93 is a ROM that stores a control table for operating current values supplied to the semiconductor laser 18, etc. Is a constant current circuit that supplies a sense current to the MR effect element 33, 96 is an amplifier that amplifies the output voltage of the MR effect element 33, 97 is a demodulation circuit that outputs reproduction data to the control LSI 90, and 98 is a temperature. A detector 99 indicates a control circuit for the semiconductor laser 18.

制御ＬＳＩ９０から出力される記録データは、ライトゲート９１に供給される。ライトゲート９１は、制御ＬＳＩ９０から出力される記録制御信号が書き込み動作を指示するときのみ、記録データをライト回路９２へ供給する。ライト回路９２は、この記録データに従ってコイル層３４１に書き込み電流を流し、電磁コイル素子３４により磁気ディスク上に書き込みを行う。   The recording data output from the control LSI 90 is supplied to the write gate 91. The write gate 91 supplies recording data to the write circuit 92 only when a recording control signal output from the control LSI 90 instructs a writing operation. The write circuit 92 causes a write current to flow through the coil layer 341 in accordance with this recording data, and the electromagnetic coil element 34 writes on the magnetic disk.

制御ＬＳＩ９０から出力される再生制御信号が読み出し動作を指示するときのみ、定電流回路９５からＭＲ積層体３３２に定電流が流れる。このＭＲ効果素子３３により再生された信号は増幅器９６で増幅された後、復調回路９７で復調され、得られた再生データが制御ＬＳＩ９０に出力される。   A constant current flows from the constant current circuit 95 to the MR multilayer 332 only when the reproduction control signal output from the control LSI 90 instructs a read operation. The signal reproduced by the MR effect element 33 is amplified by the amplifier 96 and then demodulated by the demodulation circuit 97, and the obtained reproduction data is output to the control LSI 90.

レーザ制御回路９９は、制御ＬＳＩ９０から出力されるレーザＯＮ／ＯＦＦ信号及び動作電流制御信号を受け取る。このレーザＯＮ／ＯＦＦ信号がオン動作指示である場合、発振しきい値以上の動作電流が半導体レーザに印加される。この際の動作電流値は、動作電流制御信号に応じた値に制御される。制御ＬＳＩ９０は、記録再生動作とのタイミングに応じてレーザＯＮ／ＯＦＦ信号を発生させ、磁気ディスクの記録層及び半導体レーザ１８の、温度検出器９８による温度測定値等を考慮し、ＲＯＭ９３内の制御テーブルに基づいて、動作電流値制御信号の値を決定する。ここで、制御テーブルは、発振しきい値及び光出力−動作電流特性の温度依存性のみならず、動作電流値と熱アシスト作用を受けた記録層の温度上昇分との関係、及び保磁力の温度依存性についてのデータも含む。このように、記録／再生動作制御信号系とは独立して、レーザＯＮ／ＯＦＦ信号及び動作電流値制御信号系を設けることによって、単純に記録動作に連動した半導体レーザへの通電のみならず、より多様な通電モードを実現することができる。   The laser control circuit 99 receives a laser ON / OFF signal and an operating current control signal output from the control LSI 90. When this laser ON / OFF signal is an on operation instruction, an operating current equal to or higher than the oscillation threshold is applied to the semiconductor laser. The operating current value at this time is controlled to a value corresponding to the operating current control signal. The control LSI 90 generates a laser ON / OFF signal according to the timing of the recording / reproducing operation, and takes into account the temperature measurement values of the recording layer of the magnetic disk and the semiconductor laser 18 by the temperature detector 98, and the like, and controls the ROM 93. The value of the operating current value control signal is determined based on the table. Here, the control table shows not only the temperature dependence of the oscillation threshold value and the light output-operating current characteristic, but also the relationship between the operating current value and the temperature rise of the recording layer subjected to the heat assist action, and the coercive force. Includes data on temperature dependence. In this way, by providing the laser ON / OFF signal and the operating current value control signal system independently of the recording / reproducing operation control signal system, not only the energization to the semiconductor laser simply linked to the recording operation, More various energization modes can be realized.

なお、記録再生及び発光制御回路１３の回路構成は、図８に示したものに限定されるものでないことは明らかである。記録制御信号及び再生制御信号以外の信号で書き込み動作及び読み出し動作を特定してもよい。また、少なくとも書き込み動作時又はその直前において半導体レーザ１８に通電することが望ましいが、書き込み動作及び読み出し動作のシーケンスにおいて、所定の期間だけ通電することも可能である。   It is apparent that the circuit configuration of the recording / reproducing and light emission control circuit 13 is not limited to that shown in FIG. The write operation and the read operation may be specified by a signal other than the recording control signal and the reproduction control signal. In addition, it is desirable to energize the semiconductor laser 18 at least during or immediately before the write operation, but it is also possible to energize for a predetermined period in the sequence of the write operation and the read operation.

以上述べた実施形態は全て本発明を例示的に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することができる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ規定されるものである。   All the embodiments described above are illustrative of the present invention and are not intended to be limiting, and the present invention can be implemented in other various modifications and changes. Therefore, the scope of the present invention is defined only by the claims and their equivalents.

本発明による磁気ディスク装置の一実施形態における要部の構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a configuration of a main part in an embodiment of a magnetic disk device according to the present invention. FIG. 本発明によるＨＧＡの一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one Embodiment of HGA by this invention. 図２に示すＨＧＡの先端部に装着されている、本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施形態を示す斜視図、及びこの薄膜磁気ヘッドにおける磁気ヘッド素子部分の構成を示す平面図である。FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of a thin film magnetic head according to the present invention mounted on the tip of the HGA shown in FIG. 2, and a plan view showing a configuration of a magnetic head element portion in the thin film magnetic head. 図３に示した薄膜磁気ヘッドの要部の構成を概略的に示す図３（Ａ）のＡ−Ａ線断面図、及び互いに重ねられた近接場光発生層及び主磁極層の端部の構成を示す斜視図である。FIG. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3A schematically showing a configuration of a main part of the thin film magnetic head shown in FIG. FIG. 傾きθを定義するための概略図、及び傾きθの及ぼす効果を説明するための概念的なグラフである。FIG. 4 is a schematic diagram for defining the inclination θ and a conceptual graph for explaining the effect of the inclination θ. 本発明による薄膜磁気ヘッドが備えている近接場光発生層についての種々の実施形態を示す断面図及び斜視図である。It is sectional drawing and perspective view which show various embodiment about the near-field light generating layer with which the thin film magnetic head by this invention is provided. 本発明による薄膜磁気ヘッドが備えている近接場光発生層についての種々の実施形態を示す断面図及び斜視図である。It is sectional drawing and perspective view which show various embodiment about the near-field light generating layer with which the thin film magnetic head by this invention is provided. 素子形成面に対して傾いている主磁極層の端部及び近接場光発生部の形成方法の一実施形態を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining one Embodiment of the formation method of the edge part of the main magnetic pole layer inclined with respect to an element formation surface, and a near-field light generation part. 図１に示した磁気ディスク装置の記録再生及び発光制御回路の回路構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a circuit configuration of a recording / reproducing and light emission control circuit of the magnetic disk device shown in FIG. 1.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 磁気ディスク
１１ スピンドルモータ
１２ アセンブリキャリッジ装置
１３ 記録再生及び発光制御回路
１４ 駆動アーム
１５ ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）
１６ ピボットベアリング軸
１７ ヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）
１８ 半導体レーザ
１９、２７ ファイバホルダ
２０ サスペンション
２１ スライダ
２１０ スライダ基板
２２ ロードビーム
２３ フレクシャ
２４ ベースプレート
２５ 配線部材
２６ 光ファイバ
３０ 浮上面（ＡＢＳ）
３００、３０１ ヘッド端面
３１ 素子形成面
３２ 磁気ヘッド素子
３３ ＭＲ効果素子
３３０ 下部電極層
３３２ ＭＲ効果積層体
３３４ 上部電極層
３４ 電磁コイル素子
３４０、７１０ 補助磁極層
３４１ コイル層
３４２ コイル絶縁層
３４３ ギャップ層
３４４、６０、６２、６４、６６、７１１、７４、７７ 主磁極層
３４４ａ、６０ａ、６２ａ、６４ａ、６６ａ、７１１ａ、７４ｂ、７７ｂ 端部
３５、６１、６３、６５、６７、７２、７５、７８、７９ 近接場光発生層
３５ａ、６３ａ、７５ａ、７８ａ、７９ａ 先端
３５０、６１０、６３０、６５０、６７０、７２０、７５０、７８０、７９０ 近接場光発生部
３５０ａ、６１０ａ、６３０ａ、６５０ａ、６７０ａ、７２０ａ、７５０ａ、７８０ａ、７９０ａ 受光面
３５１、６１１、６３１、６５１、６７１、７２１、７５１、７８１、７９１ 反射部
３５１ａ、６１１ａ、６３１ａ、６５１ａ、６７１ａ、７２１ａ、７５１ａ、７８１ａ、７９１ａ 反射面
３６、３７ 信号端子電極
４０、４００、４０１、４０２ 被覆層
６５２ 第２の反射部
６５２ａ 第２の反射面
７３、７６ 反射膜
８０ 主磁極層のベース部分
８１ 平坦化層
８２ レジストパターン
８３ 絶縁層
８４ 磁性層
８５ Ａｕ等の層
８６ 誘電体膜
９０ 制御ＬＳＩ
９１ ライトゲート
９２ ライト回路
９３ ＲＯＭ
９５ 定電流回路
９６ 増幅器
９７ 復調回路
９８ 温度検出器
９９ レーザ制御回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Magnetic disk 11 Spindle motor 12 Assembly carriage apparatus 13 Recording / reproduction | regeneration and light emission control circuit 14 Drive arm 15 Voice coil motor (VCM)
16 Pivot bearing shaft 17 Head gimbal assembly (HGA)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 18 Semiconductor laser 19, 27 Fiber holder 20 Suspension 21 Slider 210 Slider substrate 22 Load beam 23 Flexure 24 Base plate 25 Wiring member 26 Optical fiber 30 Air bearing surface (ABS)
300, 301 Head end surface 31 Element formation surface 32 Magnetic head element 33 MR effect element 330 Lower electrode layer 332 MR effect laminate 334 Upper electrode layer 34 Electromagnetic coil element 340, 710 Auxiliary magnetic pole layer 341 Coil layer 342 Coil insulation layer 343 Gap layer 344, 60, 62, 64, 66, 711, 74, 77 Main magnetic pole layer 344a, 60a, 62a, 64a, 66a, 711a, 74b, 77b End 35, 61, 63, 65, 67, 72, 75, 78 79 Near-field light generating layer 35a, 63a, 75a, 78a, 79a Tip 350, 610, 630, 650, 670, 720, 750, 780, 790 Near-field light generating part 350a, 610a, 630a, 650a, 670a, 720a , 750a, 780a, 790a Light-receiving surface 351, 611 631, 651, 671, 721, 751, 781, 791 Reflecting portion 351a, 611a, 631a, 651a, 671a, 721a, 751a, 781a, 791a Reflecting surface 36, 37 Signal terminal electrode 40, 400, 401, 402 Covering layer 652 Second reflecting portion 652a Second reflecting surface 73, 76 Reflecting film 80 Base portion of main magnetic pole layer 81 Planarizing layer 82 Resist pattern 83 Insulating layer 84 Magnetic layer 85 Layer of Au, etc. 86 Dielectric film 90 Control LSI
91 Write gate 92 Write circuit 93 ROM
95 constant current circuit 96 amplifier 97 demodulation circuit 98 temperature detector 99 laser control circuit

Claims (8)

媒体対向面及び該媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、該素子形成面に形成されており、主磁極層、補助磁極層及びコイル層を有する書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体を加熱するための少なくとも１つの近接場光発生層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、
前記少なくとも１つの近接場光発生層が、前記媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、該媒体対向面側のヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており、
前記近接場光発生部が、前記素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていて該媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光が少なくとも一部に照射され得る受光面を有しており、
前記少なくとも１つの近接場光発生層の少なくとも１つが、前記近接場光発生部の前記媒体対向面とは反対側に、前記素子形成面と平行な第１の反射面を有する第１の反射部をさらに備えている
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 A substrate having a medium facing surface and an element forming surface perpendicular to the medium facing surface, and an electromagnetic coil element for writing formed on the element forming surface and having a main magnetic pole layer, an auxiliary magnetic pole layer, and a coil layer, A thin film magnetic head comprising at least one near-field light generating layer for generating a field light to heat the magnetic recording medium during writing,
Wherein said at least one near-field light generating layer, wherein towards the head end surface of the medium facing surface side have a tapered shape, the near-field light generating portion including a distal end reaching the head end surface of the medium facing surface side equipped with a,
The near-field light generating section may be inclined such that the medium facing surface side is raised or lowered with respect to the element forming surface, and at least part of the light incident from the head end surface opposite to the medium facing surface can be irradiated. Has a light receiving surface ,
At least one of the at least one near-field light generating layer has a first reflecting portion having a first reflecting surface parallel to the element formation surface on the opposite side of the near-field light generating portion from the medium facing surface. It is further equipped with
Thin-film magnetic head according to claim and this. 前記主磁極層が、前記少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの前記受光面とは反対側に位置しており、該少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つにおける前記近接場光発生部と該主磁極層の媒体対向面側の端部とが、誘電体層を介して又は直接に重なっていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。 The main magnetic pole layer is located on a side opposite to the light receiving surface of one of the at least one near-field light generating layers, and the proximity in one of the at least one near-field light generating layers is 2. The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the field light generating portion and the end portion of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side overlap each other via a dielectric layer. 前記近接場光発生部と前記主磁極層の媒体対向面側の端部とが、前記素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていることを特徴とする請求項２に記載の薄膜磁気ヘッド。 And the near-field light generation portion and the end portion of the medium facing surface side of the main magnetic pole layer in claim 2, characterized in that inclined at the bearing surface side of the element formation surface is increased or decreased form The thin film magnetic head described. 前記主磁極層が、前記少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの前記受光面の側に位置しており、該主磁極層及び該少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つが、該主磁極層の媒体対向面側の端と該少なくとも１つの近接場光発生層のうちの１つの前記媒体対向面側のヘッド端面に達した先端とにおいてのみ、互いに接触又は近接していることを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。 The main magnetic pole layer is positioned on one light receiving surface side of the at least one near-field light generating layer, and one of the main magnetic pole layer and the at least one near-field light generating layer is Only the end of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side and the tip of one of the at least one near-field light generating layers reaching the head end surface on the medium facing surface side are in contact with or close to each other. The thin film magnetic head according to claim 1 . 前記少なくとも１つの近接場光発生層が２つの近接場光発生層であって、該２つの近接場光発生層において、前記受光面が前記素子形成面に対して媒体対向面側がそれぞれ上がる及び下がる形で傾いていて、前記媒体対向面側のヘッド端面に達した先端が互いに接するように又は近傍に位置するように配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。 The at least one near-field light generating layer is two near-field light generating layers, and in the two near-field light generating layers, the light receiving surface is raised and lowered on the medium facing surface side with respect to the element formation surface, respectively. are inclined in the form, in any one of claims 1 4, characterized in that the tip reaching the head end surface of the medium facing surface side are arranged so as to be located near or in contact with each other The thin film magnetic head described. 前記電磁コイル素子及び前記近接場光発生層を覆うように前記素子形成面上に形成された被覆層をさらに備えており、該被覆層のうち、前記媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光の受光面までの光路を含む領域が、ＳｉＯ２又は少なくとも１つの添加元素が添加されたＳｉＯ２によって形成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。 A covering layer formed on the element forming surface so as to cover the electromagnetic coil element and the near-field light generating layer; and from the head end surface opposite to the medium facing surface of the covering layer. area including the optical path to the light receiving surface of the incident light, according to claims 1, characterized in that it is formed by a SiO 2 to SiO 2 or at least one additive element is added at any one of 5 Thin film magnetic head. 請求項１から６のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドと、該薄膜磁気ヘッドを支持する支持機構と、書き込み用の前記電磁コイル素子、及び該薄膜磁気ヘッドが読み出し用の磁気抵抗効果素子を備えている場合は該磁気抵抗効果素子のための信号線とを備えており、前記薄膜磁気ヘッドの前記媒体対向面とは反対側のヘッド端面から光を入射させるための光ファイバをさらに備えていることを特徴とするヘッドジンバルアセンブリ。 A thin film magnetic head according to any one of claims 1 to 6, a support mechanism for supporting the thin film magnetic head, said electromagnetic coil element for writing, and thin film magnetic head is a magnetoresistive effect element for reading A signal line for the magnetoresistive effect element, and further includes an optical fiber for allowing light to enter from a head end surface opposite to the medium facing surface of the thin film magnetic head. A head gimbal assembly characterized by that. 請求項７に記載のヘッドジンバルアセンブリを少なくとも１つ備えており、少なくとも１つの磁気ディスクと、前記光ファイバに光を供給するための光源と、該少なくとも１つの磁気ディスクに対して前記薄膜磁気ヘッドが行う書き込み及び読み出し動作を制御するとともに、前記光源の発光動作を制御するための記録再生及び発光制御回路とをさらに備えていることを特徴とする磁気ディスク装置。 8. A head gimbal assembly according to claim 7 , comprising at least one magnetic disk, a light source for supplying light to the optical fiber, and the thin film magnetic head with respect to the at least one magnetic disk. And a recording / reproducing and light emission control circuit for controlling the light emission operation of the light source and the magnetic disk apparatus.
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