JP4209142B2

JP4209142B2 - Processing equipment

Info

Publication number: JP4209142B2
Application number: JP2002178310A
Authority: JP
Inventors: 誠平野; 精一稲垣; 恵己清水; 基典柳; 多郁三広瀬
Original assignee: Nomura Micro Science Co Ltd
Current assignee: Nomura Micro Science Co Ltd
Priority date: 2002-06-19
Filing date: 2002-06-19
Publication date: 2009-01-14
Anticipated expiration: 2022-06-19
Also published as: JP2004020120A

Description

【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えば過酸化水素、アンモニア、無機酸（フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸など）、有機物などの薬品を用いて各種電子部品の洗浄処理などを行うための処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子部品の製造工程において、各種薬品を用いて電子部品を洗浄する洗浄装置の排ガス処理は、いわゆるワンパス処理であり、屋外にある洗浄塔の中で、クリーンルーム内の空気を、苛性ソーダ・硫酸などの薬品を使用し中和・分解などの処理を行う、酸・アルカリ薬品洗浄方法が用いられている。ここで、この酸・アルカリ薬品洗浄方法では、酸・アルカリが排水処理されるため、その廃液処理を行う必要がある。
【０００３】
また、上記洗浄方法では、クリーンルーム内の空気、つまり清浄化処理及び温度調節された空気を屋外に放出しており、省エネルギー化が絶えず要求されている昨今の風潮に逆行するというエネルギー収支上の課題がある。さらに、屋外に放出された排ガスは、スクラバなどで処理されるものの、完全な処理とは言えず、微量とは言え大気へ放出されて、環境汚染の原因にもなっている。
【０００４】
そこで、このような事情を考慮して各種提案がなされている。例えば、特開２０００−１６７４１６公報には、汚れ成分の濃厚な排ガスのみを屋外に排気し、汚れ成分の希薄な排ガスを装置内部で処理する洗浄装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報の洗浄装置では、クリーンルーム内で温調及び清浄化処理された空気の屋外放出量などは減少するものの、排水処理装置や屋外型の排ガス処理装置の設置が無論必要であり、イニシャルコスト、ランニングコストに課題を残すと共に、装置全体の設置に広い設置面積が必要になるといった課題もある。
【０００６】
そこで本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、装置の小型化が図れると共に、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる処理装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る処理装置は、クリーンルーム内に設置され、被洗浄物を直接洗浄するための第１のユニット部分と気化蒸発成分中の汚れ成分を除去するための第２のユニット部分とが一体的に構成されたクローズド型の処理装置であって、前記第１のユニット部分が、室内空気を排気する排気口を下方又は側方に設け、清浄空気を室内に供給する空気供給口を上方に設けた処理室を少なくとも備え、前記第２のユニット部分が、下方に貯水槽を配置し上方にこの貯水槽から供給される水を噴霧する噴射ノズルを配置して前記排気口から排気された空気を洗浄する湿式処理部と、前記噴射ノズルから噴霧される水の温度を制御する温度制御装置と、前記湿式処理部で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる熱交換部と、前記熱交換部で相対湿度の低下された空気からケミカル物質を除去する乾式処理部とを少なくとも備え、さらに、処理装置本体には、前記空気供給口の上方に配置され、前記ケミカル物質を除去された空気をさらに清浄化して前記処理室に供給するフィルタユニットと、前記処理室を巡って配置され経路内に前記湿式処理部、前記熱交換部、前記乾式処理部を含む空気循環路と、前記空気循環路内に配置され前記処理室内の空気を前記排気口から前記空気供給口へ向けて送気する送気ファンと、が設けられていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の処理装置のフィルタユニットとして、例えばファンフィルタユニットを適用してもよい。また、本発明の処理装置の前記処理室には、被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する薬液槽と、前記薬液槽で前記被洗浄物に付着した前記薬液を洗浄して除去する薬液除去槽とが例えば配置される。本発明の処理装置において、前記薬液とは、過酸化水素水、アンモニア水、フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸及び有機物からなる群から選択される１又は２以上のものが挙げられる。
【０００９】
また、本発明の処理装置では、前記貯留槽内の貯留水から汚濁成分を除去する前記薬液除去ユニットを備え、この薬液除去ユニットが、前記薬液の種類に応じて選択された吸着剤として例えば活性炭カラムが適用され、イオン交換樹脂として強カチオン交換樹脂カラム、強アニオン交換樹脂カラム、又は弱アニオン交換樹脂カラムなどが適用される。
【００１０】
さらに、本発明の処理装置では、前記熱交換部で冷却された処理水の湿式洗浄部での霧化処理は、噴射ノズル、例えばフルコーンノズル又はホロコーンノズルによって行われる。また、圧搾空気と水を同時に噴射する二流体ノズルを用いる場合もある。
【００１１】
また、本発明の処理装置では、前記湿式処理部を構成する充填材としてビニロック及び／又はテラレットなどを適用していることで、上記湿式処理部での気液接触効率の向上（気液接触面積の向上及び気液接触時間の増加）を図ることができる。
【００１２】
さらに、本発明の処理装置では、前記乾式処理部にケミカルフィルタや有機物ガス成分を乾式吸着処理する活性炭フィルタを設けることが望ましい。ケミカルフィルタとしては、カチオン汚濁成分を吸着処理するフィルタやアニオン汚濁成分を吸着処理するフィルタなどが例示される。
【００１３】
また、本発明の処理装置において、ファンフィルタユニットに組み込むべきフィルタとしてはＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタなどが好適である。また、本発明の処理装置において、薬液除去ユニットによって処理された処理水の導電率を例えばμＳ／ｃｍオーダで監視できる導電率モニタを設けてもよい。
【００１４】
このように構成される本発明の処理装置では、洗浄用の薬液が気化した汚濁成分を含む気体が、上述した湿式処理部や乾式処理部で処理されて処理室に帰還し再使用される。ここで、乾式処理部の前段に、装置内の相対湿度を低減させる熱交換部が配置されていることから、気化蒸発成分中の汚れ成分の水への溶解性能が向上することになる。
【００１５】
つまり、本発明の処理装置は、クリーンルーム内に設置される完全クローズドの無排水・無排気型の装置として好適である。さらに、本発明の処理装置によれば、清浄化処理及び温調されたクリーンル−ム内の清浄空気を排気する必要がないので、エネルギー的にむだがなく、また無排気型であるため環境汚染のおそれもない。これにより、本発明では、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる。また、本発明の処理装置によれば、気化蒸発成分中の汚れ成分を処理（排気処理など）するためのユニット部分を、薬液槽、薬液除去槽などが配置される処理室と一体的に構成したので、排気ガス処理用のスクラバなどを屋外に設置することことなどが不要となる。これにより、装置全体の小型化及び構造の簡略化を図ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る洗浄処理装置を概略的に示す全体図、図２は、この洗浄処理装置を示す斜視図、図３は、本装置を機能的に示す模式図である。
これらの図に示すように、本実施形態の洗浄処理装置１は、例えばクリーンルーム３１内に設置され、循環風量が１２ｍ³／ｍｉｎ程度の完全クローズド型の装置であって、洗浄機本体部３２と洗浄機付帯部３３とを一体的に構成したものである。
【００１７】
洗浄処理装置１は、室内空気を排気する排気口３４を下方の側部に備え且つ清浄空気を室内に供給する空気供給口３５を上方に備えた処理室３６と、下方に貯水槽３７を配置し上方にこの貯水槽３７から供給される水を噴霧する噴射ノズル１２を配置して排気口３４から排気された空気を洗浄する湿式処理部３８と、熱交換部３９に配置され噴射ノズル１２から噴霧される水の温度を制御する冷却用熱交換器９と、熱交換部４０に配置され湿式処理部３８で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる再熱用ヒータ１３と、乾式処理部４１に配置され熱交換部４０で相対湿度を低下させた空気からケミカル物質を除去するケミカルフィルタ１４と、ケミカル物質を除去された空気を処理室３６にダウンフローする処理室３６の空気供給口３５の上方に配置されたＦＦＵ（ファンフィルタユニット）３と、処理室３６を巡って配置され経路内に湿式処理部３８、再熱用ヒータ１３、乾式処理部４１を含む空気循環路４２と、空気循環路４２内に配置され、ＦＦＵ３と協働して処理室３６内の空気を排気口３４から空気供給口３５へ向けて送気する送風機（シロッコファン）２とを備えて構成されている。
【００１８】
処理室３６には、浴槽部４３と洗浄部４５とが設けられている。浴槽部４３には、例えば半導体ウエハなどの被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する、加熱ヒータ４６を備えた薬液槽４が配置されている。洗浄部４５には、薬液槽４で被洗浄物に付着した薬液を洗浄して除去する、スプレーノズル４７を備えた薬液除去槽としてのリンス槽５が配置されている。送風機２は、洗浄機付帯部３３の最上部にある乾式処理部４１に配置されている。勿論、送風機２を洗浄機本体部３２の最上部にある誘引送風部４３ａに設置してもよい。
【００１９】
ＦＦＵ部４８に設置されるＦＦＵ３は、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタとファンとが一体化された装置である。ここで、薬液槽４及びリンス槽５の上部より気化蒸発する成分は、ＦＦＵ部４８より下方に送気された空気と共に湿式処理部３８へ送気される。また、洗浄処理装置１には、図２に示すように、装置前面に扉部４４が設けられており、この扉部４４を一部開けた状態で処理室３６内に作業者が腕を入れることにより、この処理室３６内で薬品類を取り扱えるようになっている。
【００２０】
さらに、洗浄処理装置１には、貯水槽３７内の貯留水から汚濁成分を除去する薬液除去ユニット８が設けられている。噴射ノズル１２へ供給される水は、貯水槽３７に貯留された水をポンプ５５によりポンプアップして薬液除去ユニット８へ圧送される。
【００２１】
湿式処理部３８には、下方からの気液接触効率が高まるように、気液分離処理を行うための充填材であるビニロック１０及びテラッレト１１と、噴霧（霧化）処理を行うための噴射ノズル１２を備えた噴霧器４９が設けられている。上記充填材は、気液接触時間を延ばすことと気液分離を効率良く行うためのもである。
【００２２】
噴霧器４９は、図４の平面図（噴霧器を下側からみた図）及び図５の垂直断面図にそれぞれ示すように、例えば８個のフルコーン型の噴射ノズル１２を備えた角型タイプの装置が用いられている。
すなわち、この噴霧器４９には、各噴射ノズル１２を中心としてそれぞれを格子状の領域で区画すると共に上部及び下部に開口した貫通孔５１を形成する仕切りフレーム５２が設けられている。各噴射ノズル１２は、配管５４と接続されており、ポンプ５５で圧送された処理水をノズル先端の吐出口５３から吐出するようになっている。吐出された処理水は、吐出口５３を頂点として噴出され、この噴出された処理水は、仕切りフレーム５２の各内壁面に衝突する。この衝突の際にさらに微細な霧状の処理水微粒子が形成される。湿式処理部３８に流動してきたガスは、各貫通孔５１を通過するときに処理水微粒子と接触する。
【００２３】
また、このような噴霧器４９に代えて、図６の平面図（噴霧器を下側からみた図）及び図７の垂直断面図でそれぞれ示すように、ホロコーン型の噴射ノズル６０を備えた円形型タイプの噴霧器６１を適用してもよい。
すなわち、この噴霧器６１は、噴射ノズル６０とほぼ同じ高さに、案内板６２を備えている。この案内板６２には、例えば８個の貫通孔６３が設けられている。この貫通孔６３には円筒状のソケット６４が案内板６２の下向きに配設されている。各噴射ノズル６０は、各貫通孔５１の中心に配設されている。噴射ノズル６０は、配管６７と接続されており、ポンプで圧送された処理水を吐出口６５から吐出するようになっている。吐出された処理水は、吐出口６５を中心として放射状に噴出される。
【００２４】
薬液除去ユニット８には、図８に示すように、連通水管５９に直列に接続された活性炭カラム５６、カチオン交換樹脂カラム５７及びアニオン交換樹脂カラム５８が設けられている。また、カチオン交換樹脂及びアニオン交換樹脂を一つのカラムに入れた混床カラム（ミックスべット：ＭＢとも呼ぶ）を用いる場合もある。
吸着材である活性炭カラム５６では、過酸化水素分解をはじめとする分解処理と、有機物などの吸着処理とが行われる。カチオン交換樹脂カラム５７は、アンモニアをはじめとするカチオン成分を強カチオン交換樹脂によりイオン交換処理するためのものである。また、アニオン交換樹脂カラム５８は、アニオン成分を強アニオン交換樹脂又は弱アニオン交換樹脂によりイオン交換処理するためのものである。また、薬液除去ユニット８では、上記いずれかのカラムで薬液成分の除去処理を行った後、薬液成分を主成分とする汚れ成分の負荷状態により噴射ノズル１２へ圧送するものと貯水槽３７に戻されるものとが振り分けられる。
【００２５】
薬液除去ユニット８で汚れ成分を除去された処理水は、精製水程度の高純度水であり、いわゆる「ハングリーウォータ」と呼ばれ、普通の水では考えられないような汚れ成分の処理性がある。噴射ノズル１２へ圧送される処理水は、冷却用熱交換器９を通して圧送される。冷却用熱交換器９で処理水を冷却する目的は相対湿度の低減のためと「ハングリーウォータ」としての汚れ成分の処理性を向上させるためである。さらに、後段のケミカルフィルタ１４の除去性能は湿度に依存するため、予め処理対象汚れ成分の除去性能を実験で確認し、最も除去性能の優れた相対湿度にするための水温に設定してある。ここで、除去すべきケミカル物質は、例えばＮａ⁺、Ｃａ²⁺、Ｍｇ²⁺などの金属イオン成分、Ｃｌ⁻、ＮＯ₃ ⁻、ＳＯ₄ ⁻などの無機酸成分、ＴＯＣ（全有機炭素）であらわされる有機化合物成分などである。
【００２６】
湿式処理部３８を通過した空気は、相対湿度を低減させるための再熱用ヒータ１３へ送気される。ここで、気化蒸発成分中の薬液成分を主成分とする汚れ成分の除去率が、例えば９８％より悪い場合、汚れ成分の種類により、活性炭系、カチオン系（アンモニア等）、アニオン系などのケミカルフィルタを選定することが好ましい。ケミカルフィルタ１４の配置される乾式処理部３９からの戻り空気は、送風機２で吸引循環される。
【００２７】
薬液除去ユニット８で処理された処理水及び貯水槽３７に収容された水は、冷却用熱交換器９の後段に設けられた導電率モニタ１５で連続的に監視される。これにより、処理水の噴射ノズル１２又は貯水槽３７への振り分け、薬液除去ユニット８の各種カラムの交換時期などの管理を行うことができる。
【００２８】
ビニロック１０及びテラッレト１１は、フッ素樹脂などの化学的に不活性な材料で形成されており、同材料は、不織布状、メッシュ状、ハニカム状、コイル状など、気体が通過する際の経路が複雑化するように形成されている。すなわち、ビニロック１０及びテラッレト１１は、気液接触効率を向上させ且つ空気中の水滴や水蒸気を結露し易くし、また、気液分離にも使用できる。これら結露水、噴射水、気液接触に用いられた水は、貯水槽３７に一旦収容され、薬液除去ユニット８及び冷却用熱交換器９に送られ、再び噴射ノズル１２に移送される。
【００２９】
このように構成された本実施形態の洗浄処理装置１では、薬液槽４及びリンス槽５から気化蒸発する薬液成分を主成分とする汚れ成分を、湿式処理及び乾式処理することで、空気を装置内で循環させることができ、環境破壊のおそれがない。さらに、湿式処理で処理された薬液成分を主成分とする汚れ成分は、薬液除去ユニット８で処理・貯留され、処理水は貯水槽３７に貯留、再利用されるため、無排水となり前記同様環境破壊のおそれがない。したがって、洗浄処理装置１では、装置を小型化できることから、設置面積の省スペース化が図れ、しかもイニシャルコスト及びランニングコストを低減させることができる。
【００３０】
【実施例】
次に本発明を実施例により詳細に説明する。
本実施例では、発明の実施の形態で説明した洗浄処理装置１と同一の装置を適用した。本実施例の洗浄処理装置１の主な仕様や条件は下記の通りである。
処理条件を表１に示し測定箇所ａ及び測定箇所ｂでの測定結果を表２に示す。
【００３１】
【表１】

【００３２】
【表２】

【００３３】
（１）洗浄処理装置
洗浄処理装置１は、小型化を図り、装置サイズとして、幅３，０００ｍｍ×奥行１，２００ｍｍ×高さ２，５００ｍｍのものを使用した。
洗浄処理装置１の稼動条件は、ＨＥＰＡ又はＵＬＰＡフィルタが組み込まれたＦＦＵ（幅８００ｍｍ×奥行１，１００ｍｍ×高さ３００ｍｍ）３により、洗浄機付帯部３３で処理された清浄な空気を、風速０．３５〜０．５ｍ／ｓｅｃで薬液槽４、リンス槽（共に幅４００ｍｍ×奥行３００ｍｍ×深さ３００ｍｍ）５へダウンフローし、薬液槽４、リンス槽５よりの気化蒸発成分を同搬して湿式処理部３８へ送気する。
【００３４】
（２）薬液槽
薬液槽４は、薬液が酸でもアルカリでも使用可能なように石英管で保護した加熱ヒータ４６付の硬質ガラス槽を用いた。薬液は下記組成のものを使用した。
（フッ酸）５０％フッ酸（ＨＦ）試薬２ｌを比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１８ｌで希釈して使用した。加熱温度は、常温（２３℃程度）で使用した。
（過酸化水素＋硫酸）３５％過酸化水素（Ｈ₂Ｏ₂）試薬４ｌと７５％硫酸（Ｈ₂ＳＯ₄）１６ｌとを混和して使用した。加熱温度は、常温から最大１２０℃までの設定値で制御した。
８５％燐酸（Ｈ₃ＰＯ₄）試薬１３．５ｌを比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１．５ｌで希釈して使用した。加熱温度は、常温から最大１２０℃までの設定値で制御を行った。
（アンモニア水）２８〜３０％アンモニア水（ＮＨ₄ＯＨ）試薬２ｌに比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水１２ｌに希釈して使用した。加熱温度は、常温の設定値で制御した。
【００３５】
（３）リンス槽
リンス槽５は、薬液槽４で薬液洗浄された各種部品に付着した薬液を洗浄する槽である。リンス槽５は、その上部にスプレーノズル４７が付帯されている。洗浄水には、比抵抗値が５ＭΩ・ｃｍの一次純水を使用した。
【００３６】
（４）湿式処理部
湿式処理部３８は、送気された気化蒸発した汚れ成分を除去するものであって、２枚のビニロック（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ５０ｍｍ）１０でテラレット１１を挟んだ気液接触部分（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ３５０ｍｍ）と、その上部にフルコーン型噴射ノズル（８個）１２が噴射方向を下方に向けそれぞれ独立して仕切られた部屋に配設された噴霧器（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ２５０ｍｍ）４９と、その上部に、２枚のビニロック（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ５０ｍｍ）１０でテラレット１１を挟んだ気液分離部分（幅３００ｍｍ×奥行６００ｍｍ×高さ１５０ｍｍ）とで構成される。
また、上記フルコーン型噴射ノズル（８個）の代わりとしては、例えば、ノズル内部の中心に圧搾空気が移送されその外側に水が流れる内部混合型の二流体ノズル（８個）を使用する。この場合、圧搾空気圧を４Ｋｇ／ｃｍ²、送風量を４ｍ³／ｍｉｎ、水の噴射圧を２Ｋｇ／ｃｍ²、噴射量を５００ｌ／ｍｉｎに設定する。
【００３７】
（５）薬液除去ユニット
薬液除去ユニット８は、ポンプ（仕様：１５Ｋｗ×２００Ｖ×５０Ｈｚ）５５により水槽よりポンプアップされた水から、水側に移行した汚れ成分を除去する。ここで、冷却用熱交換器９を通して噴射ノズル１２へと分岐されるその割合は、薬液成分の量の影響を受けるが、ほぼ１対１０で処理されている。
薬液除去ユニット８は、過酸化水素の分解、有機成分の吸着を目的とした活性炭カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５６に、ヤシガラ活性炭（ＡＣ）２８ｌを充填したものを用いた。
次に、カチオン交換樹脂カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５７に、強カチオン交換樹脂（ＳＣ）２８ｌを充填したものを用いた。
さらに、アニオン交換樹脂カラム（φ２００ｍｍ×高さ９５０ｍｍ）５８には、強アニオン交換樹脂（ＳＡ）２８ｌを充填したもの、又は弱アニオン交換樹脂（ＷＡ）２８ｌを充填したものを用いた。
また、上記構成を変更する場合には、例えば、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混合した容量５６ｌの混床カラム（φ２５０ｍｍ×高さ１２３０ｍｍ）が適用される。
【００３８】
（６）再熱ヒータ
再熱ヒータ１３は、気液分離部分で処理された気体の相対湿度を調整する。高湿度の環境下ではケミカルフィルタ１４でガス成分を高効率に除去できるため、相対湿度が高め（４０〜９５％ＲＨ）になるように再熱ヒータ１３の制御温度が設定される。
【表３】

【００３９】
（７）ケミカルフィルタ
ケミカルフィルタ１４としては、不織布に、活性炭層、カチオン交換樹脂層、アニオン交換樹脂層として加工された市販品を使用した。
【００４０】
（８）送風機
送風機２は、仕様：０．７５Ｋｗ×２００Ｖ×６０Ｈｚのものを適用した。
【００４１】
以上のような条件、仕様で、表１に示す稼動条件で運転したところ、表２に示したような結果が得られた。
表２の測定箇所ｂにおける測定結果から判断して、従来のワンパス処理である室内空気取り入れ方式と有意差のない結果が得られた。
【００４２】
（他の実施例）
この実施例の洗浄処理装置では、洗浄機付帯部３３をクリーンドラフトに設置して一体化してある。
ドラフト内でフッ酸ガスを５００ｐｐｂ程度発生させ、循環戻り空気中のフッ酸濃度を測定したところ、０．１ｐｐｂ以下の結果が得られた。
この実施例の洗浄処理装置では、クリーンブースをはじめ、各種気化蒸発成分を放散する、あらゆる機器の汚れ成分を処理し、一体型の完全クローズド型装置として適用可能であることを確認できた。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の処理装置は、クリーンルーム内に設置される完全クローズドの無排水・無排気型の装置として好適であり、清浄化処理及び温調されたクリーンル−ム内の清浄空気を排気する必要がないので、エネルギ的にむだがなく、また無排気型であるため環境汚染のおそれもない。これにより、本発明では、装置にかかるイニシャルコスト及びランニングコストを低減できる。また、本発明の処理装置によれば、気化蒸発成分中の汚れ成分を処理（排気処理など）するためのユニット部分を、薬液槽、薬液除去槽などが配置される処理室と一体的に構成したので、排気ガス処理用のスクラバなどを屋外に設置することなどが不要となる。これにより、装置全体の小型化及び構造の簡略化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る洗浄処理装置を概略的に示す全体図である。
【図２】図１の洗浄処理装置を示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄処理装置を機能的に示す模式図である。
【図４】図１の洗浄処理装置が備える噴霧器を下側からみた平面図である。
【図５】図４の噴霧器を示す垂直断面図である。
【図６】図４、図５に示す噴霧器と構造の異なる他の噴霧器を下側からみた平面図である。
【図７】図６の噴霧器を示す垂直断面図である。
【図８】図１の洗浄処理装置が備える薬液除去ユニットの構成を概略的に示す図である。
【符号の説明】
１…洗浄処理装置、２…送風機（シロッコファン）、３…ＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）、４…薬液槽、５…リンス槽、７…ポンプ、８…薬液除去ユニット、９…冷却用熱交換器、１０…ビニロック（充填材）、１１…テラレット（充填材）、１２，６０…噴射ノズル、１３…再熱用ヒータ、１４…ケミカルフィルタ、１５…導電率モニタ、３４…排気口、３５…空気供給口、３６…処理室、３７…貯水槽、３８…湿式処理部、３９，４０…熱交換部、４１…乾式処理部、４２…空気循環路、５６…活性炭カラム、５７…カチオン交換樹脂カラム、５８…アニオン交換樹脂カラム、５９…連通水管、ａ…各種測定項目の入口測定個所、ｂ…各種測定項目の出口測定個所。[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
The present invention relates to a processing apparatus for cleaning various electronic components using chemicals such as hydrogen peroxide, ammonia, inorganic acids (hydrofluoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc.) and organic substances.
[0002]
[Prior art]
In general, in the manufacturing process of electronic components, the exhaust gas treatment of the cleaning device that cleans the electronic components using various chemicals is a so-called one-pass treatment, and the air in the clean room is converted into caustic soda / sulfuric acid in an outdoor cleaning tower. Acid / alkaline chemical cleaning methods that use chemicals such as neutralization and decomposition are used. Here, in this acid / alkali chemical cleaning method, since the acid / alkali is drained, it is necessary to treat the waste liquid.
[0003]
In the above cleaning method, the air in the clean room, that is, the air that has been cleaned and temperature-controlled is released to the outdoors, and this is a problem in terms of energy balance that goes against the recent trend of energy saving. There is. Furthermore, although the exhaust gas discharged outdoors is processed by a scrubber or the like, it cannot be said to be a complete process, but it is released to the atmosphere although it is a trace amount, causing environmental pollution.
[0004]
Various proposals have been made in consideration of such circumstances. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-167416 discloses a cleaning apparatus that exhausts only exhaust gas rich in dirt components to the outdoors and treats exhaust gas rich in dirt components inside the apparatus.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the cleaning device of the above publication, although the amount of air released after temperature control and cleaning in the clean room is reduced, it is of course necessary to install a waste water treatment device or an outdoor type exhaust gas treatment device. In addition to the problems of cost and running cost, there is a problem that a large installation area is required for installation of the entire apparatus.
[0006]
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a processing apparatus that can reduce the size of the apparatus and reduce the initial cost and running cost of the apparatus.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a processing apparatus according to the present invention is installed in a clean room, and a first unit portion for directly cleaning an object to be cleaned and a contamination component in a vaporized evaporation component are removed. 2 is a closed type processing apparatus integrally formed with the first unit portion , wherein the first unit portion is provided with an exhaust port for exhausting indoor air below or to the side, and clean air is supplied indoors. At least a processing chamber provided with an air supply port to be disposed above, and the second unit portion includes a water storage tank below and an injection nozzle for spraying water supplied from the water storage tank above. A wet processing unit for cleaning air exhausted from the exhaust port, a temperature control device for controlling the temperature of water sprayed from the spray nozzle, and heating the air cleaned by the wet processing unit to increase relative humidity. Decreasing heat It includes a section, and a dry processing unit for removing chemical materials from the reduced air relative humidity the heat exchanging portion at least, furthermore, the processing apparatus main body, is disposed above the air supply port, the chemical A filter unit that further purifies the air from which the material has been removed and supplies the air to the processing chamber, and an air circulation that is disposed around the processing chamber and includes the wet processing unit, the heat exchange unit, and the dry processing unit in a path. And an air supply fan that is arranged in the air circulation path and supplies air in the processing chamber from the exhaust port to the air supply port.
[0008]
For example, a fan filter unit may be applied as the filter unit of the processing apparatus of the present invention. Further, in the processing chamber of the processing apparatus of the present invention, a chemical solution tank for storing a chemical solution for cleaning the object to be cleaned, and a chemical solution removing tank for cleaning and removing the chemical solution attached to the object to be cleaned in the chemical solution tank Are arranged, for example. In the treatment apparatus of the present invention, examples of the chemical solution include one or more selected from the group consisting of hydrogen peroxide solution, ammonia water, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and organic substances.
[0009]
Moreover, in the processing apparatus of this invention, it has the said chemical | medical solution removal unit which removes a pollutant component from the stored water in the said storage tank, and this chemical | medical solution removal unit is activated carbon as an adsorbent selected according to the kind of said chemical | medical solution, for example A column is applied, and a strong cation exchange resin column, a strong anion exchange resin column, a weak anion exchange resin column, or the like is applied as an ion exchange resin.
[0010]
Furthermore, in the processing apparatus of this invention, the atomization process in the wet-cleaning part of the treated water cooled by the said heat exchange part is performed by an injection nozzle, for example, a full cone nozzle or a holo cone nozzle. Moreover, the two-fluid nozzle which injects compressed air and water simultaneously may be used.
[0011]
Further, in the processing apparatus of the present invention, by applying vinylolc and / or terralet as a filler constituting the wet processing unit, improvement of gas-liquid contact efficiency in the wet processing unit (gas-liquid contact area) Improvement and increase in gas-liquid contact time).
[0012]
Furthermore, in the processing apparatus of the present invention, it is desirable to provide a chemical filter or an activated carbon filter for dry adsorption treatment of organic gas components in the dry processing section. Examples of the chemical filter include a filter that adsorbs a cationic contaminant component, a filter that adsorbs an anionic contaminant component, and the like.
[0013]
In the processing apparatus of the present invention, a HEPA filter, a ULPA filter, or the like is suitable as a filter to be incorporated in the fan filter unit. Moreover, in the processing apparatus of this invention, you may provide the electrical conductivity monitor which can monitor the electrical conductivity of the treated water processed by the chemical | medical solution removal unit by micro-S / cm order, for example.
[0014]
In the processing apparatus of the present invention configured as described above, the gas containing the pollutant component evaporated from the cleaning chemical solution is processed in the above-described wet processing unit or dry processing unit and returned to the processing chamber for reuse. Here, since the heat exchanging part for reducing the relative humidity in the apparatus is arranged in the preceding stage of the dry processing part, the performance of dissolving the dirt component in the vaporized and evaporated component in water is improved.
[0015]
That is, the treatment apparatus of the present invention is suitable as a completely closed undrained and unexhausted apparatus installed in a clean room. Furthermore, according to the processing apparatus of the present invention, since it is not necessary to exhaust the clean air in the clean room that has been cleaned and temperature-controlled, there is no need for exhausting energy, and the environment is not exhausted. There is no risk of contamination. Thereby, in this invention, the initial cost and running cost concerning an apparatus can be reduced. Further, according to the processing apparatus of the present invention, the unit part for processing the dirt component in the vaporized and evaporated component (exhaust processing or the like) is configured integrally with the processing chamber in which the chemical solution tank, the chemical solution removal tank and the like are arranged. Therefore, it becomes unnecessary to install a scrubber for exhaust gas treatment outdoors. As a result, the entire apparatus can be reduced in size and the structure can be simplified.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is an overall view schematically showing a cleaning processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the cleaning processing apparatus, and FIG. 3 is a schematic diagram functionally showing the apparatus. .
As shown in these drawings, the cleaning processing apparatus 1 of the present embodiment is a completely closed type apparatus that is installed in, for example, a clean room 31 and has a circulating air volume of about 12 m ³ / min. The washing machine accessory 33 is integrally formed.
[0017]
The cleaning processing apparatus 1 includes a processing chamber 36 provided with an exhaust port 34 for exhausting indoor air at a lower side portion and an air supply port 35 for supplying clean air to the room above, and a water storage tank 37 below. The spray nozzle 12 that sprays the water supplied from the water storage tank 37 is disposed above, and the wet processing section 38 that cleans the air exhausted from the exhaust port 34 and the heat exchange section 39 that is disposed from the spray nozzle 12. A heat exchanger 9 for cooling that controls the temperature of the sprayed water, a heater 13 for reheating that lowers the relative humidity by heating the air disposed in the heat exchanging unit 40 and washed by the wet processing unit 38, The chemical filter 14 for removing the chemical substance from the air disposed in the dry processing part 41 and having the relative humidity lowered by the heat exchanging part 40, and the air in the processing room 36 for downflowing the air from which the chemical substance has been removed to the processing room 36 Supply port FFU (fan filter unit) 3 disposed above 5, an air circulation path 42 that is disposed around the processing chamber 36 and includes a wet processing unit 38, a reheating heater 13, and a dry processing unit 41 in the path, The air blower (sirocco fan) 2 is arranged in the air circulation path 42 and sends air in the processing chamber 36 from the exhaust port 34 toward the air supply port 35 in cooperation with the FFU 3. .
[0018]
The processing chamber 36 is provided with a bathtub portion 43 and a cleaning portion 45. In the bath portion 43, for example, a chemical tank 4 provided with a heater 46 that stores a chemical solution for cleaning an object to be cleaned such as a semiconductor wafer is disposed. The cleaning section 45 is provided with a rinsing tank 5 as a chemical solution removal tank equipped with a spray nozzle 47 that cleans and removes the chemical liquid attached to the object to be cleaned in the chemical liquid tank 4. The blower 2 is disposed in a dry processing unit 41 at the uppermost part of the washing machine accessory portion 33. Of course, you may install the air blower 2 in the induction air blower 43a in the uppermost part of the washing machine main-body part 32. FIG.
[0019]
The FFU 3 installed in the FFU unit 48 is an apparatus in which a HEPA filter or ULPA filter and a fan are integrated. Here, the components evaporated and evaporated from the upper part of the chemical solution tank 4 and the rinse tank 5 are supplied to the wet processing unit 38 together with the air supplied downward from the FFU unit 48. Further, as shown in FIG. 2, the cleaning processing apparatus 1 is provided with a door portion 44 on the front surface of the apparatus, and an operator puts his arm into the processing chamber 36 with the door portion 44 partially opened. Thus, chemicals can be handled in the processing chamber 36.
[0020]
Further, the cleaning apparatus 1 is provided with a chemical removal unit 8 that removes contaminant components from the stored water in the water storage tank 37. The water supplied to the injection nozzle 12 is pumped up by the pump 55 from the water stored in the water storage tank 37 and is pumped to the chemical removal unit 8.
[0021]
In the wet processing section 38, the vinylock 10 and the terrallet 11 which are fillers for performing the gas-liquid separation process, and the injection nozzle for performing the spraying (atomization) process so that the gas-liquid contact efficiency from below is increased. A nebulizer 49 with 12 is provided. The filler is for extending the gas-liquid contact time and performing gas-liquid separation efficiently.
[0022]
As shown in the plan view of FIG. 4 (view of the sprayer from the lower side) and the vertical sectional view of FIG. 5, the sprayer 49 is, for example, a square type device having eight full cone type spray nozzles 12. It is used.
That is, the sprayer 49 is provided with a partition frame 52 that divides each of the spray nozzles 12 as a center in a grid-like region and forms through holes 51 that open to the upper and lower portions. Each spray nozzle 12 is connected to a pipe 54 and discharges treated water pumped by a pump 55 from a discharge port 53 at the tip of the nozzle. The discharged treated water is ejected with the ejection port 53 as a vertex, and the ejected treated water collides with each inner wall surface of the partition frame 52. Finer mist-like treated water particles are formed during this collision. The gas that has flowed to the wet treatment unit 38 comes into contact with the treated water fine particles when passing through each through hole 51.
[0023]
Further, in place of such a sprayer 49, as shown in a plan view of FIG. 6 (a view of the sprayer from below) and a vertical sectional view of FIG. The nebulizer 61 may be applied.
That is, the sprayer 61 includes a guide plate 62 at substantially the same height as the spray nozzle 60. The guide plate 62 is provided with, for example, eight through holes 63. A cylindrical socket 64 is disposed in the through-hole 63 so as to face downward. Each injection nozzle 60 is disposed at the center of each through hole 51. The spray nozzle 60 is connected to a pipe 67 and discharges treated water pumped by a pump from a discharge port 65. The discharged treated water is ejected radially around the discharge port 65.
[0024]
As shown in FIG. 8, the chemical solution removal unit 8 is provided with an activated carbon column 56, a cation exchange resin column 57, and an anion exchange resin column 58 connected in series to a communication water pipe 59. In some cases, a mixed bed column (also referred to as mixed bed: MB) in which a cation exchange resin and an anion exchange resin are placed in one column may be used.
In the activated carbon column 56 which is an adsorbent, decomposition treatment including hydrogen peroxide decomposition and adsorption treatment of organic substances and the like are performed. The cation exchange resin column 57 is for ion exchange treatment of cation components including ammonia with a strong cation exchange resin. The anion exchange resin column 58 is used for ion exchange treatment of an anion component with a strong anion exchange resin or a weak anion exchange resin. Further, in the chemical solution removing unit 8, after the chemical component removal process is performed in any of the above-described columns, the chemical solution component is pumped to the injection nozzle 12 depending on the load state of the dirt component mainly composed of the chemical component and returned to the water storage tank 37. Are distributed.
[0025]
The treated water from which the dirt component has been removed by the chemical removal unit 8 is high-purity water that is about the same level as purified water, and is called “Hungry Water”, and has a treatability of dirt components that cannot be considered with ordinary water. . The treated water pumped to the spray nozzle 12 is pumped through the cooling heat exchanger 9. The purpose of cooling the treated water with the cooling heat exchanger 9 is to reduce the relative humidity and to improve the processability of the soil components as “Hungry Water”. Further, since the removal performance of the chemical filter 14 at the subsequent stage depends on the humidity, the removal performance of the soil component to be treated is confirmed in advance by experiments, and the water temperature is set to a relative humidity with the best removal performance. Here, the chemical substances to be removed are, for example, metal ion components such as Na ⁺ , Ca ²⁺ and Mg ²⁺ , inorganic acid components such as Cl ⁻ , NO ₃ ⁻ and SO ₄ ⁻ , and TOC (total organic carbon). It is an organic compound component that is represented.
[0026]
The air that has passed through the wet processing unit 38 is sent to the reheating heater 13 for reducing the relative humidity. Here, when the removal rate of the soil component mainly composed of the chemical component in the vaporized vapor component is worse than 98%, for example, activated carbon, cationic (ammonia, etc.), anion-based chemicals, etc., depending on the type of the soil component. It is preferable to select a filter. Return air from the dry processing unit 39 in which the chemical filter 14 is disposed is sucked and circulated by the blower 2.
[0027]
The treated water treated by the chemical removal unit 8 and the water stored in the water storage tank 37 are continuously monitored by the conductivity monitor 15 provided at the rear stage of the cooling heat exchanger 9. As a result, it is possible to manage the distribution timing of the treated water to the injection nozzles 12 or the water storage tank 37, the replacement timing of various columns of the chemical solution removal unit 8, and the like.
[0028]
The vinylock 10 and the terrallet 11 are made of a chemically inert material such as a fluororesin, and the material has a complicated path when a gas passes, such as a nonwoven fabric, a mesh, a honeycomb, or a coil. It is formed to become. That is, the vinylock 10 and the terraretto 11 improve the gas-liquid contact efficiency, make it easy to condense water droplets and water vapor in the air, and can also be used for gas-liquid separation. The condensed water, the jet water, and the water used for the gas-liquid contact are temporarily stored in the water storage tank 37, sent to the chemical solution removal unit 8 and the cooling heat exchanger 9, and transferred to the jet nozzle 12 again.
[0029]
In the cleaning processing apparatus 1 of the present embodiment configured as described above, the air component is obtained by wet-processing and dry-processing the soil component mainly composed of the chemical liquid component evaporated and evaporated from the chemical liquid tank 4 and the rinse tank 5. It can be circulated within the environment and there is no risk of environmental damage. Further, the soil component mainly composed of the chemical solution component processed by the wet processing is processed and stored in the chemical solution removing unit 8, and the processed water is stored and reused in the water storage tank 37. There is no risk of destruction. Therefore, since the cleaning apparatus 1 can be downsized, the installation area can be reduced, and the initial cost and running cost can be reduced.
[0030]
【Example】
EXAMPLES Next, an Example demonstrates this invention in detail.
In this example, the same apparatus as the cleaning processing apparatus 1 described in the embodiment of the invention was applied. The main specifications and conditions of the cleaning processing apparatus 1 of the present embodiment are as follows.
The processing conditions are shown in Table 1, and the measurement results at the measurement location a and measurement location b are shown in Table 2.
[0031]
[Table 1]

[0032]
[Table 2]

[0033]
(1) Cleaning processing apparatus The cleaning processing apparatus 1 was reduced in size and used as an apparatus size having a width of 3,000 mm, a depth of 1,200 mm, and a height of 2,500 mm.
The operating condition of the cleaning apparatus 1 is that the clean air treated by the cleaning machine accessory 33 by the FFU (width 800 mm × depth 1,100 mm × height 300 mm) 3 in which a HEPA or ULPA filter is incorporated, Down flow to the chemical tank 4 and the rinse tank (both width 400 mm × depth 300 mm × depth 300 mm) 5 at 35 to 0.5 m / sec and carry the vaporized and evaporated components from the chemical tank 4 and the rinse tank 5 together. Air is supplied to the wet processing unit 38.
[0034]
(2) Chemical tank The chemical tank 4 is a hard glass tank with a heater 46 protected with a quartz tube so that the chemical liquid can be used with either acid or alkali. The chemical solution having the following composition was used.
(Hydrofluoric acid) 2 l of 50% hydrofluoric acid (HF) reagent was diluted with 18 l of primary pure water having a specific resistance of 5 MΩ · cm. The heating temperature was normal temperature (about 23 ° C.).
(Hydrogen peroxide + sulfuric acid) ₄ l of 35% hydrogen peroxide (H ₂ O ₂ ) reagent and 16 l of 75% sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ) were mixed and used. The heating temperature was controlled by a set value from room temperature to a maximum of 120 ° C.
13.5 l of 85% phosphoric acid (H ₃ PO ₄ ) reagent was diluted with 1.5 l of primary pure water having a specific resistance of 5 MΩ · cm. The heating temperature was controlled at a set value from room temperature to a maximum of 120 ° C.
(Ammonia water) A 28 to 30% ammonia water (NH ₄ OH) reagent 2 l was diluted with 12 l of primary pure water having a specific resistance of 5 MΩ · cm. The heating temperature was controlled at a normal temperature set value.
[0035]
(3) Rinse tank The rinse tank 5 is a tank which wash | cleans the chemical | medical solution adhering to the various components by which the chemical | medical solution washing | cleaning was carried out in the chemical | medical solution tank 4. FIG. The rinse tank 5 has a spray nozzle 47 attached to the upper part thereof. The washing water, the specific resistance value was used primary pure water 5MΩ · c m.
[0036]
(4) Wet treatment part The wet treatment part 38 removes the vaporized and evaporated dirt components that have been sent, and sandwiches the terralet 11 between two vinylocks (width 300 mm x depth 600 mm x height 50 mm) 10 A gas-liquid contact portion (width 300 mm × depth 600 mm × height 350 mm), and full cone type injection nozzles (eight) 12 are arranged in the upper and lower compartments, with the injection direction directed downward. Vaporizer (width 300 mm x depth 600 mm x height 250 mm) 49 and gas-liquid separation part (width 300 mm x depth) sandwiching the terrarette 11 with two vinylocks (width 300 mm x depth 600 mm x height 50 mm) 10 on the top 600 mm × height 150 mm).
As an alternative to the full cone spray nozzles (eight), for example, an internal mixed two-fluid nozzle (eight) is used in which compressed air is transferred to the center of the nozzle and water flows outside. In this case, the compressed air pressure is set to 4 kg / cm ² , the blown amount is set to 4 m ³ / min, the water injection pressure is set to 2 kg / cm ² , and the injection amount is set to 500 l / min.
[0037]
(5) Chemical Solution Removal Unit The chemical solution removal unit 8 removes the dirt component that has moved to the water side from the water pumped up from the water tank by the pump (specification: 15 Kw × 200 V × 50 Hz) 55. Here, the ratio of the branching to the injection nozzle 12 through the cooling heat exchanger 9 is affected by the amount of the chemical component, but is processed approximately 1 to 10.
The chemical solution removing unit 8 used was an activated carbon column (φ200 mm × height 950 mm) 56 for the purpose of decomposition of hydrogen peroxide and adsorption of organic components, filled with 28 l of coconut shell activated carbon (AC).
Next, a cation exchange resin column (φ200 mm × height 950 mm) 57 packed with 28 l of strong cation exchange resin (SC) was used.
Further, an anion exchange resin column (φ200 mm × height 950 mm) 58 was filled with a strong anion exchange resin (SA) 28 l or a weak anion exchange resin (WA) 28 l.
Moreover, when changing the said structure, the mixed bed column (phi 250mm x height 1230mm) of the capacity | capacitance 56l which mixed cation exchange resin and anion exchange resin is applied, for example.
[0038]
(6) Reheat heater The reheat heater 13 adjusts the relative humidity of the gas processed in the gas-liquid separation part. Since the gas component can be efficiently removed by the chemical filter 14 in a high humidity environment, the control temperature of the reheat heater 13 is set so that the relative humidity becomes high (40 to 95% RH).
[Table 3]

[0039]
(7) Chemical filter As the chemical filter 14, the commercial item processed into the activated carbon layer, the cation exchange resin layer, and the anion exchange resin layer was used for the nonwoven fabric.
[0040]
(8) Blower The blower 2 used was a specification: 0.75 Kw × 200 V × 60 Hz.
[0041]
When operating under the operating conditions shown in Table 1 under the above conditions and specifications, the results shown in Table 2 were obtained.
Judging from the measurement result at the measurement location b in Table 2, a result that is not significantly different from the indoor air intake system that is a conventional one-pass process was obtained.
[0042]
(Other examples)
In the cleaning processing apparatus of this embodiment, the cleaning machine accessory 33 is integrated in a clean draft.
When about 500 ppb of hydrofluoric acid gas was generated in the draft and the concentration of hydrofluoric acid in the circulating return air was measured, a result of 0.1 ppb or less was obtained.
In the cleaning processing apparatus of this example, it was confirmed that it was applicable as an integrated, completely closed type apparatus by treating the soil components of all devices that dissipate various vaporized and evaporated components including a clean booth.
[0043]
【The invention's effect】
As described above, the processing apparatus of the present invention is suitable as a completely closed undrained / exhaust-type apparatus installed in a clean room, and is cleaned in a clean room that has been cleaned and temperature-controlled. Since it is not necessary to exhaust air, it is not energy efficient, and since it is an exhaustless type, there is no risk of environmental pollution. Thereby, in this invention, the initial cost and running cost concerning an apparatus can be reduced. Further, according to the processing apparatus of the present invention, the unit part for processing the dirt component in the vaporized and evaporated component (exhaust processing or the like) is configured integrally with the processing chamber in which the chemical solution tank, the chemical solution removal tank and the like are arranged. Therefore, it is not necessary to install a scrubber for exhaust gas treatment outdoors. As a result, the entire apparatus can be reduced in size and the structure can be simplified.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall view schematically showing a cleaning processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing the cleaning processing apparatus of FIG. 1;
FIG. 3 is a schematic diagram functionally showing the cleaning processing apparatus of FIG. 1;
4 is a plan view of a sprayer provided in the cleaning processing apparatus of FIG. 1 as viewed from below. FIG.
FIG. 5 is a vertical sectional view showing the sprayer of FIG. 4;
6 is a plan view of another sprayer having a structure different from that of the sprayer shown in FIGS. 4 and 5, as viewed from below. FIG.
7 is a vertical sectional view showing the sprayer of FIG. 6;
FIG. 8 is a diagram schematically showing a configuration of a chemical solution removal unit provided in the cleaning processing apparatus of FIG. 1;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cleaning processing apparatus, 2 ... Blower (sirocco fan), 3 ... FFU (fan filter unit), 4 ... Chemical solution tank, 5 ... Rinse tank, 7 ... Pump, 8 ... Chemical solution removal unit, 9 ... Heat for cooling Exchanger, 10 ... Vinylok (filler), 11 ... Terraret (filler), 12,60 ... Jet nozzle, 13 ... Reheat heater, 14 ... Chemical filter, 15 ... Conductivity monitor, 34 ... Exhaust port, 35 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Air supply port, 36 ... Processing chamber, 37 ... Water tank, 38 ... Wet processing part, 39, 40 ... Heat exchange part, 41 ... Dry processing part, 42 ... Air circulation path, 56 ... Activated carbon column, 57 ... Cation exchange Resin column, 58... Anion exchange resin column, 59... Communicating water pipe, a ... Entrance measurement location of various measurement items, b ... Exit measurement location of various measurement items.

Claims

クリーンルーム内に設置され、被洗浄物を直接洗浄するための第１のユニット部分と気化蒸発成分中の汚れ成分を除去するための第２のユニット部分とが一体的に構成されたクローズド型の処理装置であって、
前記第１のユニット部分が、
室内空気を排気する排気口を下方又は側方に設け、清浄空気を室内に供給する空気供給口を上方に設けた処理室を少なくとも備え、
前記第２のユニット部分が、
下方に貯水槽を配置し上方にこの貯水槽から供給される水を噴霧する噴射ノズルを配置して前記排気口から排気された空気を洗浄する湿式処理部と、
前記噴射ノズルから噴霧される水の温度を制御する温度制御装置と、
前記湿式処理部で洗浄された空気を加温して相対湿度を低下させる熱交換部と、
前記熱交換部で相対湿度の低下された空気からケミカル物質を除去する乾式処理部とを少なくとも備え、
さらに、処理装置本体には、
前記空気供給口の上方に配置され、前記ケミカル物質を除去された空気をさらに清浄化して前記処理室に供給するフィルタユニットと、
前記処理室を巡って配置され経路内に前記湿式処理部、前記熱交換部、前記乾式処理部を含む空気循環路と、
前記空気循環路内に配置され前記処理室内の空気を前記排気口から前記空気供給口へ向けて送気する送気ファンと、
が設けられていることを特徴とする処理装置。 A closed-type treatment that is installed in a clean room and is configured integrally with a first unit portion for directly cleaning an object to be cleaned and a second unit portion for removing a dirt component in a vaporized and evaporated component. A device,
The first unit portion is
An exhaust port for exhausting room air is provided below or on the side, and at least a processing chamber provided with an air supply port for supplying clean air into the room above is provided .
The second unit portion is
A wet processing section for disposing a water storage tank below and arranging an injection nozzle for spraying water supplied from the water storage tank above to clean the air exhausted from the exhaust port;
A temperature control device for controlling the temperature of water sprayed from the spray nozzle;
A heat exchanging unit that reduces the relative humidity by heating the air cleaned in the wet processing unit;
A dry treatment unit that removes chemical substances from the air having a reduced relative humidity in the heat exchange unit ,
In addition,
A filter unit that is disposed above the air supply port and further purifies the air from which the chemical substance has been removed and supplies the air to the processing chamber;
An air circulation path disposed around the processing chamber and including the wet processing unit, the heat exchange unit, and the dry processing unit in a path;
An air supply fan that is arranged in the air circulation path and supplies air in the processing chamber from the exhaust port to the air supply port ;
Is provided .

前記処理室には、
被洗浄物を洗浄する薬液を貯留する薬液槽と、
前記薬液槽で前記被洗浄物に付着した前記薬液を洗浄して除去する薬液除去槽と
が配置されることを特徴とする請求項１記載の処理装置。In the processing chamber,
A chemical tank for storing a chemical for cleaning the object to be cleaned;
The processing apparatus according to claim 1, further comprising a chemical removal tank that cleans and removes the chemical attached to the object to be cleaned in the chemical tank.

前記フィルタユニットが、ファンフィルタユニットであることを特徴とする請求項１又は２記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 1, wherein the filter unit is a fan filter unit.

前記貯水槽内の貯留水から汚濁成分を除去する前記薬液除去ユニットをさらに有し、
前記薬液除去ユニットが、前記薬液の種類に応じて選択された吸着剤とイオン交換樹脂とを備えることを特徴とする請求項２記載の処理装置。The chemical solution removing unit further removes contaminant components from the stored water in the water tank,
The processing apparatus according to claim 2, wherein the chemical liquid removing unit includes an adsorbent selected according to a type of the chemical liquid and an ion exchange resin.

前記吸着剤が、活性炭カラムであり、且つ前記イオン交換樹脂が、強カチオン交換樹脂カラム、強アニオン交換樹脂カラム、又は弱アニオン交換樹脂カラムであることを特徴とする請求項４記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 4, wherein the adsorbent is an activated carbon column, and the ion exchange resin is a strong cation exchange resin column, a strong anion exchange resin column, or a weak anion exchange resin column.

前記湿式処理部に配置された前記噴射ノズルが、フルコーンノズル又はホロコーンノズルであることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項に記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 1, wherein the spray nozzle disposed in the wet processing unit is a full cone nozzle or a hollow cone nozzle.

前記湿式処理部が、充填材を備えることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項に記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 1, wherein the wet processing unit includes a filler.

前記充填材が、ビニロック及び／又はテラレットであることを特徴とする請求項７記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 7, wherein the filler is vinylolic and / or terrarette.

前記薬液除去ユニットによって処理された処理水の導電度を監視する導電率モニタを備えることを特徴とする請求項２ないし８いずれか１項に記載の処理装置。The processing apparatus according to claim 2, further comprising a conductivity monitor that monitors the conductivity of the treated water treated by the chemical removal unit.