JP4208045B2 - ダイレクト露光装置 - Google Patents

ダイレクト露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4208045B2
JP4208045B2 JP2002061339A JP2002061339A JP4208045B2 JP 4208045 B2 JP4208045 B2 JP 4208045B2 JP 2002061339 A JP2002061339 A JP 2002061339A JP 2002061339 A JP2002061339 A JP 2002061339A JP 4208045 B2 JP4208045 B2 JP 4208045B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
receiving sensor
inspection
pattern data
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002061339A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003257844A (ja
Inventor
慶隆 千木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yumex Inc
Original Assignee
Yumex Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yumex Inc filed Critical Yumex Inc
Priority to JP2002061339A priority Critical patent/JP4208045B2/ja
Publication of JP2003257844A publication Critical patent/JP2003257844A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4208045B2 publication Critical patent/JP4208045B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明はディジタルマイクロミラーデバイス(以下、単にDMDともいう)を利用したダイレクト露光装置に関し、特に高精度な露光を信頼性よく行えるようにした装置に関する。以下では説明の便宜上、半導体デバイスやプリント基板の製造工程におけるレジストの露光を例に説明する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスやプリント基板等、各種の電気的デバイスを製造する場合、半導体ウエハや基板の上に感光性樹脂膜であるレジストを形成し、該レジストを所望のパターンに露光して感光させた後、エッチング等の処理を行い、イオン打込みや不純物の拡散等、あるいは電気回路の形成を所望パターンに行っていた。
【0003】
上述のような製造方法ではパターンマスクの精度が半導体デバイスやプリント基板の品質に密接に関係し、厳しい管理下の工程においてレチクルの作製及びマスタマスクの作製を経てワークコピーマスク(パターンマスク)を作製しなければならず、パターンマスクの製作が非常に複雑であった。
【0004】
また、形成すべきパターンが異なる毎にマスクを製作しなければならず、多品種少量生産には対応し難い。
【0005】
これに対し、本件発明者らは電気的デバイスの製作時に、ウエハや基板の上に形成したレジストを露光するにあたり、露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、該パターンデータを電気信号としてDMDに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、該DMDに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるようにしたダイレクト露光装置を開発し、出願するに至った(特開平10−112579号公報、参照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述のダイレクト露光装置ではパターンマスクを使用することなく、レジストを精度よく露光できるという利点が期待できるものの、実用レベルではDMDの1つの微小ミラーが電気信号を受けても動作しない、いわゆるドット抜けの問題が懸念される。このドット抜けが発生すると、例えば高精細回路の露光において回路上の断線を招来し、最終製品の製品不良の原因となる。
【0007】
上述のドット抜けは作業者が目視で確認できるようなレベルの大きさではなく、又露光工程の完了時に電気的又は機械的に検査することも可能であるが、工程上及び時間的なロスが発生し、これが上述のダイレクト露光装置の普及を阻害する要因となっていた。
【0008】
本発明はかかる状況において、高精度な露光を信頼性よく行えるようにしたダイレクト露光装置を提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明に係るダイレクト露光装置は、露光パターンデータを電気信号としてDMDに入力してその複数の微小ミラーを上記露光パターンデータに応じて傾動させ、該DMDに光を入射してその複数の微小ミラーからの反射光を被露光体に投射して露光させるようにしたダイレクト露光装置において、上記DMDの微小ミラーからの反射光を受ける受光センサーと、検査パターンデータを電気信号として上記DMDに入力する検査パターンデータ入力手段と、上記受光センサーの出力信号から上記DMDの異常を検知する異常検知手段と、を備えたことを特徴とする。
【0010】
本発明の特徴は検査パターンデータをDMDに入力して微小ミラーを傾動させ、微小ミラーの反射光を受光センサーで受けてその出力信号からDMDの異常を検知するようにした点にある。
【0011】
これにより、被露光体、例えばレジストの露光に先立ってDMDの異常を検知することができ、レジストの露光時にいわゆるドット抜けがないことを保証できる結果、高精度な露光を信頼性よく行うことができ、最終製品の製品不良を確実に防止できる。
【0012】
また、露光前に、DMDの異常を自動的に検知することができるので、露光工程の完了時に電気的又は機械的に検査する場合のように工程上及び時間的なロスが発生することはなく、ダイレクト露光装置の普及を図ることができる。
【0013】
検査パターンは、複数の微小ミラーが1個ずつ、隣接する複数個ずつあるいは所定個ずつ間隔をあけた複数個ずつ受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターンとし、そのタイミングと光量とからDMDの異常を検知する。
【0014】
受光センサーは微小ミラーから被露光体に向かう光の反射経路(露光経路)上に設置してもよく、余剰光の反射経路、例えば余剰光の吸収板に向かう反射経路(余剰光経路)上に設置してもよいが、露光時には受光センサーが露光に悪影響を与えるおそれがある。そこで、受光センサーを所定の光反射経路に対して進退させるのがよい。ここで、所定の光反射経路とは露光経路、余剰光経路、その他の光反射経路を含むことを意味している。
【0015】
即ち、受光センサーを微小ミラーからの所定の光反射経路上に位置せるとともに該光反射経路から退避させるセンサー駆動機構と、受光センサーが検査開始時に光反射経路上に前進し検査終了後に光反射経路から後退するようにセンサー駆動機構を制御するセンサー駆動制御手段とを更に備えるのがよい。
【0016】
また、反射ミラーを利用して微小ミラーからの反射光を受光センサーに反射させるようにしてもよい。即ち,DMDの微小ミラーからの反射光を受光センサーに向けて反射する反射ミラーを、更に備えるようにしてもよい。
【0017】
この反射ミラーの場合もこれを露光経路や余剰光経路等の光反射経路上に設置してもよいが、露光時には受光センサーが露光に悪影響を与えるおそれがある。そこで、反射ミラーを所定の光反射経路に対して進退させるのがよい。
【0018】
即ち、微小ミラーからの所定の光反射経路上に位置して微小ミラーからの反射光を光反射経路外に設置された受光センサーに向けて反射する反射ミラーと、該反射ミラーを光反射経路上に位置せるとともに該光反射経路から退避させるミラー駆動機構と、反射ミラーが検査開始時に光反射経路上に前進し検査終了後に光反射経路から後退するようにミラー駆動機構を制御するミラー駆動制御手段と、を更に備えるのが好ましい。
【0019】
センサー駆動機構やミラー駆動機構は受光センサーや反射ミラーを光反射経路に対して進退できればどのような機構でもよく、例えは流体シリンダ、モータとねじ送り機構の組合せ等を採用できる。
【0020】
本発明は半導体デバイスのウエハやプリント基板のレジストの露光に適用すればその効果が大きいが、他の被露光体の露光にも適用できる。また、露光パターンデータはこれを電気信号としてDMDに与える関係上、CAD等のデータ処理装置で作成するのがよい。DMDからの反射光は例えばパターンマクス密着方式が採用されるプリント基板の場合にはそのままレジストに投影するのがよく、縮小方式が採用される半導体デバイスの場合には光学系で縮小してレジストに投影するのがよい。
【0021】
また、露光前にDMDの異常を検査するようにしたダイレクト露光方法も新規である。本発明に係るダイレクト露光方法は、DMDを利用して被露光体を露光させるにあたり、検査パターンデータを電気信号として上記DMDに入力してその複数の微小ミラーを上記検査パターンデータに応じて傾動させ、上記DMDの微小ミラーからの反射光を受光センサーで受け、該受光センサーの出力信号から上記DMDの異常を検知するようになしたことを特徴とする。
【0022】
本発明のダイレクト露光方法においても、検査開始時に受光センサーをDMDの微小ミラーからの光反射経路上に位置させ、検査終了後に受光センサーを光反射経路から後退させるようになすのがよい。
【0023】
また、検査開始時に反射ミラーによってDMDの微小ミラーからの反射光を受光センサーに向けて反射させるようにすることもできる。
【0024】
さらに、検査開始時にDMDの微小ミラーからの光反射経路上に反射ミラーを位置させて微小ミラーからの反射光を光反射経路外に設置された受光センサーに向けて反射させ、検査終了後に反射ミラーを光反射経路から後退させるようになすこともできる。
【0025】
また、パーソナルコンピュータやワークステーションにプログラムソフトをインストールすることによって本発明のダイレクト露光装置を構築することができる。即ち、本発明によれば上述のダイレクト露光装置を制御するダイレクト露光の異常検査プログラムを提供することができる。
【0026】
本発明に係るダイレクト露光の異常検査プログラムは、DMDを利用して被露光体を露光させるダイレクト露光装置における上記DMDの微小ミラーの異常を検知するように、コンピュータを制御する異常検知プログラムであって、上記コンピュータを、受光センサーが検査開始時に上記DMDの微小ミラーからの光反射経路上に位置し検査終了後に上記光反射経路から退避するように、上記受光センサーを進退させるセンサー駆動機構を制御するセンサー駆動制御手段、検査パターンデータを電気信号として上記DMDに入力する検査パターンデータ入力手段、及び上記受光センサーの出力信号から上記DMDの異常を検知する異常検知手段、として機能させるようにしたことを特徴とする。
【0027】
本発明に係るダイレクト露光の異常検査プログラムは、DMDを利用して被露光体を露光させるダイレクト露光装置における上記DMDの微小ミラーの異常を検知するように、コンピュータを制御する異常検知プログラムであって、上記コンピュータを、反射ミラーが検査開始時に上記DMDの微小ミラーからの光反射経路上に位置して上記微小ミラーからの反射光を上記光反射経路外に設置された上記受光センサーに向けて反射し検査終了後に上記光反射経路から退避するように、上記反射ミラーを進退させるミラー駆動機構を制御するミラー駆動制御手段、検査パターンデータを電気信号として上記DMDに入力する検査パターンデータ入力手段、及び上記受光センサーの出力信号から上記DMDの異常を検知する異常検知手段、として機能させるようにしたことを特徴とする
【0028】
コンピュータは信号や情報を処理して各種の演算処理を行えるデータ処理装置であればどのようなものでもよいが、一般的にはワークステーションやパーソナルコンピュータが用いられる。
【0029】
ここで、検査パターンデータは予め製作してコンピュータに記憶させておいてもよく、又検査の都度、CAD等で作成するようにしてもよい。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示す具体例に基づいて詳細に説明する。図1ないし図4は本発明に係るダイレクト露光装置の好ましい実施形態を示す。図において、XーYステージ12は例えばボールネジとモータとで構成され、X軸方向及びY軸方向に高精度の送りができるように構成されている。
【0031】
このXーYステージ12の上方にはテーブル11が搭載され、該テーブル11上には表面にレジスト(被露光体)が形成されたウエハ(基体)13が載置されるようになっている。
【0032】
XーYステージ12の上方にはプロジェクションレンズ7、DMD6、第1、第2の平面ミラー4、5、レンズ群3及びキセノンランプ(光源)1が1つの光軸上に配置され、キセノンランプ1には光を前方に反射する楕円ミラー2が設けられ、又DMD6からの光軸を対称軸として第2の平面ミラー5と対称な位置には余剰光の吸収板9が設けられてDMD6による画像作成に必要な反射光以外の光を吸収するようになっている。
【0033】
DMD6は例えば約190万のメモリーセルを2次元に配列してメモリーアレイとなし、各メモリーセル上にアルミニウムの微小ミラーを形成して構成され、微小ミラー間隔は約17μmとなっている。
【0034】
また、DMD6の微小ミラーの光反射経路、具体的にはDMD6とウエハ13とを結ぶ光軸上には受光センサー8が設けられ、該受光センサー8は流体シリンダ(センサー駆動機構)10によって微小ミラーの光反射経路上の位置と光反射経路を退避した位置との間で進退されるようになっている。
【0035】
また、図中、13はパーソナルコンピュータで、DMD6の検査時に流体シリンダ1に制御信号を出力して受光センサー8を光反射経路上に前進させ、DMD6に検査パターンデータを電気信号として入力してDMD6の複数の微小ミラーをパターンデータに対応して傾動させ、受光センサー8の出力信号からDMD6の異常を検知し、異常がない場合には流体シリンダ1に制御信号を出力して受光センサー8を光反射経路から後退させる一方、異常があった場合には例えば表示装置に異常の表示を行うようになっている。
【0036】
また、パーソナルコンピュータ13はDMD6に露光パターンデータを電気信号として入力してDMD6の複数の微小ミラーをパターンデータに対応して傾動させてウエハ11上のレジストを露光させるようになっている。
【0037】
ここで、パーソナルコンピュータ13は基本的には図2に示されるようにCPU130、RAM131、ROM132、HDD133、CRT等の表示装置134、キーボード、マウスあるいはタッチパネル等の入力装置135及びLANボードやモデム等の通信装置136から構成されている。
【0038】
HDD133によって駆動されるハードディスクにはオペレーションシステム(OS)の他、パーソナルコンピュータ13に本例のダイレクト露光及び異常検査を実行させるプログラム、検査パターンデータ及び露光パターンデータが格納されている。
【0039】
CPU130は入力装置135からのDMD検査の指示を受けると、流体シリンダ10の制御系(図1の矢印参照)に制御信号を与えて受光センサー8をDMD6からの光反射経路上に前進させ、検査パターンデータを読み出してDMD6に入力し、検査パターンデータに応じて傾動されたDMD6の微小ミラーからの反射光を受光センサー8で受光し、受光センサー8の出力信号と検査パターンデータとを比較してDMD6の異常を検知する一方、検査が終了すると、流体シリンダ10の制御系に制御信号を与えて受光センサー8をDMD6からの光反射経路から後退させるようになっている。
【0040】
また、CPU130は入力装置135からの露光の指示を受けると、露光パターンデータを読み出してDMD6に入力し、露光パターンデータに対応する反射光をX−Yステージ12に設置されたウエハのレジストに入射させるようになっている。
【0041】
図3は本例のダイレクト露光装置の基本的な機能ブロックを示す。本例のダイレクト露光装置は原理的にはDMD6、流体シリンダ(センサー駆動機構)10及び受光センサー8及びパーソナルコンピュータ13から構成され、パーソナルコンピュータ13は機能的にはセンサー駆動制御手段200、検査パターンデータ入力手段210及び異常検知手段220から構成されている。
【0042】
センサー駆動制御手段200はCPU130及び通信装置136によって実現される機能であって、流体シリンダ10の制御系に制御信号を与え、受光センサー8を進退させるようになっている。
【0043】
検査パラメータデータ入力手段210はCPU130、HDD133によって駆動されるハードディスク及び通信装置136によって実現される機能であって、検査パターンデータをDMD6に入力するようになっている。
【0044】
異常検知手段220はCPU130及び通信装置136によって実現される機能であって、受光センサー8の出力信号と検査パターンデータとからDMD6の異常を検知するようになっている。
【0045】
次に、DMD6の検査方法を図4を用いて説明する。図4はパーソナルコンピュータ13におけるDMD検査の制御処理を示すフローチャートである。処理が開始されると、検査か否かが判定され(ステップS100)、DMD検査の場合には流体シリンダ10の制御系に制御信号が与えられて受光センサー8が前進し(ステップS110)、パラメータNが1とされ(ステップS120)、DMD6の第1番目の微小ミラーが傾動されてその反射光が光反射経路を指向され、他の微小ミラーは光反射経路以外の方向を指向するように傾動される(ステップS130)。
【0046】
第1番目の微小ミラーが傾動すると、受光センサー8の出力信号が読み込まれ(ステップS140)、センサー信号Sが基準値S0以上か否かか判定され(ステップS150)、センサー信号Sが基準値S0以上の場合にはその微小ミラーは正常と判断され、パラメータNの値が1だけ増加され(ステップS160)、パラメータNの値が微小ミラーの数Nnに達しか否かを判定され(ステップS170)、達していない場合にはDMD6の第2番目の微小ミラーが傾動され、上記と同様にしてその微小ミラーの異常が検知される(ステップS130〜S170)。
【0047】
同様の処理がDMD6の全ての微小ミラーについて済むと、流体シリンダ10の制御系に制御信号が与えられて受光センサー8が後退し(ステップS170)、処理が終了する。
【0048】
他方、いずれかの微小ミラーについて異常が検知されると、表示装置134に警告の表示がなされる等、異常の検知が出力され(ステップS190)、処理を終了する。
【0049】
こうしてDMD6の検査が完了すると、従来と同様にしてレジストの露光が行われる。
【0050】
ここで、レジスト露光方法について簡単に説明する。例えば、CAD等で形成すべき露光パターンのデータを作成し、そのパターンデータをパーソナルコンピュータ13に格納しておく。露光の処理が開始されると、露光パターンのデータを読み出し、それを電気信号としてDMD6に入力する。DMD6はいわゆる空間光変調素子であって、面上に多数の微小ミラーを有し、その個々の微小ミラーの角度が電気信号により変化するデバイスである。
【0051】
従って、DMD6の複数の各微小ミラーは入力されたパターンデータに応じて傾動する。かかる複数の微小ミラーにキセノンランプ1から光が反射ミラー4、5を経て入射されると、複数の微小ミラーで構成されるミラー面上に仮想原像が形成され、その反射光が投影レンズ7を経てX−Yステージ12上に載せられたウエハのレジスト上に投影され、レジストにパターンデータに応じた画像が形成され、レジストを露光することができる。
【0052】
なお、上記では1つの微小ミラーに異常があると、それを警告して処理を終了したが、全ての微小ミラーについて異常を検査した後、第何番目の微小ミラーに異常があるかを表示するようにしてもよい。
【0053】
また、受光センサーをレジストに向かう光の反射経路に対して進退させたが、余剰光の吸収板9に向かう光反射経路に対して進退させるようにしてもよく、又光の反射経路外に設置し、光反射経路、露光経路又は余剰光経路には反射ミラーを進退させ、反射ミラーから受光センサーに反射光を反射させるようにしもよい。反射ミラーを用いる場合、図3におけるセンサー駆動機構10がミラー駆動機構となり、センサー駆動制御手段200がミラー駆動制御手段となる。
【0054】
さらに、上記の実施形態では検査パターンをプログラム処理によってパターン化しているが、記憶した複数のパターンを順次読み出してDMD6を制御するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るダイレクト露光装置の好ましい実施形態を示す概略構成図である。
【図2】 上記実施形態におけるパーソナルコンピュータの基本的な構成を示す図である。
【図3】 上記実施形態における機能ブロックを示す図である。
【図4】 上記実施形態における制御処理のフローを示す図である。
【符号の説明】
6 DMD
8 受光センサー
10 流体シリンダ(センサー駆動機構)
13 パーソナルコンピュータ(センサー駆動制御手段、検査パターンデータ入力手段、異常検知手段)
200 センサー駆動制御手段
210 検査パターンデータ入力手段
220 異常検知手段

Claims (10)

  1. 露光パターンデータを電気信号としてディジタルマイクロミラーデバイスに入力してその複数の微小ミラーを上記露光パターンデータに応じて傾動させるとともに、該ディジタルマイクロミラーデバイスに光を入射してその複数の微小ミラーからの反射光を被露光体に投射して露光させるようにしたダイレクト露光装置であって、
    上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの反射光を受ける受光センサーと、
    検査パターンデータを電気信号として上記ディジタルマイクロミラーデバイスに入力する検査パターンデータ入力手段と、
    上記受光センサーの出力信号と上記検査パターンデータとから上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーの動作異常を検知する異常検知手段と、
    を備えたダイレクト露光装置において、
    上記検査パターンデータは、以下のいずれかであり、
    a)上記複数の微小ミラーについて一つずつ受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    b)上記複数の微小ミラーについて所定個ずつ間隔をあけた複数個ずつ、受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    上記異常検知手段は、上記いずれかの繰り返しパターンにより、ディジタルマイクロミラーデバイスの全微小ミラーの動作異常を検知すること、
    を特徴とするダイレクト露光装置。
  2. 上記受光センサーを上記微小ミラーからの所定の光反射経路上に位置させるとともに該光反射経路から退避させるセンサー駆動機構と、
    上記受光センサーが検査開始時に上記光反射経路上に前進し検査終了後に上記光反射経路から後退するように上記センサー駆動機構を制御するセンサー駆動制御手段と、
    を更に備えた請求項1記載のダイレクト露光装置。
  3. 上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの反射光を上記受光センサーに向けて反射する反射ミラーを、
    更に備えた請求項1記載のダイレクト露光装置。
  4. 上記微小ミラーからの所定の光反射経路上に位置して上記微小ミラーからの反射光を上記光反射経路外に設置された上記受光センサーに向けて反射する反射ミラーと、
    該反射ミラーを上記光反射経路上に位置させるとともに該光反射経路から退避させるミラー駆動機構と、
    上記反射ミラーが検査開始時に上記光反射経路上に前進し検査終了後に上記光反射経路から後退するように上記ミラー駆動機構を制御するミラー駆動制御手段と、
    を更に備えた請求項1記載のダイレクト露光装置。
  5. ディジタルマイクロミラーデバイスを利用して被露光体を露光させるにあたり、検査パターンデータを電気信号として上記ディジタルマイクロミラーデバイスに入力して各微小ミラーを上記検査パターンデータに応じて傾動させ、上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの反射光を受光センサーで受け、該受光センサーの出力信号と上記検査パターンデータとから上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーの動作異常を検知するようにしたダイレクト露光方法であって、
    上記検査パターンデータとして、以下のいずれかであり、
    a)上記各微小ミラーについて一つずつ受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    b)上記各微小ミラーについて所定個ずつ間隔をあけた複数個ずつ、受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    上記いずれかの繰り返しパターンにより、ディジタルマイクロミラーデバイスの全微小ミラーの動作異常を検知すること、
    を特徴とするダイレクト露光方法。
  6. 検査開始時に上記受光センサーを上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの光反射経路上に位置させ、検査終了後に上記受光センサーを上記光反射経路から後退させるようになした請求項5記載のダイレクト露光方法。
  7. 検査開始時に反射ミラーによって上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの反射光を上記受光センサーに向けて反射させるようにした請求項5記載のダイレクト露光方法。
  8. 検査開始時に上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの光反射経路上に反射ミラーを位置させて上記微小ミラーからの反射光を上記光反射経路外に設置された上記受光センサーに向けて反射させ、検査終了後に上記反射ミラーを上記光反射経路から後退させるようになした請求項5記載のダイレクト露光方法。
  9. 複数の微小ミラーを有するディジタルマイクロミラーデバイスを利用して被露光体を露光させるダイレクト露光装置における上記微小ミラーの異常を検知するように、コンピュータを制御する異常検知プログラムであって、
    上記コンピュータを、
    受光センサーが検査開始時に上記ディジタルマイクロミラーデバイスの上記複数の微小ミラーからの光反射経路上に位置し検査終了後に上記光反射経路から退避するように、上記受光センサーを進退させるセンサー駆動機構を制御するセンサー駆動制御手段、
    以下の検査パターンデータa),b) いずれかパターンを電気信号として上記ディジタルマイクロミラーデバイスに入力する検査パターンデータ入力手段、
    a)上記複数の微小ミラーについて一つずつ受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    b)上記複数の微小ミラーについて所定個ずつ間隔をあけた複数個ずつ、受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    上記受光センサーの出力信号と上記検査パターンデータとから上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーの動作異常を検知する異常検知手段、
    として機能させるようにしたことを特徴とするダイレクト露光の異常検査プログラム。
  10. 複数の微小ミラーを有するディジタルマイクロミラーデバイスを利用して被露光体を露光させるダイレクト露光装置における上記微小ミラーの異常を検知するように、コンピュータを制御する異常検知プログラムであって、
    上記コンピュータを、
    反射ミラーが検査開始時に上記ディジタルマイクロミラーデバイスの上記複数の微小ミラーからの光反射経路上に位置して上記微小ミラーからの反射光を上記光反射経路外に設置された上記受光センサーに向けて反射し検査終了後に上記光反射経路から退避するように、上記反射ミラーを進退させるミラー駆動機構を制御するミラー駆動制御手段、
    以下の検査パターンデータa),b) いずれかパターンを電気信号として上記ディジタルマイクロミラーデバイスに入力する検査パターンデータ入力手段、
    a)上記複数の微小ミラーについて一つずつ受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    b)上記複数の微小ミラーについて所定個ずつ間隔をあけた複数個ずつ、受光センサーに向けて光を反射するような動作を繰り返すパターン、
    上記受光センサーの出力信号と上記検査パターンデータとから上記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーの動作異常を検知する異常検知手段、
    として機能させるようにしたこと
    を特徴とするダイレクト露光の異常検査プログラム。
JP2002061339A 2002-03-07 2002-03-07 ダイレクト露光装置 Expired - Fee Related JP4208045B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002061339A JP4208045B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 ダイレクト露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002061339A JP4208045B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 ダイレクト露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003257844A JP2003257844A (ja) 2003-09-12
JP4208045B2 true JP4208045B2 (ja) 2009-01-14

Family

ID=28670291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002061339A Expired - Fee Related JP4208045B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 ダイレクト露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4208045B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4665402B2 (ja) 2004-02-04 2011-04-06 セイコーエプソン株式会社 投射型表示装置および投射型表示装置の制御方法、並びに投射型表示装置の制御プログラム
KR101108950B1 (ko) * 2004-11-10 2012-01-31 엘지전자 주식회사 광 스팟의 위치 변경을 위한 영상투사 장치
US7233384B2 (en) * 2005-06-13 2007-06-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor
TWI401538B (zh) * 2007-03-28 2013-07-11 Orc Mfg Co Ltd Exposure drawing device
JP4885029B2 (ja) * 2007-03-28 2012-02-29 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP2010191127A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5481400B2 (ja) * 2010-01-15 2014-04-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ マイクロミラーデバイスの選別方法、マイクロミラーデバイス選別装置およびマスクレス露光装置
JP4715968B2 (ja) * 2010-07-20 2011-07-06 セイコーエプソン株式会社 投射型表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003257844A (ja) 2003-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7339662B2 (en) Exposure apparatus and a device manufacturing method using the same
EP1843209A2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
US8068211B2 (en) Exposure apparatus and method for manufacturing device
JPH10112579A (ja) レジスト露光方法及びその露光装置
KR980011724A (ko) 노광장치
JP3412898B2 (ja) 反射型マスクの作製方法と作製装置、これによる反射型マスクを用いた露光装置とデバイス製造方法
JP2000082651A (ja) 走査露光装置及び走査露光方法
TW200417824A (en) A method of detecting mask defects, a computer program and a reference substrate
JP4208045B2 (ja) ダイレクト露光装置
JP2005292834A (ja) マスクレスリソグラフィツールのパフォーマンスを検査およびコントロールするためのシステムおよび方法
US7158210B2 (en) Projection exposure apparatus
JP3913701B2 (ja) デバイス製造法、その方法により製造されるデバイスおよびコンピュータ・プログラム
JP3428825B2 (ja) 面位置検出方法および面位置検出装置
JPH07201713A (ja) 露光装置及び露光方法
JP2006275555A (ja) 表面形状測定方法、表面形状測定装置、露光方法、及び露光装置
JPH11233430A (ja) 投影露光装置の基板ホルダの平坦度評価方法
JP2013235922A (ja) 露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体
CN111430259B (zh) 一种用于半导体工艺中显影后的硅片检测装置
JP2001235320A (ja) 計測方法および露光方法並びに露光装置
JPH06260394A (ja) 半導体基板の露光方法及び露光装置
JP5006711B2 (ja) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP3857908B2 (ja) アライメント方法
JP2004266300A (ja) 反射型マスク
JP2005072259A (ja) 基板処理装置及びエラー処理方法
JP2003151902A (ja) 露光装置とこれによる半導体デバイス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050204

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050204

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050204

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050204

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080221

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080404

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080410

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080410

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080410

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080616

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080806

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080822

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080929

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081014

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141031

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees