JP4180473B2 - 多層配線板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
「電子材料」1995年10月号、p52−58、中谷誠一等「全層IVH構造を有する樹脂多層基板「ALIVH」」 「エレクトロニクス実装学会誌」Vol.3、No.7(2000)、p563−568、福岡義孝「厚膜・薄膜混成高密度ビルドアップ配線板技術」 「第16回エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集」p67−68、上村力也等「PALAP基板を用いたプリント基板リサイクルシステムの検討」
図1、図2は、この発明による多層配線板の一実施形態を示す説明図であり、この多層配線板1をその製造方法とともに説明する。
3 導電層
4 貫通孔(バイアホール)
5 保護絶縁層
6 導電性物質
8 多層配線板
21 ポリイミド基材
22 層間接着層
Claims (9)
- 配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に層間接着層とともに貫通孔が形成され、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質が配置される多層配線板において、
加熱により体積収縮・硬化する導電性組成物を前記導電性物質として用いることで、前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に前記層間接着層をなす材料による保護絶縁層を形成したことを特徴とする多層配線板。 - 絶縁性基材の一側面に配線パターンをなす導電層が設けられ、かつ、他側面に層間接着層が設けられた多層配線板用基材に、前記層間接着層および前記絶縁性基材を貫通する貫通孔を形成し、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質を配置して積層される多層配線板において、
前記導電性物質として加熱により体積収縮・硬化する導電性組成物を用いて、多層積層時に加熱加圧されることで、前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に前記層間接着層をなす材料による保護絶縁層を形成したことを特徴とする多層配線板。 - 前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材と前記層間接着層との境界を覆うように形成されることを特徴とする請求項1または2記載の多層配線板。
- 前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べてヤング率の小さい材料で構成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の多層配線板。
- 前記保護絶縁層は前記絶縁層または前記絶縁性基材に比べて誘電率の低い材料で構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の多層配線板。
- 前記絶縁層または前記絶縁性基材はポリイミド等の可撓性樹脂で構成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の多層配線板。
- 前記導電性物質は、ナノサイズ酸化銀、有機銀化合物、有機溶剤からなる導電性組成物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の多層配線板。
- 配線パターンをなす導電層を片面に備えた絶縁層に層間接着層とともに貫通孔が形成され、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質として加熱により体積収縮・硬化する導電性組成物が配置されることで、前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に前記層間接着層をなす材料による保護絶縁層が形成される多層配線板の製造方法であって、
前記絶縁層に前記層間接着層とともに前記貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔内に前記導電性物質を充填する工程と、
多層配線板を加熱加圧することで、充填した前記導電性物質を体積収縮・硬化させるとともに、前記層間接着層をなす材料を前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に浸入させて前記保護絶縁層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。 - 絶縁性基材の一側面に配線パターンをなす導電層が設けられ、かつ、他側面に層間接着層が設けられた多層配線板用基材に、前記層間接着層および前記絶縁性基材を貫通する貫通孔が形成され、この貫通孔内に前記導電層の層間導通を得るための導電性物質として加熱により体積収縮・硬化する導電性組成物が配置され、多層積層時に加熱加圧されることで、前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に前記層間接着層をなす材料による保護絶縁層が形成される多層配線板の製造方法であって、
前記層間接着層および前記絶縁性基材に前記貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔内に前記導電性物質を充填する工程と、
多層積層時に加熱加圧することで、充填した前記導電性物質を体積収縮・硬化させるとともに、前記層間接着層をなす材料を前記導電性物質と前記貫通孔の側面との間に浸入させて前記保護絶縁層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。
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