JP4180184B2

JP4180184B2 - 平板ディスプレイおよびその製造方法

Info

Publication number: JP4180184B2
Application number: JP09152199A
Authority: JP
Inventors: 陽運羅; 晟豪 ▲曹▼; 秀英文
Original assignee: Samsung SDI Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 1998-04-02
Filing date: 1999-03-31
Publication date: 2008-11-12
Anticipated expiration: 2019-03-31
Also published as: KR19990079156A; JPH11329308A; CN1238550A; US6445125B1; KR100263310B1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，平板ディスプレイおよびその製造方法に関し，より詳しくは電界放出用陰極を有する平板ディスプレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】
平板ディスプレイは，表示装置の代表格である陰極線管（ＣＲＴ）とは異なり，軽量で小型という利点があり，様々な方面でその研究が活発に進められている。平板ディスプレイには，液晶表示装置（ＬＣＤ）をはじめとして蛍光表示管（ＶＦＤ）及びプラズマパネルディスプレイ（ＰＤＰ）などが含まれるが，その他の種類の一つとして電界放出表示装置（ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ；ＦＥＤ，電界放射ディスプレイ）が挙げられる。
【０００３】
かかる電界放出表示装置は，周知の如く，大画面用表示装置に適しているのみならず，低消費電力で良質の画像が得られるという利点があるため，次世代映像表示装置として注目されている。
【０００４】
公知の電界放出表示装置は，電界放出（ｆｉｅｌｄｅｍｉｓｓｉｏｎ）現象によって放出された電子が衝突により蛍光体を発光させることによって，所定の画像が実現できるように構成されている。通常，電界放出表示装置は，電子放出源を有する陰極基板と蛍光体を塗布する陽極基板とが含まれる。
【０００５】
図面を参照して考察すると，従来の電界放出表示装置では，図７に示すように，所定の間隔を置いて配置された平坦な両基板１，３の各一面づつに，それぞれ所定のパターン，例えばライン形態で，カソード電極５及びアノード電極７が形成されている。
【０００６】
従来の電界放出表示装置において，上記両基板１，３は，その内部空間部が真空状態を実現できるように相互に結合されており，両基板１，３間に形成されるセルギャップは，隔離柱であるスペーサ９によって維持される。
【０００７】
従来の電界放出表示装置の基板１側において，カソード電極５の一面にはＳｉＯ_２のような酸化物からなる絶縁膜１１が形成されており，さらに，かかる絶縁膜１１の一面にはゲート電極１３が形成される。ここで，上記絶縁膜１１とゲート電極１３とには，図８に拡大して示すように，所定の直径Ｄを有しながら絶縁膜１１を貫通し一端が上記カソード電極５によって遮られる開口１５が多数形成されており，それぞれの開口１５には，電界放出用陰極１７が上記カソード電極５と連結するように配置される。
【０００８】
上記電界放出用陰極１７は，低仕事関数を有する物質，たとえばダイヤモンドやＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−ＬｉｋｅｄＣａｒｂｏｎ；非結晶ダイアモンド）などから平坦な形態をなして形成される。
【０００９】
対して，基板３側において，アノード電極７の一面には，蛍光体１９が所定のパターンをなして塗布されており，さらに，隣接する蛍光体１９の間には，ブラックマトリックス２１が形成される。
【００１０】
以上説明した構成を有する従来の電界放出表示装置は，作動の際に，所望の画素部分のゲート電極１３と該ゲート電極１３に対応するカソード電極５との間に，不図示の電源から電圧が印加される。かかる電圧の印加により，対応する電界放出用陰極１７とゲート電極１３との間に電界が形成されて，電界放出用陰極１７からの電子放出が実現する。
【００１１】
そして，高電圧が印加されたアノード電極７により，上記電子が上記蛍光体１９に誘導されて，該電子が上記蛍光体１９に衝突することにより，蛍光体１９が励起されて目的とする画像が実現される。
【００１２】
かかる従来の電界放出表示装置において，上記開口１５の直径Ｄは，上記電界放出用陰極１７から放出される電子の量に影響を及ぼす上記電界放出表示装置の性能を決定づける因子となる。
【００１３】
すなわち，上記開口１５は，その直径Ｄが，上記絶縁膜１１の全体の厚さＨ′から上記電界表出用陰極１７の厚さＫ分を控除した厚さＨの寸法より大きく形成するほど，上記電界放出を大きくして上記電界放出用陰極１７から放出される電子量が増加する特性を示す。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，従来の電界放出表示装置は，上記開口１５を形成しようとしても，実質的にはその設計において制限を受けていた。これは，他でもなく，上記開口１５がその直径Ｄの比を上記厚さＨの比より大きくして形成する場合，上記カソード１７から放出される電子の量は多くなり，開口１５の開口部分で上記ゲート電極１３に対する電子の衝突量も増加するため，リーク（ｌｅａｋ）が起き易く，且つ，上記蛍光体１９に誘導される電子のフォーカシング状態が低下して，ディスプレイされる画像の歪みをもたらす問題点があるということである。
【００１５】
本発明は，従来の電界放出表示装置が有する上記その他の問題点に鑑みてなされたものであり，その目的は，絶縁膜とゲート電極を自由に設計しても，陰極から放出された電子の蛍光体に対するフォーカシング特性が低下しないようにした電界放出用陰極を有する平板ディスプレイを提供すること等にある。
【００１６】
また，本発明の他の目的は，上記目的が実現できるようにした電界放出用陰極を有するディスプレイの製造方法を提供すること等にもある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明によれば，例えば，第１基板の一面に所定のパターンを有して形成される複数のカソード電極と，該各カソード電極の一面に所定のパターンに形成された複数の貫通部を配置しながら上記第１基板の一面に形成される絶縁膜と，上記それぞれの貫通部内に配置されながら上記カソード電極に接触する複数の電界放出用陰極と，上記貫通部と貫通される開口部を保有して上記絶縁膜の一面に所定のパターンを有して形成される複数のゲート電極と，該ゲート電極と上記カソード電極との間に配置されて上記電界放出用陰極から放出された電子の流れを制御する複数のフォーカシング電極と，上記第１基板と所定の間隔を置いて配置されて内部空間部を真空状態に維持するように該第１基板に結合する第２基板と，該第２基板の一面に所定のパターンを有して形成される複数のアノード電極と，該各アノード電極の一面に形成される蛍光層とを含む電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００１８】
ここで，電界放出用陰極には，放出面が平坦な平面型（薄膜型）のもの又は円錐形状もしくは角錐形状のスピント型（縦型）のものがある。さらに，電界放出用陰極は，例えば，Ｍｏ，Ｐｔ，ダイヤモンド，ＤＬＣ等から形成可能である。さらにまた，電子の放出方向は，例えば，基板に平行な方向，基板に垂直な方向その他の様々な方向とすることができる。また，基板は，例えばガラス基板やシリコンウェハ等の透明基板などを適用可能である。また，アノード電極には，例えばＩＴＯなどの透明導電体等を使用可能である。また，蛍光体には，Ｒ，Ｇ，Ｂの蛍光体，具体的には，例えば，Ｚｎ，ＺｎＯ，ＺｎＳ，（ＺｎＣｄ）Ｓ，Ｙ_２Ｏ_３，或いはＹ_２Ｏ_２Ｓなど，又はこれらを母体としてＭｎ，Ａｇ，Ｅｕ，Ｓｍ，Ｄｙ，Ｃｅ，Ｔｂ，或いはこれらの混合物などをコーティングしたもの等を使用可能である。さらにまた，内部空間部は，実質的な真空状態であればよく，例えば高真空状態や微量の不活性ガス（Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ等）が存在する高真空状態等とすることが可能である。
【００１９】
また，上記目的を実現するために，本発明によれば，基板の一面にカソード電極形成物質を塗布し，これをパターニングしてカソード電極を形成する段階と，該カソード電極の一面に絶縁物質及びフォーカシング電極形成物質を順次に積層し，これをパターニングして絶縁層とフォーカシング電極を形成する段階と，上記基板の一面に上記フォーカシング電極を覆うように絶縁物質を塗布して絶縁膜を形成する段階と，該絶縁膜の一面にゲート電極形成物質を塗布してゲート電極を形成する段階と，上記絶縁層とフォーカシング電極が上記絶縁膜及びゲート電極の外部に露出するように上記絶縁層とフォーカシング電極をパターニングする段階と，上記絶縁膜のパターニング部位に電界放出用陰極形成物質を充填して電界放出用陰極を形成する段階とを含む電界放出用陰極を有する平板ディスプレイの製造方法が提供される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下，本発明についての望ましい実施形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。尚，以下の説明及び添付図面においては，同一の機能及び構成を有する構成要素については，同一符号を付すことにより，重複説明を省略する。
【００２１】
図１は，本実施形態に係る平板ディスプレイについての部分断面図である。図１に示す本実施形態に係る平板ディスプレイは，電界放出表示装置の一つであり，通常の電界放出表示装置と同様に，一方の基板側に配置された電界放出用陰極から電子を放出し，該電子が他の基板側に配置された蛍光体に誘導されて蛍光体を発光させることにより，所定の画像を表示するように構成されている。
【００２２】
ここで，通常の電界放出表示装置においては，一旦は電界放出用陰極から放出された電子が，電界放出用陰極のゲート電極等にぶつかって蛍光体に到達する前にリークされる傾向により，電子は充分フォーカシングされなくなる。しかし，本実施形態に係る平板ディスプレイの電界放出用陰極は，通常の電界放出表示装置についてのかかる問題点を克服可能な構造を有する。以下，（１）フォーカシング電極周辺の構成，（２）フォーカシング電極の作用，および（３）平板ディスプレイのアセンブリに項分けして説明する。
【００２３】
（１）フォーカシング電極周辺の構成
図１に示すように，本実施形態に係る平板ディスプレイは，まず，高電位勾配が形成される電子の放出面を有し電子放出部を成す少なくとも１以上の電界放出用陰極４６と，各電界放出用陰極４６にそれぞれ提供され電子のフォーカシング状態を良好になすようにするフォーカシング電極５０を含む。本実施形態においては，かかるフォーカシング電極５０により形成されるフォーカシングのための電界（電場）又は磁界により，電界放出用陰極４６から後述の蛍光層６２（アノード６０の一面に形成されている。）に向かう放出電子の流れ制御，即ち集束・発散が制御可能となる。
【００２４】
本実施形態においては，かかるフォーカシング電極５０を電界放出用陰極４６の内部に位置させているが，この時，フォーカシング電極５０の下部（図面基準）にはカソード電極４２の一面と接する絶縁層５２が配置される。
【００２５】
すなわち，フォーカシング電極５０は，絶縁層５２に支持されて，基板１上の所定位置に配置されるようになる。ここで，かかるフォーカシング電極５０には，図２に点線で示すように，それぞれに斜線方向に連結される配線５１を通じて駆動に必要な電圧が印加される。
【００２６】
本実施形態において，フォーカシング電極５０の形状は，絶縁膜４４に形成された貫通部４４ａ及びゲート電極４８に形成された開口４８ａの形状に合わせて円柱形をなすが，要は電界放出用電極４６から放出される電子のフォーカシング状態を制御可能な所定の電界又は磁界を形成可能であり，かつ開口４８ａやゲート電極４８等の周辺の構成要素の形状に合うものであればよい。したがって，フォーカシング電極５０は，必ずしも円形に限られるわけではなく，例えば，楕円柱（上底面が楕円），立方体（上底面が正方形），直方体（上底面が長方形），筒状，上底面が渦巻き状の立体，或いは円錐や各種角錐等にも形成することができる。尚，言うまでもなく，貫通部４４ａ及び開口４８ａも，フォーカシング電極５０の形状に合わせて適当な形状で形成することができる。
【００２７】
本実施形態において，貫通部４４ａ及びフォーカシング電極５０が円柱形状に形成された時，貫通部４４ａは，その直径Ｄがフォーカシング電極５０の直径ｗより大きく形成される。しかし，本実施形態では，貫通部４４ａの直径Ｄとフォーカシング電極の直径Ｗとを略同一に形成することも可能である。
【００２８】
フォーカシング電極５０は，ゲート電極４８の印加電圧に対応して所定の電圧が印加されることにより，所定の強度の電界を形成する。本実施形態に係る平板ディスプレイにおいて，かかる電界は，電界放出用陰極４６から放出された電子の流れに影響を及ぼす。
【００２９】
すなわち，フォーカシング電極５０は，平板ディスプレイの動作時にカソード電極４２とゲート電極４８との間に，電子放出用の電界とは異なる電界を形成することにより，該電界の影響で放出電子から成る電子ビームのフォーカシング状態を調整する。
【００３０】
本実施形態に係る平板ディスプレイでは，かかるフォーカシング電極５０により，絶縁膜４４が貫通部４４ａの直径Ｄをその厚さＨより大きくしたとしても，放出電子がゲート電極４８にぶつかってリークしないように，放出電子のフォーカシング状態を調整することが可能となる。
【００３１】
（２）フォーカシング電極の作用
次に，フォーカシング電極の作用について，図４〜図６を参照しながら発明者らが実際に行った実験を基に説明する。実施形態に基づいて，実際に発明者らは，次の条件に適合する電界放出表示装置を構成し，該装置について実験したところ，次のような結果が得られた。
【００３２】
すなわち，カソード電極（４２）をグラウンドさせ，ゲート電極（４８）には４０Ｖ，フォーカシング電極（５０）には１０Ｖの電圧を印加する場合，図４に示すように，電子ビームは，電界のエッジ効果によって電子ｅ⁻の進行方向が相互に交差（クロス）し，アノード電極（６０）に誘導された。
【００３３】
これとは異なり，カソード電極（４２）をグラウンドさせ，ゲート電極（４８）には４０Ｖ，フォーカシング電極（５０）には５Ｖの電圧を印加する場合，図５に示すように，電子ビームは，互いに平行な状態で良好にアノード電極（６０）に誘導された。すなわち，かかる場合，電子ビーム（放出電子からなる。）は，フォーカシング電極（５０）が形成する電界の影響を受けて，フォーカシング状態が良好になる。
【００３４】
最後に，カソード電極（４２）をグラウンドさせ，ゲート電極（４８）には４０Ｖ，フォーカシング電極（５０）には０Ｖの電圧を印加する場合，図６に示すように，電子ビームは，ゲート電極（４８）に衝突するようにアノード電極（６０）に誘導されて電子のリーク現象をもたらすことがわかる。
【００３５】
以上の実験結果から，本実施形態を適用することによって，フォーカシング電極（５０）に印加される電圧を他の電極，即ちカソード電極（４２）及びゲート電極（４８）のそれぞれに印加される電圧に合わせて適切に調節すれば，電子ビームがゲート電極（４８）にリークされることなく，良好にフォーカシングされることがわかる。
【００３６】
このように，本実施形態によれば，フォーカシング電極（５０）によって電子ビームのフォーカシング状態を良好に調整することで，電子ビームをアノード電極（６０）側に誘導し蛍光層の所定領域に衝突させることができる。すなわち，本実施形態によれば，フォーカシング電極（５０）により発生する電界又は磁界によって電子ビームの絞りを自在に調整可能である。ここで，フォーカシング電極（５０）により発生する電界や磁界は，フォーカシング電極（５０）に印加電力，即ち電圧又は電流によって容易に調整可能である。
【００３７】
尚，本実施形態に係る平板ディスプレイにおいては，例えば，絶縁膜（４４）の通過部（４４ａ）の直径（Ｄ）を例えば１〜１０μｍに維持し，厚さＨを例えば０．５〜６μｍに維持する時，その作用が良好になる。
【００３８】
（３）平板ディスプレイのアセンブリ
本実施形態に係る平板ディスプレイの製造は，次のように行われる。
図３は，平板ディスプレイの製造方法についての説明図である。図示したように，まず基板４０が提供され（Ｓ１），この基板４０の一面にカソード電極４２が所定のパターンを維持して形成されると（Ｓ２），このカソード電極４２の一面には絶縁層５２の形成物質が所定の厚さを維持して蒸着され（Ｓ３），その後フォーカシング電極５０の形成物質が所定の厚さを維持して絶縁層５２の上に積層するように蒸着形成される（Ｓ４）。
【００３９】
次の段階（Ｓ５）において，かかるフォーカシング電極５０と絶縁層５２は，所定のパターンを維持するようにパターニングされる。
【００４０】
その後，絶縁層５２とフォーカシング電極５０を覆って，基板４０の一面には，絶縁膜４４の形成物質が所定の厚さを維持して蒸着され，この絶縁膜４４の一面には，ゲート電極４８の形成物質が所定の厚さを維持して蒸着される（Ｓ６）。
【００４１】
それから，絶縁膜４４とゲート電極４８は，貫通部４４ａ（絶縁膜４４）と開口４８ａ（ゲート電極４８）とが形成されるようにパターニングされ（Ｓ７），貫通部４４ａには，低仕事関数物質からなる電界放出用陰極４６が詰められて形成される（Ｓ８）。この時，電界放出用陰極４６は，絶縁層５２とフォーカシング電極５０を覆いながら，絶縁膜４４の全体の厚さＨ′よりは薄い厚さａを有するように形成される（図１参照）。
【００４２】
このような段階を経てカソードアセンブリは形成され，第２基板５４は，第１基板４０との間に形成する内部空間部５６が，真空状態を維持することができるように第１基板４０に取付けられる。
【００４３】
この時，第１，２基板４０，５４のセルギャップを維持するスペーサ５８は，平板ディスプレイのピクセルとピクセルとの間に合わせて配置される。
【００４４】
また，第２基板５４の一面にはカソード電極４２に対応する複数のアノード電極６０が所定のパターンを維持して形成され，このアノード電極６０の一面には，蛍光体からなる蛍光層６２が形成される。
【００４５】
併せて，蛍光層６２の一面にはアルミニウム層６４が形成され得るが，これは平板ディスプレイが高電圧用をなす場合に備えられる。結果，第２基板５４とアノード電極６０と蛍光層６２とアルミニウム層６４とからアノードアセンブリが形成される。
【００４６】
以上のように構成される平板ディスプレイは，ゲート電極４８に所定の電圧が印加されてその作用が始まると，電界放出用陰極４６からは電子が放出され，この放出された電子は，アノード電極６０側に誘導されて蛍光層６２にぶつかるようになることにより，光を発するようになって，ユーザーが所望する画像や文字などを実現するようになる。
【００４７】
以上，本発明の望ましい実施形態について説明したが，本発明はこれに限られるわけではなく，特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範囲内で様々に変形して実施でき，これも本発明の範囲に属することは当然のことである。
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば，第１基板の一面に所定のパターンを有して形成される複数のカソード電極と，該各カソード電極の一面に所定のパターンに形成された複数の貫通部を配置しながら前記第１基板の一面で形成される絶縁膜と，前記それぞれの貫通部内に配置されながら前記カソード電極に接触する複数の電界放出用陰極と，前記貫通部と貫通される開口部を保有して前記絶縁膜の一面に所定のパターンを有して形成される複数のゲート電極と，該ゲート電極と前記カソード電極の間に配置されて前記電界放出用陰極から放出された電子の流れを制御する複数のフォーカシング電極と，前記第１基板と所定の間隔を置いて配置されて内部空間部を真空状態に維持するように該第１基板に結合する第２基板と，該第２基板の一面に所定のパターンを有して形成される複数のアノード電極と，該各アノード電極の一面に形成される蛍光層と，含む電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００４９】
また，本発明によれば，前記フォーカシング電極は，所定のパターンをなして前記それぞれの貫通部内に配置されて形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイや，前記フォーカシング電極は，所定のパターンをなして前記電界放出用陰極の内部に配置されて形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００５０】
さらにまた，本発明によれば，前記フォーカシング電極は，前記カソード電極の一面に形成される絶縁層の一面に積層されて形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイや，前記電界放出用陰極は，低仕事関数を有する物質がその表面を平坦になして形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００５１】
さらに，本発明によれば，前記貫通部とフォーカシング電極は，円形の形態に形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイや，前記貫通部の直径は，前記フォーカシング電極の直径と同一又はそれより大きく形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００５２】
さらにまた，本発明によれば，前記貫通部の直径は，前記絶縁膜の厚さと同一又はそれより大きく形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイや，前記貫通部の直径は，１〜１０μｍを維持して形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイ，或いは，前記絶縁膜の厚さは，０．５〜６μｍを維持して形成されることを特徴とする電界放出用陰極を有する平板ディスプレイが提供される。
【００５３】
また，本発明によれば，基板の一面にカソード電極形成物質を塗布し，これをパターニングしてカソード電極を形成する段階と，該カソード電極の一面に絶縁物質及びフォーカシング電極形成物質を順次に積層し，これをパターニングして絶縁層とフォーカシング電極を形成する段階と，前記基板の一面に前記フォーカシング電極を覆うように絶縁物質を塗布して絶縁膜を形成する段階と，該絶縁膜の一面にゲート電極形成物質を塗布してゲート電極を形成する段階と，前記絶縁層とフォーカシング電極が前記絶縁膜及びゲート電極の外部に露出するように前記絶縁層とフォーカシング電極をパターニングする段階と，前記絶縁膜のパターニング部位に電界放出用陰極形成物質を充填して電界放出用陰極を形成する段階とを含む電界放出用陰極を有する平板ディスプレイ製造方法が提供される
【００５４】
以上説明した本発明の構成と作用説明等を通じてわかるように，本発明は，カソード電極とゲート電極の間に形成されるフォーカシング電極により，次のような効果を奏する。
【００５５】
まず，本発明に係る平板ディスプレイは，フォーカシング電極が，電界放出用陰極から放出された電子がゲート電極にぶつかってリークされることなく良好なフォーカシング特性を見せるようにすることにより，ディスプレイされる画像の歪みを防止する効果を有する。
【００５６】
また，かかる効果は，電界放出用陰極が配置される絶縁膜の貫通部の大きさに拘わらず，換言すれば，絶縁膜の貫通部の直径が絶縁膜の全体の厚さから電界放出用陰極の厚さ分だけを引いた厚さより大きくなされた状態においても発揮できる。よって，本発明に従って電界放出表示装置を構成する時には，製品の品位向上に有利になるように電界放出表示装置を設計することができる利点を有する。
【００５７】
この他にも，電界放出用陰極から放出された電子が蛍光体にフォーカシングされて誘導される時，スペーサにぶつかって起こる悪影響も防止できる付加的な効果も有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態による平板ディスプレイを示す部分断面図である。
【図２】本発明の実施形態による平板ディスプレイのゲート電極とフォーカシング電極を説明するための平面図である。
【図３】本発明の実施形態による平板ディスプレイの製造方法を説明するための図面である。
【図４】本発明の実施形態による平板ディスプレイの作用を説明するための図面である。
【図５】本発明の実施形態による平板ディスプレイの作用を説明するための他の図面である。
【図６】本発明の実施形態による平板ディスプレイの作用を説明するための他の図面である。
【図７】従来の技術による電界放出表示装置を示す断面図である。
【図８】従来の技術による電界放出表示装置の部分断面図である。
【符号の説明】
４２カソード電極
４４絶縁膜
４４ａ貫通部
４６電界放出用電極
４８ゲート電極
４８ａ開口
５０フォーカシング電極
５２絶縁層
５６内部空間部
６０アノード電極
６２蛍光層
６４高電圧用アルミニウム

Claims

所定の間隔を置いて配置されるカソード電極及びアノード電極と；
前記カソード電極の一面と前記アノード電極の一面との間に形成される内部空間部と；
前記カソード電極の一面に形成されており電界放出効果により前記内部空間部に電子を放出する電界放出用陰極と；
前記カソード電極の一面に形成されており前記電界放出陰極が内部に配置される貫通部を有する絶縁膜と；
前記絶縁膜の前記内部空間部側の面に形成されており前記電界放出用陰極の電界放出効果を制御するゲート電極と；
前記ゲート電極と前記カソード電極との間に配されており放出された前記電子の流れを制御するフォーカシング電極と；
前記アノード電極の一面に形成されており前記電子の衝突によって発光する蛍光層と；
を備え、
前記フォーカシング電極は、前記電界放出用陰極内に形成されることを特徴とする，平板ディスプレイ。
前記フォーカシング電極は，絶縁層を介して前記カソード電極の一面に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の平板ディスプレイ。
前記フォーカシング電極は，前記貫通部内に配置されることを特徴とする、請求項１または２に記載の平板ディスプレイ。
前記貫通部及び前記フォーカシング電極は，実質的に円柱形であることを特徴とする、請求項３に記載の平板ディスプレイ。
前記貫通部の開口直径は，前記フォーカシング電極上面の直径以上であることを特徴とする、請求項４に記載の平板ディスプレイ。
前記貫通部の開口直径は，前記絶縁膜の厚さ以上であることを特徴とする、請求項４または５に記載の平板ディスプレイ。
前記電界放出用陰極は，前記電子の放出が行われる実質的に平坦な放出面を有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の平板ディスプレイ。
前記蛍光層の前記内部空間部側の面には，高電圧用アルミニウムが形成されていることを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載の平板ディスプレイ。
基板の一面に積層したカソード電極形成物質をパターニングすることによりカソード電極を形成する第１段階と；
前記カソード電極の一面に絶縁物質とフォーカシング電極形成物質とを順次積層する第２段階と；
前記第２段階で積層された前記絶縁物質及び前記フォーカシング電極形成物資をパターニングすることにより絶縁層とフォーカシング電極とを形成する第３段階と；
前記フォーカシング電極が形成された前記基板の一面に絶縁物質とゲート電極形成物質とを順次積層する第４段階と；
前記絶縁層及びフォーカシング電極が開口部分で露出するように，前記第４段階で積層された前記絶縁物質及びゲート電極形成物質をパターニングすることにより，絶縁膜とゲート電極とを形成する段階と；
前記フォーカシング電極が電界放出用陰極形成物質で覆われるように前記絶縁膜の開口部分に電界放出用陰極形成物質を充填することにより電界放出用陰極を形成する段階と；
を含むことを特徴とする、平板ディスプレイの製造方法。