JP4126657B2 - 垂直記録用磁気ディスク基板の研磨方法 - Google Patents
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Description
まず本発明の垂直記録用磁気ディスク基板について説明する。磁気ディスク基板として好ましい構造の断面模式図を図1および図2に示す。ただしこれらは垂直記録用磁気ディスク基板の例示として示すものであり、本発明の垂直記録用磁気ディスク基板をこれに限定するものではない。
アルミ合金を用いた基体1上の初期反応層には、ジンケート液(酸化亜鉛および苛性ソーダ水溶液を含む液)に浸漬して形成するZn膜層を用いるのが一般的である。Zn層の膜厚は、0.1〜0.8μmであることが望ましいが、該範囲をはずれた膜厚であることも可能である。
次に、上述のようにして作成した磁気ディスク基板表面を本発明の研摩法により研摩する。
両面研磨装置51は次の通りの構成を有する。52は下定盤であって、水平方向に回転可能に設置され、かつその上面にドーナツ状の研磨布53を装着する。54は上定盤であって、下定盤52の上方位置にこの下定盤52と対向同軸状に配置されると共に水平方向に回転可能及び垂直方向に昇降可能に保持され、かつ下面にドーナツ状の研磨布55を装着する。56は太陽歯車であって、各研磨布53、55間において研磨布53、55の軸心位置に配置される。57は内歯歯車であって、太陽歯車56の径方向外側位置に同心状に配置される。58は円盤状の基板保持具であって、内歯歯車57及び太陽歯車6に歯合いされる外歯歯車を構成し下定盤52の研磨布53上に載置される。12はスラリー供給手段であって、上定盤54と共に回転するスラリー溜め60と、スラリー溜め60からのスラリーを上定盤54から基板59の上面に研磨材を供給するためのパイプ61とを有し、スラリー溜60に供給するスラリー61、63および純水62の供給、停止をバルブ64、65、66により制御する。
非磁性基体として3.5インチφのAl−5Mg(at%)合金を用い、P濃度12.5%のNi−高Pめっき液を用いてP濃度12.5%、膜厚9μmのNi−高P層を形成した後に、P濃度3.7%のNi−低Pめっき液を用いてP濃度4.5%、膜厚3μmのNi−低P層を形成し、Ni−P層の総膜厚を12μmとした基板を用いて研磨を実施した。
2 初期反応層
3 非磁性下地層
4 軟磁性下地層
10 垂直磁気記録用磁気ディスク基板
20 非磁性シード層
30 磁気記録層
40 保護層
51 両面研磨機
52 下定盤
53 研磨布
54 上定盤
55 研磨布
56 太陽歯車
57 内歯歯車
58 基板保持体
59 基板
60 スラリー溜め
61 研磨材を含むスラリー
62 純水
63 研磨材を含むスラリー
64 バルブ
65 バルブ
66 バルブ
Claims (3)
- 非磁性基体上に0.5wt%以上6wt%以下のPを含むNi−P系合金からなる軟磁性下地層が形成されてなる垂直磁気記録媒体用基板と、研磨部材とを相対移動させながら、前記基板を前記研磨部材で押圧した状態で、前記基板と前記研磨部材との間に、pHを4以下の酸性に調整した研磨材を含むスラリーと、pHを8以上のアルカリ性に調整した研磨材を含むスラリーとを、順次供給して、前記基板の表面を研磨する垂直磁気記録媒体用基板の研磨方法であって、
前記pHを8以上のアルカリ性に調整した研磨材を含むスラリーは、前記pHを4以下の酸性に調整した研磨材を含むスラリーにpH調整液を加えることによりpH調整を行ったものであることを特徴とする垂直磁気記録媒体用基板の研磨方法。 - 請求項1において、
前記基板と前記研磨部材との間に、前記pHを4以下の酸性に調整した研磨材を含むスラリーから、前記pHを8以上のアルカリ性に調整した研磨材を含むスラリーに切り替わる間に純水を供給することを特徴とする垂直磁気記録媒体用基板の研磨方法。 - 請求項1または2において、
前記pHを4以下の酸性に調整した研磨材を含むスラリーおよび前記pHを8以上のアルカリ性に調整した研磨材を含むスラリーの研磨材は、コロイダルシリカであることを特徴とする垂直磁気記録媒体用基板の研磨方法。
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