JP4104922B2 - Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism - Google Patents
Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism Download PDFInfo
- Publication number
- JP4104922B2 JP4104922B2 JP2002188572A JP2002188572A JP4104922B2 JP 4104922 B2 JP4104922 B2 JP 4104922B2 JP 2002188572 A JP2002188572 A JP 2002188572A JP 2002188572 A JP2002188572 A JP 2002188572A JP 4104922 B2 JP4104922 B2 JP 4104922B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- lens
- modulator
- deflection
- optical disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク原盤露光記録装置に関し、特に偏向変調器を用いた光ディスク原盤露光記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光ディスク原盤露光記録装置の一例を図２に示す。図中２０１はレーザ光源、２０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、２０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、２０４はＡＯ変調器の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、２０５はＥＯ偏向変調器、２０６はレーザ光を絞り込むとともに所望のビーム径に拡大するビームエクスパンダ、２０７は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、２０８は１／４波長板、２０９はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、２１０はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、２１１はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、２１２はＣＣＤカメラ上にレーザ光を絞り込むレンズである。
【０００３】
レーザ光源２０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器２０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器２０３に入力される。ＡＯ変調器２０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系２０４が、ＡＯ変調器２０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器２０３から出力された１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器２０５に入力される。また、偏向変調器２０５から出力されたレーザ光は、ビームエクスパンダ２０６によって、ビーム径が拡大された後、ヘッド２０９によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、少なからず波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。光学素子を透過したレーザ光の波面の乱れを解消するために、一般的に、ピンホールを使用したビーム整形が行われる。これは、光学素子を透過し、少なからず波面の乱れを受けたレーザ光をレンズ系によって絞り込み、絞り込まれたレーザ光の焦点位置に、ビーム径とほぼ同じ径のピンホールを配置することによって、波面の乱れによって絞り込まれずにレーザビーム径の外側に分布する乱れ成分を除去し、ビーム強度の強い中央部を綺麗に抜き出し、波面の乱れを解消する方法である。
【０００５】
波面の乱れをできるだけ解消するためには、使用する全ての光学素子を透過した後、それまで蓄積された波面の乱れを除去するように、ピンホールをヘッド前の最終段に配置するのが効果的である。しかし、図２に示すように偏向変調器２０５を用いた光ディスク原盤露光記録装置の場合、例えばビームエクスパンダ２０６の一対のレンズの間のような、偏向変調器２０５の後となる箇所にピンホールを配置すると、レーザ光が偏向されたときにレーザ光がピンホールで遮られ、強度変調がかかってしまうため、ピンホールによるビーム整形が使用できないという課題があった。
【０００６】
本発明は、このような従来の課題に鑑み、偏向変調器を用いた光ディスク原盤露光記録装置において、偏向変調器出力光の波面の乱れを軽減させ、対物レンズ後のレーザ光の絞り性能を向上させることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、第１の本発明は、レーザ光源と、前記レーザ光源のレーザ光に基づき得られた記録レーザ光を偏向させる偏向変調器と、光ディスク原盤上に前記記録レーザ光を集光させる対物レンズとを有する光ディスク原盤露光記録装置において、
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記偏向変調器から出射されたレーザ光を絞り込む第１のレンズおよび絞り込んだ前記レーザ光を所望のビーム径に調整する第２のレンズを有するレンズ系と、
前記レンズ系の実質的な焦点位置に配置されたピンホールと、
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる駆動手段とを備えた光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１１】
また、第２の本発明は、レーザ光源と、前記レーザ光源のレーザ光に基づき得られた記録レーザ光を偏向させる偏向変調器と、光ディスク原盤上に前記記録レーザ光を集光させる対物レンズとを有する光ディスク原盤露光記録装置において、
前記レーザ光源と前記偏向変調器との間に設けられた液晶板と、
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記記録レーザ光を分岐する平行平板と、
前記平行平板の表面からの反射光と裏面からの反射光とが形成する干渉縞を検出する光検出器と、
前記光検出器によって検出された前記記録レーザ光の波面の乱れに関する情報を示す前記干渉縞に基づき、前記液晶板への印加電圧を調整する調整手段とを備えた光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１２】
また、第３の本発明は、前記レーザ光源の波長が２７０ｎｍ以下である第１または第２の本発明の光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１３】
また、第４の本発明は、前記レーザ光源の波長をλ、前記レーザ光を絞り込むレンズの焦点距離をｆ、前記レーザ光を絞り込むレンズに入射する入射ビームの半径をｗとしたとき、前記ピンホールの直径が２．５・λ・ｆ／ｗ以下である第１の本発明の光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１５】
また、第５の本発明は、前記レーザ光を絞り込むレンズの焦点距離をｆ、前記偏向変調器の偏向角度をθとしたとき、前記ピンホールの平行移動距離が、ｆ・θである第１の本発明の光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１６】
また、第６の本発明は、前記液晶板は、同心円状に複数個に分割された構造を有する第２の本発明の光ディスク原盤露光記録装置である。
また、第７の本発明は、前記調整手段は、前記干渉縞の影のパターンをモニタし、前記液晶板の分割された各領域に印加する電圧を調整する、第６の本発明の光ディスク原盤露光記録装置である。
【００１７】
また、第８の本発明は、レーザ光源のレーザ光に基づき得られた記録レーザ光を偏向させる工程と、光ディスク原盤上に前記記録レーザ光を集光させる工程とを有する光ディスク原盤露光記録方法において、
前記偏向の工程と、前記記録レーザ光を集光させる工程との間において、平行平板により前記記録レーザ光を分岐する工程と、
前記分岐の工程により得られた表面からの反射光と裏面からの反射光とが形成する干渉縞を検出する工程と、
前記検出の工程によって検出された前記記録レーザ光の波面の乱れに関する情報を示す前記干渉縞に基づき、前記レーザ光源と前記偏向変調器との間に設けられた液晶板への印加電圧を調整する工程とを備えた光ディスク原盤露光記録方法である。
【００１８】
また、第９の本発明は、前記レーザ光源の波長が２７０ｎｍ以下である第８の本発明の光ディスク原盤露光記録方法である。
【００１９】
また、第１０の本発明は、前記液晶板は、同心円状に複数個に分割された構造を有する第８の本発明の光ディスク原盤露光記録方法である。
また、第１１の本発明は、前記印加電圧を調整する工程は、前記干渉縞の影のパターンをモニタし、前記液晶板の分割された各領域に印加する電圧を調整する工程を有する、第１０の本発明の光ディスク原盤露光記録方法である。
【００２０】
また、第１２の本発明は、レーザ光源と、前記レーザ光源のレーザ光に基づき得られた記録レーザ光を偏向させる偏向変調器と、光ディスク原盤上に前記記録レーザ光を集光させる対物レンズと、前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記偏向変調器から出射されたレーザ光を絞り込む第１のレンズおよび絞り込んだ前記レーザ光を所望のビーム径に調整する第２のレンズを有するレンズ系と、前記レンズ系の実質的な焦点位置に配置されたピンホールとを備えた光ディスク原盤露光記録装置の制御方法であって、
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる光ディスク原盤露光記録装置の制御方法である。
【００２１】
また、第１３の本発明は、レーザ光源と、前記レーザ光源のレーザ光に基づき得られた記録レーザ光を偏向させる偏向変調器と、光ディスク原盤上に前記記録レーザ光を集光させる対物レンズとを有する光ディスク原盤露光記録装置において用いられるピンホール機構であって、
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記偏向変調器から出射されたレーザ光を絞り込む第１のレンズおよび絞り込んだ前記レーザ光を所望のビーム径に調整する第２のレンズを有するレンズ系と、
前記レンズ系の実質的な焦点位置に配置されたピンホールと、
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる駆動手段とを備えたピンホール機構である。
【００２２】
以上のような本発明は、その一例として、偏向変調器を用いた光ディスク原盤露光記録装置において、偏向変調器の前にビーム整形用のピンホールを配置する構造にすることによって、偏向変調器に入力されるまでに蓄積されたレーザ光の波面の乱れを解消し、偏向変調器出力光の波面の乱れを軽減させ、対物レンズ後のレーザ光の絞り性能を向上させる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態について説明する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１に本発明における光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す。図中１０１はレーザ光源となる波長２４８ｎｍのアルゴンイオンレーザ、１０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、１０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、１０４はＡＯ変調器の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、１０５はピンホール、１０６はピンホール１０５に向かってレーザ光を絞り込み、出力されるレーザ光を平行光とするレンズ系、１０７はＥＯ偏向変調器、１０８はレーザ光を所望のビーム径に拡大するビームエクスパンダ、１０９は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、１１０は１／４波長板、１１１はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、１１２はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、１１３はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、１１４はＣＣＤカメラ上にレーザ光を絞り込むレンズである。
【００２５】
また、レンズ系１０６は、レーザ光源１０１寄りに設けられた、絞り込みのための第１のレンズ１０６ａと、ＥＯ偏向変調器１０７寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第２のレンズ１０６ｂとを有している。なお、上記の各構成において、レーザ光源１０１は本発明のレーザ光源に相当し、ＥＯ偏向変調器１０７は本発明の偏向変調器に相当し、レンズ系１０６は本発明のレンズ系に相当し、第１のレンズ１０６ａは本発明の第１のレンズに、第２のレンズ１０６ｂは本発明の第２のレンズにそれぞれ相当し、ピンホール１０５は本発明のピンホールに相当し、ヘッド１１１は本発明の対物レンズに相当する。
【００２６】
レーザ光源１０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器１０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器１０３に入力される。ＡＯ変調器１０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系１０４が、ＡＯ変調器１０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器１０３から出力される１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器１０７に入力される。また、偏向変調器１０７を出力したレーザ光は、ビームエクスパンダ１０８によって、ビーム径が拡大された後、ヘッド１１１によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【００２７】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。一般的にレンズは収差が３０ｍλ以上となると絞り性能が悪化すると言われている。波長３５１ｎｍにおいて光学素子から受ける収差を調べたところ収差成分は約１０ｍλであった。この収差成分は波長３５１ｎｍに対して約８ｎｍに相当する。光学素子を透過することによって受ける波面の乱れが各波長においてほぼ同じであるとして波長に対する収差成分の推移を計算した。図５に波長に対する収差の推移を示す。波長２７０ｎｍ近傍で収差成分が３０ｍλとなり、波長２７０ｎｍ以下となると対物レンズの絞り性能に大きく影響する。
【００２８】
そこで、本実施の形態においては、光学素子を透過したレーザ光の波面の乱れを解消するために、ピンホールを使用したビーム整形を行う。これは波面の乱れを受けたレーザ光をレンズ系の絞り込み用のレンズによって絞り込み、絞り込まれたレーザ光の焦点位置に、その位置におけるビーム径（ビームの直径）とほぼ同じ径のピンホールを配置することによって、所定のビーム径を得るためのレンズを通過させる前に、波面の乱れによって絞り込まれずにレーザビーム径の外側に分布する乱れ成分を除去し、ビーム強度の強い中央部を綺麗に抜き出し、波面の乱れを解消する方法である。このとき、ピンホールの形状は、実質真円であって、その内周はなめらかになっていることが望ましい。
【００２９】
波面の乱れをできるだけ解消するためには、ピンホールをヘッド前の最終段に配置するのが効果的である。しかし、本実施の形態１に示したように偏向変調器を用いた露光記録装置の場合、レーザ光が偏向されるため、偏向変調器１０７後にピンホールを配置できない。そのため、レンズ系１０６に示すように偏向変調器前に同じ倍率の平凸レンズを２枚、第１のレンズ１０６ａおよび第２のレンズ１０６ｂとして配置し、そのレンズ系１０６の焦点位置、すなわち第１のレンズ１０６ａの焦点位置にピンホールを配置した。この構造によって、偏向変調器１０７まで蓄積された波面の乱れを解消することが可能となる。
【００３０】
ピンホール１０５に向かってレーザ光を絞り込むレンズ系１０６によって絞り込まれたビームの焦点位置でのビーム半径は、レーザ光源の波長をλ、レンズの焦点距離をｆ、レンズに入射するビームの半径をｗとすると、λ・ｆ／（π・ｗ）で与えられる。そこで、ピンホールの直径ｄｗを変化させ、レーザ光の収差成分を調べた。図８に結果を示す。横軸は、レンズの焦点位置でのビーム半径ｗに対するピンホール直径ｄｗの大きさを示している。ピンホール直径をレンズ系１０６の焦点位置のビーム半径の約２．５倍以下とすると、収差成分が３０ｍλ以下となった。
【００３１】
具体的には、レーザ波長が２７０ｎｍ程度で、レンズの焦点距離、すなわち第１のレンズ１０６ａから焦点位置までの距離を４０ｍｍ程度とすると、焦点位置でのビームの直径（２Ｗ）が８μｍのとき、ピンホール直径は約１０μｍ程度となる。また、ピンホール直径の具体例としては１０μｍ〜３０μｍとなるようにし、焦点位置におけるビームの直径を、上記式に基づきこの値域に合わせるようにする。
【００３２】
また、ピンホールによるビーム径の絞り性能について、以下のような実験を行った。
【００３３】
レジストを塗布したガラス板上に、ピットを露光記録した。記録したピット形状より、対物レンズによって絞り込まれたレーザ光のビーム径の計算を行った。レーザ波長を２７０ｎｍとして、対物レンズのＮＡを０．９とした場合、従来例のビーム直径が０．３３μｍであるのに対し、本実施の形態１のように偏向変調器前にピンホールを配置し、ビーム整形を行った結果、０．３μｍ程度の値が得られた。すなわち、ビーム整形を行わない場合に比べ、約１割ビーム径の絞り性能が向上していることを確認した。
【００３４】
また、本実施の形態１では、変調器としてＥＯ変調器、ＡＯ変調器を使用したが、変調器の組み合わせは関係なく、その他の組み合わせの場合についても同様の効果が得られる。
【００３５】
（実施の形態２）
図３に本発明における光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す。図中３０１は光源となる波長２４８ｎｍのアルゴンイオンレーザ、３０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、３０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、３０４はＡＯ変調器３０３の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、３０５はＥＯ偏向変調器、３０６はレーザ光を所望のビーム径に拡大するビームエクスパンダ、３０７は偏向変調器３０５の偏向方向と実質垂直方向の開口幅を所定の幅だけ制限したスリット、３０８は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、３０９は１／４波長板、３１０はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、３１１はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、３１２はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、３１３はＣＣＤカメラ上にレーザ光を絞り込むレンズである。
【００３６】
また、ビームエクスパンダ３０６は、ＥＯ変調偏光器３０５寄りに設けられた、絞り込みのための第１のレンズ３０６ａと、ヘッド３１０寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第２のレンズ３０６ｂとを有している。なお、上記の各構成において、レーザ光源３０１は本発明のレーザ光源に相当し、ＥＯ偏向変調器３０５は本発明の偏向変調器に相当し、ビームエクスパンダ３０６は本発明のレンズ系に相当し、第１のレンズ３０６ａは本発明の第１のレンズに、第２のレンズ３０６ａは本発明の第２のレンズにそれぞれ相当し、スリット３０７は本発明のスリットに相当し、ヘッド３１０は本発明の対物レンズに相当する。
【００３７】
レーザ光源３０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器３０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器３０３に入力される。ＡＯ変調器３０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系３０４が、ＡＯ変調器３０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器３０３から出力される１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器３０５に入力される。また、偏向変調器３０５を出力したレーザ光は、ビームエクスパンダ３０６によって、ビーム径が拡大された後、ヘッド３１０によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【００３８】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。これについては、すでに図５を参照して説明した通りである。
【００３９】
ビームエクスパンダ３０６まで蓄積された波面の乱れは、ビームエクスパンダ３０６の前側のレンズである第１のレンズ３０６の焦点位置では絞り込まれず、ビーム径の外側に分布する。
【００４０】
そこで、本実施の形態においては、ビームエクスパンダの前側のレンズである第１のレンズ３０６ａの焦点位置に、ＥＯ偏向変調器３０５の偏向方向と実質垂直方向の開口幅が、所定の幅だけ制限されたスリット３０７を配置し、所定のビーム径を得るための第２のレンズ３０６ｂを通過させる前に、ビーム外部に分布する波面の乱れ成分を除去し、ビーム強度の強い中央部を抜き出し、波面の乱れを解消している。また、ＥＯ偏向変調器３０５の偏向方向には、開口を制限せず、偏向時においてもビームが遮られず、出力に強度変調が生じないようにしている。これによって、信号ピットを露光記録した際、記録方向の絞り性能を改善させることができる。
【００４１】
スリットに向かってレーザ光を絞り込む第１のレンズ３０６ａによって絞り込まれたビームの焦点位置でのビーム半径は、レーザ光源の波長をλ、レンズの焦点距離をｆ、レンズに入射するビームの半径をｗとすると、λ・ｆ／（π・ｗ）で与えられる。そこで、スリットの開口幅を変化させ、レーザ光の収差成分を調べた。図９に結果を示す。横軸は、レンズの焦点位置でのビーム半径ｗに対するスリットの開口幅の大きさを示している。実施の形態１と同様の条件で、スリット幅をレンズの焦点位置のビーム半径の約２．５倍以下で収差成分が３０ｍλ以下となった。
【００４２】
また、スリットによるビーム径の絞り性能について、実施の形態１と同様の条件で実験を行った。
【００４３】
レジストを塗布したガラス板上に、ピットを露光記録した。記録したピット形状より、対物レンズによって絞り込まれたレーザ光のビーム径の計算を行った。本実施の形態２のように偏向変調器後にスリットを配置し、ビーム整形を行った結果、ビーム整形を行わない場合に比べ、約１割ビーム径の絞り性能が向上していることを確認した。
【００４４】
（実施の形態３）
図４に本発明における光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す。図中４０１は光源となる波長２４８ｎｍのアルゴンイオンレーザ、４０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、４０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、４０４はＡＯ変調器４０３の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、４０５はピンホール、４０６はピンホールに向かってレーザ光を絞り込み、出力されるレーザ光を平行光とするレンズ系、４０７はＥＯ偏向変調器、４０８はレーザ光を所望のビーム径に拡大するビームエクスパンダ、４０９は偏向変調器４０７の偏向方向と実質垂直方向の開口幅が、所定の幅だけ制限されているスリット、４１０は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、４１１は１／４波長板、４１２はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、４１３はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、４１４はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、４１５はＣＣＤカメラ上にレーザ光を絞り込むレンズである。
【００４５】
また、レンズ系４０６は、レーザ光源４０１寄りに設けられた、絞り込み用の第１のレンズ４０６ａと、ＥＯ偏向変調器４０７寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第２のレンズ４０６ｂとを有している。
【００４６】
また、ビームエクスパンダ４０８は、ＥＯ変調偏光器４０７寄りに設けられた、絞り込み用の第３のレンズ４０８ａと、ヘッド４１２寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第４のレンズ４０８ｂとを有している。なお、上記の各構成において、レーザ光源４０１は本発明のレーザ光源に相当し、ＥＯ偏向変調器４０７は本発明の偏向変調器に相当し、レンズ系４０６は本発明の第１のレンズ系に相当し、第１のレンズ４０６ａは本発明の第１のレンズに、第２のレンズ４０６ｂは本発明の第２のレンズにそれぞれ相当し、ピンホール４０５は本発明のピンホールに相当し、ビームエクスパンダ４０８は本発明の第２のレンズ系に相当し、第３のレンズ４０８ａは本発明の第３のレンズに、第４のレンズ４０８ｂは本発明の第４のレンズにそれぞれ相当し、スリット４０９は本発明のスリットに相当し、ヘッド４１２は本発明の対物レンズに相当する。
【００４７】
レーザ光源４０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器４０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器４０３に入力される。ＡＯ変調器４０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系４０４が、ＡＯ変調器４０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器４０３から出力される１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器４０７に入力される。また、ＥＯ偏向変調器４０７を出力したレーザ光は、ビームエクスパンダ４０８によって、ビーム径が拡大された後、ヘッド４１２によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【００４８】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。一般的にレンズは収差が３０ｍλ以上となると絞り性能が悪化すると言われている。これについては、すでに図５を参照して説明した通りである。
【００４９】
そこで、本実施の形態においては、ＥＯ偏向変調器４０７までに蓄積された波面の乱れ成分を除去するために、ピンホール４０５によるビーム整形を行った。レンズ系４０６に示すように２枚の平凸レンズ、すなわち第１のレンズ４０６ａおよび第２のレンズ４０６ｂを使用し、第１のレンズ４０６ａでレーザビームを絞り込んだ後、第２のレンズ４０６ｂでビームを平行光にする。レンズ系４０６の前側のレンズである第１のレンズ４０６ａによって絞り込まれたレーザ光の焦点位置では、それまでに蓄積された波面の乱れ成分が絞り込まれず、ビーム径の外側に分布する。レンズ系４０６の第１のレンズ４０６ａの焦点位置に、ビーム径外側の乱れ成分のみを除去するように穴径を設定したピンホール４０５を配置し、ビームが第２のレンズ４０６ｂを通過する前にビーム径外部の乱れ成分を除去する。ここでは、ピンホール４０５の直径として、ピンホール４０５前のレンズ（第１のレンズ４０６ａ）の焦点位置におけるビーム半径の約２．３倍の大きさを採用した。
【００５０】
さらに、ＥＯ偏向変調器４０７によって生じた波面の乱れは、ビームエクスパンダ４０８の前側のレンズである第３のレンズ４０８ａの焦点位置では絞り込まれず、ビーム径の外側に分布する。ビームエクスパンダ４０８の前側のレンズである第３のレンズ４０８ａの焦点位置に、ビーム径とほぼ同じ大きさであって、偏向変調器３０５の偏向方向と実質垂直方向の開口幅が、所定の幅だけ制限されたスリット４０９を配置し、ビームが第４のレンズ４０８ｂを通過する前にビーム外部に分布する波面の乱れ成分を除去し、ビーム強度の強い中央部を抜き出し、波面の乱れを解消している。また、ＥＯ偏向変調器４０７の偏向方向には、開口を制限せず、偏向時においてもビームが遮られず、出力に強度変調が生じないようにしている。これによって、信号ピットを露光記録した際、記録方向の絞り性能を改善させることができる。ここではスリット４０９の開口幅を、第３のレンズ４０８ａの焦点位置でのビーム半径の約２．３倍に設定した。
【００５１】
このような本実施の形態においても、実施の形態１，２と同様の条件で実験を行い、レジストを塗布したガラス板上に、ピットを露光記録した。記録したピット形状より、対物レンズによって絞り込まれたレーザ光のビーム径の計算を行った。本実施の形態３のように、偏向変調器前にピンホールを、かつ偏向変調器後にスリットを配置し、ビーム整形を行った結果、ビーム整形を行わない場合に比べ、約１割ビーム径の絞り性能が向上していることを確認した。
【００５２】
（実施の形態４）
図６に本発明における光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す。図中６０１は光源となる波長２４８ｎｍのアルゴンイオンレーザ、６０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、６０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、６０４はＡＯ変調器６０３の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、６０５はＥＯ偏向変調器、６０６は、ピンホール６０７に向かってレーザ光を絞り込み、出力されるレーザ光を平行光とするビームエクスパンダ、６０７はピンホール、６０８はピンホール６０７を、レーザ光の光軸に対して略垂直方向に移動させる圧電素子、６０９は偏向信号発生器、６１０は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、６１１は１／４波長板、６１２はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、６１３はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、６１４はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、６１５はＣＣＤカメラ上にレーザ光を絞り込むレンズである。
【００５３】
また、ビームエクスパンダ６０６は、ＥＯ偏向変調器６０５寄りに設けられた、絞り込み用の第１のレンズ６０６ａと、ヘッド６１２寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第２のレンズ６０６ｂとを有している。なお、上記の各構成において、レーザ光源６０１は本発明のレーザ光源に相当し、ＥＯ偏向変調器６０５は本発明の偏向変調器に相当し、ビームエクスパンダ６０６は本発明のレンズ系に相当し、第１のレンズ６０６ａは本発明の第１のレンズに、第２のレンズ６０６ｂは本発明の第２のレンズにそれぞれ相当し、ピンホール６０７は本発明のピンホールに相当し、圧電素子６０８は本発明の駆動手段に相当し、ヘッド６１２は本発明の対物レンズに相当する。また、ビームエクスパンダ６０６，ピンホール６０７および圧電素子６０８は本発明のピンホール機構に相当する。また、以下では、本発明の光ディスク原盤露光記録装置の動作の実施の形態を説明するとともに、本発明の光ディスク原盤露光記録装置の制御方法および本発明のピンホール機構の一実施の形態について説明を行う。
【００５４】
レーザ光源６０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器６０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器６０３に入力される。ＡＯ変調器６０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系６０４が、ＡＯ変調器６０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器６０３から出力される１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器６０５に入力される。また、ＥＯ偏向変調器６０５を出力したレーザ光は、ビームエクスパンダ６０６によって、ビーム径が拡大された後、ヘッド６１２によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【００５５】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。一般的にレンズは収差が３０ｍλ以上となると絞り性能が悪化すると言われている。これについては、すでに図５を参照して説明した通りである。
【００５６】
そこで、本実施の形態においては、光学素子を透過したレーザ光の波面の乱れを解消するために、ピンホールを使用したビーム整形を行う。これは波面の乱れを受けたレーザ光をレンズ系によって絞り込み、絞り込まれたレーザ光の焦点位置に、その位置におけるビーム径（ビームの直径）とほぼ同じ径のピンホールを配置することによって、波面の乱れによって絞り込まれずにレーザビーム径の外側に分布する乱れ成分を除去し、所定のビーム径を得るためのレンズを通過させる前に、ビーム強度の強い中央部を綺麗に抜き出し、波面の乱れを解消する方法である。このとき、実施の形態１と同様、ピンホールの形状は、実質真円であって、その内周はなめらかになっていることが望ましい。
【００５７】
波面の乱れをできるだけ解消するためには、ピンホールをヘッド前の最終段に配置するのが効果的である。しかし、偏向変調器を用いた露光記録装置の場合、レーザ光が偏向されるため、偏向変調器後にピンホールを配置できない。
【００５８】
これに対して本実施の形態では、ピンホール６０７には圧電素子６０８を取り付け、圧電素子６０８に入力される電圧によって、ピンホール６０７の位置をＥＯ偏向変調器６０５の偏向方向と実質平行方向に移動させることができるようにし、レーザ光を偏向させたときも、ピンホール６０７でレーザ光が遮られないようにした。ＥＯ偏向変調器６０５の偏向角をθ、レンズ系によるビームエクスパンダ６０６の前側レンズの焦点距離をｆとすると、ピンホール６０７の移動距離はｆ・θとなる。偏向信号発生器６０９からは、偏向変調器に入力される偏向信号を出力するとともに、圧電素子６０８に入力するピンホール移動信号が出力されている。両信号は、信号遅れ量を調整し、同期して動作させる。このとき、同期周波数は数百ＫＨｚ程度とすればよい。
【００５９】
また、本実施の形態によるビーム径の絞り性能について、実施の形態１と同様の条件で実験を行った。レジストを塗布したガラス板上に、ピットを露光記録した。記録したピット形状より、対物レンズによって絞り込まれたレーザ光のビーム径の計算を行った。本実施の形態４のようにピンホールを配置し、ビーム整形を行った結果、ビーム整形を行わない場合に比べ、約１割ビーム径の絞り性能が向上していることを確認した。
【００６０】
また、本実施の形態４では、変調器としてＥＯ変調器、ＡＯ変調器を使用したが、変調器の組み合わせは関係なく、その他の組み合わせの場合についても同様の効果が得られる。
【００６１】
また、ピンホールを移動させる手段として、圧電素子を使用したが、本発明の駆動手段は、ボイスコイルや、リニアモータなど、偏向信号と同期してピンホールを移動させる手段であれば、それに限らない。
【００６２】
（実施の形態５）
図７に本発明における光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す。図中７０１は光源となる波長２４８ｎｍのアルゴンイオンレーザ、７０２はレーザの低域ノイズを除去し、またパワーコントロールを行うＥＯ変調器、７０３は情報信号による変調を行うＡＯ変調器、７０４はＡＯ変調器７０３の結晶中にレーザ光を絞り込むレンズ系、７０５はレーザ光の波面の乱れを調整する液晶板、７０６はＥＯ偏向変調器、７０７はレーザ光を所望のビーム径に拡大するビームエクスパンダ、７０８はレーザ光を分岐させ、かつ表裏の反射光の干渉縞を生成する平行平板、７０９は干渉パターンを受光する光検出器、７１０は光検出器７０９で受光した干渉縞のパターンを認識し、液晶板７０５への入力信号を生成する演算回路、７１１は偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、７１２は１／４波長板、７１３はレジスト原盤上にレーザ光を絞り込むヘッド、７１４はレジスト原盤を回転させるターンテーブル、７１５はレジスト原盤から反射してきたレーザ光をモニタするＣＣＤカメラ、７１６はＣＣＤカメラ７１５上にレーザ光を絞り込むレンズである。また、ビームエクスパンダ７０７は、ＥＯ偏向変調器７０６寄りに設けられた、絞り込みのための第１のレンズ７０７ａと、ヘッド７１３寄りに設けられた、所定のビーム径を得るための第２のレンズ７０７ｂとを有している。
【００６３】
なお、上記の各構成において、レーザ光源７０１は本発明のレーザ光源に相当し、ＥＯ偏向変調器７０６は本発明の偏向変調器に相当し、液晶板７０５は本発明の液晶板に相当し、平行平板７０８は本発明の平行平板に相当し、光検出器７０９は本発明の光検出器に相当し、演算回路７１０は本発明の調整手段に相当し、ヘッド７１３は本発明の対物レンズに相当する。また、以下では、本発明の光ディスク原盤露光記録装置の動作の実施の形態を説明するとともに、本発明の光ディスク原盤露光記録方法の一実施の形態について説明を行う。
【００６４】
レーザ光源７０１から出力されたレーザ光は、ノイズイータと呼ばれるＥＯ変調器７０２に入力されレーザノイズの低減と、所望のレーザ光強度の調整が行われる。ノイズイータを透過したレーザ光は、情報信号による強度変調を行うＡＯ変調器７０３に入力される。ＡＯ変調器７０３の変調速度は結晶中のビーム径に依存し、ビームが絞り込まれるほど、高速な変調が可能となるため、レンズ系７０４が、ＡＯ変調器７０３の結晶中で焦点を結ぶように配置されている。ＡＯ変調器７０３から出力される１次回折光は、偏向変調を行うＥＯ偏向変調器７０６に入力される。また、ＥＯ偏向変調器７０６を出力したレーザ光は、ビームエクスパンダ７０７によって、上記各実施の形態のビームエクスパンダと同様にしてビーム径が拡大された後、ヘッド７１３によって、レジスト原盤に絞り込まれ、情報信号を露光記録する。
【００６５】
ＡＯ変調器、ＥＯ変調器などの光学素子を透過したレーザ光は、波面の乱れを受け、理想的なガウス分布型のビームプロファイルが崩れる。これについては、すでに図５を参照して説明した通りである。
【００６６】
本実施の形態では、ＥＯ偏向変調器７０６を透過し、ビームエクスパンダ７０７でビーム径が拡大され、平行光となったレーザ光について、その一部を平行平板７０８で反射させる。平行平板７０８の表面と裏面の反射光は、平行平板７０８の厚み分、ずれた形で重なり合い、干渉縞を形成する。この干渉縞のパターンが光検出器７０９でモニタされる。レーザ光の部分的な位相のずれによるレーザ光の波面の乱れは、図１１（ｂ）に示すように、光検出器７０９で検出されるレーザ光１１０３において、干渉縞の影の形が直線状にならず、歪んだ形（図中黒線部１１０４）で表れる。なお、波面の乱れがない理想的な状態は、図１１（ａ）に示すように、光検出器７０９で検出されるレーザ光１１０１において、干渉縞の影の形が直線状（図中黒線部１１０２）に表れる。
【００６７】
演算回路７１０では、干渉縞の影のパターンをモニタしながら、ＥＯ偏向変調器７０６の前段に配置した液晶板７０５に入力する信号を調整する。液晶板７０５は、図１０に示すように同心円状に３分割された内周部１００１，中周部１００２および外周部１００３を有するものを使用した。この液晶板７０５は、分割された各部分に印加する電圧を調整することによって、内周部１００１，中周部１００２および外周部１００３の光路長をそれぞれ変化させることができ、液晶板７０５各部を透過したレーザ光の位相をずらすことができる。光検出器７０９でモニタしている干渉縞がより直線となるように液晶に入力する信号を調整する。この構成により、ＥＯ偏向変調器７０６透過後のレーザ光の波面の乱れを軽減させることが可能となる。
【００６８】
ここでは、液晶板７０９は同心円状に３分割したものを用いたが、分割個数はこれより少なくとも多くともよく、多くすればするほど、細かな調整が可能となる。ただし分割個数を大きくすると構造が複雑となるため、使用するレーザ光のビーム径の大きさや使用用途によって適度な個数に調整するのが望ましい。また演算回路７１０は本発明の調整手段の一例であるが、コンピュータまたはそのＣＰＵ等のハードウェア、もしくはソフトウェアなどに置き換えることも可能である。
【００６９】
また、本実施の形態によるビーム径の絞り性能について、実施の形態１と同様の条件で実験を行い、レジストを塗布したガラス板上に、ピットを露光記録した。記録したピット形状より、対物レンズによって絞り込まれたレーザ光のビーム径の計算を行った。液晶板を用いた波面の調整によってビーム整形を行った結果、ビーム整形を行わない場合に比べ、約１割ビーム径の絞り性能が向上していることを確認した。
【００７０】
また、本実施の形態５では、変調器としてＥＯ変調器、ＡＯ変調器を使用したが、変調器の組み合わせは関係なく、その他の組み合わせの場合についても同様の効果が得られる。
【００７１】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、偏向変調器を用いた光ディスク原盤露光記録装置において、偏向変調器前にビーム整形用のピンホールを配置する、あるいは偏向変調器後にビーム整形用のスリットを配置することによって、蓄積されたレーザ光の波面の乱れを解消し、対物レンズ後のレーザ光の絞り性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスク原盤露光記録装置の実施の形態１を示す図
【図２】従来の光ディスク原盤露光記録装置の一例を示す図
【図３】本発明の光ディスク原盤露光記録装置の実施の形態２を示す図
【図４】本発明の光ディスク原盤露光記録装置の実施の形態３を示す図
【図５】光学素子透過後の収差量を示す図
【図６】本発明の光ディスク原盤露光記録装置の実施の形態４を示す図
【図７】本発明の光ディスク原盤露光記録装置の実施の形態５を示す図
【図８】ピンホール径と収差量の関係を示す図
【図９】スリット幅と収差量の関係を示す図
【図１０】本発明の実施の形態５で使用する液晶板の模式図
【図１１】（ａ）平行平板によって形成される波面の乱れのない干渉縞の一例を示す図
（ｂ）平行平板によって形成される波面の乱れた干渉縞の一例を示す図
【符号の説明】
１０１ レーザ光源
１０２ ＥＯ変調器
１０３ ＡＯ変調器
１０４ レンズ系
１０５ ピンホール
１０６ レンズ系
１０７ ＥＯ偏向変調器
１０８ ビームエクスパンダ
１０９ 偏光ビームスプリッタ
１１０ １／４波長板
１１１ ヘッド
１１２ ターンテーブル
１１３ ＣＣＤカメラ
１１４ レンズ
２０１ レーザ光源
２０２ ＥＯ変調器
２０３ ＡＯ変調器
２０４ レンズ系
２０５ ＥＯ偏向変調器
２０６ レンズ系
２０７ 偏光ビームスプリッタ
２０８ １／４波長板
２０９ ヘッド
２１０ ターンテーブル
２１１ ＣＣＤカメラ
２１２ レンズ
３０１ レーザ光源
３０２ ＥＯ変調器
３０３ ＡＯ変調器
３０４ レンズ系
３０５ ＥＯ偏向変調器
３０６ ビームエクスパンダ
３０７ スリット
３０８ 偏光ビームスプリッタ
３０９ １／４波長板
３１０ ヘッド
３１１ ターンテーブル
３１２ ＣＣＤカメラ
３１３ レンズ
４０１ レーザ光源
４０２ ＥＯ変調器
４０３ ＡＯ変調器
４０４ レンズ系
４０５ ピンホール
４０６ レンズ系
４０７ ＥＯ偏向変調器
４０８ ビームエクスパンダ
４０９ スリット
４１０ 偏光ビームスプリッタ
４１１ １／４波長板
４１２ ヘッド
４１３ ターンテーブル
４１４ ＣＣＤカメラ
４１５ レンズ
６０１ レーザ光源
６０２ ＥＯ変調器
６０３ ＡＯ変調器
６０４ レンズ系
６０５ ＥＯ偏向変調器
６０６ ビームエクスパンダ
６０７ ピンホール
６０８ 圧電素子
６０９ 偏向信号発生器
６１０ 偏向ビームスプリッタ
６１１ １／４波長板
６１２ ヘッド
６１３ ターンテーブル
６１４ ＣＣＤカメラ
６１５ レンズ
７０１ レーザ光源
７０２ ＥＯ変調器
７０３ ＡＯ変調器
７０４ レンズ系
７０５ 液晶板
７０６ ＥＯ偏向変調器
７０７ ビームエクスパンダ
７０８ 平行平板
７０９ 光検出器
７１０ 演算回路
７１１ 偏光ビームスプリッタ
７１２ １／４波長板
７１３ ヘッド
７１４ ターンテーブル
７１５ ＣＣＤカメラ
７１６ レンズ
１００１ 分割された液晶板外周部
１００２ 分割された液晶板中周部
１００３ 分割された液晶板内周部
１１０１ 光検出器で検出されるレーザ光
１１０２ 干渉縞
１１０３ 光検出器で検出されるレーザ光
１１０４ 干渉縞[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical disc master exposure recording apparatus, and more particularly to an optical disc master exposure recording apparatus using a deflection modulator.
[0002]
[Prior art]
An example of a conventional optical disc master exposure recording apparatus is shown in FIG. In the figure, 201 is a laser light source, 202 is an EO modulator that removes laser low-frequency noise and performs power control, 203 is an AO modulator that modulates by an information signal, and 204 is laser light in the crystal of the AO modulator. , EO deflection modulator, 206 is a beam expander that narrows the laser beam and expands it to a desired beam diameter, 207 is a polarization beam splitter (PBS), 208 is a quarter wave plate, and 209 is a resist. A head for narrowing the laser light on the master, 210 a turntable for rotating the resist master, 211 a CCD camera for monitoring the laser light reflected from the resist master, and 212 a lens for narrowing the laser light on the CCD camera.
[0003]
The laser light output from the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is not a little disturbed by the wavefront, and the ideal Gaussian beam profile is destroyed. In order to eliminate the disturbance of the wavefront of the laser beam that has passed through the optical element, beam shaping using a pinhole is generally performed. This is achieved by narrowing the laser beam that has passed through the optical element and received a wavefront disturbance at least by the lens system, and placing a pinhole having a diameter substantially equal to the beam diameter at the focal position of the narrowed laser beam, In this method, the disturbance component distributed outside the laser beam diameter without being narrowed down by the disturbance of the wavefront is removed, and the central portion having a strong beam intensity is extracted clearly to eliminate the disturbance of the wavefront.
[0005]
In order to eliminate wavefront disturbances as much as possible, it is effective to place pinholes in the last stage before the head so as to remove the wavefront disturbances accumulated so far after passing through all the optical elements used Is. However, in the case of an optical disk master exposure recording apparatus using the
[0006]
In view of such a conventional problem, the present invention reduces the disturbance of the wave front of the deflection modulator output light and improves the aperture performance of the laser beam after the objective lens in the optical disc master exposure recording apparatus using the deflection modulator. The purpose is to let you.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the first aspect of the present invention provides:In an optical disc master exposure recording apparatus having a laser light source, a deflection modulator for deflecting a recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master,
A first lens that is provided between the deflection modulator and the objective lens and narrows down the laser beam emitted from the deflection modulator and a second lens that adjusts the narrowed laser beam to a desired beam diameter. A lens system having
A pinhole arranged at a substantial focal position of the lens system;
Driving means for translating the pinhole in the same direction as the deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal input to the deflection modulator;Is an optical disk master exposure recording apparatus.
[0011]
The second2The present invention relates to an optical disc master having a laser light source, a deflection modulator for deflecting the recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master. In the exposure recording device,
A liquid crystal plate provided between the laser light source and the deflection modulator;
A parallel plate provided between the deflection modulator and the objective lens, for branching the recording laser beam;
Parallel plateInterference fringes formed by light reflected from the front surface and light reflected from the back surfaceA photodetector to detect
Information on the disturbance of the wave front of the recording laser beam detected by the photodetectorIndicating the interference fringesAnd an adjusting means for adjusting the voltage applied to the liquid crystal plate based on the above.
[0012]
The second3In the present invention, the wavelength of the laser light source is 270 nm or less.Or secondThe optical disc master exposure recording apparatus of the present invention.
[0013]
The second4In the present invention, when the wavelength of the laser light source is λ, the focal length of the lens for narrowing the laser light is f, and the radius of the incident beam incident on the lens for narrowing the laser light is w, the diameter of the pinhole is 2.5 · λ · f / w or less1'sIt is an optical disk master exposure recording apparatus of the present invention.
[0015]
The second5According to the present invention, when the focal length of the lens for narrowing the laser beam is f and the deflection angle of the deflection modulator is θ, the parallel movement distance of the pinhole is f · θ.1The optical disc master exposure recording apparatus of the present invention.
[0016]
The second6In the present invention, the liquid crystal plate has a structure in which the liquid crystal plate is divided into a plurality of concentric circles.2The optical disc master exposure recording apparatus of the present invention.
According to a seventh aspect of the present invention, in the optical disc master according to the sixth aspect, the adjusting means monitors a shadow pattern of the interference fringes and adjusts a voltage applied to each divided area of the liquid crystal plate. It is an exposure recording apparatus.
[0017]
The second8The present invention provides an optical disc master exposure recording method comprising: a step of deflecting a recording laser beam obtained based on a laser beam of a laser light source; and a step of condensing the recording laser beam on an optical disc master.
Between the step of deflecting and the step of condensing the recording laser beamThe parallel plateBranching the recording laser beam;
Obtained by the branching stepInterference fringes formed by reflected light from the front surface and reflected light from the back surfaceDetecting
Information on the disturbance of the wave front of the recording laser beam detected by the detection stepIndicating the interference fringesAnd a step of adjusting a voltage applied to a liquid crystal plate provided between the laser light source and the deflection modulator.
[0018]
The second9In the present invention, the wavelength of the laser light source is 270 nm or less.8The optical disc master exposure recording method of the present invention.
[0019]
The second10In the present invention, the liquid crystal plate has a structure in which the liquid crystal plate is divided into a plurality of concentric circles.8The optical disc master exposure recording method of the present invention.
In an eleventh aspect of the present invention, the step of adjusting the applied voltage includes a step of monitoring a shadow pattern of the interference fringes and adjusting a voltage applied to each divided area of the liquid crystal plate. 10 is an optical disk master exposure recording method according to the present invention.
[0020]
The second12The present invention relates to a laser light source, a deflection modulator for deflecting a recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, an objective lens for condensing the recording laser light on an optical disc master, and the deflection modulation. A lens having a first lens for narrowing the laser beam emitted from the deflection modulator and a second lens for adjusting the narrowed laser beam to a desired beam diameter, which is provided between the detector and the objective lens And a control method of an optical disc master exposure recording apparatus comprising a pinhole disposed at a substantial focal position of the lens system,
This is a control method for an optical disk master exposure recording apparatus in which the pinhole is translated in substantially the same direction as the deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal input to the deflection modulator.
[0021]
The second13The present invention relates to an optical disc master having a laser light source, a deflection modulator for deflecting the recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master. A pinhole mechanism used in an exposure recording apparatus,
A first lens that is provided between the deflection modulator and the objective lens and narrows down the laser beam emitted from the deflection modulator and a second lens that adjusts the narrowed laser beam to a desired beam diameter. A lens system having
A pinhole arranged at a substantial focal position of the lens system;
It is a pinhole mechanism provided with a driving means for translating the pinhole in substantially the same direction as the deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal inputted to the deflection modulator.
[0022]
The present invention as described above, for example, is an optical disk master exposure recording apparatus using a deflection modulator, and has a structure in which a pinhole for beam shaping is arranged in front of the deflection modulator. The disturbance of the wavefront of the laser light accumulated until the input is eliminated, the disturbance of the wavefront of the deflection modulator output light is reduced, and the aperture performance of the laser light after the objective lens is improved.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below.
[0024]
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows an example of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention. In the figure,
[0025]
The
[0026]
The laser light output from the
[0027]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is subjected to disturbance of the wavefront, and an ideal Gaussian beam profile is destroyed. In general, it is said that the aperture performance of a lens deteriorates when the aberration becomes 30 mλ or more. When the aberration received from the optical element at the wavelength of 351 nm was examined, the aberration component was about 10 mλ. This aberration component corresponds to about 8 nm with respect to the wavelength of 351 nm. The transition of the aberration component with respect to the wavelength was calculated on the assumption that the wavefront disturbance caused by passing through the optical element is substantially the same at each wavelength. FIG. 5 shows the transition of aberration with respect to wavelength. In the vicinity of the wavelength of 270 nm, the aberration component is 30 mλ, and when the wavelength is 270 nm or less, the aperture performance of the objective lens is greatly affected.
[0028]
Therefore, in this embodiment, beam shaping using a pinhole is performed in order to eliminate the disturbance of the wavefront of the laser light transmitted through the optical element. This is because the laser beam subjected to wavefront disturbance is narrowed down by a lens for narrowing the lens system, and a pinhole having the same diameter as the beam diameter (beam diameter) at that position is placed at the focal point of the narrowed laser beam. By removing the disturbance component distributed outside the laser beam diameter without being narrowed down by the wavefront disturbance before passing through the lens for obtaining a predetermined beam diameter, the central part with strong beam intensity is extracted clearly. This is a method for eliminating the disturbance of the wave front. At this time, it is desirable that the shape of the pinhole is a substantially perfect circle and the inner periphery thereof is smooth.
[0029]
In order to eliminate the disturbance of the wavefront as much as possible, it is effective to arrange the pinhole at the last stage before the head. However, in the case of an exposure recording apparatus using a deflection modulator as shown in the first embodiment, since the laser beam is deflected, a pinhole cannot be disposed after the
[0030]
The beam radius at the focal position of the beam focused by the
[0031]
Specifically, when the laser wavelength is about 270 nm and the focal length of the lens, that is, the distance from the
[0032]
Moreover, the following experiment was conducted about the aperture performance of the beam diameter by a pinhole.
[0033]
On the glass plate coated with resist, pits were recorded by exposure. The beam diameter of the laser beam narrowed down by the objective lens was calculated from the recorded pit shape. When the laser wavelength is 270 nm and the NA of the objective lens is 0.9, the beam diameter of the conventional example is 0.33 μm, whereas a pinhole is arranged in front of the deflection modulator as in the first embodiment. As a result of beam shaping, a value of about 0.3 μm was obtained. That is, it was confirmed that the aperture performance of about 10% beam diameter was improved as compared with the case where beam shaping was not performed.
[0034]
In the first embodiment, the EO modulator and the AO modulator are used as the modulator. However, the combination of the modulators is not related, and the same effect can be obtained in the case of other combinations.
[0035]
(Embodiment 2)
FIG. 3 shows an example of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention. In the figure,
[0036]
The
[0037]
The laser light output from the
[0038]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is subjected to disturbance of the wavefront, and an ideal Gaussian beam profile is destroyed. This has already been described with reference to FIG.
[0039]
The wavefront disturbance accumulated up to the
[0040]
Therefore, in the present embodiment, the opening width in the direction substantially perpendicular to the deflection direction of the
[0041]
The beam radius at the focal position of the beam focused by the
[0042]
Further, an experiment was conducted on the aperture performance of the beam diameter by the slit under the same conditions as in the first embodiment.
[0043]
On the glass plate coated with resist, pits were recorded by exposure. The beam diameter of the laser beam narrowed down by the objective lens was calculated from the recorded pit shape. As a result of arranging the slit after the deflection modulator and performing the beam shaping as in the second embodiment, it was confirmed that the aperture performance of about 10% beam diameter was improved as compared with the case where the beam shaping was not performed. .
[0044]
(Embodiment 3)
FIG. 4 shows an example of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention. In the figure, 401 is an argon ion laser having a wavelength of 248 nm serving as a light source, 402 is an EO modulator that removes laser low-frequency noise and performs power control, 403 is an AO modulator that performs modulation by an information signal, and 404 is AO modulation. 405 is a pinhole, 406 is a lens system that narrows the laser beam toward the pinhole and makes the output laser beam parallel light, 407 is an EO deflection modulator, 408 is a beam expander that expands the laser beam to a desired beam diameter, 409 is a slit whose opening width in the direction substantially perpendicular to the deflection direction of the
[0045]
The lens system 406 includes a
[0046]
The beam expander 408 includes a
[0047]
The laser light output from the
[0048]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is subjected to disturbance of the wavefront, and an ideal Gaussian beam profile is destroyed. In general, it is said that the aperture performance of a lens deteriorates when the aberration becomes 30 mλ or more. This has already been described with reference to FIG.
[0049]
Therefore, in this embodiment, beam shaping by the
[0050]
Further, the wavefront disturbance caused by the
[0051]
Also in this embodiment, experiments were performed under the same conditions as in
[0052]
(Embodiment 4)
FIG. 6 shows an example of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention. In the figure,
[0053]
The
[0054]
The laser light output from the
[0055]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is subjected to disturbance of the wavefront, and an ideal Gaussian beam profile is destroyed. In general, it is said that the aperture performance of a lens deteriorates when the aberration becomes 30 mλ or more. This has already been described with reference to FIG.
[0056]
Therefore, in this embodiment, beam shaping using a pinhole is performed in order to eliminate the disturbance of the wavefront of the laser light transmitted through the optical element. This is achieved by narrowing down the laser beam subjected to wavefront disturbance by the lens system, and placing a pinhole having the same diameter as the beam diameter (beam diameter) at the focal position of the narrowed laser beam. Remove the turbulence component distributed outside the laser beam diameter without being narrowed down by the disturbance of the laser beam, and before passing through the lens to obtain the predetermined beam diameter, cleanly extract the central part with strong beam intensity, and disturb the wave front It is a method to eliminate. At this time, as in the first embodiment, it is desirable that the shape of the pinhole is a substantially perfect circle and the inner periphery thereof is smooth.
[0057]
In order to eliminate the disturbance of the wavefront as much as possible, it is effective to arrange the pinhole at the last stage before the head. However, in the case of an exposure recording apparatus using a deflection modulator, since the laser beam is deflected, a pinhole cannot be arranged after the deflection modulator.
[0058]
In contrast, in the present embodiment, a
[0059]
In addition, an experiment was performed on the aperture performance of the beam diameter according to the present embodiment under the same conditions as in the first embodiment. On the glass plate coated with resist, pits were recorded by exposure. The beam diameter of the laser beam narrowed down by the objective lens was calculated from the recorded pit shape. As a result of arranging the pinhole and performing the beam shaping as in the fourth embodiment, it was confirmed that the aperture performance of about 10% beam diameter was improved as compared with the case where the beam shaping was not performed.
[0060]
In the fourth embodiment, the EO modulator and the AO modulator are used as the modulator. However, the combination of the modulators is not related, and the same effect can be obtained in the case of other combinations.
[0061]
In addition, although a piezoelectric element is used as a means for moving the pinhole, the driving means of the present invention is not limited to this as long as it is a means for moving the pinhole in synchronization with the deflection signal, such as a voice coil or a linear motor. Absent.
[0062]
(Embodiment 5)
FIG. 7 shows an example of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention. In the figure,
[0063]
In each of the above configurations, the
[0064]
The laser light output from the
[0065]
Laser light that has passed through an optical element such as an AO modulator or an EO modulator is subjected to disturbance of the wavefront, and an ideal Gaussian beam profile is destroyed. This has already been described with reference to FIG.
[0066]
In this embodiment, a part of the laser beam that has passed through the
[0067]
The
[0068]
Here, the
[0069]
Further, with respect to the aperture performance of the beam diameter according to the present embodiment, an experiment was performed under the same conditions as in the first embodiment, and pits were exposed and recorded on a glass plate coated with a resist. The beam diameter of the laser beam narrowed down by the objective lens was calculated from the recorded pit shape. As a result of beam shaping by adjusting the wavefront using a liquid crystal plate, it was confirmed that the aperture performance of about 10% beam diameter was improved as compared with the case where beam shaping was not performed.
[0070]
In the fifth embodiment, the EO modulator and the AO modulator are used as the modulator. However, the combination of the modulators is not related, and the same effect can be obtained with other combinations.
[0071]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, in an optical disk master exposure recording apparatus using a deflection modulator, a beam shaping pinhole is disposed before the deflection modulator, or a beam shaping slit is provided after the deflection modulator. By disposing, the disturbance of the wavefront of the accumulated laser light can be eliminated, and the aperture performance of the laser light after the objective lens can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of an optical disk master exposure recording apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an example of a conventional optical disc master exposure recording apparatus.
FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the optical disk master exposure recording apparatus of the present invention.
FIG. 4 is a
FIG. 5 is a diagram showing the amount of aberration after transmission through an optical element.
FIG. 6 is a
FIG. 7 is a
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the pinhole diameter and the amount of aberration.
FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the slit width and the amount of aberration.
FIG. 10 is a schematic diagram of a liquid crystal plate used in
11A is a diagram showing an example of interference fringes without wavefront disturbance formed by parallel flat plates; FIG.
(B) The figure which shows an example of the interference fringe with which the wave front was formed of the parallel flat plate
[Explanation of symbols]
101 Laser light source
102 EO modulator
103 AO modulator
104 Lens system
105 pinhole
106 Lens system
107 EO deflection modulator
108 Beam Expander
109 Polarizing beam splitter
110 1/4 wave plate
111 heads
112 turntable
113 CCD camera
114 lens
201 Laser light source
202 EO modulator
203 AO modulator
204 Lens system
205 EO deflection modulator
206 Lens system
207 Polarizing beam splitter
208 1/4 wave plate
209 head
210 turntable
211 CCD camera
212 lenses
301 Laser light source
302 EO modulator
303 AO modulator
304 Lens system
305 EO deflection modulator
306 Beam Expander
307 slit
308 Polarizing beam splitter
309 1/4 wave plate
310 heads
311 turntable
312 CCD camera
313 lens
401 Laser light source
402 EO modulator
403 AO modulator
404 Lens system
405 pinhole
406 Lens system
407 EO deflection modulator
408 Beam Expander
409 slit
410 Polarizing Beam Splitter
411 quarter wave plate
412 heads
413 turntable
414 CCD camera
415 lens
601 Laser light source
602 EO modulator
603 AO modulator
604 lens system
605 EO deflection modulator
606 Beam Expander
607 pinhole
608 Piezoelectric element
609 deflection signal generator
610 deflection beam splitter
611 quarter wave plate
612 head
613 turntable
614 CCD camera
615 lens
701 Laser light source
702 EO modulator
703 AO modulator
704 Lens system
705 LCD panel
706 EO deflection modulator
707 Beam Expander
708 parallel plate
709 photodetector
710 arithmetic circuit
711 Polarizing beam splitter
712 quarter wave plate
713 head
714 turntable
715 CCD camera
716 lens
1001 The outer periphery of the divided liquid crystal plate
1002 Middle part of the divided liquid crystal plate
1003 The inner periphery of the divided liquid crystal plate
1101 Laser light detected by a photodetector
1102 interference fringes
1103 Laser light detected by photodetector
1104 Interference fringes
Claims (13)
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記偏向変調器から出射されたレーザ光を絞り込む第１のレンズおよび絞り込んだ前記レーザ光を所望のビーム径に調整する第２のレンズを有するレンズ系と、
前記レンズ系の実質的な焦点位置に配置されたピンホールと、
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる駆動手段とを備えた光ディスク原盤露光記録装置。In an optical disc master exposure recording apparatus having a laser light source, a deflection modulator for deflecting a recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master,
A first lens that is provided between the deflection modulator and the objective lens and narrows down the laser beam emitted from the deflection modulator and a second lens that adjusts the narrowed laser beam to a desired beam diameter. A lens system having
A pinhole arranged at a substantial focal position of the lens system;
An optical disk master exposure recording apparatus comprising drive means for translating the pinhole in substantially the same direction as the deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal input to the deflection modulator.
前記レーザ光源と前記偏向変調器との間に設けられた液晶板と、
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記記録レーザ光を分岐する平行平板と、
前記平行平板の表面からの反射光と裏面からの反射光とが形成する干渉縞を検出する光検出器と、
前記光検出器によって検出された前記記録レーザ光の波面の乱れに関する情報を示す前記干渉縞に基づき、前記液晶板への印加電圧を調整する調整手段とを備えた光ディスク原盤露光記録装置。In an optical disc master exposure recording apparatus having a laser light source, a deflection modulator for deflecting a recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master,
A liquid crystal plate provided between the laser light source and the deflection modulator;
A parallel plate provided between the deflection modulator and the objective lens, for branching the recording laser beam;
A photodetector for detecting interference fringes formed by reflected light from the surface of the parallel plate and reflected light from the back surface ;
An optical disk master exposure recording apparatus comprising: an adjusting unit that adjusts a voltage applied to the liquid crystal plate based on the interference fringes indicating information on disturbance of a wavefront of the recording laser light detected by the photodetector.
前記偏向の工程と、前記記録レーザ光を集光させる工程との間において、平行平板により前記記録レーザ光を分岐する工程と、
前記分岐の工程により得られた前記平行平板の表面からの反射光と裏面からの反射光とが形成する干渉縞を検出する工程と、
前記検出の工程によって検出された前記記録レーザ光の波面の乱れに関する情報を示す 前記干渉縞に基づき、前記レーザ光源と前記偏向変調器との間に設けられた液晶板への印加電圧を調整する工程とを備えた光ディスク原盤露光記録方法。In an optical disc master exposure recording method, comprising: a step of deflecting a recording laser beam obtained based on a laser beam of a laser light source; and a step of condensing the recording laser beam on an optical disc master.
A step of branching and the deflecting step, Oite between the step of condensing the recording laser beam, the recording laser beam by a parallel plate,
Detecting interference fringes formed by reflected light from the surface of the parallel plate obtained by the branching step and reflected light from the back surface ;
An applied voltage to a liquid crystal plate provided between the laser light source and the deflection modulator is adjusted based on the interference fringes indicating information on the wavefront disturbance of the recording laser light detected by the detection step. An optical disc master exposure recording method comprising the steps.
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる光ディスク原盤露光記録装置の制御方法。A laser light source, a deflection modulator for deflecting the recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, an objective lens for condensing the recording laser light on an optical disk master, the deflection modulator and the objective lens A lens system having a first lens for narrowing the laser light emitted from the deflection modulator and a second lens for adjusting the narrowed laser light to a desired beam diameter, and the lens A control method of an optical disc master exposure recording apparatus provided with a pinhole arranged at a substantial focal position of the system,
A control method of an optical disc master exposure recording apparatus, wherein the pinhole is translated in substantially the same direction as a deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal input to the deflection modulator.
前記偏向変調器と前記対物レンズとの間に設けられた、前記偏向変調器から出射されたレーザ光を絞り込む第１のレンズおよび絞り込んだ前記レーザ光を所望のビーム径に調整する第２のレンズを有するレンズ系と、
前記レンズ系の実質的な焦点位置に配置されたピンホールと、
前記偏向変調器に入力される偏向信号と同期して、前記ピンホールを、前記偏向変調器の偏向方向と実質同一方向に平行移動させる駆動手段とを備えたピンホール機構。Used in an optical disc master exposure recording apparatus having a laser light source, a deflection modulator for deflecting recording laser light obtained based on the laser light of the laser light source, and an objective lens for condensing the recording laser light on the optical disc master A pinhole mechanism,
A first lens that is provided between the deflection modulator and the objective lens and narrows down the laser beam emitted from the deflection modulator and a second lens that adjusts the narrowed laser beam to a desired beam diameter. A lens system having
A pinhole arranged at a substantial focal position of the lens system;
A pinhole mechanism comprising driving means for translating the pinhole in substantially the same direction as the deflection direction of the deflection modulator in synchronization with a deflection signal input to the deflection modulator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002188572A JP4104922B2 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-27 | Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-198153 | 2001-06-29 | ||
| JP2001198153 | 2001-06-29 | ||
| JP2002188572A JP4104922B2 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-27 | Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003085820A JP2003085820A (en) | 2003-03-20 |
| JP4104922B2 true JP4104922B2 (en) | 2008-06-18 |
Family
ID=26617838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002188572A Expired - Fee Related JP4104922B2 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-27 | Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4104922B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6456800B2 (en) * | 2015-09-10 | 2019-01-23 | シチズン時計株式会社 | Liquid crystal shutter, control method, and optical apparatus |
-
2002
- 2002-06-27 JP JP2002188572A patent/JP4104922B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003085820A (en) | 2003-03-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7859972B2 (en) | Holographic optical information recording/reproducing device and holographic optical information recording/reproducing method | |
| EP1471507A2 (en) | A method for recording and reproducing holographic data and an apparatus therefor | |
| KR100831859B1 (en) | Hologram recording apparatus | |
| US20090213718A1 (en) | Optical recording device and optical recording and reproduction device | |
| US8913474B2 (en) | Optical information recording/reproducing apparatus | |
| JP4104922B2 (en) | Optical disc master exposure recording apparatus, optical disc master exposure recording method, and pinhole mechanism | |
| TWI436357B (en) | Focus optical system and optical disc master exposure apparatus | |
| WO2008039156A1 (en) | Optical focusing system and method | |
| US7236434B2 (en) | Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism | |
| JP2005292766A (en) | Hologram memory medium, recording device, and reproducing device | |
| JPH0528507A (en) | Optical information recording medium and reproducing device thereof | |
| JP3828518B2 (en) | Recording / reproducing apparatus and recording / reproducing method | |
| JP2005352097A (en) | Hologram recording method, hologram reproducing method, hologram recording apparatus, hologram reproducing apparatus and hologram recording medium | |
| JP2008146783A (en) | Optical pickup device | |
| JP2005285202A (en) | Hologram recording apparatus and hologram recording method | |
| US9761264B2 (en) | Optical information recording/reproducing device | |
| JP2005025906A (en) | Device and method for recording/reproducing optical information | |
| JP2009266342A (en) | Optical information recording/reproducing device and optical information recording/reproducing method | |
| JP2006039134A (en) | Hologram recording apparatus, information processing apparatus and method for recording hologram | |
| JP3734179B2 (en) | Optical disc master exposure system | |
| JP3909267B2 (en) | Master exposure apparatus and master exposure method | |
| JP3975539B2 (en) | Optical disk device | |
| JP4905301B2 (en) | Optical disk device | |
| KR100767930B1 (en) | Apparatus and method for multiplex of beam route, apparatus and method for processing of optical information using apparatus for multiplex of beam route | |
| JP2009048683A (en) | Hologram recording system and hologram recording method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050202 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060602 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060627 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060825 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070911 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071112 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080304 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080326 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |