JP4088670B2

JP4088670B2 - Transfer sheet

Info

Publication number: JP4088670B2
Application number: JP2002191796A
Authority: JP
Inventors: 正通山野
Original assignee: Fujicopian Co Ltd
Current assignee: Fujicopian Co Ltd
Priority date: 2002-07-01
Filing date: 2002-07-01
Publication date: 2008-05-21
Anticipated expiration: 2022-07-01
Also published as: JP2004034385A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は転写シートに関するもので、とりわけ、液晶表示装置、CRT 表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロクロミック表示装置、発光ダイオード表示装置、EL表示装置等、各種表示装置の反射防止、防汚、帯電防止などの機能層を転写するための転写シートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置、CRT 表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロクロミック表示装置、発光ダイオード表示装置、EL表示装置等、各種表示装置に反射防止機能を付与するために、ガラスや透明プラスチック基板上に屈折率の異なる層を積層することにより反射防止層を形成する手段が取られる。反射防止層は普通１．３８〜１．４９の低屈折率層と１．５５〜２．３０の高屈折率層の組み合わせで構成され、層の厚みは各々０．１μｍ程度である。層の形成方法は真空蒸着法、スパッタリング法及び、プラズマＣＶＤ法などに代表されるＤＲＹコート法と、乾燥後の塗膜が所望の屈折率になるよう調整された樹脂の溶解液や粒子の分散液を基材上に連続的に塗付するＷＥＴコート法に大別される。当初はＤＲＹコート法が性能的に優れるため主流であったが、コスト面、及び技術の向上により最近ではＷＥＴコート法に置き換わりつつある。
【０００３】
ＷＥＴコート法は大量生産に適した製法であり、製品のコストダウンに大きく貢献しているが、ガラスやプラスチック板などの剛体には直接コートできないという問題がある。このような剛体に反射防止機能を付与するためには、透明フィルムに反射防止層をコーティングした後、裏面に粘着層を形成し、剛体に貼り付ける工程を経る。この粘着層は通常１０〜２０μｍの厚みでコートされる。また、使用時まで粘着面を保護するための剥離シートが必要となり、コストアップは否めなかった。また、粘着剤が柔らかいため、基材と共に、貼り付けた後の薄層の反射防止層は、外部からの押し圧で、容易に変形し、傷が発生する問題があった。
【０００４】
また、反射防止フィルムはディスプレー前面に配されることが多く、光の透過率を上げるため、トリアセチルセルロース等、高価な高透明フィルムが基材としてよく用いられる。反射防止フィルムはこの基材に、低屈折率層、高屈折率層、ハードコート層が積層されることが多いが、層が増えるに従い基材の歩留まり率も低下するため、この部分でもコストアップの原因となっていた。
【０００５】
そこで反射防止層を熱接着層を介して被着体に転写するという方法が考えられる。この手法を用いれば、数μｍ程度の熱接着層が新たに必要にはなるものの、前述した１０〜２０μｍの粘着層と剥離シートは必要無くなる。また、熱接着層は前記粘着層に比べれば厚みが薄く、常温では硬度も高いため、転写後の反射防止層の耐傷性低下を防ぐことができる。また、転写フィルムの基材は安価な薄膜フィルムを使用することができるため、トータル的に見れば大幅なコストダウンと性能向上につながる。
【０００６】
このような転写法を利用した例として特開平１−３０７７０１や特開平８−１０１３０２などが挙げられる。ところが、これらの公報によれば基材から反射防止層を剥離する際の剥離層についての検討が詳細になされていない。転写した反射防止膜はその性能をいかんなく発揮するために、反射防止膜と剥離層の界面でスムーズに剥離しなくてはならない。反射防止層上に剥離時に生じた剥離層の残さが残ってはいけないし、剥離不良から生じるスティックと呼ばれる剥離跡が残ってもいけない。前記公報においてはこれらの検討が十分になされていないため、反射防止転写フィルムとして実際に用いるには困難を要していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような種種の問題点を解決すること、すなわちコストが低減でき、性能も向上する反射防止機能をはじめとする機能層を転写する転写シートにおいて剥離層と機能層の界面で剥離不良が起こることなくスムーズに剥離できる転写シートを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明は、基材の一方の面に少なくとも剥離層、機能層、接着層を有する転写シートにおいて、該剥離層にシリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂を主材として用い、副材としてポリジメチルシロキサン系共重合体を用いることを特徴とする。
【０００９】
また、前記剥離層を形成する前記シリコンアクリル樹脂と前記ポリジメチルシロキサン系共重合体の重量組成比が５１／４９〜９９／１であることが好ましく、さらに、剥離層表面の接着テープ剥離力が０．１〜１．０Ｎ／２５ｍｍ、ジエチレングリコールに対する接触角が７０〜９０°であり、前記シリコンアクリル樹脂がシリコン変性エポキシアクリル樹脂であることを特徴とする転写シートである。
【発明の実施の形態】
次に、本発明の転写シートについて詳述する。
本発明で用いる転写フィルム基材としては、通常の転写シートの基材として用いられるものであれば特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹脂フィルムやセルロースアセテートフィルムなどの人造樹脂フィルムであれば良い。基材の厚みは、２．５〜１００μｍ、好ましくは４〜５０μｍの範囲である。
転写が熱を媒介とする場合には、基材の熱ダメージを軽減するために、転写する側と反対側の基材の面に耐熱層を付与しても良い。
【００１０】
本発明における剥離層はシリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂を主材として用い、副材としてポリジメチルシロキサン系共重合体を用いる。
【００１１】
主材として用いる、前記シリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂は、一般的にはハードコート剤として用いられることが多く、シリコン架橋の緻密な網目構造により溶剤に対する耐性も優れる。後述する機能層が蒸着等の手段により形成される場合には、基材および剥離層に熱がかかるため剥離層には耐熱性が要求される、また、転写が熱を媒介としてなされる場合においても、剥離層と機能層の界面でスムーズに剥離させるため、剥離層には耐熱性が必要である。一方、本発明で使用するシリコンアクリル樹脂の主鎖は、アクリル樹脂骨格であり、側鎖にシリコン成分がグラフトしている構造のものを指す。主鎖がアクリル樹脂のため基材との密着性が優れかつ耐クラック性も優れる点でフィルム用途に適している。
【００１２】
前記シリコンアクリル樹脂は、架橋反応がシリコン架橋のみであってもよいし、エポキシ−アミノ架橋を併用するタイプでもよいが、架橋密度を高めるために、本発明では、エポキシ−アミノ架橋を併用するタイプのほうがより好ましい。その場合、前記シリコンアクリル樹脂としては、シリコン変性エポキシアクリル樹脂を使用するとよい。
【００１３】
副材として用いるポリジメチルシロキサン系共重合体は、グラフトタイプのものであっても、ブロックタイプのものであってもよく、主成分の反応性ジメチルシロキサンと共重合させる成分としては限定されないが、例を挙げるならば、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル、ポリエーテル、ポリアミド、エポキシ等を適宜用いることができる。。
【００１４】
前記シリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂とポリジメチルシロキサン系共重合体との混合比率は、重量組成比で５１／４９〜９９／１が好ましく、７０／３０〜９８／２であればさらに好ましい。前記組成比を越えてポリジメチルシロキサン共重合体の比率が高くなると、機能層の転写時における機能層の剥離力が低くなりすぎ、機能層落ちが生じやすくなる。逆にポリジメチルシロキサン系共重合体の比率が上記比率よりも低くなると剥離力が高くなりすぎ、転写不良を起こしやすい。つまりポリジメチルシロキサン系共重合体は、機能層との剥離力の調整剤として、前重量組成比の範囲内で含有させるものである。
【００１５】
なお、前記シリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂を硬化させたときにポリジメチルシロキサン系共重合体の一部が前記シリコンアクリル樹脂と架橋反応をおこすこともあり得るが、特に差し支えない。
【００１６】
また、剥離層の表面形状は、平滑面の他、微細凹凸として、反射防止層の最表層にその微細凹凸を賦形する様にしても良い。微細凹凸により表面で光を乱反射させて鏡面反射を防止できる。
【００１７】
前記剥離層はＪＩＳＺ０２３７に準拠する方法で測定する剥離層表面の接着テープ剥離力（接着テープは日東電工製３１Ｂを使用）が０．１〜１．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、０．２〜０．５Ｎ／２５ｍｍであればさらに好ましい。上記範囲未満では剥離力が低くなりすぎ、転写時の機能層の脱落が生じやすくなる。逆に前記範囲を越えると剥離力が高くなりすぎ、転写不良を起こしやすい。
【００１８】
また、前期剥離層表面のジエチレングリコールに対する接触角は７０〜９０°であることが好ましく、７５〜８５°であればさらに好ましい。上記範囲を越えると剥離層上に層を積層するときにハジキがでやすく、塗工不良が発生する。一方、上記範囲未満では塗工不良はでにくいが、剥離性が悪くなり、転写不良の原因となる。
【００１９】
剥離層の厚みは０．０５〜１．０μｍが好ましい。前記範囲を越えると剥離力が低くなりすぎ、転写時の機能層の脱落が生じやすくなる。逆に前記範囲未満では剥離力が高くなりすぎ、転写不良を起こしやすい。
【００２０】
反射防止層としては、光干渉タイプ、光拡散タイプのいずれかを用いる。光干渉タイプとは、低屈折率の層を反射防止層とするものである。反射防止層の屈折率をｎ₀ 、厚みをｈ、隣接する層の屈折率をｎg 、光の波長をλとすると、ｎ₀ ＝√ｎg で、ｎ₀ ｈ＝λ／４を満足するときに、垂直入射した光を１００％透過し、反射を１００％防止する。光の波長λを５５００Åで代表させれば、例えば基材としてアクリル樹脂の屈折率ｎg が約１．５、反射防止層としてＭｇＦ₂ の屈折率ｎ₀ が１．３８であるから、反射防止層の厚みは約０．１μｍに設ければよい。低屈折率の層としては、例えば低屈折率無機材料からなる層がある。低屈折率無機材料としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ₂ 、３Ｎａ・ＡｌＦ₃ 、ＡｌＦ₃ 、Ｎａ₃ ＡｌＦ₆ 、ＳｉＯ_X （ｘ：１．５０≦ｘ≦２．００）等が挙げられる。これらの無機材料による反射防止層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマＣＶＤ等によって行い、単層又は多層形成する。特にプラズマＣＶＤ法で形成したＳｉＯ_Ｘ（ｘは１．５０≦ｘ≦４．００、好ましくは１．７０≦ｘ≦２．２０）の膜は硬度が高く、且つハードコート層との密着性に優れ、基材への熱ダメージも少なく好ましいものの一つである。
【００２１】
或いは、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂の架橋からなる低屈折率層、ゾル−ゲル法による低屈折率層、および粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空隙を有する低屈折率層等を用いて膜形成しても良い。
【００２２】
反射防止性能をさらに向上させる目的で、低屈折率層の上に屈折率が１．５５〜２．３０の高屈折率層を積層しても良い。高屈折率の層としては、例えば高屈折率無機材料からなる層がある。高屈折率無機材料としては、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらを上述の真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマＣＶＤ等によって、単層又は多層形成する。あるいはＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等の無機微粒子とバインダーポリマーを用いて膜形成しても良い。
【００２３】
一方、光拡散タイプの反射防止層とは、最表面となる反射防止層の表面に光を乱反射する様な凹凸があり、これが鏡面反射を防止する事で表示の見にくさを改善するものである。このような反射防止層は、転写フィルムの剥離性基材を表面凹凸の剥離層を有するものとし、該剥離層上に反射防止層を形成し転写することで、反射防止層表面に剥離層の凹凸を賦形することで得られる。剥離層表面を凹凸にするには、例えばシリカやアルミナ等の無機充填剤、或いは樹脂微粒子等の有機充填剤を含有させれば良い。或いは、基材フィルムの表面をエンボス加工により凹凸にしたものでも良い。そして、反射防止層の材料としては、その屈折率に関係なく下記するハードコート層に使用できる熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂等の有機材料等が使用できる。なお、光拡散タイプの場合には、反射防止層自身をハードコート層とできる利点がある。この場合、反射防止層とは別にハードコート層を設けなくても良い。光拡散タイプの反射防止層の厚みは、ハードコート層を兼用するのであれば、０．５μｍ以上、好ましくは３μｍ以上とする。
【００２４】
本発明において転写後の反射防止層の耐傷性を向上させるために、ハードコート層を導入しても良い。ハードコート層は、ＪＩＳＫ５４００による鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示す層であり、無機材料、有機材料、或いは無機粒子を有機材料中に分散したもの等の公知のハードコート層である。例えば無機材料では金属酸化物を真空蒸着やイオンプレーティング等で形成する。或いはゾル−ゲル法で複合酸化物の膜を塗工形成しても良い。有機材料としては、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂を塗工形成する。熱硬化性樹脂は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が適宜選択できる。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリロイル基やメタクリロイル基を有する、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、シリコーンアクリレート等の各種アクリレート系オリゴマーやプレポリマー、或いはポリエン−チオール系樹脂等にスチレン等の単官能モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート等の多官能モノマーを加えたもの等が適宜選択できる。なお、ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上、好ましくは３μｍ以上とする。
【００２５】
本発明に使用する接着層は常温で接着性があっても（以下粘着層という）、加熱時に接着性が発現しても（以下熱接着層という）、電離線硬化により接着性が発現しても（以下電離線硬化性接着層という）かまわないが、取り扱いの簡便さから、熱接着層がもっとも好ましい。
【００２６】
本発明に使用する熱接着層としては、基材の材質等によって熱可塑性樹脂等から適宜選択して使用することが好ましい。例えば、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、アイオノマー、スチレンブタジエンゴム等のゴム類等である。熱接着層の厚さは通常０．５〜１０μｍであり、好ましくは１〜５μｍである。前記範囲未満では接着力が不足し、前記範囲以上では熱転写時の膜切れ性が劣化する。熱接着層に各種粒子やオイル等の添加剤を加えても差し支えない。
【００２７】
なお、上記の剥離層、反射防止層、ハードコート層、接着層等に樹脂を用いた層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により形成することができる。
【００２８】
【実施例】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例をあげて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１厚さ２５μｍのＰＥＴフィルム上に下記処方Ａからなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、１５０℃で５分間加熱硬化して厚み０．２μｍの剥離層を形成した。
処方Ａ
セルトップ２２７１８部
（シリコン変性エポキシアクリル樹脂、ダイセル化学製）
ポリアロイＦＢＲ７０４３部
（ポリジメチルシロキサンアクリル共重合体、ナトコペイント製）
セルトップＣＡＴ−Ａ（硬化剤、ダイセル化学製）１部
ＭＥＫ７８部
この剥離層上にフルオロライトＲＰＦ−０１１０Ａ（フッ素樹脂、共栄社化学製）２０部、ＭＥＫ８０部からなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、１５０℃で５分間加熱硬化して厚み０．１μｍの反射防止層を形成した。
【００２９】
この反射防止層の上に紫光ＵＶ−７６００Ｂ（紫外線硬化型アクリル樹脂、日本合成化学製）２０部、ダイキュア１１７３０．８部、酢酸エチル８０部からなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、ランプ強度８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプにより紫外線照射を行い、５μｍのハードコート層を形成した。
【００３０】
こうして得られたハードコート層の上に、スーパークロン８２２（塩素化ポリプロピレン樹脂、日本製紙製）５０部、トルエン５０部からなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥して厚み２μｍの熱接着層を形成し、反射防止膜転写シートを得た。
【００３１】
得られた転写シートをホットラミネーターにて１５０℃、１ｍ／ｍｉｎの条件で厚さ５ｍｍのアクリル板に熱転写して、アクリル板表面に反射防止機能を付与した。得られたアクリル板の裏面に黒色の塗料をコーティングして裏面の反射の影響を無くした状態にして、アクリル板表面の５°の光反射率を日立製作所製分光光度計Ｕ−４０００にて測定したところ、１．０％であった。
【００３２】
実施例２下記処方Ｂからなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、１５０℃で５分間加熱硬化して厚み０．３μｍの剥離層を形成した以外は実施例１と同様に行った。
処方Ｂ
セルトップ２２７１４部
（シリコン変性エポキシアクリル樹脂、ダイセル化学製）
ポリアロイＦＢＲ７０４９部
（ポリジメチルシロキサンアクリル共重合体、ナトコペイント製）
セルトップＣＡＴ−Ａ（硬化剤、ダイセル化学製）１部
ＭＥＫ７６部
【００３３】
比較例１下記処方Ｃからなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、１５０℃で５分間加熱硬化して厚み０．３μｍの剥離層を形成した以外は実施例１と同様に行った。
処方Ｃ
セルトップ２２７２０部
（シリコン変性エポキシアクリル樹脂、ダイセル化学製）
セルトップＣＡＴ−Ａ（硬化剤、ダイセル化学製）１部
ＭＥＫ７９部
【００３４】
比較例２下記処方Ｄからなる塗布液をメイヤーバーコーティング法で塗布し乾燥した後、１５０℃で５分間加熱硬化して厚み０．３μｍの剥離層を形成した以外は実施例１と同様に行った。
処方Ｄ
ポリアロイＦＢＲ７０４３０部
（ポリジメチルシロキサンアクリル共重合体、ナトコペイント製）
ＭＥＫ７０部
【００３５】
実施例、比較例で得られた反射防止膜転写シートを下記の方法で、剥離層の評価をおこなった。
評価方法
▲１▼積層性
上記方法にて得られた剥離層上に反射防止層を上記方法にて塗布したときの層の積層状態を目視で評価する。
○：積層良好
×：ハジキ発生
▲２▼接着テープ剥離力
１００μｍＰＥＴフィルムに剥離層を形成し、幅５０ｍｍ、長さ１２５ｍｍに切断してサンプルを作製する。得られたサンプルの剥離層の表面に幅２５ｍｍの日東電工製の接着テープ３１Ｂを２ｋｇの圧着ローラーを用いて３００ｍｍ／ｍｉｎの速度で貼り付け、４０分間室温にて静置した後、ＪＩＳＢ７７２１に準拠する引っ張り試験機にて３００ｍｍ／ｍｉｎの速度で１８０°剥離力を測定する。測定は３回行い、その平均値をとる。
▲３▼接触角
１００μｍＰＥＴフィルムに剥離層を形成し、幅５０ｍｍ、長さ１００ｍｍに切断してサンプルを作製する。得られたサンプルのジエチレングリコールに対する接触角を協和界面化学製接触角計ＣＡ−Ｄを使用して測定する。測定は５回行い、その平均値をとる。
▲４▼反射防止層落ち
上記方法にて得られた転写シートの機能層落ち具合を下記基準で評価する。
○：反射防止層落ちが無くハンドリング性良好である。
×：反射防止層落ちがあり、ハンドリング性が悪い。
▲５▼転写性
得られた転写シートをホットラミネーターにて１５０℃、１ｍ／ｍｉｎの条件で厚さ５ｍｍのアクリル板に熱転写したときの転写性を下記基準で評価する。
○：転写性良好
×：スティッキングが生じ転写不良が起こる。
【００３６】
評価結果は、表１の通りであった。実施例１，２は、いずれの項目も満足するものであったが、比較例１，２は、全ての項目を満足することはできなかった。
【００３７】
【表１】

＜評価結果＞
【００３８】
【発明の効果】
本発明によって得られた転写シートは、剥離層と機能層の界面で剥離不良が起こることなくスムーズに剥離できるため、転写した層の表面の精密性が必要とされる機能層の転写においても良好な転写性が得られる。[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a transfer sheet, and in particular, liquid crystal display devices, CRT display devices, plasma display devices, electrochromic display devices, light emitting diode display devices, EL display devices, etc. The present invention relates to a transfer sheet for transferring a functional layer.
[0002]
[Prior art]
In order to provide an antireflection function to various display devices such as liquid crystal display devices, CRT display devices, plasma display devices, electrochromic display devices, light emitting diode display devices, EL display devices, etc. Means are taken to form the antireflection layer by laminating different layers. The antireflection layer is usually composed of a combination of a low refractive index layer of 1.38 to 1.49 and a high refractive index layer of 1.55 to 2.30, and the thickness of each layer is about 0.1 μm. The layer formation method is a DRY coating method typified by a vacuum deposition method, a sputtering method, a plasma CVD method, etc., and a resin solution and particle dispersion adjusted so that the coating film after drying has a desired refractive index. It is roughly classified into the WET coating method in which the liquid is continuously applied onto the substrate. Initially, the DRY coating method was mainstream because of its superior performance, but it has recently been replaced by the WET coating method due to cost and technical improvements.
[0003]
The WET coating method is a manufacturing method suitable for mass production and greatly contributes to cost reduction of the product, but there is a problem that a rigid body such as glass or a plastic plate cannot be directly coated. In order to provide such a rigid body with an antireflection function, a transparent film is coated with an antireflection layer, and then an adhesive layer is formed on the back surface, followed by a step of attaching to the rigid body. This adhesive layer is usually coated with a thickness of 10 to 20 μm. In addition, a release sheet for protecting the adhesive surface until use is necessary, and cost increases cannot be denied. In addition, since the pressure-sensitive adhesive is soft, the thin antireflection layer after pasting together with the base material has a problem that it is easily deformed and scratches are caused by external pressure.
[0004]
Further, the antireflection film is often disposed on the front surface of the display, and an expensive highly transparent film such as triacetylcellulose is often used as a base material in order to increase the light transmittance. Antireflective films often have a low refractive index layer, a high refractive index layer, and a hard coat layer laminated on this base material. However, the yield rate of the base material also decreases as the number of layers increases. It was the cause.
[0005]
Therefore, a method of transferring the antireflection layer to the adherend via a thermal adhesive layer can be considered. If this method is used, a thermal adhesive layer of about several μm is newly required, but the aforementioned adhesive layer and release sheet of 10 to 20 μm are not necessary. In addition, since the thermal adhesive layer is thinner than the pressure-sensitive adhesive layer and has a high hardness at room temperature, it is possible to prevent a deterioration in scratch resistance of the antireflection layer after transfer. In addition, since an inexpensive thin film can be used as the base material of the transfer film, the cost is greatly reduced and the performance is improved in total.
[0006]
Examples of using such a transfer method include JP-A-1-307701 and JP-A-8-101302. However, according to these publications, no detailed investigation has been made on the release layer when the antireflection layer is peeled from the substrate. The transferred antireflection film must be smoothly peeled off at the interface between the antireflection film and the release layer in order to fully exhibit its performance. On the antireflection layer, the residue of the peeling layer generated at the time of peeling must not remain, and a peeling trace called a stick resulting from a peeling failure should not remain. In the above publication, these studies have not been sufficiently performed, so that it has been difficult to actually use as an antireflection transfer film.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention solves the various problems as described above, that is, at the interface between the release layer and the functional layer in a transfer sheet that transfers a functional layer including an antireflection function that can reduce cost and improve performance. It is an object of the present invention to provide a transfer sheet that can be smoothly peeled without causing poor peeling.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, the present invention provides a transfer sheet having at least a release layer, a functional layer, and an adhesive layer on one surface of a base material, and forms a strong cured film by forming a silicon bridge in the release layer. A silicon acrylic resin is used as a main material, and a polydimethylsiloxane copolymer is used as a secondary material.
[0009]
Moreover, it is preferable that the weight composition ratio of the said silicone acrylic resin and the said polydimethylsiloxane type copolymer which forms the said peeling layer is 51 / 49-99 / 1, and also adhesive tape peeling force of the peeling layer surface is The transfer sheet is characterized by having a contact angle of 0.1 to 1.0 N / 25 mm and diethylene glycol of 70 to 90 °, and the silicon acrylic resin is a silicon-modified epoxy acrylic resin.
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, the transfer sheet of the present invention will be described in detail.
The transfer film substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is used as a substrate for ordinary transfer sheets. For example, polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polycarbonate film, polystyrene film, polyamide film, polyamideimide film Any synthetic resin film such as a polyethylene film or polyvinyl chloride film or a synthetic resin film such as a cellulose acetate film may be used. The thickness of the substrate is in the range of 2.5 to 100 μm, preferably 4 to 50 μm.
When the transfer is based on heat, a heat-resistant layer may be provided on the surface of the substrate opposite to the transfer side in order to reduce thermal damage of the substrate.
[0010]
The release layer in the present invention uses, as a main material, a silicon acrylic resin that forms a strong cured film by forming silicon crosslinks, and uses a polydimethylsiloxane copolymer as a secondary material.
[0011]
Silicon acrylic resin, which is used as a main material and becomes a hardened film by forming the silicon crosslink, is generally used as a hard coating agent, and it is resistant to solvents due to the dense network structure of the silicon crosslink. Excellent. When a functional layer to be described later is formed by means such as vapor deposition, heat is applied to the base material and the release layer, so that the release layer is required to have heat resistance, and when transfer is performed through heat. However, in order to make it peel smoothly at the interface between the release layer and the functional layer, the release layer needs to have heat resistance. On the other hand, the main chain of the silicon acrylic resin used in the present invention is an acrylic resin skeleton, and has a structure in which a silicon component is grafted on a side chain. Since the main chain is an acrylic resin, it is suitable for film applications in that it has excellent adhesion to the substrate and excellent crack resistance.
[0012]
In the silicone acrylic resin, the crosslinking reaction may be only silicone crosslinking or a type using epoxy-amino crosslinking together. However, in order to increase the crosslinking density, in the present invention, a type using epoxy-amino crosslinking together. Is more preferred. In that case, a silicon-modified epoxy acrylic resin may be used as the silicon acrylic resin.
[0013]
The polydimethylsiloxane copolymer used as an auxiliary material may be a graft type or a block type, and is not limited as a component to be copolymerized with the main component reactive dimethylsiloxane, For example, polyester, polyurethane, acrylic, polyether, polyamide, epoxy and the like can be used as appropriate. .
[0014]
The mixing ratio of the silicon acrylic resin and the polydimethylsiloxane copolymer that forms a strong cured film by forming the silicon crosslink is preferably 51/49 to 99/1 by weight composition ratio, and 70/30 to 98. / 2 is more preferable. When the ratio of the polydimethylsiloxane copolymer is increased beyond the composition ratio, the peeling force of the functional layer at the time of transferring the functional layer becomes too low, and the functional layer is likely to fall off. On the other hand, when the ratio of the polydimethylsiloxane copolymer is lower than the above ratio, the peeling force becomes too high and transfer defects are likely to occur. That is, the polydimethylsiloxane-based copolymer is contained within the range of the pre-weight composition ratio as a regulator of the peeling force with the functional layer.
[0015]
In addition, when the silicon acrylic resin that forms a strong cured film by forming the silicon cross-link is cured, a part of the polydimethylsiloxane copolymer may cause a cross-linking reaction with the silicon acrylic resin. , Especially.
[0016]
In addition to the smooth surface, the surface shape of the release layer may be fine unevenness, and the fine unevenness may be formed on the outermost layer of the antireflection layer. Specular reflection can be prevented by causing irregular reflection of light on the surface due to the fine unevenness.
[0017]
The release layer preferably has an adhesive tape peeling force (adhesive tape using 31B manufactured by Nitto Denko) of 0.1 to 1.0 N / 25 mm as measured by a method according to JIS Z0237. More preferably, it is 2 to 0.5 N / 25 mm. If it is less than the above range, the peeling force becomes too low, and the functional layer tends to fall off during transfer. On the other hand, if the above range is exceeded, the peeling force becomes too high and transfer defects are likely to occur.
[0018]
Moreover, it is preferable that the contact angle with respect to diethylene glycol of the surface of a peeling layer is 70-90 degrees, and if it is 75-85 degrees, it is more preferable. When the above range is exceeded, repelling is likely to occur when the layer is laminated on the release layer, resulting in poor coating. On the other hand, if it is less than the above range, coating failure is difficult to occur, but peelability deteriorates and causes transfer failure.
[0019]
The thickness of the release layer is preferably 0.05 to 1.0 μm. When the above range is exceeded, the peeling force becomes too low, and the functional layer tends to fall off during transfer. On the other hand, if the amount is less than the above range, the peeling force becomes too high, and a transfer failure tends to occur.
[0020]
As the antireflection layer, either a light interference type or a light diffusion type is used. The optical interference type is a layer having a low refractive index as an antireflection layer. When the refractive index of the antireflection layer is n ₀ , the thickness is h, the refractive index of the adjacent layer is ng, and the wavelength of light is λ, n ₀ = √ng and n ₀ h = λ / 4 is satisfied. 100% of vertically incident light is transmitted and 100% of reflection is prevented. If it caused to represent the wavelength of light λ in 5500 Å, for example, the refractive index ng of about 1.5 of an acrylic resin as the base material, the refractive index n ₀ of MgF ₂ is 1.38 as an anti-reflection layer, antireflection layer The thickness may be about 0.1 μm. Examples of the low refractive index layer include a layer made of a low refractive index inorganic material. Examples of the low refractive index inorganic material include LiF, MgF ₂ , 3Na · AlF ₃ , AlF ₃ , Na ₃ AlF ₆ , SiO _x (x: 1.50 ≦ x ≦ 2.00) and the like. Formation of the antireflection layer using these inorganic materials is performed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, plasma CVD, or the like to form a single layer or multiple layers. In particular, a film of SiO _x (x is 1.50 ≦ x ≦ 4.00, preferably 1.70 ≦ x ≦ 2.20) formed by plasma CVD is high in hardness and has good adhesion to the hard coat layer. It is one that is excellent and has little heat damage to the substrate.
[0021]
Alternatively, a low refractive index layer composed of a crosslink of a fluorine-containing resin that is cross-linked by heat or ionizing radiation, a low refractive index layer by a sol-gel method, and a low refractive index having a void between particles or inside a particle using a binder polymer. A film may be formed using a rate layer or the like.
[0022]
For the purpose of further improving the antireflection performance, a high refractive index layer having a refractive index of 1.55 to 2.30 may be laminated on the low refractive index layer. Examples of the high refractive index layer include a layer made of a high refractive index inorganic material. Examples of the high refractive index inorganic material include TiO ₂ , Al ₂ O ₃ , In ₂ O ₃ , ZnO, SnO ₂ , Sb ₂ O ₃ and ITO. These are formed into a single layer or multiple layers by the above-described vacuum deposition, sputtering, ion plating, plasma CVD or the like. Alternatively, a film may be formed using inorganic fine particles such as TiO ₂ , Al ₂ O ₃ , In ₂ O ₃ , ZnO, SnO ₂ , Sb ₂ O ₃ , ITO, and a binder polymer.
[0023]
On the other hand, the light diffusion type antireflection layer has irregularities such as irregular reflection of light on the surface of the antireflection layer which is the outermost surface, and this improves the difficulty in viewing display by preventing specular reflection. . Such an antireflection layer has a release film with a surface irregularity on the peelable substrate of the transfer film, and the antireflection layer is formed on the release layer and transferred to the surface of the antireflection layer. It is obtained by shaping irregularities. In order to make the surface of the release layer uneven, for example, an inorganic filler such as silica or alumina or an organic filler such as resin fine particles may be contained. Alternatively, the surface of the base film may be uneven by embossing. As the material for the antireflection layer, organic materials such as thermosetting resins and ionizing radiation curable resins that can be used for the hard coat layer described below can be used regardless of the refractive index. In the case of the light diffusion type, there is an advantage that the antireflection layer itself can be a hard coat layer. In this case, it is not necessary to provide a hard coat layer separately from the antireflection layer. The thickness of the light diffusion type antireflection layer is 0.5 μm or more, preferably 3 μm or more, if the hard coat layer is also used.
[0024]
In the present invention, a hard coat layer may be introduced in order to improve the scratch resistance of the antireflection layer after transfer. The hard coat layer is a layer showing a hardness of H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400, and is a known hard coat layer such as an inorganic material, an organic material, or a material in which inorganic particles are dispersed in an organic material. For example, for an inorganic material, a metal oxide is formed by vacuum deposition, ion plating, or the like. Alternatively, a composite oxide film may be formed by coating using a sol-gel method. As the organic material, a curable resin such as a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin is applied and formed. Thermosetting resins include, for example, phenol resins, urea resins, diallyl phthalate resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, amino alkyd resins, melamine-urea co-condensation resins, silicon resins, polysiloxanes Resins and the like can be appropriately selected. Examples of ionizing radiation curable resins include various acrylate oligomers and prepolymers such as polyester acrylates, polyurethane acrylates, epoxy acrylates, and silicone acrylates that have acryloyl groups and methacryloyl groups, or monofunctional such as styrene in polyene-thiol resins. Monomers and those added with polyfunctional monomers such as trimethylolpropane triacrylate can be appropriately selected. The thickness of the hard coat layer is 0.5 μm or more, preferably 3 μm or more.
[0025]
Even if the adhesive layer used in the present invention has adhesiveness at room temperature (hereinafter referred to as a pressure-sensitive adhesive layer) or exhibits adhesiveness upon heating (hereinafter referred to as a thermal adhesive layer), it exhibits adhesiveness by ionizing ray curing. (Hereinafter referred to as an ionizing radiation curable adhesive layer) may be used, but a thermal adhesive layer is most preferable from the viewpoint of easy handling.
[0026]
The thermal adhesive layer used in the present invention is preferably selected from thermoplastic resins and the like depending on the material of the substrate. Examples thereof include rubbers such as styrene resin, urethane resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, olefin resin, polyester resin, cellulose resin, ionomer, and styrene butadiene rubber. The thickness of the heat bonding layer is usually 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. If it is less than the above range, the adhesive force is insufficient, and if it exceeds the above range, the film breakability during thermal transfer is deteriorated. Various additives such as particles and oil may be added to the thermal adhesive layer.
[0027]
In addition, the layer using resin for the release layer, antireflection layer, hard coat layer, adhesive layer, etc. is a dip coat method, air knife coat method, curtain coat method, roller coat method, wire bar coat method, gravure coat method. Or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294).
[0028]
【Example】
In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto.
Example 1 A coating liquid comprising the following formulation A was applied onto a PET film having a thickness of 25 μm by a Mayer bar coating method and dried, followed by heat curing at 150 ° C. for 5 minutes to form a release layer having a thickness of 0.2 μm.
Formula A
Cell top 227 18 parts (silicon-modified epoxy acrylic resin, manufactured by Daicel Chemical)
3 parts of polyalloy FBR704 (polydimethylsiloxane acrylic copolymer, manufactured by NATCO Paint)
Cell top CAT-A (curing agent, manufactured by Daicel Chemical Industries) 1 part MEK 78 parts On this release layer, 20 parts of fluorolite RPF-0110A (fluorine resin, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 80 parts of MEK are coated with Meyer bar. After applying and drying by the method, it was cured by heating at 150 ° C. for 5 minutes to form an antireflection layer having a thickness of 0.1 μm.
[0029]
On this antireflection layer, a coating solution comprising 20 parts of purple light UV-7600B (ultraviolet curable acrylic resin, manufactured by Nippon Synthetic Chemical), 0.8 part of Dicure 1173, and 80 parts of ethyl acetate is applied by the Meyer bar coating method and dried. After that, ultraviolet irradiation was performed with a high-pressure mercury lamp having a lamp intensity of 80 W / cm to form a 5 μm hard coat layer.
[0030]
On the hard coat layer thus obtained, a coating solution comprising 50 parts of Supercron 822 (chlorinated polypropylene resin, Nippon Paper Industries Co., Ltd.) and 50 parts of toluene was applied by the Mayer bar coating method, dried and thermally bonded to a thickness of 2 μm. A layer was formed to obtain an antireflection film transfer sheet.
[0031]
The obtained transfer sheet was thermally transferred to an acrylic plate having a thickness of 5 mm under conditions of 150 ° C. and 1 m / min with a hot laminator to give an antireflection function to the surface of the acrylic plate. The back surface of the acrylic plate thus obtained was coated with black paint to eliminate the influence of reflection on the back surface, and the 5 ° light reflectance of the acrylic plate surface was measured with a Hitachi spectrophotometer U-4000. As a result, it was 1.0%.
[0032]
Example 2 The same procedure as in Example 1 was followed, except that a coating solution consisting of the following formulation B was applied by the Mayer bar coating method and dried, and then heated and cured at 150 ° C. for 5 minutes to form a release layer having a thickness of 0.3 μm. It was.
Formula B
Cell top 227 14 parts (Silicon-modified epoxy acrylic resin, manufactured by Daicel Chemical)
9 parts of polyalloy FBR704 (polydimethylsiloxane acrylic copolymer, manufactured by NATCO Paint)
Cell Top CAT-A (curing agent, manufactured by Daicel Chemical Industries) 1 part MEK 76 parts
Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was repeated, except that a coating solution having the following formulation C was applied and dried by the Mayer bar coating method and then heat-cured at 150 ° C. for 5 minutes to form a release layer having a thickness of 0.3 μm. It was.
Formula C
20 parts of cell top 227 (silicon-modified epoxy acrylic resin, manufactured by Daicel Chemical)
Cell Top CAT-A (curing agent, manufactured by Daicel Chemical Industries) 1 part MEK 79 parts [0034]
Comparative Example 2 The same procedure as in Example 1 was repeated, except that a coating solution comprising the following formulation D was applied and dried by the Mayer bar coating method and then heated and cured at 150 ° C. for 5 minutes to form a release layer having a thickness of 0.3 μm. It was.
Formula D
30 parts of polyalloy FBR704 (polydimethylsiloxane acrylic copolymer, manufactured by NATCO Paint)
MEK 70 parts [0035]
The antireflection film transfer sheets obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated for the release layer by the following method.
Evaluation method {circle around (1)} Laminating property The layered state of the layer when the antireflection layer is applied by the above method on the release layer obtained by the above method is visually evaluated.
○: Good lamination ×: Repelling (2) Adhesive tape peeling force 100 μm A peeling layer is formed on a PET film and cut into a width of 50 mm and a length of 125 mm to prepare a sample. An adhesive tape 31B made by Nitto Denko with a width of 25 mm was applied to the surface of the release layer of the obtained sample at a speed of 300 mm / min using a 2 kg pressure roller, and allowed to stand at room temperature for 40 minutes, and then to JIS B7721. The 180 ° peel force is measured at a speed of 300 mm / min with a compliant tensile tester. The measurement is performed three times, and the average value is taken.
(3) A peeling layer is formed on a PET film having a contact angle of 100 μm and cut into a width of 50 mm and a length of 100 mm to prepare a sample. The contact angle of the obtained sample with respect to diethylene glycol is measured using a contact angle meter CA-D manufactured by Kyowa Interface Chemical. The measurement is performed 5 times and the average value is taken.
(4) Detachment of antireflection layer The degree of functional layer removal of the transfer sheet obtained by the above method is evaluated according to the following criteria.
A: Good anti-reflection layer and no handling.
X: The antireflection layer is removed, and the handling property is poor.
(5) Transferability The transferability when the obtained transfer sheet is thermally transferred to an acrylic plate having a thickness of 5 mm under conditions of 150 ° C. and 1 m / min with a hot laminator is evaluated according to the following criteria.
○: Good transferability ×: Sticking occurs and transfer failure occurs.
[0036]
The evaluation results are shown in Table 1. Examples 1 and 2 were satisfactory for all items, but Comparative Examples 1 and 2 were not able to satisfy all items.
[0037]
[Table 1]

<Evaluation results>
[0038]
【The invention's effect】
The transfer sheet obtained according to the present invention can be smoothly peeled off without causing poor peeling at the interface between the release layer and the functional layer, and is therefore suitable for transfer of a functional layer that requires precision on the surface of the transferred layer. Transferability is obtained.

Claims

基材の一方の面に少なくとも剥離層、機能層、接着層を有する転写シートにおいて、該剥離層にシリコン架橋を形成することにより強固な硬化膜となるシリコンアクリル樹脂を主材として用い、副材としてポリジメチルシロキサン系共重合体を用いることを特徴とする転写シート。In a transfer sheet having at least a release layer, a functional layer, and an adhesive layer on one surface of a base material, a silicon acrylic resin that forms a strong cured film by forming a silicon bridge in the release layer is used as a main material. A transfer sheet using a polydimethylsiloxane copolymer as a transfer sheet.

前記剥離層を形成する前記シリコンアクリル樹脂と前記ポリジメチルシロキサン系共重合体の重量組成比が５１／４９〜９９／１であることを特徴とする請求項１記載の転写シート。2. The transfer sheet according to claim 1, wherein a weight composition ratio of the silicon acrylic resin and the polydimethylsiloxane copolymer forming the release layer is 51/49 to 99/1.

前記剥離層表面の接着テープ剥離力が０．１〜１．０Ｎ／２５ｍｍ、ジエチレングリコールに対する接触角が７０〜９０°であることを特徴とする請求項１又は２記載の転写シート。The transfer sheet according to claim 1 or 2, wherein an adhesive tape peeling force on the surface of the release layer is 0.1 to 1.0 N / 25 mm, and a contact angle to diethylene glycol is 70 to 90 °.

前記シリコンアクリル樹脂がシリコン変性エポキシアクリル樹脂であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の転写シート。Transfer sheet according to any one of claims 1 to 3, characterized in that said silicon acrylic resin is a silicon-modified epoxy acrylate resin.