JP4048245B2 - 窒素ガスの製造方法および製造装置 - Google Patents
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Description
ここで、図1は、本発明全体を示した第一実施例の図であり、図2は、本発明全体を示した第二実施例の図であり、図3は、本発明を構成している脱酸素装置を示した図であり、図4は、本発明を構成している別の脱酸素装置を示した図である。
(第一実施例)
特に、中空糸がポリエステル製の場合、水蒸気が一番透過しやすく、以下水素ガスやヘリウムガスが続き、更に炭酸ガスと一酸化炭素が続き、最後に酸素ガスとアルゴンガスと窒素ガスが一番透過しにくく、その中でも窒素ガスが一番透過しにくいガスということで残存する訳である。 そして、早く透過した酸素ガスを中心とする各種のガスは、残存した窒素ガスと区分され排出されるのである。
に示すように反応させることで、窒素ガスの濃度を低下させている酸素ガスを出来るだけ除去し、窒素ガスの濃度を高めているのである。 ここでは、鉄粉末509を加熱することで、または加熱した窒素ガスを鉄粉末509に接触させることで反応を促進させているのである。
に示すように反応させることで、窒素ガスの濃度を低下させている酸素ガスを出来るだけ除去し、窒素ガスの濃度を高めているのである。 また、マグネシュウム以外でも、金属であるならば、他の物でも構わない。 ここでは、マグメシュウム粉末を加熱することで、または加熱した窒素ガスをマグネシュウム粉末に接触させることで反応を促進させているのである。
(第二実施例)
20・・・・・フィルター
40・・・・・PSA方式による窒素ガス発生装置
41・・・・・第一吸着槽
42・・・・・第二吸着槽
43・・・・・電磁弁
44・・・・・電磁弁
45・・・・・電磁弁
46・・・・・電磁弁
47・・・・・電磁弁
48・・・・・電磁弁
49・・・・・電磁弁
50・・・・・窒素ガスタンク
60・・・・・中空糸膜
202・・・・圧縮空気配管
203・・・・圧縮空気配管
204・・・・圧縮空気配管
205・・・・窒素ガス配管
206・・・・窒素ガス配管
207・・・・窒素ガス配管
211・・・・圧縮空気配管
212・・・・窒素ガス配管
241・・・・装置内配管
242・・・・装置内配管
243・・・・装置内配管
244・・・・装置内配管
245・・・・装置内配管
246・・・・装置内配管
247・・・・装置内配管
248・・・・装置内配管
249・・・・装置内配管
250・・・・装置内配管
251・・・・装置内配管
252・・・・装置内配管
253・・・・装置内配管
254・・・・装置内配管
255・・・・装置内配管
256・・・・装置内配管
257・・・・装置内配管
258・・・・装置内配管
259・・・・装置内配管
260・・・・装置内配管
270・・・・排気管
281・・・・第一絞り弁
282・・・・第二絞り弁
300・・・・乾燥装置
500・・・・脱酸素装置
501・・・・容器
501a・・・入口
502・・・・蓋
502a・・・出口
503・・・・パンチングプレート
504・・・・支持材
505・・・・ボルト
509・・・・鉄粉末
520・・・・加熱手段
530・・・・脱酸素槽
550・・・・脱酸素装置
560・・・・加熱槽
561・・・・容器
561a・・・入口
561b・・・出口
562・・・・加熱手段
565・・・・窒素ガス配管
Claims (7)
- 圧縮空気から酸素ガスを除去することで作り出した窒素ガスを、加熱した鉄粉末または加熱したマグネシュウム粉末に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去することを特徴とする窒素ガスの製造方法。
- 圧縮空気から酸素ガスを除去することで作り出した窒素ガスを加熱した後に、マグネシュウム粉末に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去することを特徴とする窒素ガスの製造方法。
- 前記マグネシュウム粉末は、平均粒度10〜1000μmの大きさであり、加熱温度50〜600℃であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の窒素ガスの製造方法。
- 圧縮空気が流れる順に、圧縮空気から酸素ガスを除去することで窒素ガスを作り出す中空糸膜(60)またはPSA方式による窒素ガス発生装置(40)と、前記窒素ガスを加熱した金属に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去する脱酸素装置(500)を配設して、更に濃度の高い窒素ガスを作り出すことを特徴とする窒素ガスの製造装置。
- 前記中空糸膜(60)または前記PSA方式による窒素ガス発生装置(40)の上流に、圧縮空気を乾燥させる乾燥装置(300)を配設し、前記脱酸素装置(500)は、鉄粉末(509)またはマグネシュウム粉末を充填したものであることを特徴とする請求項4に記載の窒素ガスの製造装置。
- 圧縮空気が流れる順に、圧縮空気から酸素ガスを除去することで窒素ガスを作り出す中空糸膜(60)またはPSA方式による窒素ガス発生装置(40)と、前記窒素ガスを加熱した後にマグネシュウム粉末に接触させることで残った酸素ガスを反応させて除去する脱酸素装置(550)を配設して、更に濃度の高い窒素ガスを作り出すことを特徴とする窒素ガスの製造装置。
- 前記マグネシュウム粉末は、平均粒度10〜1000μmの大きさであることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の窒素ガスの製造方法。
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JP2003329029A JP4048245B2 (ja) | 2003-08-18 | 2003-08-18 | 窒素ガスの製造方法および製造装置 |
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JP4976207B2 (ja) * | 2007-06-15 | 2012-07-18 | 三井金属鉱業株式会社 | ガス中の酸素除去装置及び高純度窒素ガスの製造装置 |
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