JP4035487B2 - 薄膜磁気ヘッド基板の製造方法 - Google Patents
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Description
2 下部磁気シールド層
3 第1絶縁層
3’ 部分絶縁層
3’’ 全面絶縁層
4 磁気抵抗効果素子
5 検査素子
6 バイアス磁性層
7 電極層
7a 接続部
8 第2絶縁層
9 上部磁気シールド層
10 引出電極層
H 薄膜磁気ヘッド基板
A 素子形成エリア
Am 実素子形成エリア
At 検査素子形成エリア
Dh 水平ダイシングライン
Dp 垂直ダイシングライン
X トラック幅方向
Y 高さ方向
Z 積層方向
Claims (3)
- 基板表面を仮想的に多分割して複数の素子形成エリアを、形成すべき磁気抵抗効果素子のトラック幅方向及び高さ方向の少なくとも一方に並べて設定し、この複数の素子形成エリアをさらに、磁気抵抗効果素子を形成するための実素子形成エリアと、検査素子を形成するための少なくとも1つの検査素子形成エリアとに設定する工程;
基板上に、下から順に下部磁気シールド層、第1絶縁層及び磁気抵抗効果膜を積層形成する工程であって、前記第1絶縁層を成膜する前に、前記基板上に他の絶縁層を全面的に成膜し、前記他の絶縁層の前記実素子形成エリアをエッチングにより除去して、前記下部磁気シールド層をめっきによりに形成し、前記検査素子形成エリアには残った前記他の絶縁層による部分絶縁層を形成し、前記部分絶縁層の上面と前記下部磁気シールド層の上面にCMP加工を施して平坦化を行い、前記平坦化面に第1絶縁層を成膜する工程と;
前記実素子形成エリア及び前記検査素子形成エリアの磁気抵抗効果膜のトラック幅寸法を、ヘッド完成時の磁気抵抗効果素子4のトラック幅寸法と同一に規定して、前記各磁気抵抗効果膜のトラック幅方向の両側にバイアス磁性層と電極層を形成する工程;
前記実素子形成エリアの磁気抵抗効果膜の高さ寸法をヘッド完成時の高さ寸法よりも大きく規定し、前記検査素子形成エリアの磁気抵抗効果膜の高さ寸法をヘッド完成時の前記磁気抵抗効果素子の高さ寸法と同一に規定する工程;
前記磁気抵抗効果膜と前記電極層の一部の上に第2絶縁層を形成する工程;
前記検査素子形成エリアの磁気抵抗効果膜に電気的に接続する引出電極層を前記第2絶縁層で覆われていない前記電極層と電気的に接続させて該第2絶縁層上に形成する工程;
この引出電極層を介して前記検査素子形成エリアの磁気抵抗効果膜にセンス電流を流した状態で外部磁界を印加し、切断されていない基板上で前記検査素子形成エリア毎に電気磁気特性評価試験を実施する工程;
前記電気磁気特性試験の結果が所定の規準を満たしているか否かを判別し、該基準を満たしている場合は、前記実素子形成エリアの磁気抵抗効果膜の上に上部磁気シールド層を形成する工程;
及び前記実素子形成エリアの上部磁気シールド層の上に、インダクティブヘッド素子を形成する工程;を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板の製造方法。 - 請求項1記載の薄膜磁気ヘッド基板の製造方法により製造された薄膜磁気ヘッド基板において、前記電気磁気特性評価試験を行って所定の規準を満たしている良品に対してのみに、後工程であるスライダ製造工程の前記実素子にセンス電流を流して2回目の電気磁気特性評価試験を行って良否判定を行い、前記スライダ製造工程で良品と判断されたもののみに、後工程のヘッドジンバルアッセンブリ工程の前記実素子に記録媒体を用いて最終的な電気磁気特性評価試験にて良否の判定を行う薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 請求項2記載の薄膜磁気ヘッド基板の製造方法は、予め薄膜磁気ヘッド基板の電気磁気試験結果と特性評価試験結果と、スライダ製造工程の2回目の電気磁気特性評価、ヘッドジンバルアッセンブリの最終的な電気磁気特性評価試験結果との相関関係に基づいて薄膜磁気ヘッド基板にて、前記電気磁気特性評価試験を行って所定の規準を定めている薄膜磁気ヘッドの製造方法
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