JP4035332B2

JP4035332B2 - シクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法

Info

Publication number: JP4035332B2
Application number: JP2002012783A
Authority: JP
Inventors: リューバン; ヌーベールパトリック; トランガールデルフィーヌ; 昌司山田; 幸男大柴; 啓仁鈴木
Original assignee: Meiji Co Ltd; Meiji Dairies Corp
Current assignee: Meiji Co Ltd; Meiji Dairies Corp
Priority date: 2002-01-22
Filing date: 2002-01-22
Publication date: 2008-01-23
Anticipated expiration: 2022-01-22
Also published as: JP2003212811A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反応工程が少なく簡便で工業的に有利なシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
神経成長因子（ＮＧＦ）は、脳内の海馬、大脳皮質に特に多く存在し、神経細胞の分化、成長を促進し、機能維持、生存に必須な栄養因子であって、脳でコリン作動性ニューロンに作用する因子である。アルツハイマー痴呆症は、コリン作動性ニューロンの変性脱落が主要病変とされ、神経成長因子を脳内に投与してアルツハイマー痴呆症の治療が試みられている。
しかしながら、この神経成長因子は、分子量が１２，０００の蛋白質であるため、血液脳関門を通過できず、アルツハイマー痴呆症の治療法としては現実的でない。
これに対し低分子量のシクロヘキセン長鎖アルコールは、経口投与で脳内に移行し、血流脳関門を通過し、低濃度で優れた神経成長促進作用を有し、直接的に神経突起に作用して伸展させ、痴呆症等の脳疾患予防、治療薬として有用であることが知られている（特表２００１−５１５０５８）。
【０００３】
シクロヘキセノン長鎖アルコールは、従来、シクロヘキサノン又はメチル置換２−シクロヘキセン−１−オンに、ベンゼンスルフィン酸塩を酸の存在下で反応させ、次いでエチレングリコールと反応しケタール体を合成し、更にω−ハロゲノアルカノールを反応させてから、酸処理して保護基を脱離して製造する方法等の複雑な反応工程で製造されている。例えば、３−メチルシクロヘキセノンを出発物質として３−（１４−ヒドロキシテトラデシル）−４−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンを製造する場合、７つの反応工程が必要であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法は、反応工程が複雑で多く、煩雑であって、また製造コストも高く工業的に不利であった。
従って、本発明の目的は、反応工程が少なく簡便であって、製造コストも低く工業的に有利なシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、公知物質を出発物質とした反応工程が少なく、簡便なシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法を鋭意探索したところ、公知の１，３−シクロヘキサンジオンから容易に製造されるシクロヘキセノンのエノール体を、水酸基をシリル化保護したω−ハロゲノ長鎖アルコールを用いてグリニャール反応に付すことにより、反応工程が少なく簡便で、製造コストが低く工業的に有利にシクロヘキセノン長鎖アルコールが得られることを見い出し本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、次の一般式（２）
【０００７】
【化３】

【０００８】
（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して水素原子又はメチル基を示し、Ｒ⁴は炭素数１〜５のアルキル基を示す）で表わされる３−アルコキシ−２−シクロヘキセン−１−オン誘導体に、水酸基をシリル化保護した炭素数１０〜１８のω−ハロゲノアルコールのグリニャール試薬を反応させ、次いで加水分解することを特徴とする一般式（１）
【０００９】
【化４】

【００１０】
（式中、Ａは炭素数１０〜１８のアルキレン基又はアルケニレン基を示し、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じものを示す）で表わされるシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の原料である一般式（２）で表わされる化合物（以下、化合物（２）という）において、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して水素原子を示すが、これらのうち少なくとも１個はメチル基であるのが好ましい。具体的には、Ｒ¹＝ＣＨ₃、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈである場合、及びＲ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝ＣＨ₃である場合が特に好ましい。また、Ｒ⁴は炭素数１〜５のアルキル基を示すが、エチル基が特に好ましい。
【００１２】
当該原料化合物（２）としては、３−エトキシ−６−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン、３−エトキシ−２，６−ジメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、３−メトキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン等が好ましい。
【００１３】
当該原料化合物（２）は、例えば安価に入手可能な１，３−シクロヘキサンジオンをエノール化及びメチル化することにより得られる。このエノール化及びメチル化の順序は、いずれが先でもよいが、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³が全て水素原子の場合は、メチル化を必要としない。
【００１４】
エノール化は、例えば、必要に応じてメチル化された１，３−シクロヘキサンジオン（例えば、２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン）に、酸触媒の存在下、アルコール（Ｒ⁴ＯＨ）を反応させることにより行なわれる。酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸等が挙げられる。反応は、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール等の溶媒中で、６０〜１５０℃の温度で、２〜１０時間行なえばよい。
【００１５】
メチル化は、例えば、必要によりエノール化された１，３−シクロヘキサンジオンに、例えばアルキルリチウムとジイソプロピルアミンから得られるリチウムジイソプロピルアミド等のリチウム化試薬を反応させ、次いでヨウ化メチル等のメチル化剤を反応させることにより行なわれる。ここでリチウム化反応は、例えば、リチウムジイソプロピルアミンのテトラヒドロフラン、ヘキサン等の溶液を、−８０〜０℃（例えば、−７８℃）に冷却し、テトラヒドロフラン、ヘキサン等に溶解した必要によりエノール化された１，３−シクロヘキサンジオン（好ましくは、３−エトキシ−２−シクロヘキセン−１−オン）を加えて行なうのが好ましい。またメチル化反応は、この反応混合物にヨウ化メチルを加えてから、５〜３０℃（例えば、室温）まで昇温し、５〜１２時間撹拌して行なうのが好ましい。
【００１６】
このようにして得られた化合物（２）に、水酸基をシリル化保護した炭素数１０〜１８のω−ハロゲノアルカノールのグリニャール試薬を反応させ、次いで加水分解することによりシクロヘキセノン長鎖アルコール（１）を製造する。ここで、シリル化保護した炭素数１０〜１８のω−ハロゲノアルカノールとしては、例えば、次式（３）
【００１７】
【化５】

【００１８】
（式中、Ｘはハロゲン原子を、Ａは炭素数１０〜１８のアルキレン基又はアルケニレン基を、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は各々独立して炭素数１〜８のアルキル基を示す）で表わされる化合物が挙げられる。ここでＸとしては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられるが、臭素原子が好ましい。Ａとしては炭素数１０〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基又はアルケニレン基が挙げられるが、炭素数１２〜１６の直鎖又は分岐鎖アルキレン基が好ましく、更に炭素数１２〜１６の直鎖アルキレン基が好ましく、特にテトラデシレン基、ペンタデシレン基が好ましい。Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷としては、それぞれメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００１９】
本発明で用いるグリニャール試薬は、常法に従いシリル化保護したω−ハロゲノアルカノールとマグネシウムを反応させることにより得られる。
【００２０】
化合物（２）とグリニャール試薬との反応は、通常のグリニャール反応と同様に、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の無水溶媒中で、４０〜８０℃で０．５〜３時間行なうのが好ましい。
【００２１】
続いて行なう加水分解反応は、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸等の酸の存在下に行なうのが好ましい。この加水分解反応により、Ｒ⁴基、グリニャール試薬及びシリル化保護基の三者が脱離する。
【００２２】
本発明の各反応において、中間体は単離してから次の反応に付してもよいが、単離することなく次の反応に付してもよい。また、本発明において反応混合物から中間体又は目的物を単離するには、洗浄、抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等を単独で又は組み合せて行なうのが好ましい。
【００２３】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１３−（１５−ヒドロキシペンタデシル）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
【００２４】
（１）３−エトキシ−２−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
２−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン３ｇ（２３．８mmol）をエタノール３０mLとトルエン５６mLとの混合液に溶解し、パラトルエンスルホン酸９２mg（０．４７mmol）を加えた。混合液を加熱還流して反応させた後、水／エタノール／トルエン共沸物（沸点：７８℃）を留去し、次いで残ったトルエンを減圧下で留去した。粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（エチルエーテル／ヘキサン：８／２）で精製し、３−エトキシ−２−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン２．７ｇ（１７．４mmol）を得た。
【００２５】
収率７３％
Ｒ_f（エチルエーテル／ヘキサン：８０／２０）＝０．３７
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.32(t,³J=7.00Hz,3H,H-9), 1.67(t,⁴J=1.49Hz,3H,H-7), 1.94(qn,³J=6.33Hz,2H,H-5), 2.31(t,³J=6.62Hz,2H,H-6), 2.51(td,³J=6.12Hz,⁴J=1.44Hz,2H,H-4), 4.03(q,³J=7.00Hz,2H,H-8).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：7.4(C-7), 15.4(C-9), 21.1(C-5), 25.4(C-4), 36.4(C-6), 63.5(C-8), 115.1(C-2), 171.4(C-3), 198.9(C-1).
【００２６】
（２）３−エトキシ−２，６−ジメチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
テトラヒドロフラン８mLに溶解したジイソプロピルアミン２．３５mL（１９．４５mmol）を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム１２．９６mL（１９．４５mmol）を加えた後、０℃まで昇温した。０℃で２時間撹拌後、反応液を−７８℃に冷却し、テトラヒドロフラン５mLに溶解した３−エトキシ−２−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン２ｇ（１２．９６mmol）を加え、１時間後にヨウ化メチル１．２１mL（１９．４５mmol）を加えた後、室温まで昇温した。反応液を一夜撹拌し、次いで水１００mLで希釈した後、エチルエーテルで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。粗生成物は、シリカに吸収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチルエーテル／ヘキサン：４／６）で精製し、３−エトキシ−２，６−ジメチル−２−シクロヘキセン−１−オン１．７２ｇ（１０．２４mmol）を得た。
【００２７】
収率７９％
Ｒ_f（エチルエーテル／ヘキサン：４０／６０）＝０．９
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.12(d,3H,H-8), 1.33(t,³J=7.00Hz,3H,H-10), 1.54-1.74(m,4H,H-5,H-7), 1.98-2.11(m,1H,H-5'), 2.19-2.31(m,1H,H-6), 2.51-2.60(m,2H,H-4), 4.04(qd,J=4.68Hz,J=2.33Hz,2H,H-9).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：7.4(C-7), 15.3 and 15.7(C-8,C-10), 24.5(C-5), 28.9(C-4), 39.5(C-6), 63.3(C-9), 114.3(C-2), 170.2(C-3), 201.2(C-1).
【００２８】
（３）３−エトキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
テトラヒドロフラン３mLに溶解したジイソプロピルアミン１．４５mL（１０．３４mmol）を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム８．７mL（１０．４６mmol）を加えた後、０℃まで昇温した。０℃で２時間撹拌後、反応液を−７８℃に冷却し、テトラヒドロフラン６mLに溶解した３−エトキシ−２，６−ジメチル−２−シクロヘキセン−１−オン１．４７ｇ（８．７２mmol）を加え、１時間後にヨウ化メチル１．５９mL（１０．４６mmol）を加えた後、室温まで昇温した。反応液を一夜撹拌し、次いで水１００mLで希釈した後、エチルエーテルで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。粗生成物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチル−エーテル／ヘキサン：４／６）で精製し、３−エトキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン１．４６ｇ（８．０４mmol）を得た。
【００２９】
収率９２．２％
Ｒ_f（エチルエーテル／ヘキサン：４０／６０）＝０．３１
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.03(s,6H,H-8,H-9), 1.30(t,³J=7.01Hz,3H,H-11), 1.64(t,⁴J=1.6Hz,3H,H-7), 1.75(t,³J=6.27Hz,2H,H-5), 2.51(tq,³J=6.29Hz,⁴J=1.56Hz,2H,H-4), 4.01(q,³J=6.97Hz,2H,H-10).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：8.0(C-7), 15.4(C-11), 22.6(C-4), 24.7(C-8,C-9), 34.7(C-5), 39.5(C-6), 63.2(C-10), 113.1(C-2), 169.0(C-3), 203.6(C-1).
【００３０】
（４）１５−ブロモ−１−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）ペンタデカンの合成
（イ）１，１５−ペンタデカンジオールの合成
テトラヒドロフラン１５０mLに溶解したペンタデカノリド５ｇ（２０．８mmol）を０℃に冷却した後、水素化アルミニウムリチウム１．２ｇ（３１．２mmol）を徐々に加えた後、室温まで昇温した。反応液を室温で３日間撹拌後、０℃で酒石酸飽和水溶液２００mLを加え、次いでエチルエーテルで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して１，１５−ペンタデカンジオール５．０１ｇ（２０．５mmol）を得た。
【００３１】
収率９８．６％
Ｒ_f（ヘキサン／酢酸エチル：１０／９０）＝０．４４
融点８４〜８５℃
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.28(s large,22H,H-3 to H-13), 1.56(qn,³J=6.6Hz,4H,H-2,14), 3.64(t,³J=6.6Hz,4H,H-1,15).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：26.5(C-3,13), 29.9(C-4 to C-12), 33.7(C-2,C-14), 62.1(C-1,15).
【００３２】
（ロ）１５−ブロモ−ペンタデカン−１−オールの合成
４８％臭化水素５０mLを徐々に１，１５−ペンタデカンジオール５．０８ｇ（２０．８mmol）とシクロヘキサン５０mLとの混合物に加え、加熱して６時間還流後、２層に分離し、水層をヘキサンで３回抽出した。有機層を集め、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。粗生成物は、シリカに吸収させシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル：７／３）で精製し、１５−ブロモ−ペンタデカン−１−オール４．３３ｇ（１４．０８mmol）を得た。
【００３３】
収率６８％
Ｒ_f（ヘキサン／酢酸エチル：６０／４０）＝０．４７
融点６１〜６３℃
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.28(s large,22H,H-3 to H-13), 1.57(qn,³J=6.7Hz,2H,H-2), 1.86(qn,³J=6.8Hz,2H,H-14), 3.41(t,³J=6.8Hz,2H,H-15), 3.65(t,³J=6.6Hz,2H,H-1).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：25.5(C-3), 28.1(C-13), 28.5(C-12), 29.4(C-4 to C-11), 32.7(C-2,C-15), 33.8(C-14), 62.9(C-1).
【００３４】
（ハ）１５−ブロモ−１−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−ペンタデカンの合成
塩化メチレン２３mLに溶解した１５−ブロモ−ペンタデカン−１−オール２．３ｇ（７．４９mmol）を、トリメチルアミン２．１mL（１４．９８mmol）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド２．０３ｇ（１３．４８mmol）及びジメチルアミノピリジン４５７．６mg（３．７４mmol）と混合し、室温で１時間撹拌した。次いで、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて塩化メチレン層（２００mL）と水層（２００mL）に分離した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。粗生成物は、シリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル：９９／１）で精製し、１５−ブロモ−１−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−ペンタデカン２．９８ｇ（７．０７mmol）を得た。
【００３５】
収率９４．４％
Ｒ_f（ヘキサン：１００）＝０．４３
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：0.00(s,6H,Me), 0.85(s,9H,tBu), 1.21(s large,22H,H-3 to H-13), 1.33-1.46(m,2H,H-2), 1.74-1.88(m,2H,H-14), 3.36(t,³J=6.89Hz,2H,H-15), 3.55(t,³J=6.52Hz,2H,H-1).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：-5.2(Me), 26(tBu), 28.2-29.7(C-3 to C-13), 33(C-15), 35(C-2,C-14), 63(C-1).
【００３６】
（５）３−（１５−ヒドロキシペンタデシル）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
無水エチルエーテル３mLに溶解した１５−ブロモ−１−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−ペンタデカン１ｇ（２．３６mmol）とマグネシウム０．１１５ｇを混合し、還流を４０分間行なった後、テトラヒドロフラン２mLに溶解した３−エトキシ−２，６，６−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン２８７．５mg（１．５７mmol）を加えた。４時間撹拌後、１０％塩酸３mLを加え、更に１７時間撹拌し反応させた。反応液を炭酸水素ナトリウムで中和し、エチルエーテルで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下で濃縮した。粗生成物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル：９／１〜６／４、濃度勾配５％）で精製し、３−（１５−ヒドロキシペンタデシル）−２，４，４−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン２２２．７mg（０．６１mmol）を得た。
【００３７】
収率３９％
Ｒ_f（ヘキサン／酢酸エチル：７０／３０）＝０．２６
融点２９〜３０℃
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.06(s,6H,H-22,23), 1.17(m,24H,H-8 a H-19), 1.47(m,2H,H-20), 1.68(s,3H,H-24), 1.72(t,J=7.14Hz,2H,H-5), 2.07(m,2H,H-7), 2.33(t,J=6.9Hz,2H,H-6), 3.55(t,J=6.64Hz,2H,H-21).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：11.4(C-24), 25.8(C-19), 26.8(C-22,23), 28.8(C-8), 29.2-29.6(C-10 a C-18), 30.5(C-7), 30.9(C-9), 32.7(C-20), 34.2(C-5), 36.2(C-4), 37.4(C-6), 62.8(C-21), 130.5(C-2), 165.6(C-3), 199.1(C-1).
【００３８】
実施例２３−（１４−ヒドロキシテトラデシル）−４−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
【００３９】
（１）３−エトキシ−６−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
テトラヒドロフラン５０mLに溶解したジイソプロピルアミン３．４mL（２４．４mmol）を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム８．２mL（１２．３mmol）を加えた後、０℃まで昇温した。０℃で２時間撹拌後、反応液を−７８℃に冷却し、テトラヒドロフラン３mLに溶解した３−エトキシ−２−シクロヘキセン−１−オン１．５４ｇ（１１mmol）を加え、２時間反応を続けた後、ヨウ化メチル０．７７mL（１２．４mmol）を加えた後、室温まで昇温した。室温で１８時間撹拌後、水１００mLを加え、次いでエチルエーテル１００mLで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、減圧下で溶媒を留去し濃縮した。粗生成物は、フラッシュクロマトグラフィー（エチルエーテル／ヘキサン：４０／６０）で精製し、３−エトキシ−６−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン１．１９ｇ（７．７mmol）を得た。
【００４０】
収率７３％
Ｒ_f（エチルエーテル／ヘキサン：７０／３０）＝０．４１
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.13(d,³J=6.87Hz,3H,H-7), 1.33(t,³J=7.01Hz,3H,OCH₂CH ₃), 1.68(m,1H,H-5), 2.03(m,1H,H-5'), 2.26(m,1H,H-6), 2.39(m,2H,H-4), 3.85(q,³J=7.04Hz,2H,OCH ₂CH₃), 5.28(s,1H,H-2).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：15.03(C-7), 16.28(OCH₂ CH₃), 29.33(C-4), 30.18(C-5), 41.03(C-6), 65.06(OCH₂CH₃), 102.92(C-2), 177.75(C-3), 202.86(C-1).
【００４１】
（２）３−（１４−ヒドロキシテトラデシル）−４−メチル−２−シクロヘキセン−１−オンの合成
無水エチルエーテル４mLに溶解した１４−ブロモ−１−（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−テトラデカン１．８１４ｇ（４．４５mmol）とマグネシウム０．２１６ｇ（８．９mmol）を混合し、二臭化エタンを滴下し、グリニャール反応を開始し、３０分間反応させた。テトラヒドロフラン４mLに溶解した３−エトキシ−６−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン０．８２５ｇ（５．３２mmol）を加えた。室温て２４時間撹拌後、１０％塩酸１０mLを加え、更に２４時間撹拌し反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０mLで中和し、エチルエーテル１５mLで３回抽出した。有機層を集め、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下で濃縮した。粗生成物は、フラッシュクロマトグラフィー（エチルエーテル／ヘキサン：７０／３０）で精製し、３−（１４−ヒドロキシテトラデシル）−４−メチル−２−シクロヘキセン−１−オン０．７６８ｇ（２．７４mmol）を得た。
【００４２】
収率５５％
Ｒ_f（エチルエーテル／ヘキサン：７０／３０）＝０．３０
融点３７〜３８℃
¹H-NMR(200MHz,CDCl₃)δ：1.18(d,³J=7.13Hz,3H,H-21), 1.25-1.59(m,24H,H-8 to H-19), 1.69-1.84(m,1H,H-5), 2.01-2.57(m,6H,H-5'/H-7/H-6/H-7'/H-4/H-6'), 3.63(t,³J=6.50Hz,2H,H-20), 5.80(s,1H,H-2).
¹³C-NMR(50MHz,CDCl₃)δ：17.82(C-21), 25.76(C-5), 27.20-32.82(C-8 to C-19), 33.07(C-4), 34.23(C-7), 35.67(C-6), 63.07(C-20), 124.92(C-2), 170.72(C-3), 199.82(C-1).
【００４３】
【発明の効果】
本発明のシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法は、反応工程が少なく簡便で、製造コストが低く、工業的に有利である。

Claims

次の一般式（２）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して水素原子又はメチル基を示し、Ｒ⁴は炭素数１〜５のアルキル基を示す）で表わされる３−アルコキシ−２−シクロヘキセン−１−オン誘導体に、水酸基をシリル化保護した炭素数１０〜１８のω−ハロゲノアルコールのグリニャール試薬を反応させ、次いで加水分解することを特徴とする一般式（１）

（式中、Ａは炭素数１０〜１８のアルキレン基又はアルケニレン基を示し、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じものを示す）で表わされるシクロヘキセノン長鎖アルコールの製造法。