JP4026320B2 - Semiconductor wafer storage and shipping container - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェーハを収納して搬送、出荷する半導体ウェーハの収納出荷容器に係り、特に作業者が持ち運ぶためのハンドルを備えた半導体ウェーハの収納出荷容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェーハの収納、出荷に用いられる収納容器は一般に知られている。この収納容器に半導体ウェーハを複数枚収納し、処理工程内では作業者が上記収納容器を手で持ったり、搬送装置で搬送したりする。出荷時には、半導体ウェーハを容器に収納して包装した後、段ボール等の二次梱包材に入れて出荷する。
【０００３】
上記収納容器の例を図４及び図５に示す。この収納容器Ａの両側には取っ手部Ｂが設けられ、作業者はこの取っ手部Ｂを手で持って収納容器Ａを搬送したりする。
【０００４】
また、本出願人は先に、扱いやすい取っ手部を備えた薄板支持容器（特願平１１−５４０２３０（ＰＣＴ／ＪＰ９８／００４８９））を提案した。この薄板支持容器Ｃを図６に示す。ここでは、取っ手部Ｄが４５度傾斜した状態で取り付けられている。これにより、作業者は、手首を４５度曲げた状態で取っ手部Ｄを持って、手首を反対側へ４５度曲がるまで回転させることで、薄板支持容器Ｃを垂直状態から水平状態にしたり、逆に水平状態から垂直状態にしたりする。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記収納容器Ａにおいては、半導体ウェーハが小径（例えば直径２００ｍｍ以下の半導体ウェーハ）の場合は、収納容器Ａの重量も２ｋｇ程度と軽いために、上記取っ手部Ｂで特に不都合はなかった。
【０００６】
ところが、半導体ウェーハの口径が大きくなるに従って、収納容器Ａのサイズ及び重量も増加し、これまでの取っ手部Ｂでは、作業中の収納容器Ａの角度、方向の変換時において、作業者に無理な姿勢を強いることになり、作業し辛くなる。
【０００７】
半導体ウェーハの製造工程においては、ある工程や検査の終わった半導体ウェーハはプラスチック製の収納容器に収納される。そして、上述のように、工程内を搬送する場合は、作業者や工程間の搬送装置によって搬送される。出荷する場合は、半導体ウェーハが収納容器に収納された状態で、さらに包装、二次梱包材に入れられる。これらの作業を作業者が行う場合は、ハンドルを手で掴んで収納容器を持ち上げたり、移動したりする。
【０００８】
作業者が行う作業としては、収納容器Ａを１つのステージより持ち上げる作業、１つのステージから他のステージへ移動する作業、水平状態から垂直状態へ又はその反対方向への方向転換作業等がある。
【０００９】
このとき、３００ｍｍ以上の大口径の半導体ウェーハを収納する収納容器の場合は、２００ｍｍ口径の半導体ウェーハの収納容器に比較して、おおよそ重量で４倍、体積で５倍となるため、小径の半導体ウェーハの収納容器と同様にして上記作業を行うことは難しい。
【００１０】
収納容器Ａを水平状態から垂直状態へ又はその反対方向へ方向転換する作業においては、手首をまっすぐ伸ばした状態から９０度曲げなければならないような場合も生じる。また、高さの違う種々のステージから収納容器Ａを持ち上げる場合や、段差のあるステージ間で収納容器Ａを移動させる場合等においては、収納容器Ａを様々な角度から持たなければならない。この場合には、取っ手部Ｂでは持ちずらく作業しずらい。即ち、従来の取っ手部Ｂでは、取っ手部Ｂを掴む方向が特定方向に限定されるため、作業者に無理な姿勢を強いるだけでなく、作業者の腕や手首に大きな負担を掛けることになる。
【００１１】
また、薄板支持容器Ｃにおいては、取っ手部Ｄを４５度傾斜させているので、薄板支持容器Ｃを垂直状態にしたり水平状態にしたりする場合には作業に支障を来すことはない。しかし、高さの違う種々のステージから薄板支持容器Ｃを持ち上げる場合や、段差のあるステージ間で薄板支持容器Ｃを移動させる場合等においては、薄板支持容器Ｃを４５度以外の角度から持たなければならない場合もある。この場合には、取っ手部Ｄでは作業しずらくなる。
【００１２】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたもので、作業者による容器の持ち運び等の作業を容易にした半導体ウェーハの収納出荷容器を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための第１の発明に係る半導体ウェーハの収納出荷容器は、容器本体内に半導体ウェーハを収納して出荷、搬送等に用いる半導体ウェーハの収納出荷容器において、上記容器本体には、任意の方向から掴むことができるハンドルを有しているとともに、該ハンドルは上記容器本体と一部隙間を有し、前記ハンドルは、直接手で掴む円盤部と、この円盤部を容器本体側に固定する円筒状連結部とを備え、前記円盤部は、円形板部と、立ち上げ壁とからなり、前記円形板部はその中央に向けてなだらかな傾斜が設けられ、前記立ち上げ壁は、その全周に亘って波打つように湾曲させて指がはまる波状の凹部が形成され、前記円筒状連結部は、前記容器本体側へ向けて直径が小さくなる円錐状に形成されると共に、その内部は貫通されて水抜き穴となり、前記円形板部と前記円筒状連結部との境界は、その内側及び外側ともになだらかな曲面で構成され、前記円形板部、立ち上げ壁、円筒状連結部及びこれらの境界部が、水を流しやすいなだらかな曲面で構成されていると共に、前記容器本体の縦置き及び横置き状態で全ての面が液だまりのない傾斜した状態になって、全体が水が流れやすい曲面で構成したことを特徴とする。
【００１４】
上記構成により、任意の方向から掴むことができるハンドルを有しているため、作業者はハンドルをどの角度からでも容易にかつ確実に掴むことができる。これにより、半導体ウェーハの収納出荷容器を垂直方向から水平方向に変えたり、水平方向から垂直方向に変えたりする作業を容易に行うことができる。さらに、半導体ウェーハの収納出荷容器を高いステージと低いステージとの間で移動させる場合等のように、ハンドルを手で持つ角度が微妙に変わる場合も容易にかつ確実にハンドルを掴んで搬送、移動作業等を行うことができる。
【００１５】
このハンドルとしては、任意の方向から掴むことができるように、丸形、楕円形、多角形、多少いびつな丸形、三つ葉や四つ葉等に近い丸形、星形や歯車形に近い丸形等のものを用いる。
【００１６】
また、ハンドルの一部隙間により、ハンドルを掴んだ手の指は上記一部隙間に回り込む。これにより、作業者はハンドルを手で包み込むようにして確実に掴むことができる。
【００１８】
また、上記ハンドルを作業者が掴んだ場合、外周縁の凹部に指がはまり込むため、作業者は確実にハンドルを掴むことができる。これにより、ハンドルが丸形又は多角形であることと相まって、半導体ウェーハの収納出荷容器の搬送、移動作業等を容易にかつ確実に行うことができる。
【００２０】
さらに、半導体ウェーハの収納出荷容器を再利用するために洗浄する場合はハンドルも同時に洗浄するが、この場合洗浄水等はハンドルの中心と周囲をスムーズに流れると共に、引き上げ時に洗浄水等がハンドルに貯まることがなくなる。即ち、洗浄時には洗浄水等がハンドルの中心と周囲をスムーズに流れて効率的に洗浄する。洗浄液等から引き上げるときには、ハンドルの内部に流入した洗浄水等は貫通した水抜き穴から外部に流出し、ハンドルの表面に付着した洗浄水等はハンドル表面の曲面に沿って流れ落ちてしまう。これにより、効率的に洗浄、乾燥を行うことができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【００２２】
図１及び図２に、本実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器の一例を示す。この半導体ウェーハの収納出荷容器（以下「ウェーハ収納容器」という）１は主に、内部に半導体ウェーハ（図示せず）を複数枚収納する容器本体２と、この容器本体２の上側開口を塞ぐ蓋体３と、容器本体２の両側（図８中の左右両側）に設けられた持ち運び用のハンドル４とから構成されている。
【００２３】
容器本体２は全体をほぼ立方体状に形成されている。この容器本体２は、垂直方向に縦置きされた状態（図１及び図２の状態）で、周囲の壁となる４枚の側壁部２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄと底板部２Ｅとから構成されている。この容器本体２は、半導体ウェーハの製造ライン等において必要に応じて水平方向に横置きされる。この横置き状態で底部となる側壁部２Ａの外側面には、３本の嵌合溝２Ｆからなる位置決め手段５が設けられている。横置き状態で天井部となる側壁部２Ｂの外側面には、必要に応じてウェーハ搬送装置用のフランジ（図示せず）が取り付けられる。横置き状態で横壁部となる側壁部２Ｃ，２Ｄの外側面には、ハンドル取付部６が設けられ、このハンドル取付部６にハンドル４が着脱自在に取り付けられる。
【００２４】
蓋体３は、四角形の皿状に形成され、容器本体２にその上側から取り付けられて容器本体２内を密閉する。
【００２５】
ハンドル４は、作業者が手でウェーハ収納容器１を持ち上げたり、運んだりするときに掴むハンドルである。このハンドル４は、図３及び図７から図１０に示すように主に、作業者が手で掴む把持部８と、容器本体２の両側に着脱自在に取り付ける着脱機構部９とから構成されている。
【００２６】
把持部８は、作業者が直接手で掴む円盤部１１と、この円盤部１１を着脱機構部９に一体的に固定する円筒状連結部１２とから構成されている。
【００２７】
円盤部１１は、円形板部１４と、立ち上げ壁１５とからなり、全体を丸形の皿状に形成されている。円形板部１４はほぼ真円形状に形成されている。さらに円形板部１４は、その中央に向けてなだらかな傾斜が設けられ、全体としてほぼ鈍角の円錐状に形成されている。円形板部１４の中央には、円筒状連結部１２の水抜き穴１８が位置している。円盤部１１の大きさは、その直径が８ｃｍ以上になるように設定される。具体的には、作業者の平均的な手の大きさに応じて設定されるが、特に手の小さい作業者を考慮する。手の大きい作業者の場合は円盤部１１が多少小さくてもあまり支障を来すことはないが、手の小さい作業者にとっては円盤部１１が大きすぎると支障を来すことがあるためである。
【００２８】
円形板部１４の外周縁部には、上方（図１中の紙面手前側）に折り返した立ち上げ壁１５が形成されている。この立ち上げ壁１５は、その全周に亘って波打つように湾曲させて作業者の指がはまる波状の凹部１６が形成されている。この凹部１６の幅は１．５ｃｍ以上、深さは０．３ｃｍ以上が望ましい。この寸法も上記円盤部１１の場合と同様に、作業者の平均的な手の大きさに応じて設定される。
【００２９】
さらに、円形板部１４と立ち上げ壁１５との境界は、その内側及び外側ともになだらかな曲面で構成されている。特に境界の外側面１７は、ハンドル５を掴む作業者の指の曲がりに合わせた曲率の曲面に形成されている。この曲率は、円形板部１４の寸法に応じて設定される。即ち、寸法の異なる円形板部１４に応じて変化する作業者の指の曲がりの平均値を測定し、それに合わせた曲率の曲面に設定する。この曲面には、上記凹部１６を延長して形成してもよい。
【００３０】
円筒状連結部１２は、円形板部１４と着脱機構部９との間に取り付けられて、円盤部１１と着脱機構部９とを一体的に固定している。円筒状連結部１２は、着脱機構部９側へ向けて直径が小さくなる円錐状に形成されている。円筒状連結部１２の内部は貫通され、水抜き穴１８となっている。円形板部１４と円筒状連結部１２との境界は、その内側及び外側ともになだらかな曲面で構成されている。
【００３１】
また、円筒状連結部１２は、円形板部１４と着脱機構部９との間に一定間隔の隙間を形成している。着脱機構部９は容器本体２に取り付けられた状態で容器本体２側の一部となり、円筒状連結部１２で形成した隙間がハンドル４と容器本体２との一部隙間Ｓを構成する。この一部隙間Ｓにより、ハンドル４を掴んだ手の指は一部隙間Ｓに回り込む。これにより、作業者はハンドル４を手で包み込むようにして確実に掴むことができるようになっている。
【００３２】
以上の構成の把持部８は、その円形板部１４、立ち上げ壁１５、円筒状連結部１２及びこれらの境界部の全面が、水を流しやすいなだらかな曲面で構成されている。さらに、ハンドル４を縦置き又は横置きにした状態で、全ての面が傾斜した状態になって、液だまりができないようになっている。これにより、洗浄時に洗浄水等がハンドル４の中央部及び周囲をスムーズに流れると共に、ハンドル４を引き上げるときその表面に残留せずにすべて流れ落ちるようになっている。
【００３３】
着脱機構部９は、容器本体２側に嵌合する嵌合板２０と、この嵌合板２０が容器本体２側に嵌合した状態で容器本体２側に係止して固定するロックピン２１とから構成されている。
【００３４】
嵌合板２０は、全体をＶ字状に形成され、その両端部及び中央部に係止用折り返し部２０Ａが形成されている。この係止用折り返し部２０Ａは、容器本体２のハンドル取付板６を抱え込むように折り返して形成されている。
【００３５】
嵌合板２０の一方の端部にはロックピン２１が設けられている。このロックピン２１は、弾性を有する支持板部２２と、この支持板部２２の先端に設けられた係止爪２３と、この係止爪２３の横に設けられて指で押さえることで係止爪２３を容器本体２側から外す押え板部２４とから構成されている。
【００３６】
上記ハンドル４は、ウェーハ収納容器１の重量と、その内部に収納する半導体ウェーハの重量に耐える強度が必要であるため、ポリカーボネート等の十分な強度が確保できる材料を使用することが望ましい。
【００３７】
［動作］
以上のように構成されたウェーハ収納容器１は、次のようにして使用される。
【００３８】
まず、ハンドル４は容器本体２の両側のハンドル取付部６に装着される。具体的には、嵌合板２０の係止用折り返し部２０Ａをハンドル取付部６にその下側からはめ込んで上方へスライドさせる。これにより、ロックピン２１の係止爪２３がハンドル取付部６側に係止して、ハンドル４が容器本体２側に固定される。
【００３９】
作業者がウェーハ収納容器１を搬送等する場合は、容器本体２の両側のハンドル４を手で摘む。このとき、ハンドル４の把持部８は丸形であるため、作業者はハンドル４をどの角度からでも容易に掴むことができる。さらに、作業者の指は、ハンドル４を掴んだ状態で、立ち上げ壁１５の凹部１６にはまり込む。これにより、滑ることなく、確実にハンドル４を掴むことができる。さらに、ハンドル４を掴んだ指は、一部隙間Ｓがあるため把持部８の裏側に回り込んでハンドル４を手で包み込むようにして裏面から支持する。即ち、円形板部１４と立ち上げ壁１５との境界の外側面１７が指の曲がりに合わせた曲率の曲面に形成されているため、一部隙間Ｓによって把持部８の裏側に回り込んだ５本の指が曲面に沿ってハンドル４の裏面に接触してハンドル４を手で包み込んで裏面から支える。
【００４０】
このように、ハンドル４が丸形であって一部隙間Ｓを有し、その周囲に凹部１６が設けられていると共にハンドル４の裏面を指の曲がりに合わせた曲率の曲面に形成したため、ハンドル４を手で持つ角度が変わる場合でも容易にかつ確実にハンドルを掴むことができる。即ち、作業者はハンドル４をどの角度からでも容易にかつ確実に掴むことができる。
【００４１】
この状態で、ウェーハ収納容器１を持ち上げて、垂直方向から水平方向に変えたり、水平方向から垂直方向に変えたり、ステージ間を移動させたり、高いステージと低いステージとの間で移動させたりする。ウェーハ収納容器１は、垂直にした状態で持ち上げて運搬等することを前提に設計されているため、持ち運び等は垂直状態で行われる。一方。半導体ウェーハの検査等の場合は、ウェーハ収納容器１を水平状態にして行われる。このような場合に、ウェーハ収納容器１を垂直方向から水平方向に変えたり、水平方向から垂直方向に変えたりするが、作業者はハンドル４を掴んで手首で９０度回すだけで容易に行うことができる。さらに、このとき、５本の指は凹部１６にはまり込んで外側面１７に密に接触しているため、ウェーハ収納容器１を回している途中で指がずれることはなく、安全にかつ確実にウェーハ収納容器１の方向を変えることができる。
【００４２】
さらに、作業者はウェーハ収納容器１を前後いずれの側からでも掴むことができる。即ち、横置き状態で底部となる側壁部２Ａ側からでも、天井部となる側壁部２Ｂ側からでも、同じように容易にかつ確実にハンドル４を掴んでウェーハ収納容器１を持ち上げることができる。例えば、図１に中の矢印Ａ，Ｂ，Ｃのように、前後の一側から任意の角度で掴むことができる。また、矢印Ｄ，Ｅ，Ｆのように、前後の他側から任意の角度で掴むこともできる。さらに、人間の手は柔軟であるので、握り方の調整や手首の調整によって、矢印Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆの方向の中間位置の方向からでも掴むことができる。
【００４３】
このとき、作業者はハンドル４をどの角度からでも容易にかつ確実に掴むことができるため、無理な姿勢を強いられることはない。
【００４４】
半導体ウェーハを搬送し終わったウェーハ収納容器１は、再利用のために洗浄処理される。このとき、ハンドル４も同時に洗浄処理される。このときは、ロックピン２１の押え板部２４を押さえて係止爪２３を係止解除した状態でハンドル４を下方へスライドさせて容器本体２から取り外す。次いで、ハンドル４を洗浄する。このハンドル４が洗浄水で洗浄処理されるとき、洗浄水は貫通した水抜き穴１８を通って流れる。さらに、ハンドル４の全体を水が流れやすい曲面で構成しているため、ハンドル４の外側表面を洗浄液がスムーズに流れる。これにより、ハンドル４の周囲及び中心部の隅々まで洗浄水が十分に流れ、全体を効率的に洗浄する。即ち、洗浄効果が向上する。
【００４５】
リンス処理においても同様に、リンス液がハンドル４の周囲及び中心部に十分に流れ、全体を効率的にリンスして、洗剤等の残留を防止する。
【００４６】
洗浄後は、ハンドル４を液中から引き上げて乾燥させるが、ハンドル４は貫通した水抜き穴１８を有すると共に、その全体を水が流れやすい曲面で構成しているため、液中から引き上げるときに液体はほとんど全て流れ落ちてしまい、ハンドル４の表面に停滞することはない。
【００４７】
これにより、その後の乾燥が短時間で完了する。
【００４８】
［効果］
以上のように、容器本体２の両側に任意の方向から掴むことができるハンドル４を有しているとともに、該ハンドル４は容器本体２と一部隙間を有しているため、作業者はハンドル４をどの角度からでも容易に掴むことができるようになる。特に、ハンドル４と容器本体２との間には一部隙間を有するため、ハンドル４を掴んだ手の指が一部隙間に回り込んで、ハンドル４を手で包み込むようにして確実に掴むことができるようになる。
【００４９】
これにより、作業者に負担を掛けずに、ウェーハ収納容器１の搬送、移動作業を行うことができるようになる。
【００５０】
また、ハンドル４を丸形にして凹部１６を設けたので、上述のように作業者はハンドル４をどの角度からでも容易にかつ確実に掴むことができるとともに、作業者の手首に負担をかけずに、安全にかつ正確にウェーハ収納容器１を回動させて方向を変えたり、搬送したりすることができる。また、ウェーハ収納容器１の前方からでも後方からでも同じようにして、ウェーハ収納容器１の方向を変えたり、搬送したりすることができる。
【００５１】
これにより、作業者によるウェーハ収納容器１の搬送時等にその作業性及び安全性が大幅に向上する。
【００５２】
さらに、ハンドル４に貫通した水抜き穴１８を設けると共に全体を水が流れやすい曲面で構成したので、ハンドル４の中心及び周囲で洗浄液等がスムーズに流れ、引き上げるときも表面に液体が停滞することがなくなる。
【００５３】
この結果、洗浄、乾燥時の作業性が大幅に向上する。
【００５４】
［変形例］
（１） 上記実施形態では、ハンドル５として真円形のものを例に説明したが、本発明のハンドル５は真円形に限るものではない。おおよそ丸形のものの場合、上記実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。任意の方向から掴むことができる形状のものであれば、真円形のハンドル５以外に、楕円形、多少いびつな丸形、三つ葉や四つ葉等に近い丸形、星形や歯車形に近い丸形等の、ほぼ丸形のもの全てが含まれる。
【００５５】
さらに、丸形に限らず、多角形でもよい。三角形、四角形、五角形又は六角形以上（望ましくは五角形以上）の多角形のハンドルの場合も、任意の方向から掴むことができ、上記実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。この多角形は、正多角形でも多少変形した多角形でもよい。さらに、上記丸形の場合と同様に、多少いびつな多角形、角に丸みを持たせた多角形、多角形といえないほど変形させた多角形でも、どの方向からも確実に掴める全ての形状が、ここでいう多角形のハンドル５に含まれる。
【００５６】
（２） 上記実施形態では、ハンドル５の円盤部１１の立ち上げ壁１５に波形の凹部１６を形成したが、波形に限らず、他の形状でもよい。指がはまって滑らない形状であれ、凸形状のものでもよい。この場合も、上記実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【００５７】
（３） 上記実施形態で説明したウェーハ収納容器１は一例であり、他の形状のウェーハ収納容器１でもよいことは言うまでもない。ハンドル５を取り付けることができる構成のウェーハ収納容器１であれば、上記実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【００５８】
（４） 上記実施形態では、半導体ウェーハを収納、搬送等する容器を例に説明しが、半導体ウェーハ以外に、記憶ディスク、液晶ガラス基板等の他の薄板を収納、搬送等する容器全般に本発明を適用することができる。この場合も、上記実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【００５９】
（５） 上記実施形態では、ハンドル４に、嵌合板２０とロックピン２１とからなる着脱機構部９を用いたが、着脱機構部に関しては特に上記実施形態の着脱機構部９に限定するものではなく、公知の全ての着脱機構部を用いることができる。この場合も、上記実施形態同様の作用、効果を奏することができる。
【００６０】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の半導体ウェーハの収納出荷容器によれば、次のような効果を奏する。
【００６１】
（１） 容器本体には、任意の方向から掴むことができるハンドルを有するとともに、該ハンドルは上記容器本体と一部隙間を有しているので、作業者はハンドルをどの角度からでも容易にかつ確実に掴むことができる。これにより、作業者の手首に負担をかけずに、安全にかつ正確に半導体ウェーハの収納出荷容器を搬送等することができる。
【００６２】
この結果、作業者による半導体ウェーハの収納出荷容器の搬送時等にその作業性及び安全性が大幅に向上する。
【００６３】
（２） 上記ハンドルの外周縁に、指がはまる凹部を設けたので、作業者はハンドルを確実に掴むことができ、安全にかつ確実に半導体ウェーハの収納出荷容器を搬送等することができる。
【００６４】
この結果、作業者による半導体ウェーハの収納出荷容器の搬送時等にその作業性及び安全性が大幅に向上する。
【００６５】
（３） ハンドルに貫通した水抜き穴を設けると共に、上記ハンドル全体を水が流れやすい曲面で構成したので、ハンドルの中心及び周囲で洗浄液等がスムーズに流れて洗浄すると共に、洗浄液等から引き上げるときに表面に液体が停滞することがなくなる。
【００６６】
この結果、洗浄、乾燥時の作業性が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器を縦置状態で示す正面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器を縦置状態で示す側面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器のハンドルを示す正面図である。
【図４】従来の半導体ウェーハの収納容器を示す正面図である。
【図５】従来の半導体ウェーハの収納容器を示す側面図である。
【図６】従来の薄板支持容器を示す斜視図である。
【図７】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器のハンドルを示す平面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器のハンドルを示す側面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器のハンドルを示す背面図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る半導体ウェーハの収納出荷容器のハンドルを示す側面断面図である。
【符号の説明】
１：半導体ウェーハの収納出荷容器（ウェーハ収納容器）、２：容器本体、２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ：側壁部、２Ｅ：底板部、３：蓋体、４：ハンドル、５：位置決め手段、６：ハンドル取付部、８：把持部、９：着脱機構部、１１：円盤部、１２：円筒状連結部、１４：円形板部、１５：立ち上げ壁、１６：凹部、１７：外側面、１８：水抜き穴、２０：嵌合板、２０Ａ：係止用折り返し部、２１：ロックピン、２２：支持板部、２３：係止爪、２４：押え板部、Ｓ：一部隙間。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor wafer storage / shipment container for storing, transporting and shipping semiconductor wafers, and more particularly to a semiconductor wafer storage / shipment container having a handle for carrying by an operator.
[0002]
[Prior art]
Storage containers used for storing and shipping semiconductor wafers are generally known. A plurality of semiconductor wafers are stored in the storage container, and an operator holds the storage container by hand or transports it by a transport device in the processing process. At the time of shipment, the semiconductor wafer is housed in a container and packaged, and then placed in a secondary packaging material such as cardboard and shipped.
[0003]
Examples of the storage container are shown in FIGS. Handles B are provided on both sides of the storage container A, and an operator carries the storage container A by holding the handle B by hand.
[0004]
The present applicant has previously proposed a thin plate supporting container (Japanese Patent Application No. 11-540230 (PCT / JP98 / 00489)) having a handle portion that is easy to handle. This thin plate support container C is shown in FIG. Here, the handle part D is attached in a state inclined by 45 degrees. As a result, the operator holds the handle portion D with the wrist bent at 45 degrees, and rotates the wrist until it bends to the opposite side by 45 degrees, so that the thin plate support container C is changed from the vertical state to the horizontal state or vice versa. From horizontal to vertical.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
In the storage container A, when the semiconductor wafer has a small diameter (for example, a semiconductor wafer having a diameter of 200 mm or less), the weight of the storage container A is as light as about 2 kg.
[0006]
However, as the diameter of the semiconductor wafer increases, the size and weight of the storage container A also increase. With the handle B so far, it is impossible for the operator to change the angle and direction of the storage container A during work. You will be forced to work and it will be difficult to work.
[0007]
In a semiconductor wafer manufacturing process, a semiconductor wafer that has undergone a certain process or inspection is stored in a plastic container. And as above-mentioned, when conveying the inside of a process, it conveys with an operator and the conveying apparatus between processes. In the case of shipping, the semiconductor wafer is stored in a storage container and further put into a packaging and secondary packaging material. When an operator performs these operations, the container is lifted or moved by grasping the handle with a hand.
[0008]
The work performed by the operator includes a work of lifting the storage container A from one stage, a work of moving from one stage to another stage, a work of changing the direction from the horizontal state to the vertical state, or the opposite direction.
[0009]
At this time, in the case of a storage container for storing a semiconductor wafer having a large diameter of 300 mm or more, the weight is about 4 times by weight and 5 times by volume as compared with a storage container for a 200 mm diameter semiconductor wafer. It is difficult to perform the above operation in the same manner as the wafer container.
[0010]
In the operation of changing the direction of the storage container A from the horizontal state to the vertical state or vice versa, there may be a case where the wrist must be bent 90 degrees from the straight state. In addition, when the storage container A is lifted from various stages having different heights, or when the storage container A is moved between stages with steps, the storage container A must be held from various angles. In this case, the handle portion B is difficult to work with. That is, in the conventional handle portion B, the direction in which the handle portion B is gripped is limited to a specific direction, so that not only the operator is forced to take an unreasonable posture but also a heavy burden on the operator's arm and wrist. .
[0011]
Further, in the thin plate support container C, the handle portion D is inclined 45 degrees, so that the work is not hindered when the thin plate support container C is set to a vertical state or a horizontal state. However, when the thin plate support container C is lifted from various stages with different heights, or when the thin plate support container C is moved between stages with different steps, the thin plate support container C must be held from an angle other than 45 degrees. Sometimes it is necessary. In this case, the handle portion D is difficult to work.
[0012]
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer storage / shipping container in which an operator can easily carry the container.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
A semiconductor wafer storage / shipping container according to a first aspect of the present invention for solving the above problems is a semiconductor wafer storage / shipping container used for shipping, transporting, etc. by storing the semiconductor wafer in the container main body. The handle has a handle that can be grasped from any direction, and the handle has a gap between the container body and the handle. The handle has a disk part that is directly grasped by a hand, and the disk part is placed on the container body side. A cylindrical connecting portion that is fixed to the circular plate portion, and the circular plate portion includes a circular plate portion and a rising wall, and the circular plate portion is provided with a gentle inclination toward the center thereof. And a wavy concave portion in which a finger fits by being curved so as to wave around the entire circumference is formed, and the cylindrical connecting portion is formed in a conical shape whose diameter decreases toward the container body side, and Inside The boundary between the circular plate portion and the cylindrical connecting portion is formed by gentle curved surfaces on both the inner side and the outer side, the circular plate portion, the rising wall, the cylindrical connecting portion, and these The boundary portion is configured with a gentle curved surface that allows water to flow easily, and the entire surface of the container body is inclined without any liquid pool in the vertically and horizontally placed state, so that the entire water easily flows. It is characterized by comprising a curved surface .
[0014]
With the above configuration, since the handle that can be gripped from any direction is provided, the operator can easily and reliably grip the handle from any angle. Accordingly, it is possible to easily perform the operation of changing the storage / shipping container for semiconductor wafers from the vertical direction to the horizontal direction or from the horizontal direction to the vertical direction. Furthermore, even when the wafer holding / shipping container is moved between a high stage and a low stage, the handle can be easily and securely held and transported and moved even when the handle angle changes slightly. Work can be performed.
[0015]
This handle has a round shape, an oval shape, a polygonal shape, a slightly distorted round shape, a round shape close to a three-leaf or four-leaf shape, a round shape close to a star shape or a gear shape so that it can be grasped from any direction. Use a shape or the like.
[0016]
Further, due to the partial clearance of the handle, the finger of the hand holding the handle goes around the partial clearance. As a result, the operator can reliably grasp the handle as if it is wrapped by hand.
[0018]
Further , when the operator grips the handle, the finger fits into the concave portion on the outer peripheral edge, so that the operator can securely grip the handle. Thereby, coupled with the handle being round or polygonal, it is possible to easily and reliably carry and move the semiconductor wafer storage and shipping container.
[0020]
In addition, when cleaning the semiconductor wafer storage shipping container for reuse, the handle is also cleaned at the same time. In this case, the cleaning water flows smoothly around the center of the handle, and the cleaning water etc. It will not accumulate. That is, at the time of cleaning, cleaning water and the like smoothly flow around the center and the periphery of the handle for efficient cleaning. When the cleaning liquid or the like is pulled up from the cleaning liquid or the like, the cleaning water or the like that has flowed into the handle flows out from the drain hole that penetrates, and the cleaning water or the like adhering to the surface of the handle flows down along the curved surface of the handle surface. Thereby, it can wash | clean and dry efficiently.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[0022]
1 and 2 show an example of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to the present embodiment. The semiconductor wafer storage / shipping container (hereinafter referred to as “wafer storage container”) 1 mainly includes a container main body 2 for storing a plurality of semiconductor wafers (not shown) therein, and a lid for closing the upper opening of the container main body 2. The body 3 and a carrying handle 4 provided on both sides (left and right sides in FIG. 8) of the container body 2 are configured.
[0023]
The container body 2 is formed in a substantially cubic shape as a whole. The container body 2 is composed of four side wall portions 2A, 2B, 2C, 2D and a bottom plate portion 2E which are surrounding walls in a state in which the container body 2 is vertically placed (the state shown in FIGS. 1 and 2). ing. The container body 2 is placed horizontally in the horizontal direction as required in a semiconductor wafer production line or the like. Positioning means 5 including three fitting grooves 2F is provided on the outer side surface of the side wall portion 2A which becomes the bottom portion in the horizontally placed state. A flange (not shown) for a wafer transfer device is attached to the outer surface of the side wall 2B, which becomes the ceiling in the horizontal state, as necessary. A handle attachment portion 6 is provided on the outer surface of the side wall portions 2C and 2D, which become the horizontal wall portion in the horizontal state, and the handle 4 is detachably attached to the handle attachment portion 6.
[0024]
The lid 3 is formed in a square dish shape, and is attached to the container body 2 from the upper side to seal the inside of the container body 2.
[0025]
The handle 4 is a handle that is grasped when the operator lifts or carries the wafer storage container 1 by hand. As shown in FIGS. 3 and 7 to 10, the handle 4 is mainly composed of a grip portion 8 that an operator grips with hands and an attachment / detachment mechanism portion 9 that is detachably attached to both sides of the container body 2. Yes.
[0026]
The grip portion 8 includes a disc portion 11 that is directly gripped by an operator, and a cylindrical connecting portion 12 that integrally fixes the disc portion 11 to the attachment / detachment mechanism portion 9.
[0027]
The disk portion 11 includes a circular plate portion 14 and a rising wall 15 and is formed in a circular dish shape as a whole. The circular plate portion 14 is formed in a substantially circular shape. Further, the circular plate portion 14 is provided with a gentle inclination toward the center thereof, and is formed in a substantially obtuse conical shape as a whole. In the center of the circular plate portion 14, a drain hole 18 of the cylindrical connecting portion 12 is located. The size of the disk portion 11 is set so that its diameter is 8 cm or more. Specifically, it is set according to the average hand size of the worker, but an operator with a particularly small hand is considered. In the case of an operator with a large hand, even if the disk part 11 is somewhat small, it does not cause much trouble, but for an operator with a small hand, if the disk part 11 is too large, it may cause trouble. .
[0028]
A rising wall 15 is formed at the outer peripheral edge of the circular plate portion 14 so as to be folded upward (front side in FIG. 1). The rising wall 15 is curved so as to wave over the entire circumference thereof, and a wave-like recess 16 into which the operator's finger is fitted is formed. The width of the recess 16 is preferably 1.5 cm or more and the depth is 0.3 cm or more. This dimension is also set according to the average hand size of the operator, as in the case of the disk portion 11.
[0029]
Further, the boundary between the circular plate portion 14 and the rising wall 15 is formed of a gentle curved surface both inside and outside. In particular, the outer side surface 17 of the boundary is formed as a curved surface having a curvature matching the bending of the finger of the operator who holds the handle 5. This curvature is set according to the dimensions of the circular plate portion 14. That is, the average value of the bending of the operator's finger that changes in accordance with the circular plate portion 14 having different dimensions is measured and set to a curved surface with a curvature corresponding thereto. The concave portion 16 may be extended on the curved surface.
[0030]
The cylindrical connecting portion 12 is attached between the circular plate portion 14 and the attachment / detachment mechanism portion 9 and integrally fixes the disk portion 11 and the attachment / detachment mechanism portion 9. The cylindrical connecting portion 12 is formed in a conical shape whose diameter decreases toward the attaching / detaching mechanism portion 9 side. The inside of the cylindrical connecting portion 12 is penetrated to form a drain hole 18. The boundary between the circular plate portion 14 and the cylindrical connecting portion 12 is a gentle curved surface both inside and outside.
[0031]
Further, the cylindrical connecting portion 12 forms a gap having a constant interval between the circular plate portion 14 and the attaching / detaching mechanism portion 9. The attachment / detachment mechanism 9 is a part on the container body 2 side when attached to the container body 2, and the gap formed by the cylindrical connecting part 12 constitutes a partial gap S between the handle 4 and the container body 2. Due to the partial gap S, the finger of the hand holding the handle 4 goes around the partial gap S. As a result, the operator can surely grasp the handle 4 by wrapping the handle 4 by hand.
[0032]
In the gripping portion 8 having the above configuration, the entire surface of the circular plate portion 14, the rising wall 15, the cylindrical connecting portion 12, and the boundary portion thereof is configured with a gently curved surface that allows water to easily flow. Furthermore, in a state where the handle 4 is placed vertically or horizontally, all the surfaces are inclined so that no liquid pool is possible. As a result, washing water and the like smoothly flow around the center and the periphery of the handle 4 during cleaning, and when the handle 4 is pulled up, it all flows down without remaining on the surface.
[0033]
The attachment / detachment mechanism unit 9 includes a fitting plate 20 that is fitted to the container body 2 side, and a lock pin 21 that is locked and fixed to the container body 2 side in a state where the fitting plate 20 is fitted to the container body 2 side. It is configured.
[0034]
The entire fitting plate 20 is formed in a V shape, and a locking folded portion 20 </ b> A is formed at both ends and a center portion thereof. The locking folded portion 20 </ b> A is formed so as to be folded so as to hold the handle mounting plate 6 of the container body 2.
[0035]
A lock pin 21 is provided at one end of the fitting plate 20. The lock pin 21 is latched by holding the elastic support plate portion 22, a locking claw 23 provided at the tip of the support plate portion 22, and a side of the locking claw 23 and pressing it with a finger. It is comprised from the holding plate part 24 which removes the nail | claw 23 from the container main body 2 side.
[0036]
The handle 4 needs to be strong enough to withstand the weight of the wafer storage container 1 and the weight of the semiconductor wafer housed therein, and therefore, it is desirable to use a material such as polycarbonate that can secure sufficient strength.
[0037]
[Operation]
The wafer storage container 1 configured as described above is used as follows.
[0038]
First, the handle 4 is attached to the handle attachment portions 6 on both sides of the container body 2. Specifically, the locking folded portion 20A of the fitting plate 20 is fitted into the handle mounting portion 6 from below and is slid upward. Thereby, the latching claw 23 of the lock pin 21 is latched to the handle attachment portion 6 side, and the handle 4 is fixed to the container body 2 side.
[0039]
When the operator carries the wafer storage container 1 or the like, the handle 4 on both sides of the container body 2 is picked by hand. At this time, since the grip 8 of the handle 4 is round, the operator can easily grip the handle 4 from any angle. Further, the operator's finger gets stuck in the recess 16 of the rising wall 15 while holding the handle 4. Thereby, the handle 4 can be reliably grasped without slipping. Further, since the finger that has grasped the handle 4 has a gap S in part, the finger turns around to the back side of the gripping portion 8 and supports the handle 4 from the back so as to wrap it by hand. That is, since the outer side surface 17 at the boundary between the circular plate portion 14 and the rising wall 15 is formed as a curved surface having a curvature that matches the bending of the finger, a part of the clearance S 5 wraps around the back side of the grip portion 8. A finger touches the back surface of the handle 4 along the curved surface and wraps the handle 4 with a hand to support it from the back surface.
[0040]
In this way, the handle 4 is round and has a part of the gap S, the recess 16 is provided around the handle 4 and the back surface of the handle 4 is formed into a curved surface with a curvature matching the bending of the finger. Even when the angle at which the hand 4 is held changes, the handle can be easily and reliably grasped. That is, the operator can easily and reliably grasp the handle 4 from any angle.
[0041]
In this state, the wafer storage container 1 is lifted and changed from the vertical direction to the horizontal direction, changed from the horizontal direction to the vertical direction, moved between the stages, or moved between the high stage and the low stage. . Since the wafer storage container 1 is designed on the assumption that it is lifted and transported in a vertical state, carrying and the like are performed in a vertical state. on the other hand. In the case of inspection of a semiconductor wafer, the wafer storage container 1 is placed in a horizontal state. In such a case, the wafer storage container 1 is changed from the vertical direction to the horizontal direction, or from the horizontal direction to the vertical direction, but the operator can easily do this by simply grasping the handle 4 and turning it by 90 degrees on the wrist. Can do. Further, at this time, since the five fingers fit into the recess 16 and are in close contact with the outer surface 17, the fingers are not displaced during the rotation of the wafer storage container 1, and it is possible to safely and reliably The direction of the wafer storage container 1 can be changed.
[0042]
Further, the operator can grip the wafer storage container 1 from either the front or rear side. In other words, the wafer storage container 1 can be lifted by grasping the handle 4 easily and reliably in the same manner from the side wall 2A side serving as the bottom and the side wall 2B serving as the ceiling in the horizontal state. For example, as shown by the arrows A, B, and C in FIG. Also, as indicated by arrows D, E, and F, it can be grasped at an arbitrary angle from the other side of the front and rear. Further, since the human hand is flexible, it can be grasped even from the middle position of the arrows A, B, C, D, E, and F by adjusting the grip and adjusting the wrist.
[0043]
At this time, since the operator can easily and surely hold the handle 4 from any angle, the operator is not forced to take an unreasonable posture.
[0044]
After the semiconductor wafer has been transferred, the wafer storage container 1 is cleaned for reuse. At this time, the handle 4 is also cleaned at the same time. At this time, the handle 4 is slid downward and removed from the container body 2 with the presser plate portion 24 of the lock pin 21 pressed and the locking claw 23 released. Next, the handle 4 is washed. When the handle 4 is washed with washing water, the washing water flows through the drain hole 18 penetrating therethrough. Furthermore, since the entire handle 4 is configured with a curved surface that allows water to easily flow, the cleaning liquid flows smoothly on the outer surface of the handle 4. As a result, the washing water sufficiently flows to the periphery of the handle 4 and to the corners of the central portion, and the whole is efficiently washed. That is, the cleaning effect is improved.
[0045]
Similarly, in the rinsing process, the rinsing liquid sufficiently flows around and around the handle 4 to efficiently rinse the whole and prevent residues such as detergents from remaining.
[0046]
After washing, the handle 4 is pulled up from the liquid and dried. However, the handle 4 has a drain hole 18 penetrating therethrough and has a curved surface through which water easily flows. Almost all the liquid flows down and does not stagnate on the surface of the handle 4.
[0047]
Thereby, subsequent drying is completed in a short time.
[0048]
[effect]
As described above, since the handle 4 that can be gripped from any direction is provided on both sides of the container body 2 and the handle 4 has a part of the gap with the container body 2, the operator can 4 can be easily grasped from any angle. In particular, since there is a partial gap between the handle 4 and the container body 2, the finger of the hand holding the handle 4 goes around the partial gap and securely grips the handle 4 as if it is wrapped by hand. Will be able to.
[0049]
As a result, the wafer storage container 1 can be transferred and moved without imposing a burden on the operator.
[0050]
Further, since the handle 4 is rounded and the recess 16 is provided, the operator can easily and reliably grasp the handle 4 from any angle as described above, and does not place a burden on the operator's wrist. In addition, the wafer storage container 1 can be rotated and changed in direction and transported safely and accurately. Further, the direction of the wafer storage container 1 can be changed or transported from the front or the rear of the wafer storage container 1 in the same manner.
[0051]
As a result, the workability and safety of the wafer storage container 1 are greatly improved when the worker carries the wafer storage container 1 or the like.
[0052]
Further, since the drain hole 18 penetrating the handle 4 is provided and the entire surface is configured by a curved surface that allows easy flow of water, the cleaning liquid flows smoothly at the center and the periphery of the handle 4, and the liquid stays on the surface even when it is pulled up. Disappears.
[0053]
As a result, the workability during cleaning and drying is greatly improved.
[0054]
[Modification]
(1) In the above embodiment, the handle 5 has been described as an example of a true circle, but the handle 5 of the present invention is not limited to a true circle. In the case of an approximately round shape, the same actions and effects as in the above embodiment can be achieved. As long as it has a shape that can be grasped from any direction, besides the round handle 5, it is oval, somewhat round, round, close to a three-leaf, four-leaf, etc., close to a star or gear. All substantially round shapes such as round shapes are included.
[0055]
Furthermore, it is not limited to a round shape, and may be a polygonal shape. In the case of a triangular, quadrangular, pentagonal or hexagonal or more polygonal handle (preferably a pentagon or more), the handle can be grasped from any direction, and the same operations and effects as the above embodiment can be achieved. This polygon may be a regular polygon or a slightly deformed polygon. Furthermore, as in the case of the round shape above, all shapes that can be reliably grasped from any direction, including polygons that are somewhat distorted, polygons with rounded corners, and polygons that are deformed so as not to be polygons. Is included in the polygonal handle 5 here.
[0056]
(2) In the above embodiment, the corrugated concave portion 16 is formed in the rising wall 15 of the disk portion 11 of the handle 5, but the shape is not limited to the corrugated shape and may be other shapes. A convex shape may be used as long as the finger is not slipped into the shape. Also in this case, the same operations and effects as the above embodiment can be achieved.
[0057]
(3) It is needless to say that the wafer storage container 1 described in the above embodiment is an example, and the wafer storage container 1 having another shape may be used. If it is the wafer storage container 1 of the structure which can attach the handle | steering-wheel 5, there can exist an effect | action and effect similar to the said embodiment.
[0058]
(4) In the above embodiment, a container for storing and transporting a semiconductor wafer is described as an example. However, in addition to a semiconductor wafer, the present invention is applied to all containers for storing and transporting other thin plates such as a storage disk and a liquid crystal glass substrate. The invention can be applied. Also in this case, the same operations and effects as the above embodiment can be achieved.
[0059]
(5) In the above embodiment, the attachment / detachment mechanism portion 9 including the fitting plate 20 and the lock pin 21 is used for the handle 4. However, the attachment / detachment mechanism portion is not particularly limited to the attachment / detachment mechanism portion 9 of the above embodiment. All known attachment / detachment mechanisms can be used. Also in this case, the same operations and effects as the above embodiment can be achieved.
[0060]
【The invention's effect】
As described in detail above, the semiconductor wafer storage and shipping container of the present invention has the following effects.
[0061]
(1) The container body has a handle that can be grasped from an arbitrary direction, and the handle has a part of the gap with the container body, so that an operator can easily hold the handle from any angle and You can grab it securely. Thereby, the storage / shipping container for the semiconductor wafer can be transported safely and accurately without imposing a burden on the wrist of the operator.
[0062]
As a result, the workability and safety are greatly improved when the worker carries the semiconductor wafer storage and shipping container.
[0063]
(2) Since the concave portion into which the finger is fitted is provided on the outer peripheral edge of the handle, the operator can securely grasp the handle, and can safely and reliably carry the storage / shipping container for the semiconductor wafer.
[0064]
As a result, the workability and safety are greatly improved when the worker carries the semiconductor wafer storage and shipping container.
[0065]
(3) A drain hole that penetrates the handle is provided, and the entire handle is configured with a curved surface that allows easy flow of water, so that the cleaning solution flows smoothly at the center and the periphery of the handle and is pulled up from the cleaning solution. The liquid will not stagnate on the surface.
[0066]
As a result, the workability during cleaning and drying is greatly improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view showing a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention in a vertical state.
FIG. 2 is a side view showing a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention in a vertical state.
FIG. 3 is a front view showing a handle of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a front view showing a conventional semiconductor wafer storage container.
FIG. 5 is a side view showing a conventional semiconductor wafer storage container.
FIG. 6 is a perspective view showing a conventional thin plate supporting container.
FIG. 7 is a plan view showing a handle of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a side view showing a handle of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a rear view showing a handle of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a side cross-sectional view showing a handle of a storage and shipping container for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1: semiconductor wafer storage / shipping container (wafer storage container), 2: container body, 2A, 2B, 2C, 2D: side wall, 2E: bottom plate, 3: lid, 4: handle, 5: positioning means, 6 : Handle attachment part, 8: gripping part, 9: attaching / detaching mechanism part, 11: disk part, 12: cylindrical connecting part, 14: circular plate part, 15: rising wall, 16: recessed part, 17: outer surface, 18 : Water drain hole, 20: Fitting plate, 20A: Folding portion for locking, 21: Lock pin, 22: Support plate portion, 23: Locking claw, 24: Presser plate portion, S: Partial gap.

Claims (1)

容器本体内に半導体ウェーハを収納して出荷、搬送等に用いる半導体ウェーハの収納出荷容器において、
上記容器本体には、任意の方向から掴むことができるハンドルを有しているとともに、該ハンドルは上記容器本体と一部隙間を有し、
前記ハンドルは、直接手で掴む円盤部と、この円盤部を容器本体側に固定する円筒状連結部とを備え、
前記円盤部は、円形板部と、立ち上げ壁とからなり、前記円形板部はその中央に向けてなだらかな傾斜が設けられ、前記立ち上げ壁は、その全周に亘って波打つように湾曲させて指がはまる波状の凹部が形成され、
前記円筒状連結部は、前記容器本体側へ向けて直径が小さくなる円錐状に形成されると共に、その内部は貫通されて水抜き穴となり、前記円形板部と前記円筒状連結部との境界は、その内側及び外側ともになだらかな曲面で構成され、
前記円形板部、立ち上げ壁、円筒状連結部及びこれらの境界部が、水を流しやすいなだらかな曲面で構成されていると共に、前記容器本体の縦置き及び横置き状態で全ての面が液だまりのない傾斜した状態になって、全体が水が流れやすい曲面で構成したことを特徴とする半導体ウェーハの収納出荷容器。In a semiconductor wafer storage / shipping container used for shipping, transporting, etc., storing semiconductor wafers in the container body,
The container body has a handle that can be grasped from an arbitrary direction, and the handle has a gap between the container body and the container body,
The handle includes a disk part that is directly gripped by a hand, and a cylindrical connecting part that fixes the disk part to the container body side,
The disk portion includes a circular plate portion and a rising wall, and the circular plate portion is provided with a gentle slope toward the center thereof, and the rising wall is curved so as to be undulated over the entire circumference thereof. A wavy recess that fits your finger,
The cylindrical connecting portion is formed in a conical shape whose diameter decreases toward the container body side, and the inside thereof is penetrated to become a drain hole, and a boundary between the circular plate portion and the cylindrical connecting portion Is composed of gentle curved surfaces both inside and outside,
The circular plate portion, the rising wall, the cylindrical connecting portion, and the boundary portion thereof are configured with gentle curved surfaces that allow water to easily flow, and all surfaces are liquid in the vertically and horizontally placed state of the container body. A semiconductor wafer storage / shipping container, characterized in that it is in a slanted and slanted state, and the entire surface is configured by a curved surface in which water can easily flow .

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