JP4000320B2 - リソグラフィ投影装置用可動ステージ・システム、リソグラフィ投影装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
マスク。マスクの概念はリソグラフィで公知であり、これは、バイナリ交替位相シフト及び減衰位相シフトマスク・タイプ並びに各種ハイブリッド・マスク・タイプなどのマスク・タイプを含む。放射線ビーム中にそのようなマスクを配置することによって、マスク上のパターンに従って、マスクに投射する放射線を(透過性マスクの場合)選択的に透過させ、又は(反射性マスクの場合に)反射させる。マスクの場合、支持体構造は、一般にマスク・テーブルであり、これによって確実にマスクを入射放射線ビーム中の所望の位置に保持することが可能になり、必要ならばビームに対して移動できるようになる。
プログラム可能ミラー・アレイ。このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層及び反射面を有するマトリックス・アドレス指定可能面である。そのような装置を支える基本原理は、(例えば)反射面のアドレス指定領域で入射光が回折光として反射し、一方アドレス指定されていない領域で入射光が非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、上記の非回折光を反射ビームからフィルタ除去して、後方に回折光のみを残すことが可能であり、この方式で、マトリックス・アドレス指定可能面のアドレス指定パターンに従ってビームがパターニングされる。プログラム可能ミラー・アレイの一代替例では、複数の微小ミラーからなるマトリックス配列を使用する。各微小ミラーは、適切な局所電界を印加するか、圧電作動手段を使用することにより、軸に対してそれぞれ傾けることが可能である。やはり、このミラーもマトリックス・アドレス指定可能であり、その結果、アドレス指定されたミラーが入射放射ビームをアドレス指定されていないミラーと異なる方向に反射するようになっている。このようにして、反射したビームはマトリックス・アドレス指定可能ミラーのアドレス指定パターンに従ってパターニングされる。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実行することができる。上記の事例の双方において、パターニング手段は1つ又は複数のプラグラム可能ミラー・アレイを備えることが可能である。このようなミラー・アレイに関するさらなる情報は、例えば米国特許US5296891及びUS5523193、並びにPCT特許出願WO98/38597及びWO98/33096から得ることができ、これらは、参照として本明細書に援用する。プログラム可能ミラー・アレイの場合、上記の支持体構造は、必要に応じて固定又は可動にできる、例えばフレーム又はテーブルとして具現化できる。
プログラム可能LCDアレイ。そのような構造の例は、米国特許US5229872に示されており、該特許は参照として本明細書に援用する。上述のように、この場合の支持体構造は、必要に応じて固定又は可動にできる、例えばフレーム又はテーブルとして具現化できる。
放射線投影ビームPB(例えばUV又はEUV放射線)を供給する放射系Ex、IL。この特定の例では、これはさらに放射線源LAを備えている;
マスクMA(例えばレチクル)を保持するマスク・ホルダを備え、物品PLに対して正確にマスクを位置決めする第1位置決め手段に接続された第1物体テーブル(マスク・テーブル)MT;
基板W(例えばレジスト被覆されたシリコン・ウェハ)を保持する基板ホルダを備え、物品PLに対して正確に基板を位置決めする第2位置決め手段PWに接続された第2物体テーブル(基板テーブル)WT;並びに、
基板Wの目標(target)部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に対してマスクMAの被放射部分を結像するための投影系(「レンズ」)PL(例えば鏡群)。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは基本的に静止状態に維持され、マスク・イメージ全体は1回の行程(one go)(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分C上に投影される。次いで、基板テーブルWTはx及び/又はy方向にシフトして、ビームPBが別の目標部分Cを照射できるようにされる。
2.スキャン・モードでは、基本的に同様の手順が適用されるが、所与の目標部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されない点が異なる。その代わりに、マスク・テーブルMTは所与の方向(いわゆる「スキャン方向」、例えばy方向)に速度vで移動可能であり、その結果投影ビームPBがマスク・イメージ上をスキャンするようになる。これと共に、基板テーブルWTは同一方向又は反対方向に速度V=Mvで同時に移動し、ただし、Mは投影系PLの倍率(通常はM=1/4又は1/5)である。このようにして、分解能を犠牲にする必要がない状況で比較的広い目標部分Cが露光可能になる。
W 基板
C 目標部分
LA 照射源
Ex、IL 放射系
IN インテグレータ
AM 調節手段
CO 集光装置
PB ビーム
MT テーブル
PL 物品
WT テーブル
IF 干渉計測定手段
10 可動ステージ系
12 基部
11 プラットフォーム
13、14 バランス・マス体
15 回転可能部材
18 回転軸18
151 周縁面
152 周縁面
16、17 エンドレス・ベルト
19、19’ リニア・モータ
190 マグネット・プレート
191 磁気コイル・ブロック
192 脚部
193 マグネット
194 磁気コイル
1901、1902 マグネット・プレート
Claims (12)
- リソグラフィ投影装置用の可動ステージ・システムであって、
基部と、
前記基部に対して可動であるプラットフォームと、
前記基部に対して可動であり、前記プラットフォームから生じた力を補償するバランス・マス体と、
前記プラットフォーム及び前記バランス・マス体を前記基部に対して移動するように構成された駆動機構とを備え、
前記駆動機構は、
前記プラットフォームと前記バランス・マス体とを連結し、それにより、前記プラットフォームが移動方向に移動した際に少なくとも部分的に反対の移動方向に前記バランス・マス体が移動するようにする少なくとも1つのベルト伝動装置と、
前記バランス・マス体又は前記プラットフォームの少なくとも1つに機械的に係合して前記プラットフォーム及び前記バランス・マス体を直接駆動する駆動装置とを備え、
前記ベルト伝動装置は、
第1回転可能部材と、
前記第1回転可能部材から離れた第2回転可能部材と、
前記第1及び第2回転可能部材に沿って配置された少なくとも2つのエンドレス・ベルトを備え、その内、第1のエンドレス・ベルトは、前記プラットフォームに係合し、第2のエンドレス・ベルトは、前記バランス・マス体に係合し、
前記第1及び第2回転可能部材は、それぞれ、前記第1のエンドレス・ベルトと接触する第1周縁面と、前記第2のエンドレス・ベルトと接触する第2周縁面とを有し、前記第2周縁面は、前記回転可能部材の回転軸に向かって前記第1周縁面より窪んでいる、可動ステージ・システム。 - 前記駆動装置は、少なくとも前記バランス・マス体又は前記プラットフォームに磁力を及ぼす磁気手段を有するリニア・モータである、請求項1に記載の可動ステージ・システム。
- 前記駆動手段は、前記バランス・マス体と前記プラットフォームとの間に配置され、前記バランス・マス体に対して前記プラットフォームから及ぼされる力により、前記プラットフォームを変位させ、又は前記プラットフォームに対して前記バランス・マス体から及ぼされる力により、前記バランス・マス体を変位させる、請求項1又は請求項2に記載の可動ステージ・システム。
- 前記駆動手段は前記バランス・マス体の少なくとも1つと前記基部との間に配置され、前記バランス・マス体に対して前記基部から力を加えることにより、前記プラットフォームを変位させ、
又は前記駆動手段は前記プラットフォームと前記基部との間に配置され、前記プラットフォームに対して前記基部から力を加えることにより、前記バランス・マス体を変位させる、請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。 - プラットフォームの反対側にそれぞれが配置された少なくとも2つのバランス・マス体を備えた、請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。
- 前記第1及び第2回転可能部材は、それぞれ、前記プラットフォーム及びバランス・マス体が移動できる平面に対して直角な回転軸の周りに回転可能である、請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。
- 前記第1及び第2回転可能部材は、それぞれ、前記プラットフォーム及びバランス・マス体が移動できる平面に対して平行な回転軸の周りに回転可能である、請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。
- 前記駆動手段は、バランス・マス体の少なくとも1つ又は前記プラットフォームを前記移動方向と異なる方向での位置決めもできる、請求項1乃至請求項7のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。
- 少なくとも2つのバランス・マス体と、
前記バランス・マス体の1つを前記基部に対して移動するようにそれぞれ構成された少なくとも2つの駆動機構とを備え、
前記バランス・マス体は互いに弾性的に連結されている、請求項1乃至請求項8のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システム。 - 投影放射線ビームを供給する放射系と、
所望のパターンに従って前記投影ビームをパターニングするように働くパターニング手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターニングされたビームを投影する投影系と、
リソグラフィ投影装置の少なくとも一部を前記リソグラフィ投影装置の他の部分に対して位置決めするための位置決め装置であって、請求項1乃至請求項9のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システムを備える位置決め装置と、
を備えるリソグラフィ投影装置。 - 長いストロークで前記パターニング手段を変位するように構成された第1位置決め装置と、
前記第1位置決め装置に搭載された第2位置決め装置とを備え、
前記第2位置決め装置は、前記パターニング手段を正確に位置決めするために、前記長いストロークより短いストロークで前記パターニング手段を変位するように構成されており、
前記位置決め装置の少なくとも1つは、請求項1乃至請求項9のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システムを備える、請求項10に記載のリソグラフィ投影装置。 - 少なくとも部分的に感放射線材料の層で覆われた基板を準備する工程と、
放射系を用いて投影放射線ビームを供給する工程と、
パターニング手段を使用して投影ビームにその断面においてパターンを与える工程と、
前記感放射線材料の層の目標部分上にパターニングされた放射線ビームを投影する工程とを含み、
請求項1乃至請求項9のうち何れか1項に記載の可動ステージ・システムを用いて、前記放射系の少なくとも一部又は前記基板を位置決めする、デバイス製造方法。
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