JP3996594B2 - 圧電素子、インクジェットヘッド、及びインクジェット式記録装置 - Google Patents
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Description
図1に示すように、本発明の実施形態に係る圧電素子(圧電体素子)20は、短冊平板状の基板1(厚さ0.3mm、幅3.0mm、長さ15.0mm)と、その基板1上に形成された積層体11とを備えている。圧電素子20の幅は3.0mmである。圧電素子20の一端部(図1では左端部)は、エポキシ系接着剤7を介してステンレス支持基板6(厚さ1.0mm、幅3.0mm、長さ10.0mm)上に固定されている。この一端部は、圧電素子20の一端(図1では左端)からの長さが3.0mmまでの部分である。圧電素子20の長手方向とステンレス支持基板6の長手方向とはほぼ直行している。以上から、圧電素子20は片持ち梁を構成している。
ΔL=d31×L×E/t…(1)
以下、図2を参照しながら、圧電素子20の製造方法について説明する。まず、図2(a)に示すように、縦20mm、横20mm、厚さ0.3mmの基板101の表面上に、幅5.0mm、長さ18.0mmの長方形の開口部が形成されたステンレス製マスク(厚さ0.2mm)を用いて、第1電極膜102をRFマグネトロンスパッタ法で形成する。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ100nmのPt薄膜を用いた。このPt薄膜は、3元RFマグネトロンスパッタ装置で形成した。具体的には、シリコン基板101を400℃になるまで加熱してその温度で保った。アルゴンと酸素との混合ガス(ガス体積比Ar/O2=15/1)をスパッタリングガスとして用い、トータルガス圧力を0.25Paに保った。3元RFマグネトロンスパッタ装置の第1ターゲットとしてPtからなるターゲットを用いた。そして、200Wの高周波電力を印加して1200秒間スパッタリングすることにより、Pt薄膜を成膜した。
α=I(001)/ΣI(hkl)・・・(2)
Σ(hkl)は、X線回折法において、Cu−Kα線を用いた場合の2θが10°〜70°であるときの、ペロブスカイト型酸化物の全回折強度の総和である。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ120nmのIr−Ti合金薄膜を用いた。このIr−Ti膜は、3元RFマグネトロンスパッタ装置で形成した。具体的には、シリコン基板101を400℃になるまで加熱してその温度で保った。アルゴンと酸素との混合ガス(ガス体積比Ar/O2=15/1)をスパッタリングガスとして用い、トータルガス圧力を0.25Paに保った。3元RFマグネトロンスパッタ装置の第1ターゲットとしてIrからなるターゲットを用い、第2ターゲットとしてチタンからなるターゲットを用いた。そして、第1及び第2ターゲットに200W及び60Wの高周波電力をそれぞれ印加して1200秒間スパッタリングすることにより、Ir−Ti合金薄膜を成膜した。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ150nmのPd薄膜を用いた。このPd膜は、3元RFマグネトロンスパッタ装置で形成した。具体的には、シリコン基板101を400℃になるまで加熱してその温度で保った。アルゴンと酸素との混合ガス(ガス体積比Ar/O2=15/1)をスパッタリングガスとして用い、トータルガス圧力を0.25Paに保った。3元RFマグネトロンスパッタ装置の第1ターゲットとしてPdからなるターゲットを用いた。そして、第1ターゲットに200Wの高周波電力を印加して1200秒間スパッタリングすることにより、第1電極膜102としてPd薄膜を成膜した。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ110nmのRu薄膜を用いた。このRu膜は、3元RFマグネトロンスパッタ装置で形成した。具体的には、シリコン基板101を400℃になるまで加熱してその温度で保った。アルゴンと酸素との混合ガス(ガス体積比Ar/O2=15/1)をスパッタリングガスとして用い、トータルガス圧力を0.25Paに保った。3元RFマグネトロンスパッタ装置の第1ターゲットとしてRuからなるターゲットを用いた。そして、第1ターゲットに200Wの高周波電力を印加して1200秒間スパッタリングすることにより、Ru薄膜を成膜した。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ130nmのIr−Co合金薄膜を用いた。このIr−Co膜は、3元RFマグネトロンスパッタ装置で形成した。具体的には、シリコン基板101を400℃になるまで加熱してその温度で保った。アルゴンと酸素との混合ガス(ガス体積比Ar/O2=15/1)をスパッタリングガスとして用い、トータルガス圧力を0.25Paに保った。3元RFマグネトロンスパッタ装置の第1ターゲットとしてIrからなるターゲットを用い、第2ターゲットとしてCoからなるターゲットを用いた。そして、第1及び第2ターゲットに200W及び60Wの高周波電力をそれぞれ印加して1200秒間スパッタリングすることにより、第1電極膜102としてのIr−Co合金薄膜を成膜した。
上記各実施例の圧電素子と比較するために、以下のような比較例1の圧電素子を作製した。すなわち、本比較例のものは、実施例1と異なり、圧電体積層膜のPb組成を第1圧電体薄膜の方が第2圧電体薄膜よりも多くした。なお、この圧電体積層膜の成膜方法は実施例1と同様であり、成膜条件は実施例1と異なる。その他の点に関しては、実施例1と全く同じである。
上記各実施例の圧電素子と比較するために、以下のような比較例2の圧電素子を作製した。すなわち、本比較例のものは、実施例2と異なり、圧電体積層膜のPb組成を第1圧電体薄膜の方が第2圧電体薄膜よりも多くした。なお、この圧電体積層膜の成膜方法は実施例2と同様であり、成膜条件は実施例2と異なる。その他の点に関しては、実施例2と全く同じである。
以上により、本実施形態によれば、第1圧電体薄膜3のPb組成が第2圧電体薄膜4のPb組成よりも少ないので、圧電素子20を高温高湿(温度50℃、湿度50%)の雰囲気下で駆動させても、第1電極膜2と第1圧電体薄膜3との界面で第1圧電体薄膜3の過剰Pbが水分と反応することを原因とする、圧電素子20の劣化が起こらなくなる。そのため、低コストで、圧電特性が高く、且つ、耐湿性が高い圧電素子20を実現できる。
図5に示すように、本実施形態に係る圧電素子21は、第1電極膜2と第1圧電体薄膜3との間に配向制御膜12が配設されたものであり、その他の点に関しては、実施形態1の圧電素子20とほぼ同様の構成である。
以下、図6を参照しながら、圧電素子21の製造方法について説明する。まず、図6(a)に示すように、縦20mm、横20mm、厚さ0.3mmの基板101の表面上に、幅5.0mm、長さ18.0mmの長方形の開口部が形成されたステンレス製マスク(厚さ0.2mm)を用いて、第1電極膜102をRFマグネトロンスパッタ法で形成する。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ100nmのPt薄膜を用い、これらを実施例1と全く同じように成膜した。
本実施例では、基板101としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ120nmのIr-Ti合金薄膜を用い、これらを実施例2と全く同じようにして成膜した。
本実施例では、基板1としてシリコン基板を用い、第1電極膜102として厚さ110nmのRu薄膜を用い、これらを実施例2と全く同じようにして成膜した。
上記各実施例の圧電素子と比較するために、以下のような比較例3の圧電素子を作製した。すなわち、本比較例のものは、実施例6と異なり、圧電体積層膜のPb組成を第1圧電体薄膜の方が第2圧電体薄膜よりも多くした。なお、この圧電体積層膜の成膜方法は実施例6と同様であり、成膜条件は実施例6と異なる。その他の点に関しては、実施例6と全く同じである。
以上により、本実施形態によれば、第1圧電体薄膜3のPb組成が第2圧電体薄膜4のPb組成よりも少ないので、圧電素子21を高温高湿(温度50℃、湿度50%)の雰囲気下で駆動させても、配向制御膜12と第1圧電体薄膜3との界面で第1圧電体薄膜3の過剰Pbが第1電極膜2及び配向制御膜12を透過して浸入した水分と反応することを原因とする、圧電素子21の劣化が起こらなくなる。そのため、低コストで、圧電特性が高く、且つ、耐湿性が高い圧電素子21を実現できる。
本実施形態は、本発明の圧電素子をインクジェットヘッドに適用したものである。図8に示すように、本実施形態に係るインクジェットヘッド201は、互いが列状に並んだ、同じ形状である10個のインク吐出素子202,…と、各インク吐出素子202の個別電極33(図9を参照)に接続され且つインク吐出素子202を駆動するための駆動電源素子203とにより構成されている。
図10は、図9のX−X線の断面図である。アクチュエーター部Bは、Pt膜からなる厚さ100nmの個別電極33と、その個別電極33の直下に位置し且つPb1.00Zr0.53Ti0.47で表記されるPZTからなる厚さ100nmの第1圧電体薄膜41と、その第1圧電体薄膜41の直下に位置し且つPb1.05Zr0.53Ti0.47で表記されるPZTからなる厚さ2800nmの第2圧電体薄膜42と、その第2圧電体薄膜42の直下に位置し且つPtからなる厚さ100nmの第2電極膜(共通電極)43と、その第2電極膜43の直下に位置し且つクロムからなる厚さ3500nmの振動板膜44とを有する。個別電極33は、圧力室32の位置に対応するように個別化されて設けられている。振動板膜44は、圧電体薄膜41,42の圧電効果により変位して振動する。第2電極膜43及び振動板膜44は各圧力室32間で共用されている。第2電極膜43上における積層膜以外の部分(積層膜については後述する)には、ポリイミド樹脂からなる電気絶縁有機膜45が個別電極33の上面と同じ高さまで形成されている。この電気絶縁有機膜45の上面上には、個別電極33に接続された、金からなる厚さ100nmのリード線46が形成されている。なお、本発明の振動板膜及び圧電素子はアクチュエーター部Bに対応する。
以下、図11及び図12を参照しながら、インク吐出素子202の製造方法について説明する。まず、実施例1と同様に、縦20mm、横20mm、厚さ0.3mmのシリコン基板51上に第1電極膜52、第1圧電体薄膜53、第2圧電体薄膜54及び第2電極膜43を順に積層する。それにより、図11(a)に示す構造体55を得ることができる。
以下、インクジェットヘッド201の動作について説明する。図8に示すインクジェットヘッド201では、10個のインク吐出素子202,…の個別電極33に駆動電源素子203からボンディングワイヤを介して電圧がそれぞれ供給される。そして、圧電体薄膜41,42の圧電効果により、振動板膜44が変位して振動し、それにより、共通液室35内のインク液が供給口36、圧力室32及びインク流路37を経由してノズル孔38から吐出される。このとき、このインクジェットヘッド201では、圧電体薄膜41,42の膜面の結晶配向性が(001)面に揃い、また、圧電体薄膜41,42の圧電特性も揃っている。そのため、このインクジェットヘッド201によれば、大きな圧電変位(変位量)を得ることができる。
図13に示すように、本実施例に係るインクジェットヘッドは、個別電極33と第1圧電体薄膜41との間に配向制御膜59が配設されている点が実施例9と異なり、その他の点に関しては、実施例9とほぼ同様である。この配向制御膜59は、実施例6と同じチタン酸ランタン鉛からなるものである。
以上により、本実施形態によれば、インク吐出素子202を複数並べてなるインクジェットヘッド201において、各インク吐出素子202間のインク液の吐出能力のばらつきを小さくできる。そのため、信頼性が高いインクジェットヘッド201を実現できる。
本実施形態は、本発明の圧電素子をインクジェット式記録装置に適用したものである。図14に示すように、本実施形態に係るインクジェット式記録装置81は、圧電体薄膜41,42の圧電効果を利用して記録を行う、実施形態3に係るインクジェットヘッド201を備えており、インクジェットヘッド201から吐出したインク滴を紙などの記録媒体82に着弾させることにより記録媒体82に記録を行うことができる。インクジェットヘッド201は、主走査方向(図14ではX方向)に延びるように配置されたキャリッジ軸83に取り付けられたキャリッジ84に搭載されている。そして、キャリッジ84がキャリッジ軸83に沿って往復移動することにより、インクジェットヘッド201は主走査方向Xに往復移動する。インクジェット式記録装置81は、記録媒体82を主走査方向Xと略垂直な副走査方向Yに移動させる複数個のローラ85,…をさらに備えている。なお、本発明に係る移動手段は、キャリッジ軸83、キャリッジ84及びローラ85に対応する。
以上のように、本実施形態によれば、各インク吐出素子202間のインク液の吐出能力のばらつきが小さいインクジェットヘッド201を用いてインクジェット式記録装置81を構成しているので、記録時に印字むらが少ない、信頼性が高いインクジェット式記録装置81を実現できる。
2,52,102 第1電極膜
3,41,53,103 第1圧電体薄膜
4,42,54,104 第2圧電体薄膜
5,43,105 第2電極膜
20,21 圧電素子
44 振動板膜
81 インクジェット式記録装置
83 キャリッジ軸(移動手段)
84 キャリッジ(移動手段)
85 ローラ(移動手段)
201 インクジェットヘッド
12,59,112 配向制御膜
Claims (10)
- 第1電極膜と、該第1電極膜上に形成された第1圧電体膜と該第1圧電体膜上に形成され且つ上記第1圧電体膜により結晶配向性を制御される第2圧電体膜とからなる圧電体積層膜と、該第2圧電体膜上に形成された第2電極膜とを備えた圧電素子であって、
上記第1及び第2圧電体膜は、結晶成長方向が上記圧電体積層膜の厚み方向一方側から他方側に向いている柱状粒子の集合体であり、
上記第1圧電体膜のPb含有量が上記第2圧電体膜のPb含有量よりも少なく、
上記第2圧電体膜の柱状粒子の平均断面径が上記第1圧電体膜の柱状粒子の平均断面径よりも大きく、
上記第2圧電体膜の柱状粒子の平均断面径に対する上記圧電体積層膜の厚みの比が20以上60以下であることを特徴とする圧電素子。 - 第1電極膜と、該第1電極膜上に形成された配向制御膜と、該配向制御膜上に形成された第1圧電体膜と該第1圧電体膜上に形成され且つ上記第1圧電体膜により結晶配向性を制御される第2圧電体膜とからなる圧電体積層膜と、該第2圧電体膜上に形成された第2電極膜とを備えた圧電素子であって、
上記第1及び第2圧電体膜は、結晶成長方向が上記圧電体積層膜の厚み方向一方側から他方側に向いている柱状粒子の集合体であり、
上記第1圧電体膜のPb含有量が上記第2圧電体膜のPb含有量よりも少なく、
上記第2圧電体膜の柱状粒子の平均断面径が上記第1圧電体膜の柱状粒子の平均断面径よりも大きく、
上記第2圧電体膜の柱状粒子の平均断面径に対する上記圧電体積層膜の厚みの比が20以上60以下であることを特徴とする圧電素子。 - 上記第1圧電体膜の柱状粒子は、平均断面径が40nm以上70nm以下であり且つ長さが5nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の圧電素子。
- 上記第2圧電体膜の柱状粒子は、平均断面径が60nm以上200nm以下であり且つ長さが2500nm以上5000nm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の圧電素子。
- 上記第1及び第2圧電体膜は少なくともPb、Zr及びTiを含んでいて、化学組成比がPb:Zr:Ti=(1+a):b:1−bで表され、
上記第1及び第2圧電体膜の上記bの値が0.50以上0.60以下の同じ値であり、
上記第1圧電体膜の上記aの値が−0.05以上0.05以下であり、
上記第2圧電体膜の上記aの値が0以上0.1以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の圧電素子。 - 上記第1及び第2圧電体膜は、(001)面に優先配向していることを特徴とする請求項1記載の圧電素子。
- 上記第1電極膜は、Pt、Ir、Pd及びRuから選ばれた少なくとも1種の貴金属、又は該貴金属とTi、Co、Ni、Al、Fe、Mn、Cu、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれた少なくとも1種の金属若しくはその酸化物との合金からなっていて、平均断面径が20nm以上30nm以下の柱状粒子の集合体であることを特徴とする請求項1又は2記載の圧電素子。
- 上記配向制御膜は、チタン酸ランタン鉛からなることを特徴とする請求項2記載の圧電素子。
- ノズルと該ノズルに連通し且つインクを収容する圧力室とが形成されたヘッド本体部と、
厚み方向一方側の面の一部が上記圧力室に臨むように設けられた振動板膜と、
上記振動板膜の厚み方向他方側の面上に形成され、上記圧力室内のインクに圧力を付与して上記ノズルからインクを吐出させる圧電素子とを備えたインクジェットヘッドであって、
上記圧電素子は、請求項1〜8のいずれか1つに記載の圧電素子からなることを特徴とするインクジェットヘッド。 - インクジェットヘッドと、
上記インクジェットヘッドと記録媒体とを相対移動させる移動手段とを備えたインクジェット式記録装置であって、
上記インクジェットヘッドは、請求項9記載のインクジェットヘッドからなることを特徴とするインクジェット式記録装置。
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