JP3970229B2

JP3970229B2 - Vacuum processing equipment

Info

Publication number: JP3970229B2
Application number: JP2003318936A
Authority: JP
Inventors: 喜与士廣谷; 敦士上田; 一則荒木; 良治田中
Original assignee: Kirin Brewery Co Ltd; Mitsubishi Heavy Industries Food and Packaging Machinery Co Ltd
Current assignee: Kirin Brewery Co Ltd; Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd
Priority date: 2003-09-10
Filing date: 2003-09-10
Publication date: 2007-09-05
Anticipated expiration: 2023-09-10
Also published as: JP2005081309A

Description

本発明は、真空処理装置に関し、特に、容器面にガス不透過膜を形成し、又は、容器内面の殺菌処理のような真空処理を行う真空処理装置に関する。 The present invention relates to a vacuum processing apparatus, and more particularly to a vacuum processing apparatus that forms a gas-impermeable film on a container surface or performs vacuum processing such as sterilization processing on the inner surface of the container.

飲料用液体は、容器に入れられて移送され販売される。容器として、ガラス容器又は金属容器が用いられているが、最近では、ＰＥＴボトルのような樹脂製容器が多く用いられていて、ＰＥＴボトルの使用比率は日増しに増大している。ガス透過性が大きい樹脂製容器に入り込む外部の空気は、内部の飲料用液体を変質させる。容器内の飲料用液体に溶解しているガスは、ガス透過性が大きい樹脂製容器から漏洩する。このようなガス透過性は、その飲料用液体の品質保証期間を短縮させる。このようなガス透過を防止する技術として、容器内面に非透性物質をコーティングすることが知られている。 Beverage liquids are transported and sold in containers. As the container, a glass container or a metal container is used, but recently, a resin container such as a PET bottle is often used, and the usage ratio of the PET bottle is increasing day by day. The external air that enters the resin container having a large gas permeability changes the quality of the beverage liquid inside. The gas dissolved in the beverage liquid in the container leaks from the resin container having high gas permeability. Such gas permeability reduces the quality assurance period of the beverage liquid. As a technique for preventing such gas permeation, it is known to coat a non-permeable substance on the inner surface of a container.

特表平８−５０９１６６号で開示される「プラズマ補助表面反応又は表面上の重合による不活性又は不浸透性内部表面を有する中空容器」では、そのコーティングが高い真空度の雰囲気で行われる。フレームに固定される真空室は、上側が閉じ下側が開いた円筒状の真空スリーブと、その真空スリーブに対して容器を載せて下側から上昇する平板状のエレベータとから形成されている。その容器は、真空スリーブの下端に設けられるゴムシールリングに当接する。その容器の口部は真空室内のシールリングに当接し、真空室は容器の内外の２室に区分される。その２室のうちの内側室は高い真空度に真空引きされ、その２室のうちの外側室は低い真空度に真空引きされる。真空室の天壁から容器内に挿入されるガスパイプにより供給されるガスは、プラズマ発生器により真空室内でプラズマ化される。そのプラズマガスは、容器の内面に蒸着し、容器は蒸着物質によりコーティングされる。コーティングの後に真空室は大気に開放され、エレベータが下降して容器が取り出される。真空スリーブの中には、下側に下向きの円錐面座を有する滑りガイドリングが摺動自在に水平な姿勢で内嵌装されていて、容器が存在しないときは下降して真空スリーブの下端に配置されるピンの上で止まっている。容器が上昇すれば、滑りガイドリングの円錐面座が容器の肩部に係合して容器のセンタリング（芯合わせ）が行われ、容器とともに動く滑りガイドリングは、容器の位置と姿勢を規制している。複数のこのような真空室は、回転する円盤の外周域で等ピッチに同一円周上に配置される。複数の真空室に対応するコーティングは、円板の１回転周期中に連続的に行われる。 In “Hollow container having inert or impervious inner surface by plasma assisted surface reaction or polymerization on the surface” disclosed in JP-T-8-509166, the coating is performed in an atmosphere of high vacuum. The vacuum chamber fixed to the frame is formed by a cylindrical vacuum sleeve whose upper side is closed and whose lower side is opened, and a flat plate-like elevator which is raised from the lower side with a container placed on the vacuum sleeve. The container contacts a rubber seal ring provided at the lower end of the vacuum sleeve. The mouth of the container abuts on a seal ring in the vacuum chamber, and the vacuum chamber is divided into two chambers inside and outside the container. The inner chamber of the two chambers is evacuated to a high degree of vacuum, and the outer chamber of the two chambers is evacuated to a lower degree of vacuum. The gas supplied from the top wall of the vacuum chamber through the gas pipe inserted into the container is converted into plasma in the vacuum chamber by the plasma generator. The plasma gas is deposited on the inner surface of the container, and the container is coated with a deposition material. After coating, the vacuum chamber is opened to the atmosphere and the elevator is lowered and the container is removed. In the vacuum sleeve, a sliding guide ring having a downward conical seat on the lower side is slidably fitted in a horizontal posture, and when there is no container, it is lowered to the lower end of the vacuum sleeve. Stops on the pin to be placed. When the container is raised, the conical seat of the sliding guide ring engages the shoulder of the container to center the container, and the sliding guide ring that moves with the container regulates the position and posture of the container. ing. A plurality of such vacuum chambers are arranged on the same circumference at an equal pitch in the outer circumferential area of the rotating disk. Coating corresponding to a plurality of vacuum chambers is continuously performed during one rotation period of the disk.

このような既知の装置では、（１）上面が平らであるエレベータの上昇中に、容器は、滑りガイドリングに案内される迄に遠心力により移動し又は転倒する恐れがあり、（２）滑りガイドリングは容器の剛性が低い肩部と係合し、その容器を損傷する恐れがあり、（３）容器の取り出しの際に、真空室内の大気開放が不十分なときには、容器の口部がシールリングとくっついて容器の下降が遅れ、又は、容器が転倒する恐れがあり、（４）真空室と容器の外側の間の空間が大きくてプラズマが不必要に発生し、又は、容器の内外をそれぞれに異なる真空度に真空引きするので、装置系が複雑である。 In such known devices, (1) during lift of an elevator with a flat upper surface, the container may move or tip over due to centrifugal force before being guided by the sliding guide ring, and (2) slipping The guide ring engages with the shoulder with low rigidity of the container and may damage the container. (3) When the container is taken out, the opening of the container is There is a risk that the lowering of the container will be delayed due to sticking to the seal ring, or the container may fall down. (4) The space between the vacuum chamber and the outside of the container is large, and plasma is generated unnecessarily, or inside and outside of the container. Since each is evacuated to a different degree of vacuum, the apparatus system is complicated.

運動する容器の調芯性の保持が求められる。更には、遠心力による容器の転倒を抑止することが求められる。転倒抑止のために容器の損傷が起こる恐れを解消することが次に求められる。更には、装置系の簡素性を失わないことが望まれる。 The alignment of the moving container is required to be maintained. Furthermore, it is required to prevent the container from overturning due to centrifugal force. Next, it is required to eliminate the possibility of damage to the container in order to prevent falling. Furthermore, it is desirable not to lose the simplicity of the apparatus system.

特表平８−５０９１６６号Special table hei 8-509166

本発明の課題は、下部真空チャンバに支持されて昇降する昇降過程の処理対象容器の調芯性を改善する真空処理装置を提供することにある。
本発明の他の課題は、遠心力による容器の転倒を抑止する真空処理装置を提供することにある。
本発明の更に他の課題は、転倒抑止のために容器の損傷が起こる恐れを解消する真空処理装置を提供することにある。
本発明の更に他の課題は、装置系の簡素性を失わない真空処理装置を提供することにある。 The subject of this invention is providing the vacuum processing apparatus which improves the alignment property of the process target container of the raising / lowering process supported and supported by the lower vacuum chamber.
The other subject of this invention is providing the vacuum processing apparatus which suppresses the fall of the container by centrifugal force.
Still another object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus that eliminates the possibility of damage to a container for preventing overturning.
Still another object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus that does not lose the simplicity of the apparatus system.

本発明による真空処理装置は、上部真空チャンバ（１３）と、上部真空チャンバ（１３）に対して昇降自在に上部真空チャンバ（１３）の下方側に配置される下部真空チャンバ（１４）と、下部真空チャンバ（１４）の下方側に配置される吸引器（５０）とから構成されている。下部真空チャンバ（１４）の上昇時には、上部真空チャンバ（１３）の下端面と下部真空チャンバ（１４）の上端面とは密着する。上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）は処理対象容器（Ｐ）を収容し真空引きされる収容容器（２０）を形成している。処理対象容器（Ｐ）は下部真空チャンバ（１４）の底壁に支持されて下部真空チャンバ（１４）と同体に昇降する。吸引器（５０）は、底壁に開けられている吸引口（５３）にその底壁に下側から接続する吸引路（４８）を形成している。上部真空チャンバ（１３）から離脱して下部真空チャンバ（１４）が昇降する際に、吸引口（４８）の周辺の気体は吸引路（４８）に吸引される。 The vacuum processing apparatus according to the present invention includes an upper vacuum chamber (13), a lower vacuum chamber (14) disposed below the upper vacuum chamber (13) so as to be movable up and down relative to the upper vacuum chamber (13), And a suction device (50) disposed on the lower side of the vacuum chamber (14). When the lower vacuum chamber (14) is raised, the lower end surface of the upper vacuum chamber (13) and the upper end surface of the lower vacuum chamber (14) are in close contact with each other. The upper vacuum chamber (13) and the lower vacuum chamber (14) form a storage container (20) that stores the processing target container (P) and is evacuated. The container (P) to be processed is supported by the bottom wall of the lower vacuum chamber (14) and moves up and down together with the lower vacuum chamber (14). The suction device (50) forms a suction path (48) connected to the bottom wall from the lower side at a suction port (53) opened in the bottom wall. When the lower vacuum chamber (14) is lifted and lowered from the upper vacuum chamber (13), the gas around the suction port (48) is sucked into the suction path (48).

上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）とで形成される収容容器（２０）の中は真空引きされ、収容容器である電極に高周波電圧が印加され、収容容器の中に保持されている処理対象容器（Ｐ）の中はプラズマガスで満たされる。プラズマガスは、処理対象容器（Ｐ）の内面処理のために用いられる。その内面処理の適正化のためには、処理対象容器（Ｐ）は収容容器（２０）の中で適正位置に位置づけられることが好ましい。特に、１円周上で回転しがら昇降する下部真空チャンバ（１４）の底壁に支持される処理対象容器（Ｐ）は、その昇降過程で適正な芯出しが行われることが重要であり、更に、その高速な昇降運動の過程で処理対象容器が転倒することを回避することにより、生産工程の連続流れを止めることを回避することが特に重要である。底壁に開けられている吸引口（５３）にその底壁に下側から接続する吸引路（４８）を接続し、処理対象容器（Ｐ）の下面と下部真空チャンバ（１４）の底壁の上面との間の気体（空気）をその底壁の下面側に吸引することは、処理対象容器（Ｐ）の底の下面であり下部真空チャンバ（１４）の上面に接する接平面を安定に基準面（例示：水平面）に保持する。このように、吸引器（５０）は、昇降過程にあり上部真空チャンバ（１３）に保持されていない昇降過程で、処理対象容器（Ｐ）を下部真空チャンバ（１４）に対して基準位置に安定的に保持することができる。支持される面に直角に作用する負圧力は、処理対象容器（Ｐ）に転倒方向の回転モーメントを与えないので、その調芯性と転倒困難性を同時に保証する。チャンバー（１３，１４）が円盤上の１円周上で回転している場合に、その転倒防止効果と調芯効果は特に有効に発揮される。 The container (20) formed by the upper vacuum chamber (13) and the lower vacuum chamber (14) is evacuated, and a high frequency voltage is applied to the electrode serving as the container, and the container is held in the container. The inside of the processing target container (P) is filled with plasma gas. The plasma gas is used for processing the inner surface of the processing target container (P). In order to optimize the inner surface treatment, it is preferable that the processing target container (P) is positioned at an appropriate position in the storage container (20). In particular, it is important that the processing object container (P) supported by the bottom wall of the lower vacuum chamber (14) that moves up and down while rotating on one circumference is properly centered during the lifting and lowering process. Furthermore, it is particularly important to avoid stopping the continuous flow of the production process by avoiding the container to be processed from tipping over in the course of the high-speed lifting movement. A suction passage (48) connected to the bottom wall from the lower side is connected to the suction port (53) opened in the bottom wall, and the bottom surface of the processing target container (P) and the bottom wall of the lower vacuum chamber (14) are connected. The suction of the gas (air) between the upper surface and the lower surface of the bottom wall is stably based on the tangential plane which is the lower surface of the bottom of the processing target container (P) and is in contact with the upper surface of the lower vacuum chamber (14). Hold on a surface (example: horizontal plane). In this way, the suction device (50) is in the ascending / descending process and is not held by the upper vacuum chamber (13), so that the container (P) to be processed is stabilized at the reference position relative to the lower vacuum chamber (14). Can be retained. The negative pressure acting at right angles to the surface to be supported does not give a rotational moment in the overturning direction to the processing target container (P), so that the alignment property and the overturning difficulty are guaranteed at the same time. When the chamber (13, 14) rotates on one circumference on the disk, the fall prevention effect and the alignment effect are particularly effectively exhibited.

吸引器（５０）は、吸引口（５３）を底壁の下側面の側で開閉する開閉弁（５２）を備えている。下部真空チャンバ（１４）は、昇降体（４５）により昇降駆動される。吸引器（５０）は、開閉弁（５２）を昇降させる駆動器（５１）を備えている。駆動器（５１）と吸引路（４８：吸引管）は昇降体（４５）に支持されている。このような支持関係は、開閉弁（５２）と下部真空チャンバ（１４）との同体的運動と、下部真空チャンバ（１４）と開閉弁（５２）の相対的運動とを融合することができ、装置系を簡素化することができる。吸引器（５０）は、底壁の下側面と開閉弁（５２）の上側面との間に介設される気体漏洩防止用リング（６７）を備えており、収容容器（２０）の中が真空引きされるときに、収容容器（２０）の中に吸引器（５０）の側からの空気の侵入を防止する。 The suction device (50) includes an on-off valve (52) that opens and closes the suction port (53) on the lower surface side of the bottom wall. The lower vacuum chamber (14) is driven up and down by a lifting body (45). The suction device (50) includes a driver (51) that moves the open / close valve (52) up and down. The driver (51) and the suction path (48: suction pipe) are supported by the elevating body (45). Such a support relationship can fuse the simultaneous movement of the on-off valve (52) and the lower vacuum chamber (14) and the relative movement of the lower vacuum chamber (14) and the on-off valve (52), The apparatus system can be simplified. The suction device (50) includes a gas leakage prevention ring (67) interposed between the lower surface of the bottom wall and the upper surface of the on-off valve (52). When evacuated, air is prevented from entering the container (20) from the side of the suction device (50).

本発明による真空処理装置は、上部真空チャンバ（１３）と、上部真空チャンバ（１３）に対して昇降自在に上部真空チャンバ（１３）の下方側に配置される下部真空チャンバ（１４）と、下部真空チャンバ（１４）に配置され下部真空チャンバ（１４）の底壁に支持される容器を保持する保持器（５４）とから構成されている。保持器（５４）は、下部真空チャンバ（１４）に形成される穴（７７）に挿入され下部真空チャンバ（１４）の中心線に向く向心方向に運動するプランジャ（７６）と、プランジャ（７６）と下部真空チャンバ（１４）との間に装着されプランジャ（７６）を向心方向に付勢する付勢器（８１）とから形成されている。保持器（５４）は、下部真空チャンバ（１４）の上端位置に配置されることが、幾何学的に調芯機能が有利に作用する。 The vacuum processing apparatus according to the present invention includes an upper vacuum chamber (13), a lower vacuum chamber (14) disposed below the upper vacuum chamber (13) so as to be movable up and down relative to the upper vacuum chamber (13), It is comprised from the holder | retainer (54) which hold | maintains the container arrange | positioned at a vacuum chamber (14) and supported by the bottom wall of a lower vacuum chamber (14). The retainer (54) is inserted into a hole (77) formed in the lower vacuum chamber (14) and moved in a centripetal direction toward the center line of the lower vacuum chamber (14), and a plunger (76 ) And the lower vacuum chamber (14), and an urging device (81) for urging the plunger (76) in the centripetal direction. If the cage (54) is arranged at the upper end position of the lower vacuum chamber (14), the geometric alignment function is advantageous.

上部真空チャンバ（１３）に支持されないで昇降する処理対象容器（Ｐ）は、その底部が下部真空チャンバ（１４）の下方部位に支持されているが、下方部位のみの支持は容器（Ｐ）を不安定にする。処理対象容器（Ｐ）は、下端より上方の部位、特に好ましくはより上方部位で保持器（５４）に支持される。このように上下の２箇所で支持される処理対象容器（Ｐ）は、下端部位で支持され上位部位で向心方向に支持され、昇降過程の転倒が防止され、上部真空チャンバ（１３）に挿入される際の概ねの予備的位置決めが行われる。 The bottom of the processing target container (P) that moves up and down without being supported by the upper vacuum chamber (13) is supported by the lower part of the lower vacuum chamber (14), but the lower part only supports the container (P). Make it unstable. The processing target container (P) is supported by the cage (54) at a position above the lower end, particularly preferably at a position above the lower end. In this way, the processing target container (P) supported at two upper and lower portions is supported at the lower end portion and supported in the centripetal direction at the upper portion portion to prevent the up and down process from being overturned and inserted into the upper vacuum chamber (13). In general, preliminary positioning is performed.

穴（７７）にはプランジャ（７６）が向心方向に運動する限界位置を規定する段面が形成されていて、プランジャ（７６）が過度に内側に侵入して処理対象容器（Ｐ）に対して過度に大きい保持力が生じない。プランジャ（７６）の内側面は曲面（８２）に形成されている。曲面（８２）は、上下方向に対称である。このような対称性は、プランジャ（７６）の内側端部が処理対象容器（Ｐ）の薄膜状の容器壁に僅かに沈みこむ際に楔効果で過激に食い込む自己締め付けフロック現象を有効に回避する。曲面は部分球面であることが更に好ましい。 The hole (77) is formed with a stepped surface that defines a limit position where the plunger (76) moves in the centripetal direction, and the plunger (76) excessively enters the inside of the processing container (P). And excessively large holding force does not occur. The inner surface of the plunger (76) is formed as a curved surface (82). The curved surface (82) is symmetrical in the vertical direction. Such symmetry effectively avoids the self-tightening flock phenomenon that bites into the thin film-like container wall of the container to be treated (P) and bites drastically by the wedge effect when the inner end of the plunger (76) sinks slightly. . More preferably, the curved surface is a partial spherical surface.

保持器（５４）は複数体が下部真空チャンバ（１４）の周囲に配置される。その複数体は、等角度間隔で配置されている。保持圧力が均等に分散し、自己締め付けフロック現象が更に有効に回避され、その調芯性能が有効化する。 A plurality of cages (54) are arranged around the lower vacuum chamber (14). The plural bodies are arranged at equiangular intervals. The holding pressure is evenly distributed, the self-tightening flock phenomenon is more effectively avoided, and the alignment performance is made effective.

本発明による真空処理装置は、上部真空チャンバ（１３）と、上部真空チャンバ（１３）に対して昇降自在に上部真空チャンバ（１３）の下方側に配置される下部真空チャンバ（１４）と、上部真空チャンバ（１３）の上側に配置され下部真空チャンバ（１４）の底壁に支持され上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）により形成される収容空間（３３）に収容され上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）に対して僅かな隙間（Ｓ）を介して収容空間（３３）に収容される処理対象容器（Ｐ）を上部真空チャンバ（１３）に対する調芯を行う調芯機構とから構成されている。その調芯機構は、上部真空チャンバ（１３）の上端面に固定的に接合する接合体（２１，２２、５７、以下２２で代表）と、接合体（２２）に形成され上部真空チャンバ（１３）の中心線が通る接合体内中心穴（５８）に挿入され中心線の方向に昇降する調心ライナー（６２）と、接合体（２２）と調芯ライナー（６２）との間に介設され調芯ライナー（６２）を下方に付勢する付勢器（６１）とから形成されている。調芯ライナー（６２）には処理対象容器（Ｐ）の口栓に形成される円錐状面（６５）に接する円錐状面（６６）が形成されている。 The vacuum processing apparatus according to the present invention includes an upper vacuum chamber (13), a lower vacuum chamber (14) disposed below the upper vacuum chamber (13) so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber (13), The upper vacuum chamber is disposed above the vacuum chamber (13), is supported by the bottom wall of the lower vacuum chamber (14), and is accommodated in the accommodating space (33) formed by the upper vacuum chamber (13) and the lower vacuum chamber (14). (13) and the lower vacuum chamber (14) are adjusted to align the processing target container (P) accommodated in the accommodation space (33) with a slight gap (S) with respect to the upper vacuum chamber (13). And a core mechanism. The alignment mechanism is formed in a joined body (21, 22, 57, hereinafter represented by 22) fixedly joined to the upper end surface of the upper vacuum chamber (13), and an upper vacuum chamber (13 ) Between the alignment liner (62) inserted into the center hole (58) in the joined body through which the center line passes and moves up and down in the direction of the center line, and between the joined body (22) and the alignment liner (62). And an urging device (61) for urging the alignment liner (62) downward. The alignment liner (62) is formed with a conical surface (66) in contact with the conical surface (65) formed in the stopper of the processing target container (P).

調芯は全体的には複数箇所で行われるが、処理対象容器（Ｐ）の頂部の調芯は、上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）とで閉じられて形成される収容空間（３３）に収容される処理対象容器（Ｐ）のプラズマ処理を実行する際に特に重要である。ペットボトルのような変形容易な薄膜状本体の容器のうち、ねじ締めに用いられる口栓は、変形困難に厚く形成されることが普通である。そのような口栓には、円錐状テーパ面が形成されている。その円錐状面に接合する円錐状面が、調芯ライナー（６２）の下端面として形成されている。円錐状面どうしの接合の調芯性能が優れていることは、よく知られている。 The alignment is performed at a plurality of locations as a whole. However, the alignment of the top of the processing target container (P) is closed by the upper vacuum chamber (13) and the lower vacuum chamber (14). This is particularly important when performing plasma processing on the processing target container (P) accommodated in (33). Among containers of a thin-film body that can be easily deformed, such as PET bottles, the stoppers used for screw fastening are usually formed to be thick and difficult to deform. Such a plug has a conical tapered surface. A conical surface joined to the conical surface is formed as the lower end surface of the alignment liner (62). It is well known that the alignment performance of conical surfaces is excellent.

調芯ライナー（６２）は接合体内中心穴（５８：円筒面）に案内されて昇降することは調芯性能を向上させる点で有効である。調芯ライナー（６２）の下方部分は上部真空チャンバ（１３）の頂部に形成される頂部中心穴（図２の２５）に案内されて昇降することは、更にその調芯性能を向上させる。付勢器には圧縮コイルスプリング（６１）が用いられ、その調芯機構には、付勢器（６１）の付勢力を間接的に調芯ライナー（６２）に伝達する間接体（５９）が追加される。間接体（５９）は、圧縮コイルスプリング（６１）の下端側と調芯ライナー（６２）の上端側との間に配置される第１部分と、圧縮コイルスプリング（６１）の内側に配置され圧縮スプリング（６１）を内側から被覆する第２部分とから構成されている。間接体（５９）は電磁シールド材料で形成され、上部真空チャンバ（１３）に高周波電力が供給される場合に、圧縮コイルスプリング（６１）の渦電流加熱を防止することができる。 It is effective in improving the alignment performance that the alignment liner (62) is guided by the center hole (58: cylindrical surface) in the joined body. The lower part of the aligning liner (62) is guided by a top center hole (25 in FIG. 2) formed at the top of the upper vacuum chamber (13), so that the alignment performance is further improved. A compression coil spring (61) is used for the urging device, and an indirect body (59) for indirectly transmitting the urging force of the urging device (61) to the alignment liner (62) is used for the alignment mechanism. Added. The indirect body (59) is disposed on the inner side of the compression coil spring (61) and compressed between the first portion disposed between the lower end side of the compression coil spring (61) and the upper end side of the alignment liner (62). The second portion covers the spring (61) from the inside. The indirect body (59) is formed of an electromagnetic shielding material and can prevent eddy current heating of the compression coil spring (61) when high frequency power is supplied to the upper vacuum chamber (13).

本発明による真空処理装置は、上部真空チャンバ（１３）と、上部真空チャンバ（１３）に対して昇降自在に上部真空チャンバ（１３）の下方側に配置される下部真空チャンバ（１４）と、下部真空チャンバ（１４）の底壁に支持される処理対象容器（Ｐ）の芯出しのために下部真空チャンバ（１４）に配置される第１調芯機構と、上部真空チャンバ（１３）の頂部側で支持される処理対象容器（Ｐ）の芯出しのために上部真空チャンバ側に配置される第２調芯機構とを構成している。第１調芯機構は、上部真空チャンバ（１３）に対して昇降する昇降過程で、処理対象容器（Ｐ）を処理対象容器（Ｐ）の外周面の側で調芯的に支持し、第２調芯機構は、上部真空チャンバ（１３）に下側から下部真空チャンバ（１４）が接合している接合過程で、処理対象容器（Ｐ）の口栓部分を外周面の側で調芯的に支持する。処理対象容器（Ｐ）を上端部位と下方部位の上下２箇所でそれぞれに外周面側で支持することは、その調芯性能が優れ、且つ、上部真空チャンバ（１３）と下部真空チャンバ（１４）とが分離される過程とそれらが完全に分離されている完全分離過程の両過程で調芯性能を保持し、特に、昇降過程の処理対象容器（Ｐ）の転倒が防止される。 The vacuum processing apparatus according to the present invention includes an upper vacuum chamber (13), a lower vacuum chamber (14) disposed below the upper vacuum chamber (13) so as to be movable up and down relative to the upper vacuum chamber (13), A first alignment mechanism disposed in the lower vacuum chamber (14) for centering the processing target container (P) supported on the bottom wall of the vacuum chamber (14), and a top side of the upper vacuum chamber (13) And a second alignment mechanism arranged on the upper vacuum chamber side for centering the processing target container (P) supported by the above-described configuration. The first centering mechanism supports the processing target container (P) in a centering manner on the outer peripheral surface side of the processing target container (P) in the ascending / descending process that moves up and down with respect to the upper vacuum chamber (13). The alignment mechanism is a process in which the lower vacuum chamber (14) is bonded from the lower side to the upper vacuum chamber (13), and the plug portion of the processing target container (P) is aligned on the outer peripheral surface side. To support. Supporting the processing target container (P) on the upper and lower portions at the upper and lower portions respectively on the outer peripheral surface side is excellent in the alignment performance, and the upper vacuum chamber (13) and the lower vacuum chamber (14). The alignment performance is maintained both in the process of separating the two and the complete separation process of completely separating them, and in particular, the processing object container (P) in the lifting process is prevented from falling.

第３調芯機構が更に追加される。第３調芯機構は、昇降過程で、処理対象容器（Ｐ）の底部の下側面と下部真空チャンバ（１４）の底壁の上側面との間の気体を底壁の下側面に吸引する吸引機能を有する。処理対象容器（Ｐ）の下端面は、面的に下部真空チャンバ（１４）の底面に吸着する。その吸着面の中心線は、処理対象容器（Ｐ）の中心線に概ね一致し、処理対象容器を転倒さる外力としての回転モーメントは理論的に零であり、昇降過程でその調芯機能は顕著に有効である。 A third alignment mechanism is further added. The third alignment mechanism sucks the gas between the lower side surface of the bottom of the processing target container (P) and the upper side surface of the bottom wall of the lower vacuum chamber (14) into the lower side surface of the bottom wall in the ascending / descending process. It has a function. The lower end surface of the processing target container (P) is adsorbed on the bottom surface of the lower vacuum chamber (14). The center line of the suction surface substantially coincides with the center line of the processing target container (P), and the rotational moment as an external force for overturning the processing target container is theoretically zero. It is effective for.

このような３つの調芯機構の任意の２つが用いられることは有効である。特に、遠心力を受けて昇降する処理対象容器の転倒が有効に防止される。本発明による真空処理装置は、その多数体が回転円盤の周域の１円周上に配置される。スターホイールのような回転式搬送装置である導入側コンベアから順次に連続流れを形成する処理対象容器が多数の真空処理装置のチャンバに導入され、回転円盤と同体に概ね１周して回転する間に、プラズマガスによる処理その他の処理が実行される。そのような他の処理には、下側チャンバの上側チャンバに対する昇降運動による開閉、チャンバ内の排気、真空引き、プラズマ用ガスの導入、高周波電力の投入のような複数の処理が含まれる。回転円盤の回転速度の高速化は処理工程時間を短縮するが、薄膜状の処理対象容器の変形と転倒を促進する。処理対象容器を下側チャンバで支持して昇降する昇降過程の吸引器による吸引は、遠心力に抗する立ち上がり力を強化し、その転倒を有効に防止する。プラズマガス処理中にも発生している遠心力を受ける薄膜状の処理対象容器は、上下のチャンバで形成される内部空間に僅かの隙間を介して接触し、その変形が有効に防止される公知装置の利点を継承している。 It is effective that any two of the three alignment mechanisms are used. In particular, it is possible to effectively prevent the container to be processed that moves up and down under centrifugal force from falling. In the vacuum processing apparatus according to the present invention, the multiple body is arranged on one circumference of the circumference of the rotating disk. While the processing target containers that form a continuous flow sequentially from the introduction-side conveyor, which is a rotary transfer device such as a star wheel, are introduced into the chambers of a number of vacuum processing devices and rotate around the same body as the rotating disk. In addition, processing using plasma gas and other processing are performed. Such other processes include a plurality of processes such as opening and closing of the lower chamber with respect to the upper chamber, evacuation in the chamber, evacuation, introduction of plasma gas, and input of high-frequency power. Increasing the rotational speed of the rotating disk shortens the processing time, but promotes deformation and overturning of the thin-film processing target container. The suction by the suction device in the ascending / descending process that supports the processing target container in the lower chamber raises and lowers the rising force against the centrifugal force, and effectively prevents its falling. A thin film-like container to be processed that receives centrifugal force generated even during plasma gas processing is in contact with the internal space formed by the upper and lower chambers through a slight gap, and its deformation is effectively prevented. Inherits the advantages of the device.

本発明は、独立に下記の効果を奏する。
（１）昇降過程の転倒防止効果が有効である。
（２）昇降過程の調芯効果が有効である。
（３）対遠心力調芯効果が有効である。
（４）対遠心力転倒防止効果が有効である。 The present invention has the following effects independently.
(1) The effect of preventing overturning in the lifting process is effective.
(2) The alignment effect in the lifting process is effective.
(3) The centrifugal force alignment effect is effective.
(4) Effective for preventing centrifugal force from falling.

本発明による真空処理装置の実現化は、図に対応して具体的に記述される。成膜装置１０は、導入側コンベア１と回転円盤（スターホイール）２と導出側コンベア３とから構成されている。導入側コンベア１は、導入側線状コンベア４と導入側スターホイール５とから形成されている。導入側線状コンベア４として、割出しスクリューが用いられている。その割出しスクリューは、多数のペットボトルＰを等間隔に位置づけて連続流れで移送する構造を有している。導入側スターホイール５には、外周域の１円周上に等間隔で配置され導入側線状コンベア４から１つずつペットボトルＰを受け取る複数の受取部が形成されている。 Realization of the vacuum processing apparatus according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings. The film forming apparatus 10 includes an introduction-side conveyor 1, a rotating disk (star wheel) 2, and a derivation-side conveyor 3. The introduction side conveyor 1 is formed of an introduction side linear conveyor 4 and an introduction side star wheel 5. An indexing screw is used as the introduction-side linear conveyor 4. The indexing screw has a structure in which a large number of PET bottles P are positioned at regular intervals and transferred in a continuous flow. The introduction-side star wheel 5 is formed with a plurality of receiving portions that are arranged at equal intervals on one circumference of the outer peripheral region and receive the plastic bottles P from the introduction-side linear conveyor 4 one by one.

回転円盤２には、外周域の１円周上に等間隔ピッチで配置され導入側スターホイール５から１つずつペットボトルＰを受け取る複数（例示：３０）の成膜真空チャンバ６が形成されている。その受取位置は、導入側スターホイール５の既述の１円周と回転円盤２の既述の１円周とが外接する外接領域に一致している。 A plurality of (e.g., 30) film forming vacuum chambers 6 are formed on the rotating disk 2 and are arranged at equal intervals on one circumference of the outer peripheral area and receive the PET bottles P from the introduction-side star wheel 5 one by one. Yes. The receiving position coincides with a circumscribed area where the aforementioned one circumference of the introduction-side star wheel 5 circumscribes the aforementioned one circumference of the rotating disk 2.

導出側コンベア３は、導出側線状コンベア７と導出側スターホイール８とから形成されている。導出側スターホイール８には、外周域の１円周上に等間隔で配置され回転円盤２から１つずつペットボトルＰを受け取る複数の受取部が形成されている。導出側線状コンベア７は、導出側スターホイール８からペットボトルＰを１つずつ受け取って次ぎの工程に移送する。 The derivation side conveyor 3 is formed by a derivation side linear conveyor 7 and a derivation side star wheel 8. The lead-out star wheel 8 is formed with a plurality of receiving portions that are arranged at equal intervals on one circumference of the outer peripheral region and receive the plastic bottles P from the rotating disk 2 one by one. The derivation side linear conveyor 7 receives the PET bottles P one by one from the derivation side star wheel 8 and transfers them to the next step.

回転円盤２は、回転軸９を中心にして回転する。回転円盤２には、回転軸９のまわりで真空分配器１１が同体に形成されている。真空分配器１１と複数の成膜真空チャンバ６との間には、複数の真空配管１２がそれぞれの成膜真空チャンバ６に位置対応して介設されている。複数の真空ポンプ（図示されず）に接続する真空分配器１１は、規定回転位置の成膜真空チャンバ６に対して真空引きして成膜真空チャンバ６を規定真空度に保持し、且つ、成膜真空チャンバ６を大気に対して開放する機能を有している。 The rotating disk 2 rotates around the rotating shaft 9. The rotary disk 2 is formed with a vacuum distributor 11 around the rotary shaft 9. A plurality of vacuum pipes 12 are interposed between the vacuum distributor 11 and the plurality of film forming vacuum chambers 6 so as to correspond to the respective film forming vacuum chambers 6. A vacuum distributor 11 connected to a plurality of vacuum pumps (not shown) evacuates the film forming vacuum chamber 6 at a specified rotational position to maintain the film forming vacuum chamber 6 at a specified vacuum level, and It has a function of opening the membrane vacuum chamber 6 to the atmosphere.

図２は、成膜真空チャンバ６の詳細を示している。成膜真空チャンバ６は、真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とから形成されている。真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４は、回転軸９の回転軸心線方向に密着自在に互いに分離又は分割される。真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４が密着し合う接合環状面には、第１Ｏリング１５と第１導電環状体１６が介設されている。第１Ｏリング１５は、第１導電環状体１６より内側に配置されている。第１導電環状体１６は、撓み材料で形成され、真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４との間を電気的に導通させる機能を兼ね備えている。真空チャンバ上部構造１３の上側内面形状と真空チャンバ下部構造１４の下側内面形状とは１つの内面形状を形成し、その１つの内面形状は概ねペットボトルＰの外面形状に一致する。その１つの内面形状とペットボトルＰの外面形状との間には、適正に狭い隙間Ｓが与えられている。真空チャンバ上部構造１３の上側内面形状はペットボトルＰの上側部分の外面形状に概ね一致し、真空チャンバ下部構造１４の下側内面形状はペットボトルＰの下側部分の外面形状に概ね一致している。真空チャンバ上部構造１３の円筒状周面は、上側電磁シールド１７で被覆されている。真空チャンバ下部構造１４の円筒状周面は、下側電磁シールド１８で被覆されている。上側電磁シールド１７と下側電磁シールド１８が密着し合う接合環状面には、第２導電環状体１９が介設されている。 FIG. 2 shows details of the film forming vacuum chamber 6. The film forming vacuum chamber 6 is formed of a vacuum chamber upper structure 13 and a vacuum chamber lower structure 14. The vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 are separated or divided from each other so as to be in close contact with each other in the direction of the rotation axis of the rotation shaft 9. A first O-ring 15 and a first conductive annular body 16 are interposed on a joint annular surface where the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 are in close contact with each other. The first O-ring 15 is disposed inside the first conductive annular body 16. The first conductive annular body 16 is made of a flexible material and has a function of electrically connecting the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14. The upper inner surface shape of the vacuum chamber upper structure 13 and the lower inner surface shape of the vacuum chamber lower structure 14 form one inner surface shape, and the one inner surface shape substantially matches the outer surface shape of the plastic bottle P. A suitably narrow gap S is provided between the one inner surface shape and the outer surface shape of the plastic bottle P. The upper inner surface shape of the vacuum chamber upper structure 13 substantially matches the outer surface shape of the upper portion of the PET bottle P, and the lower inner surface shape of the vacuum chamber lower structure 14 substantially matches the outer surface shape of the lower portion of the PET bottle P. Yes. The cylindrical peripheral surface of the vacuum chamber upper structure 13 is covered with an upper electromagnetic shield 17. The cylindrical peripheral surface of the vacuum chamber lower structure 14 is covered with a lower electromagnetic shield 18. A second conductive annular body 19 is interposed on the joint annular surface where the upper electromagnetic shield 17 and the lower electromagnetic shield 18 are in close contact with each other.

マニホルド２１は、真空チャンバ上部構造１３に対する蓋として設けられている。マニホルド２１は、回転円盤２と同体に回転する回転フレーム（図示されず）に固定されている。マニホルド２１と真空チャンバ上部構造１３との間には、絶縁体２２が介設されている。絶縁体２２の下側面は、真空チャンバ上部構造１３の上側面に密着的に接合している。その接合面には、第２Ｏリング２３が介設されている。上側電磁シールド１７の頂部の内周面は、絶縁体２２の外周面に接合している。上側電磁シールド１７は絶縁体２２を介して真空チャンバ上部構造１３に支持され、上側電磁シールド１７は真空チャンバ上部構造１３から電気的に絶縁されている。マニホルド２１は、絶縁体２２を介して真空チャンバ上部構造１３に同体に支持されている。上側電磁シールド１７は、図示されない手段を介して接地されている。 The manifold 21 is provided as a lid for the vacuum chamber superstructure 13. The manifold 21 is fixed to a rotating frame (not shown) that rotates in the same body as the rotating disk 2. An insulator 22 is interposed between the manifold 21 and the vacuum chamber upper structure 13. The lower surface of the insulator 22 is tightly bonded to the upper surface of the vacuum chamber upper structure 13. A second O-ring 23 is interposed on the joint surface. The inner peripheral surface of the top portion of the upper electromagnetic shield 17 is joined to the outer peripheral surface of the insulator 22. The upper electromagnetic shield 17 is supported by the vacuum chamber upper structure 13 via an insulator 22, and the upper electromagnetic shield 17 is electrically insulated from the vacuum chamber upper structure 13. The manifold 21 is supported by the vacuum chamber upper structure 13 through the insulator 22. The upper electromagnetic shield 17 is grounded through means not shown.

マニホルド２１の内部には、真空流路２４が形成されている。真空流路２４は、マニホルド２１の側面の開口と真空チャンバ上部構造１３の頂部開口２５とを接続している。真空流路２４は、既述の位置対応の真空配管１２を介して真空分配器１１に接続している。真空流路２４は、軸心線直交方向に向く流路２６と軸心線方向に向く流路２７とから形成されている。 A vacuum channel 24 is formed inside the manifold 21. The vacuum flow path 24 connects the opening on the side surface of the manifold 21 and the top opening 25 of the vacuum chamber upper structure 13. The vacuum flow path 24 is connected to the vacuum distributor 11 via the vacuum pipe 12 corresponding to the position described above. The vacuum flow path 24 is formed of a flow path 26 that faces in the direction perpendicular to the axial center line and a flow path 27 that faces in the axial direction.

マニホルド２１の上面の中央領域には、頂部円板２８が固着されている。頂部円板２８は、マニホルド２１の一部分を形成している。頂部円板２８の上面には、接合自在に昇降するガス導入管支持昇降体３１が配置される。ガス導入管支持昇降体３１の下面側でガス導入管支持昇降体３１に、ガス導入管３２が垂下的に支持される。ガス導入管３２は、マニホルド２１に形成される中央穴と絶縁体２２に形成される中央穴とを通されて、真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とで形成される内部空間３３に通される。ガス導入管３２の下端は、内部空間３３の下方領域で開口している。 A top disk 28 is fixed to the central region of the upper surface of the manifold 21. The top disk 28 forms part of the manifold 21. On the top surface of the top disk 28, a gas introduction pipe support elevating body 31 that is moved up and down in a joinable manner is disposed. The gas introduction pipe 32 is supported in a suspended manner on the gas introduction pipe support elevating body 31 on the lower surface side of the gas introduction pipe support elevating body 31. The gas introduction pipe 32 passes through a central hole formed in the manifold 21 and a central hole formed in the insulator 22, and enters an internal space 33 formed by the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14. Passed. The lower end of the gas introduction pipe 32 is opened in the lower region of the internal space 33.

頂部円板２８とガス導入管支持昇降体３１とに、連続するガス流路３４が形成されている。ガス流路３４は、頂部円板２８の内部に形成され軸心線直交方向に向く頂部円板側流路３５と、ガス導入管支持昇降体３１の内部に形成される連通流路３６とから形成されている。連通流路３６は、頂部円板２８とガス導入管支持昇降体３１との接合面で開口する内側端をガス導入管３２の上端開口に連通させる流路を形成している。ガス流路３４の頂部円板側流路３５の外側端開口は、ガス供給管３７に接続している。ガス供給管３７は、頂部円板２８に固着的に接合している。ガス供給管３７には、ガス供給とガス供給停止を制御する制御開閉弁３８が介設されている。ガス導入管３２は、内部空間３３の概中心線上に位置し、マニホルド２１を貫通し流路２７を通り頂部開口２５の中心点を通過して下方に長く延びて内部空間３３に侵入している。 A continuous gas flow path 34 is formed in the top disk 28 and the gas introduction pipe support elevating body 31. The gas flow path 34 is formed from a top disk-side flow path 35 formed inside the top disk 28 and oriented in the direction perpendicular to the axial center line, and a communication flow path 36 formed inside the gas introduction pipe support elevating body 31. Is formed. The communication flow path 36 forms a flow path that communicates the inner end opened at the joint surface between the top disk 28 and the gas introduction pipe support elevating body 31 with the upper end opening of the gas introduction pipe 32. The outer end opening of the top disk side channel 35 of the gas channel 34 is connected to a gas supply pipe 37. The gas supply pipe 37 is fixedly joined to the top disk 28. The gas supply pipe 37 is provided with a control opening / closing valve 38 for controlling gas supply and gas supply stop. The gas introduction pipe 32 is located on the approximate center line of the internal space 33, passes through the manifold 21, passes through the flow path 27, passes through the center point of the top opening 25, extends downward, and enters the internal space 33. .

マニホルド２１と０２８とが接合し合う密着面には第３Ｏリング３９が介設され、頂部円板２８とガス導入管支持昇降体３１とが離脱可能に接合し合う密着面には第４Ｏリング４１が介設されている。頂部円板２８とガス導入管支持昇降体３１とが接合し合うその密着面には、第３導電環状体４２が介設されている。撓み材で形成される第３導電環状体４２は、第４Ｏリング４１より外側に配置されている。 A third O-ring 39 is provided on the close contact surface where the manifolds 21 and 028 are joined, and a fourth O ring 41 is provided on the close contact surface where the top disk 28 and the gas introduction pipe support elevating body 31 are detachably joined. Is installed. A third conductive annular body 42 is interposed on the close contact surface where the top disk 28 and the gas introduction pipe support elevating body 31 are joined. The third conductive annular body 42 formed of a bending material is disposed outside the fourth O-ring 41.

真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とは、導電性物質（例示：金属）で形成される。真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とで形成されペットボトルＰを収容する収容容器２０は、これ自体が第１電極を形成している。ガス導入管３２は、第２電極を形成している。高周波電源４３は、上側電磁シールド１７の周域の一部面に支持されている。高周波電源４３から出力される高周波電力は、電線４４を介して真空チャンバ上部構造１３に接続している。 The vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 are formed of a conductive material (for example, metal). The container 20 that is formed of the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 and accommodates the PET bottle P itself forms the first electrode. The gas introduction pipe 32 forms a second electrode. The high frequency power supply 43 is supported on a part of the peripheral area of the upper electromagnetic shield 17. The high frequency power output from the high frequency power supply 43 is connected to the vacuum chamber upper structure 13 via the electric wire 44.

真空チャンバ下部構造１４と下側電磁シールド１８とは、昇降台４５に支持脚４６を介して支持されている。真空チャンバ下部構造１４の底壁の下面と下側電磁シールド１８の底壁の上面との間に電気的絶縁仕切リング４７が介設されている。真空チャンバ下部構造１４の下側に吸引器５０が、配置される。下側電磁シールド１８の底壁に開けられている穴の周囲の下面に、吸引器５０を構成する吸引管４８が接合している。吸引管４８は、昇降台４５と同体に昇降する。吸引管４８に、真空引き管４９が結合している。真空引き管４９は、図示されない吸引用ブロワに接続している。吸引管４８又は昇降台４５にエアシリンダ５１が支持されている。エアシリンダ５１は、吸引制御開閉弁５２を真空チャンバ下部構造１４に対して昇降させる。吸引制御開閉弁５２は、真空チャンバ下部構造１４の底壁の中央に開けられている吸引口（又は排気口）５３に開閉自在に密着的に接合する。 The vacuum chamber lower structure 14 and the lower electromagnetic shield 18 are supported on a lifting platform 45 via support legs 46. An electrically insulating partition ring 47 is interposed between the lower surface of the bottom wall of the vacuum chamber lower structure 14 and the upper surface of the bottom wall of the lower electromagnetic shield 18. An aspirator 50 is disposed below the vacuum chamber substructure 14. A suction pipe 48 constituting the suction device 50 is joined to the lower surface around the hole formed in the bottom wall of the lower electromagnetic shield 18. The suction tube 48 moves up and down in the same body as the lifting platform 45. A vacuum pulling tube 49 is coupled to the suction tube 48. The evacuation tube 49 is connected to a suction blower (not shown). An air cylinder 51 is supported on the suction pipe 48 or the lift 45. The air cylinder 51 moves the suction control opening / closing valve 52 up and down relative to the vacuum chamber lower structure 14. The suction control opening / closing valve 52 is tightly joined to a suction port (or exhaust port) 53 opened at the center of the bottom wall of the vacuum chamber lower structure 14 so as to be openable and closable.

制御開閉弁３８の閉状態で吸引口５３は吸引制御開閉弁５２により閉じられ、ガス導入管支持昇降体３１が降下して頂部円板２８に密着し、且つ、昇降台４５が上昇して真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とが接合し、上側電磁シールド１７と下側電磁シールド１８とが接合した状態で、内部空間３３の中の空気を含むガスが流路２６を介して真空引きされ、その真空状態が維持されて制御開閉弁３８が開かれ、蒸着用ガスがガス流路３４を介してガス導入管３２に導入される。その蒸着用ガスは、ガス導入管３２の下端から内部空間３３に挿入されているペットボトルＰの中に放出される。高周波電力は、電線４４を介して高周波電源４３から真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ上部構造１３に電気的に結合している真空チャンバ下部構造１４に供給される。真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４で形成される収容容器２０とガス導入管３２との間で放電が開始され、ペットボトルＰの中の蒸着用ガスがプラズマ化されて、そのプラズマを構成する非透過性物質がペットボトルＰの内面に付着する。このような処理完了後又はその処理の完了前に制御開閉弁３８が閉じられ電力供給が中断され、ガス導入管支持昇降体３１と同体にガス導入管３２が上昇してペットボトルＰの中から引き抜かれ、エアシリンダ５１により駆動される吸引制御開閉弁５２は真空チャンバ下部構造１４に対して下降し、真空引き管４９を介してペットボトルＰの周囲の空気を吸い込みペットボトルＰを吸引し、昇降台４５と同体に真空チャンバ下部構造１４と下側電磁シールド１８と真空引き管４９とが十分に下降し、処理済みのペットボトルＰが真空チャンバ上部構造１３から引き抜かれる。 The suction port 53 is closed by the suction control on / off valve 52 in the closed state of the control on / off valve 38, the gas introduction pipe support lifting / lowering body 31 is lowered and is in close contact with the top disk 28, and the lifting / lowering platform 45 is lifted and vacuumed. In a state where the chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 are joined and the upper electromagnetic shield 17 and the lower electromagnetic shield 18 are joined, a gas containing air in the internal space 33 is vacuumed via the flow path 26. The vacuum state is maintained, the control on-off valve 38 is opened, and the vapor deposition gas is introduced into the gas introduction pipe 32 through the gas flow path 34. The vapor deposition gas is discharged from the lower end of the gas introduction pipe 32 into the PET bottle P inserted into the internal space 33. The high frequency power is supplied from the high frequency power supply 43 through the electric wire 44 to the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 electrically coupled to the vacuum chamber upper structure 13. Discharge is started between the container 20 formed by the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 and the gas introduction pipe 32, and the vapor deposition gas in the PET bottle P is turned into plasma, and the plasma is converted into plasma. The non-permeable substance to constitute adheres to the inner surface of the plastic bottle P. After the completion of such a process or before the completion of the process, the control on / off valve 38 is closed and the power supply is interrupted, and the gas introduction pipe 32 ascends together with the gas introduction pipe support elevating body 31 to move out of the PET bottle P. The suction control opening / closing valve 52 pulled out and driven by the air cylinder 51 descends with respect to the vacuum chamber lower structure 14, sucks the air around the PET bottle P through the vacuum pulling tube 49, and sucks the PET bottle P, The vacuum chamber lower structure 14, the lower electromagnetic shield 18, and the vacuum pulling tube 49 are sufficiently lowered in the same body as the lifting platform 45, and the processed PET bottle P is pulled out from the vacuum chamber upper structure 13.

図３は、ペットボトルＰを保持する保持構造を示している。真空チャンバ下部構造１４には、等角度間隔で保持器５４が配置されている。保持器５４は、半径方向線上でそれぞれに弾性的に変位し真空チャンバ下部構造１４の内周面から僅かに突出する把持爪５５を形成している。３つの把持爪５５により３点位置で把持されるペットボトルＰの外周面と真空チャンバ下部構造１４の内周面との間には、環状空隙５６が形成される。環状空隙５６の半径方向幅は、把持爪５５の突出量により規定される。 FIG. 3 shows a holding structure for holding the plastic bottle P. In the vacuum chamber lower structure 14, cages 54 are arranged at equiangular intervals. The cage 54 forms a gripping claw 55 that is elastically displaced on the radial line and slightly protrudes from the inner peripheral surface of the vacuum chamber lower structure 14. An annular gap 56 is formed between the outer peripheral surface of the plastic bottle P that is gripped at three positions by the three gripping claws 55 and the inner peripheral surface of the vacuum chamber lower structure 14. The radial width of the annular gap 56 is defined by the protruding amount of the gripping claws 55.

図４は、ペットボトルＰを収容容器２０の中で安定的に位置決めする調芯構造を示している。絶縁体２２とマニホルド２１の間にスプリング装着体５７が介設されている。絶縁体２２とマニホルド２１とスプリング装着体５７は、真空チャンバ上部構造１３の上端面に接合する接合体を形成している。スプリング装着体５７の部分円筒内周面５８に摺動して軸方向に運動（上下動）する付勢器５９がスプリング装着体５７に摺動自在に装着されている。スプリング装着体５７の段部下面と付勢器５９の段部上面との間に１円筒面上に配置される付勢用コイルスプリング６１が挿入されている。付勢器５９は、スプリング装着体５７から付勢用コイルスプリング６１を介して常態的に下方に押圧されている。絶縁体２２の円筒状内周面と真空チャンバ上部構造１３の円筒状内周面とに摺動して上下動する調芯ライナー６２が絶縁体２２と真空チャンバ上部構造１３に摺動自在に内挿されている。 FIG. 4 shows an alignment structure for stably positioning the PET bottle P in the container 20. A spring mounting body 57 is interposed between the insulator 22 and the manifold 21. The insulator 22, the manifold 21, and the spring mounting body 57 form a joined body that is joined to the upper end surface of the vacuum chamber upper structure 13. An urging device 59 that slides on the inner circumferential surface 58 of the partial cylinder of the spring mounting body 57 and moves in the axial direction (moves up and down) is slidably mounted on the spring mounting body 57. An urging coil spring 61 disposed on one cylindrical surface is inserted between the lower surface of the step portion of the spring mounting body 57 and the upper surface of the step portion of the urging device 59. The urging device 59 is normally pressed downward from the spring mounting body 57 via the urging coil spring 61. An aligning liner 62 that slides up and down on the cylindrical inner peripheral surface of the insulator 22 and the cylindrical inner peripheral surface of the vacuum chamber upper structure 13 is slidable inside the insulator 22 and the vacuum chamber upper structure 13. It is inserted.

調芯ライナー６２は、大直径環部位と小直径環部位とから形成されている。調芯ライナー６２の動作中の上限位置は、小直径環部位の上端面が接する付勢器５９の下端面の位置で規定される。調芯ライナー６２の大直径環部位の下端面と真空チャンバ上部構造１３の上端面との間には適正な上下幅の環状空隙が与えられている。下方から外力を受けない間の調芯ライナー６２は、スプリング装着体５７から付勢器５９と付勢用コイルスプリング６１を介して下方に付勢力を受けて、真空チャンバ上部構造１３の上端面で定められる下限位置まで降下している。図４に示される調芯ライナー６２は、押し上げられるペットボトルＰにより押されて押し上げられ、調芯ライナー６２の上端面に一致する円錐斜面６３が接するスプリング装着体５７の下端面に一致する対向円錐斜面に接することにより定められる上限位置まで押し上げられている。 The alignment liner 62 is formed of a large diameter ring portion and a small diameter ring portion. The upper limit position during the operation of the alignment liner 62 is defined by the position of the lower end surface of the urging device 59 that contacts the upper end surface of the small diameter ring portion. An annular gap having an appropriate vertical width is provided between the lower end surface of the large-diameter ring portion of the alignment liner 62 and the upper end surface of the vacuum chamber upper structure 13. The alignment liner 62 while receiving no external force from below receives the urging force downward from the spring mounting body 57 via the urging device 59 and the urging coil spring 61, so that the alignment liner 62 is applied to the upper end surface of the vacuum chamber upper structure 13. Descent to the lower limit position. The alignment liner 62 shown in FIG. 4 is pushed and pushed up by the plastic bottle P that is pushed up, and the opposing cone that coincides with the lower end surface of the spring mounting body 57 that contacts the conical slope 63 that coincides with the upper end surface of the alignment liner 62. It is pushed up to the upper limit position determined by touching the slope.

調芯ライナー６２の下端面は、ペットボトルＰの栓部の一部分として形成される蓋締め部分６４の上側面に一致する円錐面状締め付け面６５に円滑に密着的に外接する密着面６６に形成されている。上動するペットボトルＰの円錐面状締め付け面６５は、密着面６６に密着して密着面６６を押し上げ、ペットボトルＰは上限位置又は上限位置より下方に位置する上限近傍位置まで押し上げられる。円錐面状締め付け面６５と密着面６６のテーパ面接触は、ペットボトルＰを調芯ライナー６２に対して調芯的に保持する作用を有している。樹脂製の調芯ライナー６２は、電極になる真空チャンバ上部構造１３に対して電気的絶縁性を有し、付勢器５９を真空チャンバ上部構造１３から電気的に絶縁している。金属製の付勢器５９は、ペットボトルＰの外周面上で伝播する高周波高電圧により付勢用コイルスプリング６１が発熱することを防止する電磁的絶縁性を有している。 The lower end surface of the alignment liner 62 is formed on a contact surface 66 that smoothly and closely circumscribes the conical surface tightening surface 65 that coincides with the upper surface of the lid tightening portion 64 formed as a part of the stopper portion of the PET bottle P. Has been. The conical tightening surface 65 of the PET bottle P that moves upward is in close contact with the contact surface 66 to push up the contact surface 66, and the PET bottle P is pushed up to the upper limit position or a position near the upper limit located below the upper limit position. The tapered surface contact between the conical clamping surface 65 and the contact surface 66 has an action of holding the PET bottle P in alignment with the alignment liner 62. The resin-made alignment liner 62 has electrical insulation with respect to the vacuum chamber upper structure 13 that serves as an electrode, and electrically insulates the urging device 59 from the vacuum chamber upper structure 13. The metal urging device 59 has an electromagnetic insulation property that prevents the urging coil spring 61 from generating heat due to a high-frequency high voltage propagating on the outer peripheral surface of the plastic bottle P.

図５は、図２の吸引制御開閉弁５２とそれの周囲の機器配置構造の詳細を示している。真空チャンバ下部構造１４の底部の下端面側には、第５Ｏリング６７と第４導電環状体６８とが装着されている。真空チャンバ下部構造１４は、電気的絶縁仕切リング４７により下側電磁シールド１８から電気的に絶縁されている。吸引制御開閉弁５２は、金属製調芯ロッド６９と、金属製調芯ロッド６９に下方側で結合する金属製円板状弁体７１と、金属製円板状弁体７１に下方側で結合する電気的絶縁性円板状弁体７２と、エアシリンダ５１のピストンロッド７３に上側で結合する結合ロッド７４とから形成されている。電気的絶縁性円板状弁体７２は、ねじにより金属製円板状弁体７１に結合している。エアシリンダ５１が動作して上動するピストンロッド７３により電気的絶縁性円板状弁体７２に同体に金属製円板状弁体７１が上動する際に、金属製調芯ロッド６９は吸引口５３に侵入して吸引口５３を概略的に閉じ、且つ、吸引制御開閉弁５２の全体を真空チャンバ下部構造１４に対して調芯的に位置づける。その位置づけ位置では、金属製円板状弁体７１の上面は第５Ｏリング６７と第４導電環状体６８とを介して真空チャンバ下部構造１４の下端面に接合する。その接合面は、第５Ｏリング６７により密封化されている。 FIG. 5 shows details of the suction control on-off valve 52 of FIG. 2 and the device arrangement structure around it. A fifth O-ring 67 and a fourth conductive annular body 68 are attached to the lower end surface side of the bottom of the vacuum chamber lower structure 14. The vacuum chamber lower structure 14 is electrically insulated from the lower electromagnetic shield 18 by an electrically insulating partition ring 47. The suction control opening / closing valve 52 is connected to the metal aligning rod 69, the metal disc-shaped valve body 71 coupled to the metal aligning rod 69 on the lower side, and the metal disc-shaped valve body 71 coupled to the lower side. And a connecting rod 74 that is coupled to the piston rod 73 of the air cylinder 51 on the upper side. The electrically insulating disc-like valve body 72 is coupled to the metal disc-like valve body 71 by screws. When the metal disc-shaped valve body 71 is moved up with the electrically insulating disc-shaped valve body 72 by the piston rod 73 that is moved upward by the air cylinder 51, the metal alignment rod 69 is sucked. The suction port 53 is roughly closed by entering the port 53, and the entire suction control opening / closing valve 52 is positioned with respect to the vacuum chamber lower structure 14. In the positioned position, the upper surface of the metal disc-like valve body 71 is joined to the lower end surface of the vacuum chamber lower structure 14 via the fifth O-ring 67 and the fourth conductive annular body 68. The joint surface is sealed with a fifth O-ring 67.

図６は、図３の保持器５４の詳細を示している。保持器５４は、取付け体７５とプランジャ７６とから形成されている。取付け体７５は、複数のねじにより真空チャンバ下部構造１４にそれの外周面側で取り付けられている。プランジャ７６は、真空チャンバ下部構造１４に外側から内側に向く半径方向穴７７に摺動自在に挿入されている。プランジャ７６は、大径部分７８と小径部分７９とから形成されている。大径部分７８は半径方向穴７７の大径部分で摺動し、小径部分７９は半径方向穴７７の小径部分で摺動する。大径部分７８には外側から中央穴が形成され、その中央穴と取付け体７５の側の中央穴との間に圧縮スプリング８１が嵌め込まれている。 FIG. 6 shows details of the cage 54 of FIG. The cage 54 is formed of an attachment body 75 and a plunger 76. The attachment body 75 is attached to the vacuum chamber lower structure 14 by a plurality of screws on the outer peripheral surface side thereof. The plunger 76 is slidably inserted into the vacuum chamber lower structure 14 in a radial hole 77 directed from the outside to the inside. The plunger 76 is formed of a large diameter portion 78 and a small diameter portion 79. The large diameter portion 78 slides on the large diameter portion of the radial hole 77, and the small diameter portion 79 slides on the small diameter portion of the radial hole 77. A central hole is formed in the large-diameter portion 78 from the outside, and a compression spring 81 is fitted between the central hole and the central hole on the attachment body 75 side.

半径方向穴７７が真空チャンバ下部構造１４の内周面から突出する先端部分の先端面は、円滑な曲面、特に、半球面８２に形成されている。半球面８２は、ペットボトルＰの外周面を圧縮スプリング８１の付勢力で軽く押さえてペットボトルＰを真空チャンバ下部構造１４の中で安定的に保持する。相対的に昇降するペットボトルＰの薄い膜状体は、半球面８２に対して円滑に摺動しプランジャ７６は弱い力でその膜状体から後退し、半球面８２と膜状体との間の楔効果的自己締付け（フロック）自己締付け（フロック）が回避されている。 The distal end surface of the distal end portion where the radial hole 77 projects from the inner peripheral surface of the vacuum chamber lower structure 14 is formed into a smooth curved surface, in particular, a hemispherical surface 82. The hemispherical surface 82 holds the PET bottle P stably in the vacuum chamber lower structure 14 by lightly pressing the outer peripheral surface of the PET bottle P with the urging force of the compression spring 81. The thin film-like body of the PET bottle P that moves up and down relatively slides smoothly with respect to the hemispherical surface 82, and the plunger 76 moves backward from the film-like body with a weak force. The wedge effective self-clamping (flock) is avoided.

図７は、ペットボトルＰと収容容器２０の間の相対的運動の作用を示している。ペットボトルＰは、図１に示されるように、導入側線状コンベア４により連続流れを形成して移送され、図７（ａ）に示されるように、その割出しスクリューにより一定ピッチで移送され、導入側スターホイール５を介して回転円盤２に供給される。回転円盤２は、図７（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ），（ｆ），（ｇ），（ｈ）にそれぞれに示されるように、同一円周上で等角度間隔でグリッパ８３が配置されていて回転円盤２と同体に回転している。グリッパ８３は、回転円盤２に対して昇降可能に回転円盤２に支持されている。グリッパ８３のグリッパ部分は、開閉自在にペットボトルＰの胴部分と首部分（栓部分）を把持することができる。 FIG. 7 shows the effect of relative movement between the plastic bottle P and the container 20. As shown in FIG. 1, the PET bottle P is transferred in a continuous flow by the introduction-side linear conveyor 4, and is transferred at a constant pitch by the indexing screw as shown in FIG. 7A. It is supplied to the rotating disk 2 via the introduction side star wheel 5. As shown in FIGS. 7 (b), (c), (d), (e), (f), (g), and (h), the rotating disk 2 is equiangularly spaced on the same circumference. The gripper 83 is disposed so as to rotate together with the rotating disk 2. The gripper 83 is supported by the rotating disk 2 so as to be movable up and down with respect to the rotating disk 2. The gripper portion of the gripper 83 can grip the trunk portion and neck portion (plug portion) of the plastic bottle P so as to be freely opened and closed.

１つのペットボトルＰは、図７（ｃ）に示されるように、真空チャンバ下部構造１４が下降している成膜真空チャンバ６に対して相対的に停止している。その位置のグリッパ８３が降下して、ペットボトルＰは上側が開放されている真空チャンバ下部構造１４に挿入される。支持脚４６の上昇過程に同期して、ペットボトルＰは、図７（ｄ）に示されるように、真空チャンバ下部構造１４の底部に押されて真空チャンバ下部構造１４と同体に上昇する。真空チャンバ下部構造１４の上昇に同期的に、ガス導入管３２はガス導入管支持昇降体３１と同体に下降する。ペットボトルＰが真空チャンバ下部構造１４に対して下降する下降過程では、複数（例示：３）の保持器５４の小径部分７９は、ペットボトルＰの円環部分を同一平面上で等角度間隔で向心方向に（ペットボトルＰの中心線に直交する方向に）接触する。このようにペットボトルＰに接触する複数の小径部分７９は、３点でペットボトルＰに局所的に圧力をかけるが、小径部分７９を押し出す圧縮スプリング８１の付勢力は適正に十分に弱く調整されていて、小径部分７９はペットボトルＰの円筒面を変形させることはなく、保持器５４は十分によい精度で真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４の中心線に対して芯合わせする調芯性能をペットボトルＰの押上の全過程で保持している。 As shown in FIG. 7C, one PET bottle P is stopped relatively to the film forming vacuum chamber 6 in which the vacuum chamber lower structure 14 is lowered. The gripper 83 at that position is lowered, and the plastic bottle P is inserted into the vacuum chamber lower structure 14 whose upper side is open. In synchronism with the ascending process of the support leg 46, the plastic bottle P is pushed by the bottom of the vacuum chamber lower structure 14 and rises together with the vacuum chamber lower structure 14 as shown in FIG. 7 (d). In synchronism with the raising of the vacuum chamber lower structure 14, the gas introduction pipe 32 descends to the same body as the gas introduction pipe support elevating body 31. In the descending process in which the PET bottle P descends with respect to the vacuum chamber lower structure 14, the small diameter portions 79 of the plurality of (eg, three) retainers 54 have the annular portions of the PET bottle P at equal angular intervals on the same plane. Contact in the centripetal direction (in a direction perpendicular to the center line of the plastic bottle P). In this way, the plurality of small diameter portions 79 contacting the plastic bottle P locally apply pressure to the plastic bottle P at three points, but the urging force of the compression spring 81 that pushes out the small diameter portion 79 is adjusted to be sufficiently weak enough. The small-diameter portion 79 does not deform the cylindrical surface of the plastic bottle P, and the cage 54 is adjusted to be centered with respect to the center line of the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 with sufficiently good accuracy. The core performance is maintained throughout the process of pushing up the plastic bottle P.

このように調芯制御を受けて上昇するペットボトルＰの上半部は、図７（ｅ）に示されるように、真空チャンバ上部構造１３の中に円滑に挿入される。真空チャンバ上部構造１３に挿入されるペットボトルＰの口栓部の円錐面状締め付け面６５は、図４で詳細に既述される通り、調芯ライナー６２の円錐面状の密着面６６に密着的に接合する。このような密着的接合の接合力は、適正に十分に大きい付勢用コイルスプリング６１の付勢力で規定されていて、このような頂部側調芯機構は、ペットボトルＰの頂部（口栓部）の芯出し機能を有している。ペットボトルＰの下方部分は、保持器５４の下方側調芯機構により芯出しが行われている。ペットボトルＰは、このような上側調芯機構と下側調芯機構とにより、真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とで形成される収容容器２０の中で収容容器２０に対して適正に狭い立体的隙間を介して保持されている。ペットボトルＰを支持する収容容器２０の支持部分は局所的であり、ペットボトルＰは、図７（ｅ）に示されるように、収容容器２０の中であたかも空中に浮いた状態でその空間的位置を保持している。 The upper half of the plastic bottle P that rises under the alignment control as described above is smoothly inserted into the vacuum chamber upper structure 13 as shown in FIG. The conical surface tightening surface 65 of the stopper portion of the PET bottle P inserted into the vacuum chamber upper structure 13 is in close contact with the conical surface close contact surface 66 of the alignment liner 62 as described in detail in FIG. Jointly. The bonding force of such close bonding is defined by the biasing force of the biasing coil spring 61 that is appropriately large enough, and such a top-side alignment mechanism is used for the top portion of the plastic bottle P (the plug portion). ). The lower part of the plastic bottle P is centered by the lower side alignment mechanism of the cage 54. The PET bottle P is suitable for the storage container 20 among the storage containers 20 formed by the vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 by the upper alignment mechanism and the lower alignment mechanism. It is held through a narrow three-dimensional gap. The supporting portion of the container 20 that supports the PET bottle P is local, and the PET bottle P is spatially in a state of floating in the container 20 as shown in FIG. 7E. Holds the position.

このような支持状態では、図１に示されるように、真空チャンバ上部構造１３の下端面と真空チャンバ下部構造１４の上端面は、第１Ｏリング１５を介して適正圧力で接触している。第１導電環状体１６を介して接触する真空チャンバ上部構造１３と真空チャンバ下部構造１４とは、同一（単一）電極を形成することができる。この状態時の調芯ライナー６２は、ペットボトルＰを介して収容容器２０から上昇力を受け、同時に、付勢器５９と付勢用コイルスプリング６１とを介してスプリング装着体５７から下降力を受けているが、スプリング装着体５７と調芯ライナー６２との間には、上昇可能幅（上昇代）が残存していて、ペットボトルＰは適正に弱く適正に十分である押し力で収容容器２０の中で浮遊的に安定して位置決めされている。 In such a support state, as shown in FIG. 1, the lower end surface of the vacuum chamber upper structure 13 and the upper end surface of the vacuum chamber lower structure 14 are in contact with each other through the first O-ring 15 at an appropriate pressure. The vacuum chamber upper structure 13 and the vacuum chamber lower structure 14 which are in contact via the first conductive annular body 16 can form the same (single) electrode. The alignment liner 62 in this state receives a rising force from the container 20 via the plastic bottle P, and simultaneously receives a downward force from the spring mounting body 57 via the biasing device 59 and the biasing coil spring 61. Although it is received, there is an ascending width (rising allowance) between the spring mounting body 57 and the alignment liner 62, and the PET bottle P is appropriately weak and properly accommodated with a pressing force that is adequately sufficient. 20 is stably positioned in a floating manner.

本発明による真空処理装置は、プラズマガスにより膜形成、殺菌のような真空環境下で容器面を処理することが好都合である真空処理のために有効に利用され得る。 The vacuum processing apparatus according to the present invention can be effectively used for vacuum processing in which it is convenient to process the container surface in a vacuum environment such as film formation and sterilization with plasma gas.

図１は、本発明による真空処理装置の実施の形態を示す平面断面図である。FIG. 1 is a plan sectional view showing an embodiment of a vacuum processing apparatus according to the present invention. 図２は、チャンバを示す正面断面図である。FIG. 2 is a front sectional view showing the chamber. 図３は、保持器を示す平面断面図である。FIG. 3 is a plan sectional view showing the cage. 図４は、図１の部分を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a portion of FIG. 図５は、図１の他の部分を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing another part of FIG. 図６は、図１の更に他の部分を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing still another part of FIG. 図７（ａ）〜（ｈ）は、動作過程をそれぞれに示す展開断面図である。7A to 7H are developed cross-sectional views showing the operation processes, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

下記の参照番号・符号は、本発明の課題解決手段で記述される機器構成部分に対応していて、実施例の機器構成名称には原則的に一致していない。
１３…上部真空チャンバ
１４…下部真空チャンバ
２０…収容容器
２２…接合体
２５…頂部中心穴
３３…収容空間
４５…昇降体
４８…吸引路
５０…吸引器
５１…駆動器
５２…開閉弁
５３…吸引口
５４…保持器
５８…接合体内中心穴
５９…間接体
６１…圧縮コイルスプリング（付勢器）
６２…調芯ライナー
６５…円錐状面
６６…円錐状面
６７…気体漏洩防止用リング
７６…プランジャ
７７…穴
８１…付勢器
８２…曲面
Ｓ…隙間
Ｐ…処理対象容器 The following reference numerals and symbols correspond to the device components described in the problem solving means of the present invention, and do not basically match the device configuration names of the embodiments.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... Upper vacuum chamber 14 ... Lower vacuum chamber 20 ... Container 22 ... Joint body 25 ... Top center hole 33 ... Storage space 45 ... Lifting body 48 ... Suction passage 50 ... Suction device 51 ... Driver 52 ... Open / close valve 53 ... Suction Mouth 54 ... Retainer 58 ... Central hole 59 in joint body ... Indirect body 61 ... Compression coil spring (energizer)
62 ... alignment liner 65 ... conical surface 66 ... conical surface 67 ... gas leakage prevention ring 76 ... plunger 77 ... hole 81 ... biasing device 82 ... curved surface S ... clearance P ... container to be treated

Claims

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
下部真空チャンバの下方側に配置される吸引器とを構成し、
前記下部真空チャンバの上昇時には、前記上部真空チャンバの下端面と前記下部真空チャンバの上端面とは密着して、前記上部真空チャンバと前記下部真空チャンバは処理対象容器を収容し真空引きされる収容容器を形成し、前記処理対象容器は前記下部真空チャンバの底壁に支持されて前記下部真空チャンバと同体に昇降し、
前記吸引器は、前記底壁に開けられている吸引口に前記底壁に下側から接続する吸引路を形成し、
前記上部真空チャンバから離脱して前記下部真空チャンバが昇降する際に、前記吸引口の周辺の気体は前記吸引路に吸引される
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
A suction device disposed on the lower side of the lower vacuum chamber,
When the lower vacuum chamber is raised, the lower end surface of the upper vacuum chamber and the upper end surface of the lower vacuum chamber are in close contact with each other, and the upper vacuum chamber and the lower vacuum chamber accommodate a processing target container and are evacuated. Forming a container, and the container to be processed is supported by the bottom wall of the lower vacuum chamber and is lifted and lowered together with the lower vacuum chamber;
The suction device forms a suction path connected to the bottom wall from the lower side in a suction port opened in the bottom wall;
When the lower vacuum chamber is lifted and lowered from the upper vacuum chamber, the gas around the suction port is sucked into the suction path.

前記吸引器は、前記吸引口を前記底壁の下側面の側で開閉する開閉弁を更に形成する
請求項１の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein the suction device further forms an open / close valve that opens and closes the suction port on a lower surface side of the bottom wall.

前記下部真空チャンバを昇降させる昇降体を更に構成し、
前記吸引器は、前記開閉弁を昇降させる駆動器を更に形成し、
前記駆動器と前記吸引路は前記昇降体に支持されている
請求項２の真空処理装置。 Further comprising a lifting body for lifting and lowering the lower vacuum chamber;
The suction device further forms a driver for raising and lowering the on-off valve,
The vacuum processing apparatus according to claim 2, wherein the driver and the suction path are supported by the elevating body.

前記吸引器は、前記底壁の下側面と前記開閉弁の上側面との間に介設される気体漏洩防止用リングを更に形成する
請求項２又は３の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 2 , wherein the suction device further forms a gas leakage prevention ring interposed between a lower surface of the bottom wall and an upper surface of the on-off valve.

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
前記下部真空チャンバに配置され前記下部真空チャンバの底壁に支持される容器を保持する保持器とを構成し、
前記保持器は、
前記下部真空チャンバに形成される穴に挿入され前記下部真空チャンバの中心線に向く向心方向に運動するプランジャと、
前記プランジャと前記下部真空チャンバとの間に装着され前記プランジャを前記向心方向に付勢する付勢器とを形成する
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
A holder that holds a container disposed in the lower vacuum chamber and supported by a bottom wall of the lower vacuum chamber;
The cage is
A plunger that is inserted into a hole formed in the lower vacuum chamber and moves in a centripetal direction toward a centerline of the lower vacuum chamber;
A vacuum processing apparatus that is mounted between the plunger and the lower vacuum chamber and forms a biasing device that biases the plunger in the centripetal direction.

前記穴には前記プランジャが向心方向に運動する限界位置を規定する段面が形成されている
請求項５の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 5, wherein a stepped surface that defines a limit position where the plunger moves in the centripetal direction is formed in the hole.

前記プランジャの内側面は曲面に形成され、前記内側面は前記付勢器の付勢力で前記容器の外周面を押さえ、前記曲面は前記下部真空チャンバが前記上部真空チャンバに対して昇降する方向に対称である
請求項５の真空処理装置。 An inner side surface of the plunger is formed in a curved surface, the inner side surface presses the outer peripheral surface of the container by the biasing force of the biasing device, and the curved surface is in a direction in which the lower vacuum chamber moves up and down with respect to the upper vacuum chamber. 6. The vacuum processing apparatus according to claim 5, wherein the vacuum processing apparatus is symmetrical.

前記曲面は部分球面である
請求項７の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 7, wherein the curved surface is a partial spherical surface.

前記保持器は複数体が前記下部真空チャンバの周囲に配置され、前記複数体は等角度間隔で配置されている
請求項５〜８から選択される１請求項の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the holders are arranged around the lower vacuum chamber, and the plurality of the holders are arranged at equiangular intervals.

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバの上側に配置され前記下部真空チャンバの底壁に支持され前記上部真空チャンバと前記下部真空チャンバにより形成される収容空間に収容され前記上部真空チャンバと前記下部真空チャンバに対して僅かな隙間を介して前記収容空間に収容される処理対象容器を前記上部真空チャンバに対する調芯を行う調芯機構とを構成し、
前記調芯機構は、
前記上部真空チャンバの上端面に固定的に接合する接合体と、
前記接合体に形成され前記上部真空チャンバの中心線が通る接合体内中心穴に挿入され前記中心線の方向に昇降する調心ライナーと、
前記接合体と前記調芯ライナーとの間に介設され前記調芯ライナーを下方に付勢する付勢器とを形成し、
前記調芯ライナーには前記処理対象容器の口栓に形成される円錐状面に接する円錐状面が形成されている
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
Located above the upper vacuum chamber and supported by the bottom wall of the lower vacuum chamber and accommodated in an accommodating space formed by the upper vacuum chamber and the lower vacuum chamber and slightly above the upper vacuum chamber and the lower vacuum chamber A centering mechanism for aligning the processing target container accommodated in the housing space with a gap between the upper vacuum chamber,
The alignment mechanism is
A joined body fixedly joined to the upper end surface of the upper vacuum chamber;
A aligning liner formed in the joined body and inserted into a center hole of the joined body through which a center line of the upper vacuum chamber passes, and moving up and down in the direction of the center line;
Forming a biasing device interposed between the joined body and the alignment liner and biasing the alignment liner downward;
The vacuum processing apparatus, wherein the alignment liner is formed with a conical surface in contact with a conical surface formed in a stopper of the processing target container.

前記調芯ライナーは前記接合体内中心穴に案内されて昇降する
請求項１０の真空処理装置。 The vacuum processing apparatus according to claim 10, wherein the alignment liner moves up and down while being guided by the center hole in the joined body.

前記調芯ライナーの下方部分は前記上部真空チャンバの頂部に形成される頂部中心穴に案内されて昇降する
請求項１０の真空処理装置。 The lower part of the alignment liner is guided up and down by a central hole formed at the top of the upper vacuum chamber.
Vacuum processing apparatus of 請 Motomeko 10.

前記調芯ライナーは前記接合体内中心穴に案内されて昇降し、且つ、前記調芯ライナーの下方部分は前記上部真空チャンバの頂部に形成される頂部内中心穴に案内されて昇降する
請求項１０の真空処理装置。 11. The alignment liner is guided by the center hole in the joined body and is moved up and down, and a lower part of the alignment liner is guided by a center hole in the top formed at the top of the upper vacuum chamber and is moved up and down. Vacuum processing equipment.

前記付勢器は圧縮コイルスプリングであり、
前記調芯機構は、
前記付勢器の付勢力を間接的に前記調芯ライナーに伝達する間接体を更に形成し、
前記間接体は、
前記圧縮コイルスプリングの下端側と前記調芯ライナーの上端側との間に配置される第１部分と、
前記圧縮コイルスプリングの内側に配置され前記圧縮スプリングを前記内側から被覆する第２部分とを構成し、
前記内側は、前記圧縮コイルスプリングの前記中心線側であり、
前記間接体は電磁シールド材料で形成されている
請求項１０〜１３から選択される１請求項の真空処理装置。 The biasing device is a compression coil spring;
The alignment mechanism is
Further forming an indirect body that indirectly transmits the urging force of the urging device to the alignment liner;
The indirect body is
A first portion disposed between a lower end side of the compression coil spring and an upper end side of the alignment liner;
A second portion disposed inside the compression coil spring and covering the compression spring from the inside;
The inner side is the center line side of the compression coil spring,
The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein the indirect body is made of an electromagnetic shielding material.

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
前記下部真空チャンバの底壁に支持される処理対象容器の芯出しのために前記下部真空チャンバに配置される第１調芯機構と、
前記上部真空チャンバの頂部側で支持される前記処理対象容器の芯出しのために前記上部真空チャンバ側に配置される第２調芯機構とを構成し、
前記第１調芯機構は、前記下部真空チャンバが前記上部真空チャンバに対して昇降する昇降過程で、前記処理対象容器を前記処理対象容器の外周面の側で調芯的に支持し、
前記第２調芯機構は、前記上部真空チャンバに下側から前記下部真空チャンバが接合している接合過程で、前記処理対象容器の口栓部分の外周面の側を調芯的に支持する
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
A first alignment mechanism disposed in the lower vacuum chamber for centering a processing target container supported by a bottom wall of the lower vacuum chamber;
A second alignment mechanism disposed on the upper vacuum chamber side for centering the processing target container supported on the top side of the upper vacuum chamber;
The first alignment mechanism supports the processing target container on the outer peripheral surface side of the processing target container in an ascending / descending process in which the lower vacuum chamber moves up and down with respect to the upper vacuum chamber,
The second alignment mechanism supports the outer peripheral surface side of the stopper portion of the processing target container in an alignment manner in a joining process in which the lower vacuum chamber is joined to the upper vacuum chamber from below. Processing equipment.

第３調芯機構を更に構成し、
前記第３調芯機構は、前記昇降過程で、前記処理対象容器の底部の下側面と前記下部真空チャンバの底壁の上側面との間の気体を前記底壁の下側面に吸引する吸引機能を有する
請求項１５の真空処理装置。 Further configuring the third alignment mechanism;
The third alignment mechanism is a suction function for sucking gas between the lower side surface of the bottom of the processing target container and the upper side surface of the bottom wall of the lower vacuum chamber to the lower side surface of the bottom wall in the ascending / descending process. Have
The vacuum processing apparatus according to claim 15 .

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
前記下部真空チャンバの底壁に支持される処理対象容器の芯出しのために前記下部真空チャンバに配置される第１調芯機構と、
第２調芯機構を構成し、
前記第２調芯機構は、前記下部真空チャンバが前記上部真空チャンバに対して昇降する昇降過程で、前記処理対象容器の底部の下側面と前記下部真空チャンバの底壁の上側面との間の気体を前記底壁の下側面に吸引する吸引機能を有する
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
A first alignment mechanism disposed in the lower vacuum chamber for centering a processing target container supported by a bottom wall of the lower vacuum chamber;
Configure the second alignment mechanism,
The second alignment mechanism is configured to move between the lower side surface of the bottom of the container to be processed and the upper side surface of the bottom wall of the lower vacuum chamber in a lifting process in which the lower vacuum chamber moves up and down with respect to the upper vacuum chamber. A vacuum processing apparatus having a suction function of sucking gas to the lower surface of the bottom wall.

上部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバに対して昇降自在に前記上部真空チャンバの下方側に配置される下部真空チャンバと、
前記上部真空チャンバの頂部側で支持される処理対象容器の芯出しのために前記上部真空チャンバ側に配置される第１調芯機構と、
第２調芯機構を構成し、
前記第２調芯機構は、前記下部真空チャンバが前記上部真空チャンバに対して昇降する昇降過程で、前記処理対象容器の底部の下側面と前記下部真空チャンバの底壁の上側面との間の気体を前記底壁の下側面に吸引する吸引機能を有する
真空処理装置。 An upper vacuum chamber;
A lower vacuum chamber disposed on the lower side of the upper vacuum chamber so as to be movable up and down with respect to the upper vacuum chamber;
The first centering mechanism disposed in the upper vacuum chamber side for centering the processing target vessel that will be supported by the top side of the upper vacuum chamber,
Configure the second alignment mechanism,
The second alignment mechanism is configured to move between the lower side surface of the bottom of the container to be processed and the upper side surface of the bottom wall of the lower vacuum chamber in a lifting process in which the lower vacuum chamber moves up and down with respect to the upper vacuum chamber. A vacuum processing apparatus having a suction function of sucking gas to the lower surface of the bottom wall.