JP3958261B2 - 光学系の調整方法 - Google Patents
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Description
110 計測部
120 除去部
130 制御部
700 露光装置
710 照明装置
720 マスク
730 投影光学系
740 被処理体
750 アライメント検出機構
760 フォーカス位置検出機構
Claims (10)
- 多層膜が形成された多層膜ミラーを含み、EUV光を使用する光学系の調整方法であって、
前記EUV光を用いて、前記光学系の波面収差を計測する第1の計測ステップと、
前記EUV光とは異なる非露光波長の光を用いて、前記光学系の波面収差を計測する第2の計測ステップと、
前記第1の計測ステップで計測した前記波面収差が低減するような、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去条件を決定する除去条件決定ステップと、
前記除去条件決定ステップで決定した前記除去条件に基づいて、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去ステップと、
前記除去ステップで多層膜の一部を除去された多層膜ミラーを前記光学系に組み込んだ上で、前記多層膜ミラーのうち前記多層膜を除去した領域を除いた、前記光学系の波面収差の計測を、前記非露光波長の光を用いて行う第3の計測ステップと、
前記第2の計測ステップによる前記光学系の波面収差の計測結果と前記第3の計測ステップによる前記光学系の波面収差の計測結果に基づいて、前記光学系の調整を行う調整ステップとを有することを特徴とする調整方法。 - 前記条件は、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去領域であることを特徴とする請求項1記載の調整方法。
- 前記条件は、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去量であることを特徴とする請求項1又は2記載の調整方法。
- 前記第2及び前記第3の計測ステップにおいて、可視光又は赤外線によって、前記光学系の波面収差を計測することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか一項記載の調整方法。
- 前記第3の計測ステップにおいて、前記多層膜ミラーの、前記多層膜を除去した領域に入射する光を遮蔽することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の調整方法。
- 前記第3の計測ステップにおいて、前記多層膜ミラーの、前記多層膜を除去した領域から反射する光を遮蔽することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか一項記載の調整方法。
- 前記第3の計測ステップにおいて、前記光学系の波面収差を計測したデータのうち、前記多層膜ミラーの前記多層膜を除去した領域の波面に相当するデータを除去することを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか一項記載の調整方法。
- EUV光を使用する光学系の製造方法であって、
ミラー基板を研磨するステップと、
前記研磨したミラー基板に多層膜を成膜して多層膜ミラーを作成するステップと、
前記多層膜ミラーを含む前記光学系を組み立てるステップと、
前記EUV光を用いて、前記光学系の波面収差を計測する第1の計測ステップと、
前記EUV光とは異なる非露光波長の光を用いて、前記光学系の波面収差を計測する第2の計測ステップと、
前記第1の計測ステップで計測した前記波面収差が低減するような、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去条件を決定する除去条件決定ステップと、
前記除去条件決定ステップで決定した前記除去条件に基づいて、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去ステップと、
前記除去ステップで多層膜の一部を除去された多層膜ミラーを前記光学系に組み込んだ上で、前記多層膜ミラーのうち前記多層膜を除去した領域を除いた、前記光学系の波面収差の計測を、前記非露光波長の光を用いて行う第3の計測ステップと、
前記第2の計測ステップによる前記光学系の波面収差の計測結果と前記第3の計測ステップによる前記光学系の波面収差の計測結果に基づいて、前記光学系の調整を行う調整ステップとを有することを特徴とする光学系の製造方法。 - EUV光を使用する投影光学系を備える露光装置の製造方法であって、
ミラー基板を研磨するステップと、
前記研磨したミラー基板に多層膜を成膜して多層膜ミラーを作成するステップと、
前記多層膜ミラーを含む前記投影光学系を組み立てるステップと、
前記EUV光を用いて、前記投影光学系の波面収差を計測する第1の計測ステップと、
前記EUV光とは異なる非露光波長の光を用いて、前記投影光学系の波面収差を計測する第2の計測ステップと、
前記第1の計測ステップで計測した前記波面収差が低減するような、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去条件を決定する除去条件決定ステップと、
前記除去条件決定ステップで決定した前記除去条件に基づいて、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去ステップと、
前記除去ステップで多層膜の一部を除去された多層膜ミラーを前記投影光学系に組み込んだ上で、前記多層膜ミラーのうち前記多層膜を除去した領域を除いた、前記投影光学系の波面収差の計測を、前記非露光波長の光を用いて行う第3の計測ステップと、
前記第2の計測ステップによる前記投影光学系の波面収差の計測結果と前記第3の計測ステップによる前記投影光学系の波面収差の計測結果に基づいて、前記投影光学系の調整を行う調整ステップと、
前記投影光学系を露光装置に組み込むステップと、
を有することを特徴とする露光装置の製造方法。 - デバイスの製造方法であって、
ミラー基板を研磨するステップと、
前記研磨したミラー基板に多層膜を成膜して多層膜ミラーを作成するステップと、
前記多層膜ミラーを含む前記投影光学系を組み立てるステップと、
EUV光を用いて、前記投影光学系の波面収差を計測する第1の計測ステップと、
前記EUV光とは異なる非露光波長の光を用いて、前記投影光学系の波面収差を計測する第2の計測ステップと、
前記第1の計測ステップで計測した前記波面収差が低減するような、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去条件を決定する除去条件決定ステップと、
前記除去条件決定ステップで決定した前記除去条件に基づいて、前記多層膜ミラーの多層膜の一部を除去する除去ステップと、
前記除去ステップで多層膜の一部を除去された多層膜ミラーを前記投影光学系に組み込んだ上で、前記多層膜ミラーのうち前記多層膜を除去した領域を除いた、前記投影光学系の波面収差の計測を、前記非露光波長の光を用いて行う第3の計測ステップと、
前記第2の計測ステップによる前記投影光学系の波面収差の計測結果と前記第3の計測ステップによる前記投影光学系の波面収差の計測結果に基づいて、前記投影光学系の調整を行う調整ステップと、
前記投影光学系を露光装置に組み込むステップと、
前記露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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