JP3908036B2 - 反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 - Google Patents
反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3908036B2 JP3908036B2 JP2002003501A JP2002003501A JP3908036B2 JP 3908036 B2 JP3908036 B2 JP 3908036B2 JP 2002003501 A JP2002003501 A JP 2002003501A JP 2002003501 A JP2002003501 A JP 2002003501A JP 3908036 B2 JP3908036 B2 JP 3908036B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- plasma
- polymer film
- argon gas
- supply source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
- B29K2995/003—Reflective
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0037—Other properties
- B29K2995/0092—Other properties hydrophilic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
- B29L2011/0083—Reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
- G02B5/0866—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers incorporating one or more organic, e.g. polymeric layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置に関する。特に本発明は、反射鏡の非有効面の表面に親水性の層を安価かつ安全に形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図1(A)及び図1(B)は、従来の自動車用灯具等に使用される反射鏡の断面構造を示す。反射鏡は、基体38、アンダーコート15、反射膜10、撥水性の重合膜42を有する。基体38は、合成樹脂及び金属等の材料を用いて反射鏡の形状に形成される。基体38の表面にアンダーコート15が形成される。アンダーコート15は、基体38及び反射膜10とを接着する膜である。反射膜10は、アルミニウム等の光を反射する材料で形成され、アンダーコート15の表面に蒸着される。反射膜10の表面には、反射膜10を保護するために、重合体の膜である重合膜42が形成される。図1(A)及び(B)に示すように、重合膜42がヘキサメチルシロキサン(HMDSO)の重合体で形成される場合、重合膜42の表面には、酸化ケイ素(SiO2)で形成された層12及びメチル基(CH3)で形成された層14が形成される。
【0003】
重合膜42は、表面にメチル基の層14を有するので、重合膜42の表面は、撥水性が大きい。そのため、図1(A)に示すように、水と重合膜42との接触角が大きい。したがって、水分が重合膜42に進入して結露した場合、水滴が玉状になり、反射鏡の表面に異物が付着しているように見える。更に、重合膜42の表面上に着色された膜を塗装した場合、塗装16が付着しない部分18が発生する。この現象は、ハジキと呼ばれる。ハジキが発生すると反射鏡の外観が損われる。したがって、重合膜42の表面は、適度に親水性であることが好ましい。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図2は、重合膜42の表面に親水性の膜が形成された従来の反射鏡の断面構造を示す。従来の反射鏡製造方法は、図2に示すように、重合膜42の表面を親水性にするために、重合膜42の表面に、酸化ケイ素(SiO2)等の親水性の膜20を形成した。しかし、この親水性の膜20は、重合膜42とは別に新たに形成されるため、親水性材料として高価な原料が必要であった。
【0005】
また、親水性の膜20を形成する装置が、重合膜42を形成する装置とは別に必要であるので、反射鏡製造装置全体の構成が複雑であった。更に、親水性の膜の材料として使用される酸化ケイ素は、タブレット又は粉状であるので、材料を供給する装置が複雑となり、反射鏡製造装置全体の構成が複雑であった。したがって、反射鏡を製造するための費用が増加した。
【0006】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0007】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第1の形態による反射鏡の製造方法は、反射鏡の基体を成型する基体成型ステップと、基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する反射膜形成ステップと、反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する重合膜形成ステップと、重合膜の表面を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する親水化処理ステップとを備える。
【0008】
反射膜形成ステップは、親水化処理ステップにおいて使用するアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いて、反射膜を基体の表面に蒸着する蒸着ステップを含むことが好ましい。また、反射膜形成ステップは、アルミニウムの膜を基体の表面に蒸着することが好ましい。重合膜形成ステップは、ヘキサメチルシロキサンを重合することによって重合膜を形成してもよい。 反射鏡製造方法は、親水化された重合膜の表面に、着色された膜を形成する着色膜形成ステップを更に備えてもよい。親水化処理ステップは、アルゴンガスのプラズマが重合膜の表面に接触することによって、重合膜の表面に含まれる疎水基を親水基に置換することが好ましい。更に、親水化処理ステップは、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することが好ましい。
【0009】
本発明の第2の形態による反射鏡を製造する装置は、反射鏡の基体を成型する基体成型部と、アルゴンガスを供給する第1の供給源と、供給源から供給されたアルゴンガスを用いることによって、基体の表面に光を反射する反射膜を蒸着する蒸着部と、高周波の電流を発生する高周波電源、高周波電源及び供給源に接続され、高周波の電流を用いて供給源から供給されたアルゴンガスからプラズマを生成するプラズマ生成部、及びプラズマ生成部に接続され、基体を収容するチャンバを有するプラズマ反応部とを備える。
【0010】
反射鏡製造装置は、撥水性の重合体を供給する第2の供給源を更に備え、プラズマ反応部は、プラズマ生成部を用いて第2の供給源から供給された撥水性の重合体からプラズマを生成し、チャンバ内に収容された基体の表面に蒸着された反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成することが好ましい。更に、プラズマ反応部は、プラズマ生成部を用いて第1の供給源から供給されたアルゴンガスからチャンバ内にプラズマを生成し、アルゴンガスのプラズマを重合体の膜の表面に接触させることによって重合体の膜の表面を親水化することが好ましい。
【0011】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【0013】
図3は、本発明の反射鏡製造方法の一実施形態のフローチャートを示す。まず、反射鏡の基体を成型する(S20)。基本の成型の一例として、合成樹脂及び金属等の原料が反射鏡の形状に射出成型される。次に、基体を水で洗浄し(S22)、乾燥する(S24)。次に、洗浄された基体の表面上にアンダーコートを形成する(S26)。アンダーコートは、基体上に塗装することによって形成されてもよい。
【0014】
次に、アンダーコートが形成された基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する(S28)。反射膜の一例として、アルミニウム等の光を反射する材料で形成された膜が基体の表面に蒸着される。反射膜の形成時には、下記に説明する親水化処理ステップ(S32)において使用するアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いる。
【0015】
次に、反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する(S30)。この重合体の膜は、アルミニウム等で形成された反射膜の酸化及び腐食を防止するための耐アルカリ性の保護膜として機能する。ヘキサメチルシロキサン(HMDS)等のシリコンを含むモノマーのプラズマを重合することによって重合膜を形成してもよい。
【0016】
次に、重合膜の表面の一部を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する(S32)。ここで反射鏡は、光源の光を反射し、所望の配光パターンを形成する反射鏡としての機能を受け持つ有効反射面と、有効反射面以外の部分で、配光パターンの形成に直接寄与しない非有効反射面とを有する。親水化処理は、反射鏡の反射面全体に施されるが、重合膜が親水化されすぎると、重合膜の保護膜としての機能が失われ、反射膜が酸化及び腐食する可能性があるので、重合膜の親水化の度合いを適度に調整する必要がある。
【0017】
また、特に反射鏡の非有効反射面においては、反射鏡全体の外観を向上する等の目的のために、着色された着色膜を、重合膜の表面に形成することがある。このとき、重合膜の表面が撥水性であると、着色膜を重合膜の表面に高い品質で形成することが困難である。従って、着色膜を重合膜の表面に高い品質で形成するためには、重合膜の表面を親水化することがより効果的である。
【0018】
親水化処理ステップ(S32)では、反射膜生成ステップ(S28)において使用したアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いて親水化処理を行う。アルゴンガスのプラズマが重合膜の表面に接触することによって、重合膜の表面に含まれる疎水基が親水基に置換される。最後に、親水化された重合膜の表面に、着色膜を形成する(S34)。着色膜を形成する方法としては、塗装等の方法が使用される。
【0019】
図4は、図3に示す反射膜蒸着ステップ(S28)における反射膜蒸着の様子を示す。基体成形ステップ(S20)で成形された基体38の表面に、アンダーコート形成ステップ(S26)によってアンダーコート15が形成される。更に、アンダーコート15の表面に反射膜10が蒸着される。真空中でアルミニウム等の金属が加熱されることにより金属が蒸発し、アンダーコート15の表面に蒸発した金属が凝縮することにより、反射膜10が形成される。
【0020】
図5は、図3に示すプラズマ重合膜生成ステップ(S30)における重合膜の生成の様子を示す。反射膜蒸着ステップ(S28)で形成された反射膜10の表面に重合膜42が形成される。図5に示す重合膜42は、ヘキサメチルシロキサン(HMDSO)の重合体によって形成される。HMDSOのモノマーガスのプラズマ32が重合して反射膜15の表面に吸着されることにより、重合膜42は形成される。重合膜42は、酸化ケイ素(SiO2)で形成された層及びメチル基(CH3)で形成された層を有する。重合膜42は、表面にメチル基の層を有するので重合膜42の表面は、撥水性を有する。重合膜42の原料は、HMDSOに限られず、他の原料を用いてもよい。形成される重合膜42の厚さは、例えば500Åから6000Åである。
【0021】
図6は、図3に示す親水化処理ステップ(S32)において、反射鏡の非有効面に位置する重合膜の表面で行われる置換反応を示す。プラズマ重合膜生成ステップ(S30)によって形成された重合膜42の表面は、撥水性を有するので、非有効面の重合膜の表面に存在するメチル基の層を親水化処理することによって非有効面の重合体の表面に着色膜を形成することを容易にする。
【0022】
図6に示すように、アルゴンガスArのプラズマAr+は、重合膜42の表面に含まれるメチル基(CH3)等の疎水基に接触し、重合膜42の表面に含まれるメチル基(CH3)等の疎水基を酸化ケイ素との結合から切り離す。この疎水基から切り離された酸化ケイ素に、雰囲気中に存在するヒドロキシ基(―OH)及びカルボキシ基(―COOH)等の親水基が結合する。この反応により、疎水基が親水基に置換される。親水化処理ステップ(S32)では、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することができる。従って、重合膜42の表面の親水化の度合いを親水化処理の時間に基づいて制御することができる。上記で説明したように、重合膜が親水化されすぎると、非有効面における重合膜の保護膜としての機能が失われ、反射膜が酸化及び腐食する可能性があるので、重合膜の親水化の度合いを適度に調整することが重要となる。親水化処理は、親水化された重合膜42と水との接触角が50°以下となるまで実施することが好ましい。
【0023】
図7は、図3から図6に示した本実施形態の反射鏡製造方法によって形成された反射鏡の断面構造の概略を示す。反射鏡は、有効面に基体38、アンダーコート15、反射膜10、及び撥水性の重合膜42を有する。反射鏡は、非有効面に、有効面が有する要素に加えて、重合膜42の表面を親水化処理した層44及び着色膜46を更に有する。図6に示す親水化処理によって非有効面の重合膜42の表面が親水化され、親水化層44が形成される。親水化層44の表面に、着色膜46が形成される。一例として、着色膜46は、親水化層44の表面に塗布されることにより形成されてもよい。親水化層44は親水化されているので、親水化層44と着色膜46との間で撥水又はハジキ等の現象が発生することがない。したがって、重合膜42の表面に着色膜46を、優れた品質で形成することができる。また、図2で説明したような、重合膜42の表面上に酸化ケイ素等の新たな膜を形成する必要がないので反射鏡を安価に製造することができる。
【0024】
図8は、図3から図6に示した反射鏡製造方法を実現するための本発明の一実施形態である反射鏡製造装置の構成の概略を示す。反射鏡製造装置は、基体成型部90、冷却部94、洗浄機50、乾燥炉52、アンダーコート形成部54、アンダーコート乾燥部56、蒸着部92、プラズマ反応部70、第1の供給源34、第2の供給源26、及び静電除去装置62を備える。
【0025】
基体成型部90は、合成樹脂又は金属等の原料を射出成型等により反射鏡の形状に成型することによって、基体38を形成する。冷却部94は、成型された基体38を冷却する。洗浄機50は、冷却された基体38を洗浄する。乾燥炉52は、洗浄された基体38を乾燥する。アンダーコート形成部54は、乾燥した基体38の表面にアンダーコート15を形成する。アンダーコート乾燥部56は、形成されたアンダーコート15を乾燥する。蒸着部92は、第1の供給源34から供給されたアルゴンガスを用いることによって、アンダーコート15の表面に反射膜10を蒸着する。
【0026】
プラズマ反応部70は、撥水性の重合膜42を反射膜10の表面に形成する。更に、プラズマ反応部70は、図6で説明した原理を用いることによって非有効面の重合膜42の表面を親水化する。本実施形態は、重合膜42を形成する工程と、重合膜42を親水化する工程を、同一のプラズマ反応部70を用いて実施することができるので、反射鏡製造装置の構成を簡略化することができる。従って、重合膜42の表面に新たな親水性の膜を形成するための装置が不要であるので、反射鏡を安価に製造することができる。
【0027】
プラズマ反応部70は、アルゴンガスを供給する第1の供給源34及びモノマーのガスを供給する第2の供給源26に接続される。また、この第1の供給源34は、分岐して蒸着部92にもそれぞれ接続される。すなわち、プラズマ反応不70が行う重合膜42の親水化処理において使用されるアルゴンガスの供給源34は、蒸着部92が行う反射膜10の形成において使用されるアルゴンガスの供給源34と同一である。従って、反射鏡製造装置の構成を簡略化することができる。更に、本実施形態は、アルゴンガスを用いて重合膜42の表面を親水化するので、酸素を用いて重合膜42の表面を親水化する場合と比較して安全に重合膜42を親水化することができる。
【0028】
同一のプラズマ反応部70を用いて、次のように重合膜42を形成する工程及び重合膜42を親水化する工程が実施される。まず、第2の供給源26の弁96が開かれ、第2の供給源26からモノマーのガスがプラズマ反応部70に供給される。プラズマ反応部70は、モノマーのプラズマを発生し、反射膜10上でモノマーを重合させることにより、重合膜42を反射膜10の表面に形成する。重合膜42を形成している間、第1の供給源34の弁98は、閉じられる。重合膜42の形成が終了した後、第2の供給源26の弁96が閉じられ、プラズマ反応部70のチャンバ22内からモノマーのガスの雰囲気が除去される。次に、第1の供給源34を開き、アルゴンガスをプラズマ反応部70に供給する。プラズマ反応部70は、プラズマ生成部24を用いてアルゴンガスのプラズマを生成し、重合膜42の表面を親水化する。
【0029】
従って、プラズマ反応部70に供給するガスを、第2の供給源26から供給されるモノマーのガスから第1の供給源34から供給されるアルゴンガスに切り替えること、又はアルゴンガスをモノマーのガスへ切り替えることによって、重合膜42を形成する工程及び重合膜42を親水化する工程を連続的に実施することができる。更に、プラズマ反応部70のチャンバ22内の真空度及びプラズマ生成部24の出力等の処理条件は、重合膜42を形成する工程と、重合膜42の表面を親水化する工程とで同一であるので、処理条件を変える時間が不要である。したがって、反射鏡を短時間に製造することができる。
【0030】
図9(A)及び(B)は、図8に示したプラズマ反応部70の構成の詳細を示す。図9(A)は、プラズマ反応部70を、プラズマ重合膜生成ステップ(S30)において用いた場合を示し、図9(B)は、プラズマ反応部70を、親水化処理ステップ(S32)において用いた場合を示す。
【0031】
プラズマ反応部70は、高周波電源28、プラズマ生成部24、及びチャンバ22を有する。高周波電源28は、高周波の電流を発生する。プラズマ生成部24は、第1の供給源34及び第2の供給源26に接続される。
【0032】
更に、プラズマ生成部24は、高周波電源28に接続される。プラズマ生成部24は、高周波電源28から供給された高周波の電流を用いて、第2の供給源26から供給されたモノマーのガスからモノマーのプラズマ32を生成するか、又は第1の供給源34から供給されたアルゴンガスからアルゴンのプラズマ36を生成する。チャンバ22は、プラズマ生成部24に接続され、基体38を収容する。
【0033】
プラズマ反応部70を用いて重合膜42を形成する場合、プラズマ生成部24によってモノマーのプラズマが生成され、チャンバ22内に収容された基体38上の反射膜10の表面に、撥水性の重合体の膜が形成される。一方、プラズマ反応部70を用いて親水化処理する場合、プラズマ生成部24によってアルゴンのプラズマが生成され、チャンバ22内に収容された基体38上の重合膜42の表面に、アルゴンのプラズマが接触することによって重合膜42の表面が親水化される。
【0034】
図10は、プラズマ反応部70のチャンバ22内の詳細を示す。プラズマ反応部70は、複数のプラズマ生成部24を有する。図10に示すプラズマ反応部70は、6個のプラズマ生成部24を有する。しかし、プラズマ反応部70が有するプラズマ生成部24の個数は、6個に限られない。カート48上に設置された複数の基体38が、矢印に示す方向からプラズマ反応部70内に搬入され、プラズマ生成部24の上部に配置される。
【0035】
重合膜42を生成する場合、プラズマ生成部24は、カート上に開口面が下向きとなるように配置された基体38に向けてモノマーガスを噴霧し、基体38の表面にプラズマ重合膜42を形成する。一方、重合膜42を親水化処理する場合、プラズマ生成部24は、アルゴンガスを基体38に向けて噴霧し、重合膜42の表面を親水化する。
【0036】
カート48上に設置された基体38の表面に重合膜42が形成され、重合膜42の表面が親水化されると、カート48は、図5中の矢印で示されるようにプラズマ反応部70の外部へと搬出される。
【0037】
上記に説明したように、本実施形態の反射鏡製造方法及び製造装置によれば、反射鏡を安価かつ短時間に製造することができる。
【0038】
【実施例】
表1は、各種の親水化処理方法によって製造された反射鏡の品質を試験した結果を示す。実施例1では、本実施形態のアルゴンプラズマを用いた方法を使用して重合膜42の表面を親水化した。実施例1において、親水化される重合膜の膜厚は、550Åとした。更に、実施例1では、親水化処理条件として圧力を1.3Paに、高周波出力を2000Wに、親水化時間を10秒に設定した。
【0039】
比較例1では酸素プラズマを用いた方法で親水化処理を実施した。比較例1の場合において、親水化される重合膜の膜厚は、実施例1と同じく、550Åとした。更に、比較例1では、親水化処理条件として圧力を0.5Paに、高周波出力を500Wに、親水化時間を1秒に設定した。また、比較例2では、酸素ガスを用いた方法で親水化処理を実施した。比較例2の場合において、親水化される重合膜の膜厚は、実施例1と同じく、550Åとした。更に、比較例2では、親水化処理条件として圧力を20Paに、親水化時間を5秒に設定した。比較例2では、プラズマを使用しないので、高周波出力は設定しなかった。
【0040】
表1に示す各親水化処理条件で重合膜42を親水化したところ、実施例1のアルゴンプラズマを用いた方法は、比較例1の酸素プラズマを用いる方法及び比較例2の酸素ガスを用いる方法に比べ、耐アルカリ性が高かった。すなわち、疎水性が高かった。
【0041】
また、親水化層44と水との接触角を50°よりも小さくする必要があるが、実施例1の方法による接触角は、他の方法による接触角よりも低い、良好な値を示した。比較例2の酸素ガスを用いる方法では、親水化層44と水との接触角が50°より大きい90°となり、基準を満たさなかった。
【0042】
酸素プラズマ及び酸素ガスを用いて重合膜42を親水化処理した場合、酸素の疎水基を親水基に置換する速度が大きいので重合膜42の親水化の度合いを調整することが困難である。そのため、重合膜42が親水化の度合いが過大となり、重合膜42の疎水性が減少して保護膜としての機能が失われ、耐アルカリ性が低下する。
【0043】
一方、アルゴンガスを用いて重合膜42を親水化処理した場合、酸素に比べてアルゴンの疎水基を親水基に置換する速度は小さいので、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することが容易である。従って、アルゴンガスを用いる本実施形態の方法は、高い耐アルカリ性を維持しつつ、水との接触角が50°より小さくなるように、重合膜42の親水化の度合いを制御することができる。
【0044】
したがって、総合的に見て本実施形態の製造方法及び製造装置によって親水化された重合膜42は、他の方法で親水化された重合膜よりも優れた品質を有する。また、反射鏡の製造費用を従来の方法及び装置よりも減少することができる。更に、比較例1及び比較例2で使用される酸素ガスは、アルゴンガスに比べ危険であるので、アルゴンガスを使用する方法は、他の方法に比べ安全である。
【0045】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることができる。そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0046】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば反射鏡の非有効面の表面に親水性の層を安価かつ安全に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の自動車用灯具等に使用される反射鏡の断面構造を示す。
【図2】親水性膜20が形成された従来の反射鏡の断面構造を示す。
【図3】本発明の反射鏡製造方法の一実施形態のフローチャートを示す。
【図4】反射膜蒸着ステップ(S28)における反射膜蒸着の様子を示す。
【図5】プラズマ重合膜生成ステップ(S30)における重合膜の生成の様子を示す。
【図6】親水化処理ステップ(S32)において重合膜の表面で行われる置換反応を示す。
【図7】本発明の反射鏡製造方法によって形成される反射鏡の断面構造の概略を示す。
【図8】発明の一実施形態である反射鏡製造装置の構成の概略を示す。
【図9】図8に示したプラズマ反応部70の構成の概略を示す。
【図10】プラズマ反応部70のチャンバ22内の詳細を示す。
【表1】各種の親水化処理方法によって製造された反射鏡の品質を試験した結果を示す。
【符号の説明】
10・・・反射膜、12・・・酸化ケイ素(SiO2)で形成された層12、14・・・メチル基(CH3)で形成された層14、15・・・アンダーコート、16・・・塗装、18・・・ハジキ、20・・・親水性の膜、22・・・チャンバ、24・・・プラズマ生成部、26・・・第2の供給源、28・・・高周波電源、32・・・プラズマ、34・・・第1の供給源、36・・・アルゴンガスのプラズマ、38・・・基体、42・・・重合膜、44・・・親水化層、46・・・着色膜、48・・・カート、50・・・洗浄機、52・・・乾燥炉、54・・・アンダーコート形成部、56・・・アンダーコート乾燥部、62・・・静電除去装置、70・・・プラズマ反応部、90・・・基体成型部、92・・・蒸着部、94・・・冷却部、96、98・・・弁、S20・・・基体成型ステップ、S22・・・水洗浄ステップ、S24・・・乾燥ステップ、S26・・・アンダーコート形成ステップ、S28・・・反射膜蒸着ステップ、S30・・・プラズマ重合膜生成ステップ、S32・・・親水化処理ステップ、S34・・・着色膜形成ステップ
Claims (5)
- 反射鏡の製造方法であって、
前記反射鏡の基体を成型する基体成型ステップと、
前記基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する反射膜形成ステップと、
前記反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する重合膜形成ステップと、
前記重合膜の表面を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する親水化処理ステップと
を備え、
前記重合膜形成ステップおよび前記親水化処理ステップは同一のプラズマ反応部を用いて実施され、
前記反射膜形成ステップは、前記親水化処理ステップにおいて使用する前記アルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給された前記アルゴンガスを用いて、前記反射膜を前記基体の表面に蒸着する蒸着ステップを含む請求項1に記載の反射鏡製造方法。 - 前記重合膜形成ステップは、ヘキサメチルシロキサンを重合することによって前記重合膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の反射鏡製造方法。
- 前記親水化された前記重合膜の表面に、着色された膜を形成する着色膜形成ステップを更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の反射鏡製造方法。
- 前記親水化処理ステップは、前記アルゴンガスのプラズマが前記重合膜の表面に接触することによって、前記重合膜の表面に含まれる疎水基を親水基に置換することを特徴とする請求項1に記載の反射鏡製造方法。
- 反射鏡を製造する装置であって、
前記反射鏡の基体を成型する基体成型部と、
アルゴンガスを供給する第1の供給源と、
前記第1の供給源から供給された前記アルゴンガスを用いることによって、前記基体の表面に光を反射する反射膜を蒸着する蒸着部と、
高周波の電流を発生する高周波電源、前記高周波電源及び前記第1の供給源に接続され、前記高周波の電流を用いて前記第1の供給源から供給された前記アルゴンガスからプラズマを生成するプラズマ生成部、及び前記プラズマ生成部に接続され、前記基体を収容するチャンバを有するプラズマ反応部と、
撥水性のモノマーのガスを供給する第2の供給源と
備え、
前記プラズマ反応部は、前記プラズマ生成部を用いて前記第2の供給源から供給された前記撥水性のモノマーからプラズマを生成し、前記チャンバ内に収容された前記基体の表面に蒸着された前記反射膜の表面に、前記撥水性の重合体の膜を形成し、
前記プラズマ反応部は、前記プラズマ生成部を用いて前記第1の供給源から供給された前記アルゴンガスから前記チャンバ内にプラズマを生成し、前記アルゴンガスのプラズマを前記重合体の膜の表面に接触させることによって前記重合体の膜の表面を親水化することを特徴とする反射鏡製造装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002003501A JP3908036B2 (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 |
US10/326,737 US6803079B2 (en) | 2002-01-10 | 2002-12-20 | Method for manufacturing reflector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002003501A JP3908036B2 (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003207611A JP2003207611A (ja) | 2003-07-25 |
JP3908036B2 true JP3908036B2 (ja) | 2007-04-25 |
Family
ID=19190886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002003501A Expired - Fee Related JP3908036B2 (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6803079B2 (ja) |
JP (1) | JP3908036B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8001969B2 (en) * | 2005-02-07 | 2011-08-23 | Securisyn Medical, Llc | Complete airway stabilization system and method |
ES2294928B1 (es) * | 2006-06-05 | 2009-02-01 | Odel Lux S.A. | Luminaria de interior para empotrado en falsos techos. |
KR101044358B1 (ko) | 2006-07-04 | 2011-06-29 | 가부시키가이샤 알박 | 반사경의 제조장치 및 그 제조방법 |
US8363296B2 (en) | 2006-10-04 | 2013-01-29 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device, image forming apparatus, mirror, housing, mirror attaching method, mirror arrangement adjusting device, and mirror arrangement adjusting method |
US8425058B2 (en) * | 2006-11-14 | 2013-04-23 | Alpine Electronics, Inc. | Optical unit, image pickup device using the optical unit, and on-vehicle image display device using the image pickup device |
US8367200B2 (en) * | 2007-01-11 | 2013-02-05 | Kobe Steel, Ltd. | Reflecting film excellent in cohesion resistance and sulfur resistance |
DE102007010124A1 (de) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Leybold Optics Gmbh | Schichtsystem für wischfeste Reflektoren |
EP2204674A4 (en) * | 2007-09-25 | 2012-12-05 | Kobe Steel Ltd | REFLECTIVE FILM, REFLECTIVE FILMLAMINATE, LED, ORGANIC EL DISPLAY AND ORGANIC EL LIGHTING ARRANGEMENT |
WO2009131036A1 (ja) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 株式会社アルバック | 成膜方法及び成膜装置 |
DE102009043824A1 (de) * | 2009-08-21 | 2011-02-24 | Asml Netherlands B.V. | Reflektives optisches Element und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP5719179B2 (ja) * | 2010-01-25 | 2015-05-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 反射膜積層体 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE435297B (sv) | 1975-08-22 | 1984-09-17 | Bosch Gmbh Robert | Optiska reflektorer framstellda genom att reflektorytan belegges med ett skyddsskikt |
US4445991A (en) * | 1982-11-10 | 1984-05-01 | Mobil Oil Corporation | Enhanced wettability of organic surfaces |
JP2846343B2 (ja) * | 1989-06-14 | 1999-01-13 | 株式会社メニコン | 酸素透過性硬質コンタクトレンズの表面処理法 |
US5010458A (en) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | General Motors Corporation | Headlamp assembly |
JP3063769B2 (ja) * | 1990-07-17 | 2000-07-12 | イーシー化学株式会社 | 大気圧プラズマ表面処理法 |
US5456972A (en) * | 1993-05-28 | 1995-10-10 | The University Of Tennessee Research Corporation | Method and apparatus for glow discharge plasma treatment of polymer materials at atmospheric pressure |
US5865530A (en) * | 1996-02-15 | 1999-02-02 | Valeo Sylvania | Filled resin lamp reflector with no base coat and method of making |
DE19704947A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Schutzbeschichtung von Verspiegelungsschichten |
US6520650B2 (en) * | 1999-02-08 | 2003-02-18 | Valeo Sylvania L.C.C. | Lamp reflector with a barrier coating of a plasma polymer |
-
2002
- 2002-01-10 JP JP2002003501A patent/JP3908036B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-12-20 US US10/326,737 patent/US6803079B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6803079B2 (en) | 2004-10-12 |
JP2003207611A (ja) | 2003-07-25 |
US20030132537A1 (en) | 2003-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3908036B2 (ja) | 反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置 | |
US4085248A (en) | Method to apply a protective layer to the surface of optical reflectors, and so-made reflectors, particularly automotive vehicle head lamps | |
CA2472909C (en) | Process for treating an ophthalmic lens | |
WO2022007555A1 (zh) | 超疏水膜层及其制备方法和产品 | |
JP2000241611A (ja) | プラズマポリマのバリアコーティングを有するランプ反射鏡 | |
EP1506063A2 (en) | Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate | |
EP0183707A1 (fr) | Traitement de surface d'une piece pour ameliorer l'adherence d'un revetement depose ensuite sur la piece, par projection a chaud. | |
JP2017019279A (ja) | 撥水撥油性表面を有する構造体及びその製造方法 | |
US6488384B2 (en) | Method for the coating of substrates made of plastic | |
KR100375131B1 (ko) | 플라스틱 기판에 금속막을 코팅하기 위한 진공코팅장치 및코팅방법 | |
WO2022201853A1 (ja) | 積層体製造装置及び自己組織化単分子膜の形成方法 | |
JPS63296002A (ja) | 無機コート膜を有する光学物品及びその製造方法 | |
JP2010058111A (ja) | コーティング方法及び該コーティング方法で表面処理したプラスティック製品 | |
AU1507999A (en) | Plasma polymerization on surface of material | |
JPH11288929A (ja) | 被処理構造体の表面処理方法 | |
JP4085455B2 (ja) | 反射膜付き樹脂部品及びその製造方法 | |
JP2006131938A (ja) | 超撥水膜の製造方法および製造装置並びにその製品 | |
TWI452155B (zh) | 反射鏡之製造方法 | |
KR101366027B1 (ko) | 수분 발생용 반응로 | |
Kobrin et al. | Molecular vapor deposition (MVD) for improved SAM coatings | |
JPH078900A (ja) | 高撥水性材料の製造方法 | |
CN104508365A (zh) | 制造反射器的方法 | |
JP4801448B2 (ja) | 光学膜の形成方法 | |
JPH0752395A (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP2023136800A (ja) | 機能性薄膜及びその製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060613 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060728 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061003 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061109 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20061213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3908036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100126 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140126 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |