JP3875263B2 - α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを含有する農業用殺菌剤 - Google Patents

α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを含有する農業用殺菌剤 Download PDF

Info

Publication number
JP3875263B2
JP3875263B2 JP52623695A JP52623695A JP3875263B2 JP 3875263 B2 JP3875263 B2 JP 3875263B2 JP 52623695 A JP52623695 A JP 52623695A JP 52623695 A JP52623695 A JP 52623695A JP 3875263 B2 JP3875263 B2 JP 3875263B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
optionally substituted
oxygen atom
salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP52623695A
Other languages
English (en)
Inventor
俊一 大塚
孝己 村司
慎司 鈴木
道生 益子
秀行 竹中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shionogi and Co Ltd
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shionogi and Co Ltd filed Critical Shionogi and Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of JP3875263B2 publication Critical patent/JP3875263B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/18Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • C07D295/195Radicals derived from nitrogen analogues of carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/02Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C229/34Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C07C229/36Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings with at least one amino group and one carboxyl group bound to the same carbon atom of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C235/00Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
    • C07C235/02Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C235/32Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C07C235/34Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings having the nitrogen atoms of the carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C237/00Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
    • C07C237/02Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atoms of the carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C237/20Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atoms of the carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/04Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C251/10Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • C07C251/16Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/24Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C257/00Compounds containing carboxyl groups, the doubly-bound oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a doubly-bound nitrogen atom, this nitrogen atom not being further bound to an oxygen atom, e.g. imino-ethers, amidines
    • C07C257/10Compounds containing carboxyl groups, the doubly-bound oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a doubly-bound nitrogen atom, this nitrogen atom not being further bound to an oxygen atom, e.g. imino-ethers, amidines with replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group by nitrogen atoms, e.g. amidines
    • C07C257/14Compounds containing carboxyl groups, the doubly-bound oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a doubly-bound nitrogen atom, this nitrogen atom not being further bound to an oxygen atom, e.g. imino-ethers, amidines with replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group by nitrogen atoms, e.g. amidines having carbon atoms of amidino groups bound to acyclic carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/16Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/18Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/44Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/46Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/45Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms doubly-bound to the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/51Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/56Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/51Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/60Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton with the carbon atom of at least one of the carboxyl groups bound to nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00Thiocarboxylic acids
    • C07C327/20Esters of monothiocarboxylic acids
    • C07C327/22Esters of monothiocarboxylic acids having carbon atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00Thiocarboxylic acids
    • C07C327/38Amides of thiocarboxylic acids
    • C07C327/40Amides of thiocarboxylic acids having carbon atoms of thiocarboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C327/44Amides of thiocarboxylic acids having carbon atoms of thiocarboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00Thiocarboxylic acids
    • C07C327/58Derivatives of thiocarboxylic acids, the doubly-bound oxygen atoms being replaced by nitrogen atoms, e.g. imino-thio ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C57/00Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C57/46Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings and other rings, e.g. cyclohexylphenylacetic acid
    • C07C57/48Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings and other rings, e.g. cyclohexylphenylacetic acid having unsaturation outside the aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C57/00Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C57/52Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
    • C07C57/58Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40Unsaturated compounds
    • C07C59/42Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups
    • C07C59/48Unsaturated compounds containing hydroxy or O-metal groups containing six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40Unsaturated compounds
    • C07C59/58Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/64Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/66Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/68Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings the oxygen atom of the ether group being bound to a non-condensed six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734Ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734Ethers
    • C07C69/736Ethers the hydroxy group of the ester being etherified with a hydroxy compound having the hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/08Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/10Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with radicals containing only carbon and hydrogen atoms attached to ring carbon atoms
    • C07D211/14Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with radicals containing only carbon and hydrogen atoms attached to ring carbon atoms with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached to the ring nitrogen atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/02Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2602/00Systems containing two condensed rings
    • C07C2602/02Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
    • C07C2602/04One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
    • C07C2602/08One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being five-membered, e.g. indane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)

Description

技術分野
本発明は、新規α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを有効成分として含有する農業用殺菌剤に関する。
背景技術
ある種のα−置換フェニル酢酸エステル誘導体は、既に、特開昭60−54949号およびDE2742065に記載されているが、これらはいずれも該フェニル基の3位に置換基を有するものであり、2位に置換基を有する化合物は開示されていない。また特開平3−17052号および特開平3−157350号もα−置換フェニル酢酸エステル誘導体を開示するが、これは2−ヒドロキシ−2−フェニル酢酸またはその酢酸エステルを開示し、それらがいずれも中間体または殺虫剤として開示されているにすぎず、殺菌活性を有することは何ら開示されていない。
また、特開平4−288045号、特開平4−261147号、WO93/15046、EP−A−498396、特開平3−169842号、EP−A−532022、特開平7−17930号およびEP−A−619301にもこれら類縁化合物が開示されている。
本発明は、優れた殺菌活性を有する新規化合物、その製造法、およびそれを有効成分として含有する農業用殺菌剤を提供することを目的とする。
発明の開示
かかる事情に鑑み、本発明者らは、優れた殺菌活性を有する化合物を得るために鋭意研究を重ねた結果、フェニル基が2位で置換された新規α−置換フェニル酢酸誘導体が、強力な殺菌活性を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
1.一般式(I):
Figure 0003875263
[式中、R1はハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアミノ基またはニトロ基;Qは置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロ環基、モノ置換またはジ置換メチレンアミノ基、置換されていてもよい(置換イミノ)メチル基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換カルボニル基または置換スルホニル基;Xは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい水酸基;Yは置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基または置換されていてもよいアミノ基(ただし、R1が水酸基の場合、Yはアルコキシ基ではない);Zは酸素原子または硫黄原子;Mは酸素原子、S(O)i(iは0、1または2)、NR2(R2は水素原子、アルキル基またはアシル基)または単結合;およびnは0、1または2を示す]で表される化合物またはその塩、
2.R1がハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ハロアルコキシ基、ハロアルケニルオキシ基、ハロアルキニルオキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、(アルキルチオ)カルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、モノあるいはジアルキル置換カルバモイルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基またはテトラヒドロピラニルオキシ基である上記1記載の化合物またはその塩、
3.R1がアルコキシ基である上記1記載の化合物またはその塩、
4.R1がメトキシ基である上記1記載の化合物またはその塩、
5.Qが一般式(XX):
Figure 0003875263
[式中、U、VおよびWは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、または置換されていてもよいアミノ基を示す]で表される基である上記1記載の化合物またはその塩、
6.U、VおよびWが同一または異なって、水素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基またはメトキシ基である上記5記載の化合物またはその塩、
7.Qがそれぞれ置換されていてもよいピリジル基、ピリミジニル基、キノリル基、キナゾリニル基、ベンゾチアゾリル基またはピラゾリル基である上記1記載の化合物またはその塩、
8.Qが置換されていてもよいピリジル基である上記1記載の化合物またはその塩、
9.Qが式(a):
Figure 0003875263
[式中、R12およびR13は同一または異なって水素原子、置換されていてもよいアルキル基、アシル基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアミノ基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロ環基を示すか、あるいはR12とR13が結合してヘテロ原子が含まれていてもよい単環または多環を形成していることを示す。]で表される基である上記1記載の化合物またはその塩、
10.R12およびR13が同一または異なって水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基または置換されていてもよいヘテロ環基であるか、あるいはR12とR13が結合して、他の環と縮合していてもよいシクロペンタン環またはシクロヘキサン環を形成している上記9記載の化合物またはその塩、
11.R12がアルキル基である上記9記載の化合物またはその塩、
12.R12がメチル基またはエチル基である上記9記載の化合物またはその塩、
13.R13が、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、フェニル基およびシアノ基からなる群から選択される1〜3個の置換基を有していてもよいフェニル基である上記9記載の化合物またはその塩、
14.R13が、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基およびメトキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基を有していてもよいフェニル基である上記9記載の化合物またはその塩、
15.R13が、それぞれ置換されていてもよいピリジル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ピラジニル基、モルホリノ基またはピペラジニル基である上記9記載の化合物またはその塩、
16.Xが水素原子である上記1記載の化合物またはその塩、
17.Yがアルコキシ基である上記1記載の化合物またはその塩、
18.Yがメトキシ基である上記1記載の化合物またはその塩、
19.Yがモノアルキルアミノ基である上記1記載の化合物またはその塩、
20.Yがモノメチルアミノ基である上記1記載の化合物またはその塩、
21.Zが酸素原子である上記1記載の化合物またはその塩、
22.Mが酸素原子、硫黄原子または置換されていてもよいアミノ基である上記1記載の化合物またはその塩、
23.nが0である上記1記載の化合物またはその塩、
24.nが1である上記1記載の化合物またはその塩、
25.請求項1記載の化合物を有効成分として含有することを特徴とする農業用殺菌剤、
26.一般式(II):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物を還元することを特徴とする一般式(III):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物の製造法、
27.一般式(I−1):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物を、一般式(XXII):
3−L (XXII)
[式中、R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、(アルキルチオ)カルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはモノあるいはジアルキル置換カルバモイル基;およびLは脱離基を示す]で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式(I−2):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]で表される化合物の製造法、
28.一般式(IV−1):
Figure 0003875263
[式中、R4はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基またはアルコキシアルキル基;およびY1はアルコキシ基またはアルキルチオ基を示す]で表される化合物をアミン類と反応させることを特徴とする一般式(IV−2):
Figure 0003875263
[式中、R5は水素原子またはアルキル基、R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基を示し、他の記号は上記と同意義]で表される化合物の製造法、
29.一般式(I−1):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物をハロゲン化することを特徴とする一般式(I−5):
Figure 0003875263
[式中、Aはハロゲン原子を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物の製造法、
30.一般式(I−5):
Figure 0003875263
[式中、Aはハロゲン原子を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物を求核剤と反応させることを特徴とする一般式(I−6):
Figure 0003875263
[式中、Bはアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基またはニトロ基を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物の製造法、
31.一般式(XVIII):
Figure 0003875263
[式中、Dはハロゲン原子を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物を一般式(XIX):
Q−MH (XIX)
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式(I):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物の製造法、
32.一般式(XXIII):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物を一般式(XXIV):
Q−L (XXIV)
[式中、Lは脱離基を示し、Qは上記1と同意義]で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式(I):
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記1と同意義]で表される化合物の製造法、
33.一般式(XXXIX):
Figure 0003875263
[式中、R5は水素原子またはアルキル基、R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基、Dはハロゲン原子を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物またはその塩、
34.一般式(XXXII):
Figure 0003875263
[式中、Y2はアルコキシ基、Eは保護されている水酸基を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物またはその塩、
35.Eがテトラヒドロピラニルオキシ基または1−エトキシエトキシ基である上記34記載の化合物またはその塩、
36.一般式(XXXV):
Figure 0003875263
[式中、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基、Y2はアルコキシ基、Eは保護されている水酸基を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物またはその塩、
37.Eがテトラヒドロピラニルオキシ基または1−エトキシエトキシ基である上記36記載の化合物またはその塩、
38.一般式(XXXVI):
Figure 0003875263
[式中、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物またはその塩、
39.一般式(XXXVII):
Figure 0003875263
[式中、R5は水素原子またはアルキル基、R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基を示し、他の記号は上記1と同意義]で表される化合物またはその塩、および
40.Zが酸素原子である上記33〜39のいずれか1項に記載の化合物またはその塩に関する。
1で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素あるいはヨウ素が挙げられる。
1で示される置換されていてもよいアルキル基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられる。具体的には、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。このうちメチルおよびエチルが特に好ましい。置換アルキル基としては、例えば、置換基としてハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、好ましくはフッ素)を有するハロアルキル基(例、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、2−ブロモエチル、2,3−ジクロロプロピルなど);置換基として炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)を有するアルコキシアルキル基(例、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチルなど)などが挙げられる。このうち、ハロアルキル基としてはトリフルオロメチルが、アルコキシアルキル基としてはメトキシメチルが好ましい。
1で示される置換されていてもよい水酸基としては、例えば水酸基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいアルケニルオキシ基、置換されていてもよいアルキニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、(アルキルチオ)カルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、モノあるいはジアルキル置換カルバモイルオキシ基、アリールオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基などが挙げられる。
該置換されていてもよいアルコキシ基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基、具体的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなど;置換基としてハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、好ましくはフッ素)を有するハロアルコキシ基、具体的には、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシなど;置換基として炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)を有するアルコキシアルコキシ基、具体的には、メトキシメトキシ、2−メトキシエトキシ、エトキシメトキシなどが挙げられる。このうち、アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシおよびブトキシ、特にメトキシ好ましく、ハロアルコキシ基としてはジフルオロメトキシが好ましく、アルコキシアルコキシ基としてはメトキシメトキシが好ましい。
該置換されていてもよいアルケニルオキシ基としては、例えば炭素数2〜8、好ましくは炭素数2〜4のアルケニルオキシ基、具体的には、ビニルオキシ、アリルオキシ、プロペニルオキシ、イソプロペニルオキシ、ブテニルオキシ、イソブテニルオキシ、ペンテニルオキシ、ヘキセニルオキシ、ヘキサジエニルオキシなど;置換基としてハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)を有するハロアルケニルオキシ基、具体的には、3,3−ジクロロ−2−プロペニルオキシ、4,4,4−トリフルオロメチル−2−ブテニルオキシなどが挙げられる。このうち、アリルオキシが好ましい。
該置換されていてもよいアルキニルオキシ基としては、例えば炭素数2〜8、好ましくは炭素数2〜4のアルキニルオキシ基、具体的には、エチニルオキシ、プロパルギルオキシ、ブチニルオキシなど;置換基としてハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)を有するハロアルキニルオキシ基、具体的には、3−クロロ−2−プロピニルオキシ、4,4,4−トリフルオロメチル−2−ブチニルオキシなどが挙げられる。このうち、プロパルギルオキシが好ましい。
該アルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を含有するアルキルカルボニルオキシ基、具体的には、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシなどが挙げられる。このうち、アセトキシが好ましい。
該(アルキルチオ)カルボニルオキシ基としては、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を含有する(アルキルチオ)カルボニルオキシ基、具体的には、(メチルチオ)カルボニルオキシ、(エチルチオ)カルボニルオキシ、(プロピルチオ)カルボニルオキシなどが挙げられる。このうち(メチルチオ)カルボニルオキシが好ましい。
該アルキルスルホニルオキシ基としては、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を含有するアルキルスルホニルオキシ基、具体的には、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキシなどが挙げられる。このうち、メタンスルホニルオキシが好ましい。
該アリールスルホニルオキシ基としては、炭素数6〜12、好ましくは炭素数6〜8のアリール基を含有するアリールスルホニルオキシ基、具体的には、ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシなどが挙げられる。このうち、p−トルエンスルホニルオキシが好ましい。
該モノあるいはジアルキル置換カルバモイルオキシ基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を含有するモノあるいはジアルキル置換カルバモイルオキシ基、具体的には、N−モノメチルカルバモイルオキシ、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−モノエチルカルバモイルオキシなどが挙げられる。このうち、N,N−ジメチルカルバモイルオキシが好ましい。
該アリールオキシ基としては、例えば炭素数6〜12、好ましくは炭素数6〜8のアリールオキシ基、具体的には、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、2,5−ジメチルフェノキシなどが挙げられる。
該テトラヒドロピラニルオキシ基としては、例えば2−テトラヒドロピラニルオキシなどが挙げられる。
1で示されるアルキルチオ基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキルチオキ基、具体的には、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオが挙げられる。このうち、メチルチオが好ましい。
1で示されるアルキルスルフィニル基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキルスルフィニル基、具体的には、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニルなどが挙げられる。このうち、メチルスルフィニルが好ましい。
1で示されるアルキルスルホニル基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、具体的には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニルなどが挙げられる。このうち、メチルスルホニルが好ましい。
1で示される置換されていてもよいアミノ基としては、例えばアミノ基、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基でモノまたはジ置換されているアミノ基(例、モノメチルアミノ、ジメチルアミノ、モノエチルアミノなど)、ホルミル基でモノ置換されているアミノ基、炭素数2〜8、好ましくは炭素数2〜4のアルキルカルボニル基でモノ置換されているアミノ基(例、メチルカルボニルアミノなど)などが挙げられる。このうち、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたものが好ましく、モノメチルアミノが特に好ましい。
1は、好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ハロアルコキシ基、ハロアルケニルオキシ基、ハロアルキニルオキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、(アルキルチオ)カルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、モノあるいはジアルキル置換カルバモイルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基またはテトラヒドロピラニルオキシ基である。さらに好ましくは、アルコキシ基または水酸基である。このうちメトキシ基が特に好ましい。
Qで示される置換されていてもよいアリール基としては、炭素数6〜14のアリール基、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。これらアリール基が置換されている場合の置換基としては、低級(C1-8、好ましくはC1-6、さらに好ましくはC1-4;以下の置換基においても同意義を示す)アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチルなど)、低級アルケニル基(例、ビニル、アリル、クロチルなど)、低級アルキニル基(例、エチニル、プロパルギル、ブチニルなど)、シクロアルキル基(例、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなど)、低級アルコキシ低級アルキル基(例、メトキシメチル、エトキシメチル、2−メトキシエチルなど)、シクロアルケニル基(例、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなど)、低級アルカノイル基(例、アセチル、プロピオニル、イソブチリルなど)、低級アルキルシリル基(例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリブチルシリルなど)、ハロ(低級)アルキル基(例、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、2−ブロモエチル、2,3−ジクロロプロピルなど)、ジ(低級)アルキルアミノ基(例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなど)、フェニル基、フェニル(低級)アルキル基(例、ベンジル、フェネチルなど)、フェニル(低級)アルケニル基(例、スチリル、シンナミルなど)、フリル(低級)アルキル基(例、3−フリルメチル、2−フリルエチルなど)、フリル(低級)アルケニル基(例、3−フリルビニル、2−フリルアリルなど)、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、ニトロ、シアノ、低級アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオなど)、低級アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニルなど)、ホルミル基、アミノ基、モノ(低級)アルキルアミノ基(例、メチルアミノ、エチルアミノなど)、−OR[式中、Rは、水素原子、低級アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチルなど)、低級アルケニル基(例、ビニル、アリル、クロチルなど)、低級アルキニル基(例、エチニル、2−プロピニル、3−ブチニルなど)、ハロ(低級)アルキル基(例、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、2−ブロモエチル、2,3−ジクロロプロピルなど)、低級アルカノイル基(例、アセチル、プロピオニル、ブチリルなど)、フェニル、低級アルコキシフェニル基(例、3−メトキシフェニル、4−エトキシフェニルなど)、ニトロフェニル基(例、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニルなど)、フェニル(低級)アルキル基(例、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピルなど)、シアノフェニル(低級)アルキル基(例、3−シアノフェニルメチル、4−シアノフェニルエチルなど)、ベンゾイル、テトラヒドロピラニル、ピリジル、トリフルオロメチルピリジル、ピリミジニル、ベンゾチアゾリル、キノリル、ベンゾイル(低級)アルキル基(例、ベンゾイルメチル、ベンゾイルエチルなど)、ベンゼンスルホニル、または低級アルキルベンゼンスルホニル基(例、トルエンスルホニルなど)]、−CH2−G−R'[式中、Gは、−O−、−S−、または−NR"−(ここでR"は水素原子または低級アルキル基)であり、R'は、フェニル、ハロフェニル(例、2−クロロフェニル、4−フルオロフェニルなど)、低級アルコキシフェニル基(例、2−メトキシフェニル、4−エトキシフェニルなど)、ピリジル、またはピリミジニルである]などが挙げられる。
これら置換基は、該環の置換可能ないずれの位置にあってもよい。該置換基は1〜5個、好ましくは1〜4個、さらに好ましくは1〜3個であり、これらは同一であっても異なっていてもよい。
Qで示される置換されていてもよいアリール基は、好ましくは、一般式(XX):
Figure 0003875263
[式中、U、VおよびWは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、または置換されていてもよいアミノ基を示す]で表される。
U、VおよびWで示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、好ましくは塩素が挙げられる。
U、VおよびWで示される置換されていてもよいアルキル基としては、例えば上記R1で示される置換されていてもよいアルキル基として例示した基が挙げられる。このうち、アルキル基、ハロアルキル、アルコキシアルキル基が好ましく、メチルまたはエチル、トリフルオロメチルがさらに好ましく、特にメチルが好ましい。
U、VおよびWで示される置換されていてもよい水酸基としては、例えば上記R1で示される置換されていてもよい水酸基として例示した基が挙げられる。このうち、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ハロアルコキシ基またはフェノキシ基が好ましく、アルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
U、VおよびWで示されるアルキルチオ基および置換されていてもよいアミノ基としては、例えば上記R1で示されるアルキルチオ基および置換されていてもよいアミノ基として例示した基がそれぞれ挙げられる。このうち、メチルチオおよびジメチルアミンがそれぞれ好ましい。
Qで示される置換されていてもよいヘテロ環基としては、例えば、窒素、酸素および硫黄から選ばれる1〜4個のヘテロ原子を環構成原子として含有する5〜7員ヘテロ環基が挙げられる。これらのヘテロ環基は、さらに別のヘテロ環またはベンゼン環と縮合環を形成していてもよい。具体的には、それぞれ置換されていてもよいピリジル基(例、ピリジン−2−イル、ピリジン−3−イルなど)、ピリミジニル基(例、ピリミジン−4−イル、ピリミジン−2−イル)、キノリル基(例、キノリン−4−イル、)、キナゾリニル基(例、キナゾリン−4−イル、)、ベンゾチアゾリル基(例、ベンゾチアゾール−2−イル、)、ピラゾリル基(例、ピラゾール−5−イル、)などが挙げられる。このうち、置換されていてもよいピリジル基が好ましい。
これらヘテロ環基が置換されている場合、その置換基としては、上記Qで示されるアリール基の置換基として例示した基が挙げられる。このうち、ハロゲン原子、ハロ(低級)アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはホルミル基が好ましく、塩素原子またはトリフルオロメチル基がさらに好ましい。これら置換基は、該環の置換可能ないずれの位置にあってもよい。該置換基は1〜5個、好ましくは1〜4個、さらに好ましくは1〜3個であり、これらは同一であっても異なっていてもよい。
Qで示されるモノ置換またはジ置換メチレンアミノ基は、例えば式(a):
Figure 0003875263
[式中、R12およびR13は同一または異なって水素原子、置換されていてもよいアルキル基、アシル基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアミノ基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロ環基を示すか、あるいはR12とR13が結合してヘテロ原子が含まれていてもよい単環または多環を形成していることを示す(ただし、R12およびR13が同時に水素原子である場合を除く)]で表される。
式(a)中、R12またはR13で示される置換されていてもよいアルキル基としては、例えば上記R1で示されるアルキル基または置換アルキル基と同様の基が挙げられる。このうち、メチルおよびエチルが好ましい。
12またはR13で示されるアシル基としては、例えばアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基などが挙げられる。該アルキルカルボニル基としては、例えばC1-6アルキル−カルボニル基、好ましくはC1-4アルキル−カルボニル基、具体的には、例えばアセチル、トリフルオロアセチル、プロピオニル、ブチリルなどが挙げられる。該アリールカルボニル基としては、例えばC6-14アリール−カルボニル基、具体的には、例えばベンゾイル、ナフトイルなどが挙げられる。
12またはR13で示されるアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアミノ基としては、それぞれR1で示されるアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアミノ基と同様の基が挙げられる。
12またはR13で示されるシクロアルキル基としては、炭素数3〜7、好ましくは炭素数5〜6のシクロアルキル基、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどが挙げられる。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基としては、例えばC6-14アリール基、具体的には、例えばフェニル、ナフチル(例、1−ナフチルなど)、フルオレニルなどが挙げられる。このうち、フェニルが好ましい。該アリール基は、これら環基の可能ないずれの位置で置換されていてもよく、置換基の数は1〜3個である。置換基の具体例としては、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基、フェニル基、シアノ基などが挙げられる。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基としてのハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基としての置換されていてもよいアルキル基としては、例えば、上記R1で示される置換されていてもよいアルキル基と同様の基が挙げられる。このうち、アルキル基またはハロアルキル基が好ましく、特にメチルまたはトリフルオロメチルが好ましい。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基としての置換されていてもよい水酸基としては、例えば、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ハロアルコキシ基、アリールオキシ基などが挙げられる。該アルコキシ基としては、例えば炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基、具体的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどが挙げられる。このうちメトキシが好ましい。該アルケニルオキシ基としては、例えば炭素数2〜8、好ましくは炭素数2〜4のアルケニルオキシ基、具体的には、ビニルオキシ、アリルオキシ、クロチルオキシなどが挙げられる。このうち、アリルオキシが好ましい。該アルキニルオキシ基としては、例えば炭素数2〜8、好ましくは炭素数2〜4のアルキニルオキシ基、具体的には、エチニルオキシ、プロパルギルオキシ、ブチニルオキシなどが挙げられる。このうち、プロパルギルオキシが好ましい。該ハロアルコキシ基としては、上記アルコキシ基が少なくとも1個のハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)で置換されたもの、具体的には、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシなどが挙げられる。このうち、ジフルオロメトキシが好ましい。該アリールオキシ基としては、例えば炭素数6〜12、好ましくは炭素数6〜8のアリールオキシ基、具体的には、フェノキシ、ナフトキシなどが挙げられる。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基としてのアルキルチオ基としては、例えば、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4、さらに好ましくは炭素数1〜2のアルキルチオ基が挙げられる。具体的には、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどが挙げられる。このうち、メチルチオが好ましい。
12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基としての置換されていてもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基でモノまたはジ置換されていているアミノ基(例、モノメチルアミノ、ジメチルアミノ、モノエチルアミノなど)などが挙げられる。
12またはR13で示される置換されていてもよいヘテロ環基としては、例えば、環内に1〜4個、好ましくは1〜2個のヘテロ原子(例、酸素、窒素、硫黄など)を含有するヘテロ環基が挙げられる。これらヘテロ環基は、該環の可能ないずれの位置に結合手を有していてもよい。該ヘテロ環基の具体例としては、例えば、ピリジル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ピラジニル基、モルホリノ基、ピペラジニル基などが挙げられる。このうち、フリル基(例、2−フリルなど)、チエニル基(例、2−チエニルなど)、ピリジル基(2−ピリジルなど)、ピラジニル基(例、2−ピラジニルなど)、ピリミジニル基(例、2−ピリミジニルなど)、モルホリノ基が好ましい。該ヘテロ環基は置換されていてもよく、置換基としては、R12またはR13で示される置換されていてもよいアリール基の置換基と同様の基が挙げられる。
12とR13が結合して形成されるヘテロ原子が含まれていてもよい単環または多環は、R12およびR13とこれらが結合する炭素原子と共に形成される、ヘテロ原子(例、酸素、窒素、硫黄など)を含有していてもよい4〜8員環であり、該環は他の環と縮合環を形成していてもよい。該環の具体例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、インダン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン、5,6,7,8−テトラヒドロキノリン、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ[b]フランなどが挙げられる。これらの環は、その可能ないずれの位置に2価の結合手を有していてもよい。
Qで示される置換されていてもよい(置換イミノ)メチル基は、例えば式(b):
Figure 0003875263
[式中、R14およびR15はそれぞれ上記R12およびR13と同意義]で表される。
Qで示される置換されていてもよいアルキル基のアルキル基としては、上記R1で示されるアルキル基が挙げられる。Qで示される置換されていてもよいアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、炭素数2〜8、好ましくは炭素数3〜6のアルケニル基、具体的には、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニルなどが挙げられる。Qで示される置換されていてもよいアルキニル基のアルキニル基としては、例えば、炭素数2〜6、好ましくは炭素数2〜4のアルキニル基、具体的には、プロパルギル、エチニル、ブチニルなどが挙げられる。これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基が置換されている場合の置換基としては、例えば、それぞれ上記R1として例示したハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、置換されたアミノ基、それぞれ上記Qとして例示した置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基、置換されていてもよいヘテロ環基などが挙げられる。
Qで示される置換カルボニル基としては、例えば、(置換されていてもよいアルキル)カルボニル基、(置換されていてもよいフェニル)カルボニル基、(置換されていてもよいナフチル)カルボニル基、(置換されていてもよいヘテロ環基)カルボニル基などが挙げられる。
Qで示される置換スルホニル基としては、例えば、(置換されていてもよいアルキル)スルホニル基、(置換されていてもよいフェニル)スルホニル基、(置換されていてもよいナフチル)スルホニル基、(置換されていてもよいヘテロ環基)スルホニル基などが挙げられる。
これら置換カルボニル基または置換スルホニル基中の置換されていてもよいアルキル基としては上記R1で例示した基が、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基、置換されていてもよいヘテロ環基としては各々上記Qとして例示した基が挙げられる。
Qは、好ましくは、一般式(XX)で表される基、それぞれ置換されていてもよいピリジル基、ピリミジニル基、キノリル基、キナゾリニル基、ベンゾチアゾリル基またはピラゾリル基、または式(a)で表される基である。
Xは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい水酸基を示すが、これは、上記一般式(I)中のフェニレン基が非置換の場合(すなわちXが水素原子の場合)のほか、フェニレン基がハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基および置換されていてもよい水酸基から選ばれる1〜3個の置換基で可能ないずれかの位置で置換されている場合を包含する意である。該置換基が2個または3個の場合、これらは同一または異なっていてもよい。
Xで示されるハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基および置換されていてもよい水酸基としては、それぞれ、上記R1で示されるこれらの基として例示した基が挙げられる。
Xは、好ましくは水素原子である。
Yで示される置換されていてもよい水酸基およびアルキルチオ基としては、それぞれ、上記R1で示されるこれらの基として例示した基が挙げられる。このうち、メトキシ基が好ましい。
Yで示される置換されていてもよいアミノ基は、例えば一般式(XXI):
−NR56 (XXI)
[式中、R5は水素原子またはアルキル基;R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基を示す]で表される。R5またはR6で示されるアルキル基およびR6で示されるヒドロキシルアルキル基のアルキル基としては、上記R1で示されるアルキル基として例示した基が挙げられる。好ましくは、R5およびR6が同一または異なって、水素原子またはアルキル基(好ましくはメチル基)である。このうち、Yがモノアルキルアミノ基、特にモノメチルアミノ基である場合が好ましい。
Yは、好ましくはアルコキシ基または上記一般式(XXI)で表される基である。さらに好ましくは、メトキシ基またはモノアルキルアミノ基(好ましくはモノメチルアミノ基)である。
Zは、好ましくは酸素原子である。
2で示されるアルキル基としては、例えば、上記R1で示されるアルキル基として例示した基が挙げられる。このうち、メチルが好ましい。
2で示されるアシル基としては、ホルミル;炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を含有するアルキルカルボニル基(例、アセチル、プロピオニル、ブチリルなど);ベンゾイルなどが挙げられる。このうち、アセチルが好ましい。
Mは、好ましくは酸素原子、硫黄原子またはNR2、さらに好ましくは酸素原子である。
nは、好ましくは0または1である。
一般式(I)で表される本発明化合物は2位に不斉炭素原子を有するが、それぞれの光学異性体の他、それらの混合物も本発明に包含される。
一般式(I)で表される化合物は、好ましくは、
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいフェニル基、およびnが0または1である化合物;
Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルコキシ基または置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいフェニル基、およびnが0または1である化合物;
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいヘテロ環基、およびnが0または1である化合物;
Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルコキシ基または置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいヘテロ環基、およびnが0または1である化合物;
Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが式(a)で表される基、R12がアルキル基、R13が置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいモルホリノ基、およびnが1である化合物;または
Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、Mがアシルアミノ基、Qが式(a)で表される基、R12がアルキル基、R13が置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいモルホリノ基、およびnが1である化合物である。
一般式(I)で表される化合物のより好ましい具体例を以下に挙げる。
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qがフェニル基、およびnが0である化合物(化合物番号1);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがアミノ基、Mが酸素原子、Qがフェニル基、およびnが0である化合物(化合物番号2);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3,4−ジメチルフェニル基、およびnが0である化合物(化合物番号15);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3,5−ジメチルフェニル基、およびnが0である化合物(化合物番号16);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号64);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2,5−ジメチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号75);
Xが水素原子、R1が水酸基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが4−クロロ−2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号113);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがメトキシ基、Mが酸素原子、Qが2,5−ジメチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号139);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2,5−ジメチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号140);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが4−クロロ−2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号186);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号197);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−クロロ−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号427);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3,5−ジクロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号433);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−トリフルオロメチル−5−クロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号448);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−クロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号466);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qがα−メチル−4−クロロベンジリデンアミノ基、およびnが1である化合物(化合物番号474);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qがα−メチル−4−メトキシベンジリデンアミノ基、およびnが1である化合物(化合物番号492);
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが4,α−ジメチルベンジリデンアミノ基、およびnが1である化合物(化合物番号498);または
Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qがα−メチル−4−トリフルオロメチルベンジリデンアミノ基、およびnが1である化合物(化合物番号526)。
つぎに、一般式(I)に包含される本発明化合物の好ましい製造法を例示する。
A法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
本発明化合物(I-1)は、化合物(II)を還元することにより製造することができる。
還元剤としては、ケトンの還元に用いる通常の還元剤、例えば金属水素化物、金属水素錯化合物などを用いることができる。具体的には、三配位ボラン(例、ボランなど)、四配位ボラート(例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなど)、三配位アルミニウム(例、水素化ジイソブチルアルミニウムなど)、四配位アルミナート錯体(例、水素化リチウムアルミニウムなど)などが挙げられる。還元剤の使用量は、化合物(II)に対して0.25〜3当量、好ましくは1.0〜1.2当量使用する。
反応溶媒は、メタノール、エタノールなどのアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;水などが挙げられ、これらを単独でまたはこれらを混合して使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜2時間である。
得られた本発明化合物(I-1)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
本反応で原料として用いる化合物(II)は、例えば特開平3−246268号、特開平5−97768号または特開平5−331124号に記載の方法により、例えば、対応するハロゲン化フェニルをブチルリチウムまたはマグネシウムと反応させ、ついでシュウ酸ジアルキルと反応させることにより製造することができる。あるいは、下記Q法により製造することもできる。
B法
Figure 0003875263
[式中、R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、(アルキルチオ)カルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはモノあるいはジアルキル置換カルバモイル基、Lは脱離基あるいはR3−Lでジヒドロピランを示し、他の記号は上記と同意義]
3で示される各基としては、例えば、上記R1で示される置換されている水酸基の置換基に相当する基が挙げられる。Lで示される脱離基としては、例えば、ハロゲン原子(例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルスルホニルオキシ(例、メタンスルホニルオキシなど)などが挙げられる。
本発明化合物(I−2)は、本発明化合物(I−1)を化合物(XXII)と反応させてアルキル化、アルケニル化、アルキニル化、カルボニル化、スルホニル化、カルバモイル化またはテトラヒドロピラニル化することにより製造することができる。
アルキル化、アルケニル化およびアルキニル化は、例えば、塩基存在下、化合物(XXII)としてそれぞれ、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニルおよびハロゲン化アルキニルを用いて行うことができる。ハロゲン化アルキルとしては、例えば、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ヨードブタン、クロロトリフルオロメタン、1,2−ジブロモエタン、クロロメチルエーテルなどが挙げられる。ハロゲン化アルケニルとしては、例えば、アリルブロミドなどが挙げられる。ハロゲン化アルキニルとしては、例えばプロパルギルブロミドなどが挙げられる。これらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなど)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などが挙げられ、それらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜10時間である。
カルボニル化は、例えば、塩基存在下、化合物(XXII)として酸ハロゲン化物(例、アセチルクロリド、アセチルブロミド、プロピオニルクロリド、チオアセチルクロリドなど)あるいは酸無水物(例、無水酢酸、無水プロピオン酸など)を用いて行うことができる。これら酸ハロゲン化物あるいは酸無水物は化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒は、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜5時間である。
スルホニル化は、例えば、塩基存在下、化合物(XXII)としてアルキルスルホニルハライド(例、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリドなどのアルキルスルホニルクロリドなど)あるいはアリールスルホニルハライド(例、ベンゼンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリドなどのアリールスルホニルクロリドなど)を用いて行うことができる。これらアルキルスルホニルハライドあるいはアリールスルホニルハライドは、化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜5時間である。
カルバモイル化は、例えば、塩基存在下、化合物(XXII)としてN−アルキル化されていてもよいカルバモイルハライド(例、モノエチルカルバモイルクロリド、ジメチルカルバモイルクロリドなど)を用いて行うことができる。該カルバモイルハライドは化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒は、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20〜70℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
テトラヒドロピラニル化は、テトラヒドロピラニル基による通常の水酸基保護法を用いて行うことができる。例えば、下記Y法の反応と同様にして行うことができる。
得られた本発明化合物(I−2)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
C法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
本発明化合物(I−4)は、本発明化合物(I−3)にイオウ化剤を反応させることにより製造することができる。
イオウ化剤としては、例えば、五硫化リンあるいはローソン試薬が挙げられ、それらを化合物(I−3)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;あるいはピリジンが挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は室温〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは80℃〜150℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(I−4)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
D法
Figure 0003875263
[式中、R4はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基またはアルコキシアルキル基、R5は水素原子またはアルキル基、R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基、Y1はアルコキシ基またはアルキルチオ基を示し、他の記号は上記と同意義]
4で示される各基としては、例えば、上記R1で示される置換されている水酸基の置換基に相当する基が挙げられる。Y1で示されるアルコキシ基およびアルキルチオ基としては、例えば、それぞれ上記R1として例示したアルコキシ基およびアルキルチオ基が挙げられる。
本発明化合物(IV−2)は、本発明化合物(IV−1)にアミン類を反応させることにより製造することができる。
アミン類としては式(V):R56NH(式中、R5およびR6は上記と同意義)で表される化合物、具体的には、液体アンモニア;メチルアミン、エチルアミンなどの一級アミン;ジメチルアミン、ジエチルアミンなどの二級アミンが挙げられ、その使用量は化合物(IV−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。
反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(IV−2)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
E法
Figure 0003875263
[式中、Aはハロゲン原子を示し、他の記号は上記と同意義]
Aで示されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
本発明化合物(I−5)は、本発明化合物(I−1)をハロゲン化することにより製造することができる。該ハロゲン化に用いるハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィンなどの塩素化剤;臭化チオニル、三臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィンなどの臭素化剤が挙げられ、それらを一般式(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(I−5)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
F法
Figure 0003875263
[式中、R7はアルキル基、mは1または2を示し、他の記号は上記と同意義]
7で示されるアルキル基としては、例えば、上記R1で示されるアルキル基として例示した基が挙げられる。
本発明化合物(XII)は、本発明化合物(XI)を酸化することにより製造することができる。該酸化反応に用いる酸化剤としては、例えば、過酸化水素、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸などの過酸類、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、ヒドロペルオキシドなどが挙げられ、それらを化合物(XI)に対して1〜10当量、好ましくは1〜3当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は−20℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(XII)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
G法
Figure 0003875263
[式中、Aはハロゲン原子、Bは置換されている水酸基、アルキルチオ基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基またはニトロ基を示し、他の記号は上記と同意義]
Bで示される各基としては、例えば上記R1で示されるこれらの基として例示したものが挙げられる。
本発明化合物(I−6)は、本発明化合物(I−5)に求核剤を反応させてA基を置換することにより製造することができる。
例えば、置換されている水酸基に置換する場合は、求核剤として、例えばアルコールの金属塩(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウム2−プロペノキシド、カリウム2−プロピノキシド、カリウム2、2、2−トリフルオロエトキシド、ナトリウムメトキシメトキシドなど)を直接用いるか、あるいは反応液中でアルコール類と金属水素化物(例、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)によりアルコールの金属塩を生成して用いる。どちらの場合もアルコールの金属塩として一般式(I−5)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドを使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
アルキルチオ基に置換する場合は、例えば、アルキルメルカプタンの金属塩(例、ナトリウムチオメトキシド、ナトリウムチオエトキシドなど)を直接用いるか、あるいは反応液中でアルキルメルカプタンと金属水素化物(例、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)または水酸化物(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)によりアルキルメルカプタンの金属塩を生成して用いる。いずれの場合もアルキルメルカプタンの金属塩として化合物(I−5)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたは水などを単独であるいは混合して使用することができる。
反応温度は0℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
アルキル基で置換されていてもよいアミノ基に置換する場合は、例えばアミン類(例、液体アンモニア、アンモニア水、モノメチルアミン、ジメチルアミンなど)を化合物(I−5)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたは水などを単独であるいは混合して使用することができる。
反応温度は−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜80℃、反応時間は0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
ニトロ基に置換する場合は、亜硝酸塩(例、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなど)を化合物(I−5)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量、さらにプロログルシノールを化合物(I−5)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどを使用することができる。
反応温度は0℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(I−6)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
H法
Figure 0003875263
[式中、R8はアルキル基、ハロアルキル基またはアルコキシアルキル基、Y3は水酸基またはアミノ基を示し、他の記号は上記と同意義]
8で示される各基としては、例えば上記R1で示されるこれらの基として例示したものが挙げられる。
本発明化合物(XV)は、化合物(XIV)を酸または塩基を用いて加水分解することにより製造することができる。
酸としては、例えば、鉱酸(例、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など)あるいは有機酸(例、ギ酸、酢酸など)が挙げられ、それらを単独あるいは混合して使用することができる。塩基としては、例えば、有機塩基(例、ナトリウムエトキシドなど)あるいは無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)が挙げられる。これら酸または塩基は、化合物(XIV)に対して1〜10当量、好ましくは1〜3当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などが挙げられ、それらを単独あるいは混合して使用することができる。
反応温度は−80℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜6時間である。
得られた本発明化合物(XV)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
本反応で原料として用いる化合物(XIV)は、例えば下記R法により製造することができる。
I法
Figure 0003875263
[式中、Y4はアルコキシ基、モノまたはジアルキル基で置換されたアミノ基を示し、他の記号は上記と同意義]
4で示される各基としては、例えば、上記R1で示されるこれらの基として例示したものが挙げられる。
本発明化合物(XVI)は、本発明化合物(XV)をアルキル化することにより製造することができる。アルキル化は、塩基存在下、ハロゲン化アルキル類を用いて行うことができる。ハロゲン化アルキル類としては、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ヨードブタンなどが挙げられ、それらを化合物(XV)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、ブチルリチウム、ナトリウムエトキシドなど)あるいは無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(XV)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどを使用することができる。
反応温度は−80℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜6時間である。
得られた本発明化合物(XVI)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
J法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
本発明化合物(X)は、適当な溶媒中、本発明化合物(I)を加水分解することにより製造することができる。
加水分解は、化合物(I)を塩基で処理することにより行うことができる。塩基としては、例えば有機塩基(例、ナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシド類)あるいは無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化金属塩など)が挙げられ、それらを化合物(I)に対して1〜10当量、好ましくは1〜3当量用いる。
反応溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などが挙げられ、それらを単独あるいは混合して使用することができる。
反応温度は−80℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜6時間である。
得られた本発明化合物(X)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
K法
Figure 0003875263
[式中、R11はアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を示し、他の記号は上記と同意義]
本発明化合物(XVII)は、本発明化合物(X)に化合物(XIII)を反応させることにより製造することができる。
本反応は、例えば、塩基存在下、化合物(XIII)としてハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニルおよびハロゲン化アルキニルを用いて行うことができる。ハロゲン化アルキルとしては、例えば、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ヨードブタン、クロロトリフルオロメタン、1,2−ジブロモエタン、クロロメチルエーテルなどが挙げられる。ハロゲン化アルケニルとしては、例えば、アリルブロミドなどが挙げられる。ハロゲン化アルキニルとしては、例えばプロパルギルブロミドなどが挙げられる。これらを化合物(X)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなど)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などが挙げられ、それらを化合物(X)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜10時間である。
得られた本発明化合物(XVII)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
L法
Figure 0003875263
[式中、Jは水素原子または金属塩を示し、他の記号は上記と同意義]
本発明化合物(I)は、まず本発明化合物(X)をハロゲン化し、ついで化合物(XXVIII)と反応させることにより製造することができる。
Jで示される金属塩としては、アルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(マグネシウム塩、カルシウム塩など)などが挙げられる
ハロゲン化は、例えばハロゲン化スルホニルを触媒量の塩基、例えばN、N−ジメチルホルムアミドの存在下、一般式(X)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。
ハロゲン化スルホニルとしては、例えば塩化スルホニルあるいは臭化スルホニルを用いる。
反応溶媒は、例えば、塩化メチレン、1、2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテルなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類などを使用することができる。
反応温度は、室温から溶媒還流温度までの適当な温度、反応時間は、0.5〜24時間、好ましくは1〜5時間である。
得られた酸ハロゲン化物は、精製せず次の反応に使用することができる。
該酸ハロゲン化物は、例えば、塩基存在下にアルコール類、メルカプタン類またはアミン類、あるいはそれらの金属塩YJ(XXVIII)と反応させて一般式(I)に変換することができる。
塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを酸ハロゲン化物に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、塩化メチレン、1、2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテルなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミドなどを使用することができる。
反応温度は、0℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃から室温、反応時間は、0.5〜24時間、好ましくは0.5〜2時間である。
得られた本発明化合物(I)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
M法
Figure 0003875263
[式中、Dはハロゲン原子を示し、他の記号は上記と同意義]
本発明化合物(I)は、適当な溶媒中、化合物(XVIII)に化合物(XIX)を反応させることにより製造することができる。
上記式中、Dで示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
化合物(XIX)は化合物(XVIII)に対して1〜3当量、好ましくは1〜1.5当量使用する。
本反応は好ましくは塩基存在下で行う。塩基としては、例えば有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどのアルコキシド;ピリジン、トリエチルアミンなどのアミン類など)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化金属塩;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸金属塩;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水素化物など)などが挙げられ、それらを化合物(XVIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜72時間、好ましくは0.5〜10時間である。
得られた本発明化合物(I)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
N法
Figure 0003875263
[式中、Lは脱離基を示し、他の記号は上記と同意義]
本発明化合物(I)は、化合物(XXIII)に化合物(XXIV)を反応させることにより製造することができる。
化合物(XXIV)としては、上記Qで示される基がその可能ないずれかの位置でLにより置換されているものが挙げられる。化合物(XXIV)の好ましい具体例としては、ハロゲン化アルキル(例、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ヨードブタン、クロロトリフルオロメタン、1,2−ジブロモエタン、クロロメチルエーテルなど);ハロゲン化アルケニル(例、アリルブロミドなど);ハロゲン化アルキニル(例、プロパルギルブロミドなど);酸ハロゲン化物(例、アセチルクロリド、アセチルブロミド、プロピオニルクロリド、チオアセチルクロリドなど);酸無水物(例、無水酢酸、無水プロピオン酸など);アルキルスルホニルハライド(例、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリドなどのアルキルスルホニルクロリドなど);アリールスルホニルハライド(例、ベンゼンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリドなどのアリールスルホニルクロリドなど);N−アルキル化されていてもよいカルバモイルハライド(例、モノエチルカルバモイルクロリド、ジメチルカルバモイルクロリドなど);ピリジン類(例、2,3−ジクロロピリジン、2,5−ジクロロピリジン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン、2−クロロ−5−トリフルオロメチルピリジン、2−クロロ−3−メチルピリジン、2,3,5−トリクロロピリジン、2,3−ジクロロ−5−トリフルオロメチルピリジン、2,5−ジクロロ−3−トリフルオロメチルピリジンなど);ピリミジン類(例、4,6−ジクロロピリミジン、2−クロロ−4,6−ジメチルピリミジン、4−クロロ−5−エトキシカルボニル−6−エチルピリミジンなど);ピラゾール類(例、5−クロロ−4−ホルミル−1−メチルピラゾール、5−クロロ−4−メトキシカルボニル−1,3−ジメチルピラゾールなど);キノリン類(例、4−クロロキノリンなど);ベンゾチアゾール類(例、2−クロロベンゾチアゾールなど);キナゾリン類(例、4−クロロキナゾリンなど);ベンゼン類(例、1−ヨード−4−ニトロベンゼン、1−ブロモ−4−トリフルオロメチルベンゼンなど)などが挙げられる。
例えばQが置換されていてもよいアリール基の場合、本反応は塩基存在下、化合物(XXIV)を化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。塩基としては、例えば有機塩基(例、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)などが挙げられ、それらを化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。反応溶媒としては、例えばテトラヒドロフランなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド;N,N−ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。反応温度は、室温〜200℃、好ましくは100〜150℃、反応時間は、1〜48時間、好ましくは2〜24時間である。
例えばQが置換されていてもよいヘテロ環基の場合、本反応は塩基存在下、化合物(XXIV)を化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。塩基としては、例えば有機塩基(例、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)などが挙げられ、それらを化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。反応溶媒としては、例えばテトラヒドロフランなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド;N,N−ジメチルホルムアミドなどを用いることができる。反応温度は、0〜150℃、好ましくは室温〜80℃、反応時間は、0.5〜48時間、好ましくは2〜12時間である。
例えばQがそれぞれ置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基の場合、本反応は塩基存在下、化合物(XXIV)を化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。塩基としては、例えば、有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなど)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などが挙げられ、それらを化合物(I−1)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜10時間である。
例えばQが置換カルボニル基の場合、本反応は塩基存在下、化合物(XXIV)を化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。反応溶媒は、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜70℃、さらに好ましくは20〜50℃、反応時間は0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間、さらに好ましくは0.5〜5時間である。
例えばQが置換スルホニル基の場合、本反応は塩基存在下、化合物(XXIV)を化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いて行う。塩基としては、例えば、有機塩基(例、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン、ピリジンなど)あるいは無機塩基(例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(XXIII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。反応溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜5時間である。
得られた本発明化合物(I)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
O法
Figure 0003875263
[式中、R9はテトラヒドロピラニル基を示す]
本発明化合物(I−1)は本発明化合物(XXV)を酸で処理することにより製造することができる。
9で示されるテトラヒドロピラニル基としては、例えば2−テトラヒドロピラニルなどが挙げられる。
本発明化合物(I−1)は、適当な溶媒中、化合物(XXV)を酸で処理することにより製造することができる。
本反応で用いる酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸;パラ−トルエンスルホン酸などのスルホン酸類;パラ−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどの酸塩基対などが挙げられる。それらを化合物(XXV)に対して0.01〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(I−1)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
P法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
本発明化合物(XXVII)は、本発明化合物(XXVI)を酸化することにより製造することができる。該酸化反応に用いる酸化剤としては、例えば、過酸化水素、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸などの過酸類、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、ヒドロペルオキシドなどが挙げられ、それらを化合物(XXVI)に対して1〜10当量、好ましくは1〜3当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は−20℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた本発明化合物(XXVII)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
以下、上記本発明化合物の製造法で原料として用いることができる化合物の製造法を説明する。
A法の反応の原料として用いることができる化合物(II)は、好ましくは以下のQ法により製造することができる。
Q法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(II)は、適当な溶媒中、塩基存在下、化合物(XXX)に化合物(XIX)を反応させることにより製造することができる。
化合物(XIX)は化合物(XXX)に対して1〜3当量、好ましくは1〜1.5当量使用する。
塩基としては、例えば有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどのアルコキシド;ピリジン、トリエチルアミンなどのアミン類など)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化金属塩;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸金属塩;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水素化物など)などが挙げられ、それらを化合物(XXX)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜10時間である。
得られた化合物(II)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として用いる化合物(XXX)は、例えば特開平2−3651あるいは特開平2−164866に従い、対応するアルキルフェニル体をハロゲン化することにより得ることができる。
H法の反応の原料として用いることができる化合物(XIV)は、好ましくは以下のR法により製造することができる。
R法
Figure 0003875263
[式中、R8はアルキル基、ハロアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し、他の記号は上記と同意義]
化合物(XIV)は、化合物(IX)に化合物(VI)を反応させることにより得られる。
8で示される各基としては、上記R1として例示したものが挙げられる。
化合物(VI)の具体例としては、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨウドプロパン、2−ヨウドプロパン、1−ヨウドブタン、クロロトリフルオロメタン、1、2−ジブロモエタン、クロロメチルエーテルなどが挙げられ、その使用量は化合物(IX)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。
本反応は、通常、塩基存在下で行う。塩基としては、例えば、有機塩基(例、ブチルリチウム、ナトリウムエトキシドなど)あるいは無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウムなど)が挙げられ、それらを化合物(IX)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノールなどのアルコール類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどを使用することができる。
反応温度は−80℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜6時間である。
得られた化合物(XIV)は、公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製することができる。
また、M法の反応の原料として用いることができる化合物(XVIII)に包含される化合物(XXXIX)は、好ましくは以下のS法により製造することができる。
S法
Figure 0003875263
[式中、R5は水素原子またはアルキル基、R6は水素原子、アルキル基またはヒドロキシルアルキル基、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基を示し、他の記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXIX)は、適当な溶媒中、化合物(XXXVII)をハロゲン化することにより製造することができる。
10で示される各々置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基としては、上記R1で示される置換されていてもよい水酸基の置換基として例示したアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が挙げられる。
本反応に用いるハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィンなどの塩素化剤;臭化チオニル、三臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィンなどの臭素化剤が挙げられ、それらを化合物(XXXVII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた化合物(XXXIX)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として使用することができる化合物(XXXVII)は、好ましくは以下のT法により製造することができる。
T法
Figure 0003875263
[式中、記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXVII)は、適当な溶媒中、化合物(XXXVI)に化合物(V)を反応させることにより製造することができる。
化合物(V)の好ましい具体例としては、液体アンモニア;メチルアミン、エチルアミンなどの一級アミン;ジメチルアミン、ジエチルアミンなどの二級アミンが挙げられ、それらを化合物(XXXVI)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた化合物(XXXVII)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として使用することができる化合物(XXXVI)は、好ましくは以下のU法により製造することができる。
U法
Figure 0003875263
[式中、Y2はアルコキシ基、Eは保護されている水酸基を示し、他の記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXVI)は、適当な溶媒中、化合物(XXXV)を酸で処理することにより製造することができる。
上記式中、Y2で示されるアルコキシ基としては、上記Yで示されるアルコキシ基と同様の基が挙げられる。
Eで示される保護されている水酸基の保護基としては、例えばティー・ダブリュー・グリーン(T.W.Green)、「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)」、p.1〜113、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ(John Willy & Sons)(1981);シー・ビー・リーズ(C.B.Reese)「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・ケミストリー(Protective Groups in Organic Chemistry)、ジェイ・エフ・マックオミー(J.F.McOmie)編、p.95〜143、プレナム・プレス(Plenum Press)(1973)などに記載のエーテル型保護基、アセタール型保護基などの通常の水酸基の保護基が挙げられる。
エーテル型保護基としては、例えば、アルキル基(例、C1-6アルキル基、好ましくはC1-4アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、t−ブチルなど)、アルケニル基(例、C2-6アルケニル基、好ましくはC2-4アルケニル基、例えばアリルなど)、アラルキル基(例、置換または非置換C6-10アリール−C1-4アルキル基、例えばベンジル、p−メトキシベンジル、トリフェニルメチルなど)、トリアルキルシリル基(例、トリC1-6アルキルシリル、例えばトリイソプロピルシリル、t−ブチルジメチルシリルなど)、アルキルジアリールシリル基(例、C1-6アルキルジC6-10アリールシリル、例えばt−ブチルジフェニルシリルなど)、トリアラルキルシリル基(例、トリベンジルシリルなど)などが挙げられる。
アセタール型保護基としては、例えば、アルコキシアルキル基(例、C1-4アルコキシ−C1-4アルキル、例えばメトキシメチル、1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチルなど)、アルコキシアルコキシアルキル基(例、C1-4アルコキシ−C1-4アルコキシ−C1-4アルキル、例えばメトキシエトキシメチルなど)、アルキルチオアルキル基(例、C1-4アルキルチオ−C1-4アルキル、例えばメチルチオメチルなど)、テトラヒドロピラニル基(例、テトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イルなど)、テトラヒドロチオピラニル基(例、テトラヒドロチオピラン−2−イルなど)、テトラヒドロフラニル基(倒、テトラヒドロフラン−2−イルなど)、テトラヒドロチオフラニル基(例、テトラヒドロチオフラン−2−イルなど)、アラルキルオキシアルキル基(例、ベンジルオキシメチルなど)などが挙げられる。
このうち、酸処理により脱保護できる保護基が好ましい。中でもテトラヒドロピラニル基(すなわちEがテトラヒドロピラニルオキシ基の場合)、1−エトキシエチル基(すなわちEが1−エトキシエトキシ基の場合)が好ましく、特にテトラヒドロピラン−2−イル(すなわちEが2−テトラヒドロピラニルオキシの場合)が好ましい。
本反応で用いる酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸;パラ−トルエンスルホン酸などのスルホン酸類;パラ−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどの酸塩基対などが挙げられる。それらを化合物(XXXV)に対して0.01〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;あるいは水が挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた化合物(XXXVI)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として使用することができる化合物(XXXV)は、好ましくは以下のV法により製造することができる。
V法
Figure 0003875263
[式中、Lは脱離基を示し、他の記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXV)は、適当な溶媒中、塩基存在下、化合物(XXXII)に化合物(XXXIV)を反応させることにより製造することができる。
上記式中、Lで示される脱離基としては、例えばハロゲン原子(例、塩素、臭素、ヨウ素など)、アルキルスルホニルオキシ基(例、メタンスルホニルオキシなど)、アリールスルホニルオキシ基など(例、パラ−トルエンスルホニルオキシなど)などが挙げられる。
本反応で用いる化合物(XXXIV)の好ましい具体例としては、ハロゲン化アルキル(例、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ヨードブタン、クロロトリフルオロメタン、1,2−ジブロモエタン、クロロメチルエーテルなど)、ハロゲン化アルケニル(例、アリルブロミドなど)、ハロゲン化アルキニル(例、プロパルギルブロミドなど)などが挙げられ、これらを化合物(XXXII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
塩基としては、例えば有機塩基(例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどのアルコキシド類)、無機塩基(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化金属塩;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水素化物など)などが挙げられ、それらを化合物(XXXII)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量用いる。
反応溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエンなどを使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜10時間である。
得られた化合物(XXXV)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として使用することができる化合物(XXXII)は、好ましくは以下のW法により製造することができる。
W法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXII)は、適当な溶媒中、化合物(XXXI)を還元することにより製造することができる。
還元剤としては、ケトンの還元に用いる通常の還元剤、例えば金属水素化物、金属水素錯化合物などを用いることができる。具体的には、三配位ボラン(例、ボランなど)、四配位ボラート(例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなど)、三配位アルミニウム(例、水素化ジイソブチルアルミニウムなど)、四配位アルミナート錯体(例、水素化リチウムアルミニウムなど)などが挙げられる。還元剤の使用量は、化合物(XXXI)に対して0.25〜3当量、好ましくは1.0〜1.2当量使用する。
反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;水などが挙げられ、これらを単独でまたはこれらを混合して使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜2時間である。
得られた化合物(XXXII)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として用いる化合物(XXXI)は、例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、USSR、5巻、1530ページ(1969年)に従い、2−(置換メチル)−1−ブロモベンゼン類のグリニャール化合物にシュウ酸ジアルキル類を反応させることにより得ることができる。
また、M法の原料として用いることができる化合物(XVIII)に包含される化合物(XXXXI)は、以下のX法により製造することができる。
X法
Figure 0003875263
[式中、各記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXXI)は、適当な溶媒中、一般式(XXX)で表される化合物を還元することにより製造することができる。
還元剤としては、ケトンの還元に用いる通常の還元剤、例えば金属水素化物、金属水素錯化合物などを用いることができる。具体的には、例えば三配位ボラン(例、ボランなど)、四配位ボラート(例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなど)、三配位アルミニウム(例、水素化ジイソブチルアルミニウムなど)、四配位アルミナート錯体(例、水素化リチウムアルミニウムなど)などが挙げられる。還元剤の使用量は、化合物(XXX)に対して0.25〜3当量、好ましくは1.0〜1.2当量使用する。
反応溶媒としては、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;水などが挙げられ、これらを単独でまたはこれらを混合して使用することができる。
反応温度は、−20℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0〜50℃、反応時間は、0.5時間〜24時間、好ましくは0.5〜2時間である。
得られた化合物(XXXXI)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
また、M法の原料として用いることができる化合物(XVIII)に包含される化合物(XXXXIII)は、好ましくは以下のY法により製造することができる。
Y法
Figure 0003875263
[式中、R9はテトラヒドロピラニル基を示し、他の記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXXIII)は、化合物(XXXXI)をテトラヒドロピラニル化することにより製造することができる。
9で示されるテトラヒドロピラニル基としては、例えば2−テトラヒドロピラニルなどが挙げられる。
該テトラヒドロピラニル化は、テトラヒドロピラニル基による通常の水酸基保護法を用いて行うことができる。例えば、適当な溶媒中、酸存在下、化合物(XXXXI)にジヒドロピランを反応させることにより行うことができる。
酸としては、例えばパラ−トルエンスルホン酸、塩酸、オキシ塩化リンなどや、パラ−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどの酸塩基対が挙げらる。それらを化合物(XXXXI)に対して0.01〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.2当量用いる。
反応溶媒としては、例えばトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;あるいはエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類などが挙げられそれらを単独または混合して使用することができる。
反応温度は0℃〜溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは20℃〜80℃、反応時間は、0.5時間〜48時間、好ましくは0.5〜12時間である。
得られた化合物(XXXXIII)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本反応の原料として用いることができる化合物(XXXXI)は、好ましくは上記X法により製造することができる。
また、N法の原料として用いることができる化合物(XXIII)に包含される化合物(XXXXV)は、以下のZ法により製造することができる。
Z法
Figure 0003875263
[式中、R10は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアルキニル基、Dはハロゲン原子、M1は硫黄原子またはNR2(R2は水素原子、アルキル基またはアシル基)を示し、他の記号は上記と同意義]
すなわち、化合物(XXXXV)は化合物(XXXXIV)を化合物(XXIX)と反応させることにより製造することができる。
化合物(XXIX)はその金属塩であってもよい。金属塩としては、アルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(マグネシウム塩、カルシウム塩など)などが挙げられる。
化合物(XXIX)としてメルカプタン類、例えば硫化水素の金属塩(例、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム)を使用する場合、その使用量は化合物(XXXXIV)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類;塩化メチレン、1、2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテルなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミドなどを使用することができる。反応温度は、0℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは室温から溶媒還流温度、反応時間は、0.5〜24時間、好ましくは1〜5時間である。
化合物(XXIX)としてアミン類、例えばアミン、アミンの金属塩(例、ナトリウムアミドなどを使用する場合、その使用量は化合物(XXXXIV)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類;塩化メチレン、1、2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテルなどのエーテル類;トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミドなどを使用することができる。反応温度は、0℃から溶媒還流温度までの適当な温度、好ましくは0℃から室温、反応時間は、0.5〜24時間、好ましくは1〜5時間である。
得られた化合物(XXXXV)は、反応液のままか粗製物として、あるいは公知の手段(例、クロマトグラフィー、再結晶など)により分離精製後、次工程で使用することができる。
本発明の一般式(I)で表される化合物は、栽培植物またはその種、例えば稲、コムギ、オオムギ、ライムギ、トウモロコシ、キビ、アワ、ソバ、大豆、小豆、落花生等あるいは果樹、例えば、かんきつ類、ブドウ、リンゴ、ナシ、桃、もしくは野菜、例えばキュウリ、ナス、トマト、カボチャ、またはインゲンを冒す病原菌(真菌)および土壌に由来する病原菌に対して有効である。本発明化合物は特に、イネいもち病菌(Pyricularia oryzae)、イネ紋枯病菌(Rhizoctonia solani)、ムギうどんこ病菌(Erysiphe graminis)、キュウリうどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea)、タバコうどんこ病菌(Erysiphe cichoracearum)、バレイショ疫病菌(Phylophthora infestans)、キュウリベと病菌(Pseudoperonospora cubensis)、ダイズベと病菌(Peronospora manshurica)、ブドウベと病菌(Plasaopara viticola)、あるいは野菜類、ブドウ等の灰色かび病菌(Botrytis cinerea)、キュウリ苗立枯病菌(Pythium aphanidermatum)、そば、大豆、なたね等の菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)、大豆、小豆、ばれいしょ、落下生等の白絹病菌(Corticium rolfsii)、ムギ眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、エンバク冠さび病菌(Puccinia coronata)等に対して強力な抗菌活性を示す。それ故、本発明の一般式(I)で表される化合物は農業用殺菌剤として有用である。
本発明の一般式(I)で表される化合物の適用は植物に有効物質を、噴霧、散布、塗布等して処理するか、または植物の種子、または植物の周囲の土壌、あるいは種子を播種する土壌、水田、水耕栽培の水を有効物質で処理することにより行うことができる。適用は植物が病原菌に感染する前または感染後に行うことができる。
本化合物は通常の製剤の形態、例えば、液剤、水和剤、乳化剤、懸濁剤、液状濃縮剤、錠剤、顆粒剤、エアロゾル、粉末剤、ペースト剤、燻煙剤などのような農薬用殺菌剤に適する薬剤として使用することができる。
このような形態は、少なくとも1種の本発明の化合物と適当な固体または液体の担体類、および所望により、有効物質の分散性や、他の性質の改善のために適当な補助剤(例えば、界面活性剤、展着剤、分散剤、安定剤)とともに混合する通常の方法によって得ることができる。
固体の担体、または希釈剤の例としては、植物性物質(例えば、穀物粉、タバコ茎粉、大豆粉、クルミ殻粉、野菜粉、カンナ屑、ぬか、樹皮粉、繊維素粉、野菜抽出残渣)、繊維状物質(例えば、紙、ダンボール紙、ぼろ布)、人工の可塑性粉末、粘土(例えば、カオリン、ベントナイト、白土)、タルクおよび無機物質(葉ろう石、絹雲母、軽石、硫黄粉、活性炭)、化学肥料(例えば、硫安、りん酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素、塩化アンモニウム)などがある。
液体担体および希釈剤としては、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、テトラヒドロフラン)、芳香族炭化水素(例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン)、脂肪族炭化水素(例えば、ガソリン、ケロシン、灯油)、エステル類、ニトリル類、酸アミド(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロエタン、四塩化炭素)などがある。
界面活性剤の例としては、アルキル硫酸エステル、スルホン酸アルキル、スルホン酸アルキルアリール、ポリエチレングリコールエーテル、多価アルコールエステル類などがある。展着剤または分散剤の例には、カゼイン、ゼラチン、デンプン粉、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸、リグニン、ベントナイト、糖蜜、ポリビニルアルコール、パイン油および寒天などが挙げられる。安定剤としては、PAP(イソプロピルリン酸塩混合物)、リン酸トリクレジル(TCP)、トルー油、エポキシ油、界面活性剤類、脂肪酸類およびそのエステル類が挙げられる。
上記の成分に加えて、本発明の製剤は他の殺菌剤、殺虫剤、除草剤、または肥料と混合して使用することができる。
一般に、上記製剤は、少なくとも1種の本発明の一般式(I)で表される化合物を、1〜95重量%、好ましくは、2.0〜80重量%含む。これらの製剤は単独で、または希釈して使用することができ、本発明の該化合物、約1.0g〜5kg/ヘクタール、好ましくは、約2g〜100g/ヘクタールを、通常は、約1〜50,000ppm、好ましくは、約100〜5,000ppmの濃度で使用する。
実施例
以下に、実施例および試験例を示して本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。NMRデータ中のスピン結合定数(J)はヘルツ(Hz)で示す。
実施例1
2−ヒドロキシ−2−(2−フェノキシフェニル)アセトアミド(化合物番号2)の合成
2−オキソ−2−(2−フェノキシフェニル)アセトアミド4.82g(20.0mmol)をエタノール50mlに溶解し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム0.76g(20.0mmol)をゆっくり加えた。30分間撹拌後、1N−塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン−酢酸エチルで溶出)で精製し、目的の2−ヒドロキシ−2−(2−フェノキシフェニル)アセトアミド4.3g(89%)を結晶として得た。n−ヘキサン−塩化メチレン混合溶媒で再結晶を行い、無色結晶を得た。
融点:121〜122℃
NMR(δppm TMS/CDCl3):4.11(1H,brs),5.46(1H,s),5.57(1H,brs),6.58(1H,brs),6.88(1H,dd,J=7.9,1.2),7.03(2H,dd,J=7.9,1.2),7.13-7.20(2H,m),7.23-7.27(1H,m),7.29-7.40(2H,m),7.58(1H,dd,J=7.9,1.2).
実施例2
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ−N−メチルアセトアミド(化合物番号75)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−N−メチル−2−オキソアセトアミド0.93g(3.1mmol)をメタノール10mlに溶解し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム0.06g(1.6mmol)をゆっくり加えた。30分間撹拌後、1N−塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン−酢酸エチルで溶出)で精製し、目的の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ−N−メチルアセトアミド0.85g(91%)を白色結晶として得た。
融点:86〜87℃
NMR(δppm TMS/CDCl3):2.16(3H,s),2.35(3H,s),2.78(3H,d,J=4.9),4.35(1H,d,J=3.7),4.94(1H,d,J=11.0),5.34(1H,d,J=11.0),5.35(1H,d,J=3.7),6.49(1H,brs),6.78(1H,d,J=7.3),6.87(1H,s),7.06(1H,d,J=7.3),7.32-7.48(4H,m).
実施例3
実施例1または2と同様にして、一般式(I−7)で表される本発明化合物を合成した。得られた化合物およびその代表的化合物の物性データを以下に示す。
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
実施例4
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ酢酸メチル(化合物番号139)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ酢酸メチル(0.72g,2.4mmol)、ヨウ化メチル(0.68g,4.8mmol)のN、N−ジメチルホルムアミド(6ml)溶液を0℃で撹拌下、その中に60%油状水素化ナトリウム(0.13g,3.3mmol)を加えた。30分後、氷、水の順に加え酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ酢酸メチル(0.69g,92%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.21(3H,s),2.33(3H,s),3.40(3H,s),3.70(3H,s),5.10(1H,d,J=12.2),5.14(1H,s),5.28(1H,d,J=12.2),6.71(1H,d,J=7.3),6.76(1H,s),7.04(1H,d,J=7.3),7.33-7.40(2H,m),7.50-7.56(2H,m).
実施例5
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ−N−メチル酢酸アミド(化合物番号140)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ酢酸メチル(0.44g,1.40mmol)のメタノール(5ml)溶液を室温下で撹拌し、その中に40%メチルアミンメタノール溶液(0.33g,4.2mmol)を加えた。22時間後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ−N−メチル酢酸アミド(0.36g,82%)を白色結晶として得た。
融点:86−88℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.19(3H,s),2.32(3H,s),2.83(3H,d,J=4.9),3.36(3H,s),5.04(1H,s),5.07(1H,d,J=11.6),5.47(1H,d,J=11.6),6.70(1H,d,J=7.3),6.79(1H,brs),6.79(1H,s),7.03(1H,d,J=7.9),7.33-7.43(3H,m),7.49-7.54(1H,m).
実施例6
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ−N−メチル酢酸チオアミド(化合物番号170)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ−N−メチル酢酸アミド(0.12g,0.38mmol)、ローソン試薬(0.14g,0.35mmol)のトルエン(5ml)溶液を80℃で2時間加熱撹拌した。室温に冷却後、反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メトキシ−N−メチル酢酸チオアミド(0.13g,100%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.20(3H,s),2.32(3H,s),3.23(3H,d,J=4.8),3.35(3H,s),5.12(1H,d,J=11.6),5.40(1H,s),5.58(1H,d,J=11.6),6.70(1H,d,J=7.3),6.81(1H,s),7.03(1H,d,J=7.3),7.28-7.38(3H,m),7.48-7.52(1H,m),8.78(1H,brs).
実施例7
2−アセトキシ−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−N−メチル酢酸アミド(化合物番号144)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ−N−メチル酢酸アミド(0.57g,1.9mmol)、無水酢酸(0.43g,4.2mmol)のピリジン(3ml)溶液を室温下8時間撹拌した。減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、目的の2−アセトキシ−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−N−メチル酢酸アミド(0.53g,82%)を白色結晶として得た。
融点:114−115℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.18(3H,s),2.19(3H,s),2.34(3H,s),2.76(3H,d,J=4.9),5.02(1H,d,J=11.6),5.45(1H,d,J=11.6),6.19(1H,brs),6.35(1H,s),6.75(1H,d,J=7.3),6.85(1H,s),7.05(1H,d,J=7.3),7.36-7.58(4H,m).
実施例8
2−クロロ−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酢酸メチル(化合物番号149)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ヒドロキシ酢酸メチル(0.50g,1.6mmol)の1,2−ジクロロエタン(20ml)溶液を室温下で撹拌し、その中に塩化チオニル(0.61g,5.1mmol)を加え、一終夜加熱還流した。減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=97/3)で精製し、目的物の2−クロロ−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酢酸メチル(0.35g,66%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.20(3H,s),2.35(3H,s),3.76(3H,s),5.14(2H,s),5.84(1H,s),6.73(1H,d,J=7.3),6.77(1H,s),7.05(1H,d,J=7.3),7.38-7.48(3H,m),7.66(1H,d,J=7.3).
実施例9
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ニトロ酢酸メチル(化合物番号439)の合成
2−クロロ−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酢酸メチル(0.35g,1.1mmol)、亜硝酸ナトリウム(0.13g,1.9mmol)、プロログルシノール(0.145g,1.1mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液を室温下6時間撹拌した。水を加え、エーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/塩化メチレン=1/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−ニトロ酢酸メチル(0.08g,22%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.09(3H,s),2.34(3H,s),3.85(3H,s),5.05(1H,d,J=11.0),5.10(1H,d,J=11.0),6.68(1H,s),6.74(1H,d,J=7.3),6.75(1H,s),7.03(1H,d,J=7.3),7.48-7.53(2H,m),7.61-7.66(1H,m).
実施例10
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルチオ酢酸メチル(化合物番号162)の合成
2−クロロ−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酢酸メチル(0.21g,0.66mmol)、ナトリウムチオメトキシド(0.06g,0.86mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液を室温下24時間撹拌した。水を加え、エーテルで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−チオメチル酢酸メチル(0.13g,60%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.10(3H,s),2.20(3H,s),2.34(3H,s),3.71(3H,s),4.95(1H,s),5.13(2H,s),6.72(1H,d,J=7.3),6.77(1H,s),7.04(1H,d,J=7.3),7.30-7.40(2H,m),7.46(1H,dd,J=7.3,1.8),7.68(1H,dd,J=7.3,1.8).
実施例11
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルスルフィニル酢酸メチル(化合物番号358)および2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルスルホニル酢酸メチル(化合物番号359)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルチオ酢酸メチル(0.13g,0.39mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を0℃で撹拌し、その中に80%メタ−クロロ過安息香酸(0.12g,0.56mmol)を加えた。0℃で2時間撹拌後、反応液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、1N−水酸化ナトリウム水溶液で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1つづいて1/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルスルホニル酢酸メチル(0.08g,56%)を結晶として、2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−2−メチルスルフィニル酢酸メチル(0.03g,22%)を油状物として得た。
化合物番号359;融点122−124℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.17(3H,s),2.34(3H,s),3.03(3H,s),3.81(3H,s),5.02(1H,d,J=11.6),5.39(1H,d,J=11.6),5.67(1H,s),6.72(1H,d,J=7.3),6.79(1H,s),7.03(1H,d,J=7.3),7.40-7.55(3H,m),7.81-7.85(1H,m).
化合物番号358;NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.17(3H,s),2.34と2.36(合わせて3H),2.44と2.63(合わせて3H),3.78と3.81(合わせて3H),4.98-5.22(合わせて3H),6.71-7.81(合わせて7H).
実施例12
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチロニトリルの合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]アセトニトリル(2.00g,8.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液を0℃で撹拌し、その中に60%油状水素化ナトリウム(0.38g,9.5mmol)を加え、づづいてヨウ化エチル(1.37g,8.8mmol)を5分間で滴下した。1時間後、水を加え酢酸エチルで抽出し、水つづいて飽和食塩水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=19/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチロニトリル(1.91g,86%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.10(3H,t,J=7.3),1.97(2H,5重線,J=7.3),2.16(3H,s),2.34(3H,s),4.05(1H,t,J=7.3),4.96(1H,d,J=11.0),5.05(1H,d,J=11.0),6.73(1H,d,J=7.3),6.76(1H,s),7.04(1H,d,J=7.3),7.31-7.44(3H,m),7.55(1H,d,J=7.9).
実施例13
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチルアミド(化合物番号159)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチロニトリル(1.00g,3.6mmol)、96%水酸化ナトリウム(0.44g,10.6mmol)のメタノール(10ml)溶液を44時間加熱還流した。溶媒を留去後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチルアミド(0.28g,26%)を白色結晶として得た。
融点:100−101℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):0.89(3H,t,J=7.3),1.78-1.89(1H,m),2.15(3H,s),2.15-2.28(1H,m),2.36(3H,s),3.73(1H,t,J=7.3),4.84(1H,d,J=11.0),5.20(1H,brs),5.26(1H,d,J=11.0),5.86(1H,brs),6.77(1H,d,J=7.3),7.30(1H,d,J=7.3),7.38-7.43(2H,m),7.49(1H,d,J=7.3).
実施例14
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−N−メチルブチルアミド(化合物番号146)およびN,N−ジメチル−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチルアミド(化合物番号163)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチルアミド(0.19g,0.6mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)に溶かし、0℃で撹拌した。その中に、60%油状水素化ナトリウム(0.05g,1.3mmol)を加えた。5分後ヨウ化メチル(0.18g,1.3mmol)を加え、その後室温下で2時間撹拌した。0℃で氷、水の順に加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水の順に洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1つづいて3/1)で精製し、目的物のN,N−ジメチル−2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチルアミド(0.06g,29%)と2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]−N−メチルブチルアミド(0.11g,55%)をそれぞれ白色結晶として得た。
化合物番号163;融点:62−62.5℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):0.94(3H,t,J=7.3),1.62-1.77(1H,m),2.09-2.26(1H,m),2.14(3H,s),2.36(3H,s),2.85(3H,s),2.95(3H,s),3.93(1H,dd,J=9.1,4.9),4.96(1H,d,J=11.0),5.15(1H,d,J=11.0),6.73(1H,d,J=7.3),6.80(1H,s),7.05(1H,d,J=7.9),7.23-7.46(4H,m).
化合物番号146;融点:108−110℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):0.86(3H,t,J=7.3),1.77-1.88(1H,m),2.16(3H,s),2.16-2.29(1H,m),2.35(3H,s),2.67(3H,d,J=4.9),3.63(1H,t,J=7.3),4.84(1H,d,J=11.0),5.24(1H,d,J=11.0),5.80(1H,brs),6.76(1H,d,J=7.3),6.84(1H,s),7.06(1H,d,J=7.3),7.27(1H,t,J=7.3),7.38(2H,t,J=7.3),7.49(1H,d,J=7.3).
実施例15
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酪酸メチル(化合物番号145)の合成
2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]ブチロニトリル(0.67g,2.4mmol)、96%水酸化ナトリウム(0.73g,17.5mmol)のエタノール(8ml)溶液を43時間加熱還流した。溶媒を留去後、水を加え、1N−塩酸でpH3にして酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。粗生物をN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)に溶かし、室温下で撹拌した。その中に、ヨウ化メチル(0.50g,3.5mmol)、炭酸カリウム(0.50g,3.6mmol)の順に加えた。1時間後水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水の順に洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=9/1)で精製し、目的物の2−[2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)フェニル]酪酸メチル(0.62g,83%)を白色結晶として得た。
融点:62−65℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):0.91(3H,t,J=7.3),1.78-1.89(1H,m),2.07-2.21(1H,m),2.18(3H,s),2.34(3H,s),3.64(3H,s),3.84(1H,t,J=7.3),5.02(1H,d,J=11.0),5.19(1H,d,J=11.0),6.71(1H,d,J=7.3),6.78(1H,s),7.04(1H,d,J=7.3),7.27-7.44(2H,m),7.44-7.47(2H,m).
実施例16
α−メトキシ−N−メチル−(2,3,5−トリメチルフェノキシメチル)フェニルアセトアミド(化合物番号465)の合成
2−クロロメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニルアセトアミド(0.25g,1.1mmol)と2,3,5−トリメチルフェノール(0.18g,1.3mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液を0℃で撹拌し、その中に60%の油状水素化ナトリウム(0.08g,2.0mmol)を加えた。0℃で70分、つづいて室温下で1時間撹拌後、氷、水の順に加えた。酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製し、目的物のα−メトキシ−N−メチル−(2,3,5−トリメチルフェノキシメチル)フェニルアセトアミド(0.17g,50%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.11(3H,s),2.23(3H,s),2.29(3H,s),2.81(3H,d,J=4.9),3.35(3H,s),5.03(1H,s),5.03(1H,d,J=11.6),5.44(1H,d,J=11.6),6.64(1H,s),6.68(1H,s),6.80(1H,brs),7.32-7.43(3H,m),7.50-7.53(1H,m).
実施例17
(3−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジルオキシメチル)−α−メトキシ−N−メチル−フェニルアセトアミド(化合物番号427)の合成
2−ヒドロキシメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニルアセトアミド(1.00g,4.8mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)溶液を0℃で撹拌し、その中に60%の油状水素化ナトリウム(0.19g,4.8mmol)を加えた。0℃で30分間撹拌後、2,3−ジクロロ−5−トリフルオロメチルピリジン(1.24g,5.7mmol)を加え、0℃で2時間撹拌後、氷、水の順に加えた。エーテルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、目的物の(3−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジルオキシメチル)−α−メトキシ−N−メチル−フェニルアセトアミド(1.40g,75%)を白色結晶として得た。
融点:133〜135℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.83(3H,d,J=4.9),3.38(3H,s),5.19(1H,s),5.60(1H,d,J=12.2),5.92(1H,d,J=12.2),6.80(1H,brs),7.28-7.40(3H,m),7.55-7.538(1H,m),7.84(1H,s),8.32(1H,s).
実施例18
以上の実施例4〜17と同様にして、一般式(I)で表される種々の化合物を合成した。得られた化合物およびその代表的物性データを以下に示す。表中、U、VおよびWはQで示される一般式(XX)で表される基における置換基を意味する。また、表中には実施例4〜17で得られた化合物およびその物性データも併記する。
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
実施例19
(E)−2−ベンジリデンアミノオキシメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニルアセトアミド(化合物番号480)の合成
2−ヒドロキシメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニルアセトアミド(0.42g,2.0mmol)のテトラヒドロフラン(4ml)溶液を0℃で攪拌し、その中に塩化チオニル(0.17ml,2.4mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド1滴を加えた。室温下で2時間攪拌後、水を加えエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、粗生成物0.38gを油状物として得た。その粗生成物のN,N−ジメチルホルムアミド(6ml)溶液に、ベンズアルデヒドオキシム(0.37g,3.1mmol)、炭酸カリウム(0.55g,4.0mmol)を加え、室温下で3日間攪拌した。水を加え、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=13/7)で精製し、目的物の(E)−2−ベンジリデンアミノオキシメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニルアセトアミド(0.32g,51%)を白色結晶として得た。
融点:75.0−75.5℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.84(3H,d,J=4.9),3.34(3H,s),5.13(1H,s),5.23(1H,d,J=12.2),5.65(1H,d,J=12.2),6.80(1H,brs),7.27-7.40(6H,m),7.41-7.48(1H,m),7.53-7.58(2H,m),8.10(1H,s).
実施例20
(E)−2−ベンジリデンアミノオキシメチル−α−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(化合物番号483)の合成
2−(2−ブロモメチル)フェニル−2−オキソ酢酸メチル(0.51g,2.0mmol)のメタノール(10ml)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0.04g,1.0mmol)を加えた。8分後、酢酸を加え過剰の試薬を潰し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去後し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物の2−ブロモメチル−α−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(0.41g,80%)を油状物として得た。
つづいて、2−ブロモメチル−α−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(0.40g,1.5mmol)のアセトン(6ml)溶液にベンズアルデヒドオキシム(0.28g,2.3mmol)、炭酸カリウム(0.43g,3.1mmol)を加え、室温下で18時間攪拌した。水を加え、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、目的物の(E)−2−ベンジリデンアミノオキシメチル−α−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(0.08g,17%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):3.74(1H,d,J=5.5),3.75(3H,s),5.31(1H,d,J=12.2),5.42(1H,d,J=12.2),5.59(1H,d,J=5.5),7.34-7.39(6H,m),7.41-7.50(1H,m),7.52-7.66(2H,m),8.11(1H,s).
実施例21
(E)−2−(2−ベンジリデンアミノオキシメチル)フェニル−2−オキソ酢酸メチルの合成
2−(2−ブロモメチル)フェニル−2−オキソ酢酸メチル(3.00g,11.7mmol)のアセトン(10ml)溶液にベンズアルデヒドオキシム(2.13g,17.6mmol)、炭酸カリウム(2.90g,21.0mmol)を加え室温下で7時間攪拌した。水を加え、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=17/3)で精製し、目的の(E)−2−(ベンジリデンアミノオキシメチル)−2−オキソフェニル酢酸メチル(2.39g,69%)を得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):3.89(3H,s),5.32(1H,d,J=12.2),5.40(1H,d,J=12.2),7.32-759(8H,m),7.70(lH,d,J=6.7),8.16(1H,s).
実施例22
(E)−α−ヒドロキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシメチル)フェニル酢酸メチル(化合物番号479)の合成
2−ブロモメチル−α−ヒドロキシフェニル酢酸メチル(30.53g,0.118mol)と3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(17.84g,0.212mol)の塩化メチレン(230ml)溶液を0℃で攪拌し、その中にパラ−トルエンスルホン酸ピリジニウム(2.96g,0.012mol)を加え、室温下で2時間攪拌した。水を加え、塩化メチレンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=17/3)で精製し、目的の2−ブロモメチル−α−(テトラヒドロピラン−2−イル)フェニル酢酸メチル(33.58g,83.0%)を油状物として得た。
つづいて、2−ブロモメチル−α−(テトラヒドロピラン−2−イル)フェニル酢酸メチル(4.00g,11.7mmol)と4−クロロアセトフェノンオキシム(2.97g,17.5mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(30ml)溶液を0℃で攪拌し、その中に60%油状水素化ナトリウム(0.70g,17.5mmol)を加えた。2時間後水を加え、1N−塩酸でpH7とした後、エーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗生成物(6.28g)を得た。
その粗生成物をメタノール(35ml)に溶解し、パラ−トルエンスルホン酸ピリジニウム(0.29g,1.2mmol)を加えた。30分間加熱還流後、反応液を減圧留去し、水を加えエーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、目的の(E)−α−ヒドロキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸メチル(2.75g,68%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.23(3H,s),3.75(3H,s),3.77(1H,d,J=5.5),5.34(1H,d,J=12.2),5.42(1H,d,J=12.2),7.29-7.38(5H,m),7.43-7.48(1H,m),7.56(2H,d,J=8.6).
実施例23
(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸メチル(化合物番号477)の合成
(E)−α−ヒドロキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸メチル(1.59g,4.6mmol)、ヨウ化メチル(1.95g,13.7mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(15ml)溶液を0℃で攪拌下、60%油状水素化ナトリウム(0.20g,5.0mmol)を加えた。45分後、水を加え、1N−塩酸でpH1にした後エーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/塩化メチレン=9/1)で精製し、目的物の(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸メチル(1.19g,72%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.23(3H,s),3.39(3H,s),3.71(3H,s),5.24(1H,s),5.27(1H,d,J=12.2),5.51(1H,d,J=12.2),7.30-7.54(6H,m),7.58(2H,d,J=8.5).
実施例24
(E)−α−メトキシ−N−メチル−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸アミド(化合物番号474)の合成
(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸メチル(0.48g,1.3mmol)と40%モノメチルアミン−メタノール溶液(10ml)溶液を封管中80℃で15時間攪拌した。室温に冷却後、溶媒を減圧濃縮し、水を加え、1N−塩酸でpH1にした後塩化メチレンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で精製し、目的物の(E)−α−メトキシ−N−メチル−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸アミド(0.41g,86%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.22(3H,s),2.83(3H,d,J=4.9),3.32(3H,s),5.13(1H,s),5.26(1H,d,J=12.2),5.66(1H,d,J=12.2),6.77(1H,brs),7.29-7.47(6H,m),7.57(2H,d,J=8.5).
実施例25
(E)−α−メトキシ−N−メチル−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸チオアミド(化合物番号603)の合成
(E)−α−メトキシ−N−メチル−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸アミド(73mg,0.2mmol)のトルエン(3ml)溶液に、ローソン試薬(40mg,0.1mmol)を加え、80℃で1.5時間加熱攪拌した。室温に冷却後、水を加え、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物の(E)−α−メトキシ−N−メチル−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシ)フェニル酢酸チオアミド(50mg,66%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.23(3H,s),3.25(3H,d,J=4.9),3.33(3H,s),5.29(1H,d,J=12.2),5.51(1H,s),5.80(1H,d,J=12.2),7.25-7.36(5H,m),7.42-7.47(1H,m),7.58(2H,d,J=9.2),8.77(1H,s).
実施例26
α−ヒドロキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチルの合成
2−オキソ−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸エチル(22.60g,77.3mmol)のメタノール(20ml)溶液を0℃で攪拌し、その中に水素化ホウ素ナトリウム(1.46g,38.6mmol)を加えた。10分後、水(100ml)を加え酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物のα−ヒドロキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチル(20.47g,90.0%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.19-1.22(3H,m),1.50-1.73(6H,m),3.52-3.57(1H,m),3.80と3.87(合わせて1H,それぞれd,J=5.5),3.81-3.88(1H,m),4.09-4.30(2H,m),4.65と4.69(合わせて1H,それぞれd,J=12.2),4.69(1H,m),4.89と4.92(合わせて1H,それぞれd,J=12.2),5.48(1H,m),7.30-7.41(4H,m).
実施例27
α−メトキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチルの合成
α−ヒドロキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチル(14.00g,47.6mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(40ml)溶液にヨウ化メチル(20.25g,143mmol)を加え0℃で攪拌した。その中に60%油状水素化ナトリウム(1.90g,47.5mmol)を加えた。30分後、水(100ml)を加えエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物のα−メトキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチル(14.00g,95.5%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.20(3H,t,J=6.8),1.50-1.90(6H,m),3.38と3.39(合わせて3H,それぞれs),3.50-3.60(1H,m),3.89-3.95(1H,m),4.10-4.30(2H,m),4.56と5.01(合わせて1H,それぞれd,J=12.2),4.62(1H,m),4.74と4.84(合わせて1H,それぞれd,J=12.2),5.17と5.23(合わせて1H,それぞれs),7.30-7.51(4H,m).
実施例28
4−メトキシ−3−イソクロマノンの合成
α−メトキシ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル酢酸エチル(14.00g,45.4mmol)のメタノール(50ml)溶液に、パラ−トルエンスルホン酸ピリジニウム(0.30g)を加え1時間加熱還流した。室温に冷却後、水50mlを加え塩化メチレンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣を再結晶(n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、目的の4−メトキシ−3−イソクロマノン(6.00g,74.2%)を白色結晶として得た。
融点:82−86℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):3.73(3H,s),4.75(1H,s),5.28(1H,d,J=14.0),5.38(1H,d,J=14.0),7.24-7.27(1H,m),7.37(2H,m),7.56(1H,d,J=7.3).
実施例29
2-ヒドロキシメチル-α-メトキシ-N-メチルフェニル酢酸アミドの合成
4−メトキシ−3−イソクロマノン(7.50g,42.1mmol)のメタノール(40ml)溶液に40%メチルアミン−メタノール溶液(9.80g,126mmol)を加えた。室温下で1時間攪拌後、溶媒を留去して目的の2−ヒドロキシメチル−α−メトキシ−N−メチルフェニル酢酸アミド(8.50g,96.5%)を白色結晶として得た。
融点:80−82℃
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.86(3H,s),3.35(3H,s),4.47(1H,d,J=11.6),4,88(1H,d,J=11.6),5.08(1H,s),6.98(1H,brs),7.32-7.41(4H,m).
実施例30
(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシメチル)フェニル酢酸(化合物番号637)の合成
(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシメチル)フェニル酢酸エチル(0.70g,1.9mmol)のメタノール(10ml)溶液に1N−水酸化ナトリウム溶液(10ml)を加え、室温下2時間攪拌した。1N−塩酸でpH4として、塩化メチレンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、目的物の(E)−α−メトキシ−2−(α−メチル−4−クロロベンジリデンアミノオキシメチル)フェニル酢酸(0.50g,77%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):2.20(3H,s),3.39(3H,s),5.25(1H,s),5.25(1H,d,J=12.2),5.52(1H,d,J=12.2),7.30-7.57(8H,m).
実施例31
以上の実施例19〜30と同様にして、一般式(I)で表される種々の化合物を合成した。得られた化合物およびその代表的化合物の物性データを以下に示す。これら表には実施例19〜30で得られた化合物およびその物性データも併記する。
また、表中、化合物番号474〜935はMがO、Qが式(a)で表される基である化合物、化合物番号936〜980はMがNR2、Qが式(a)で表される基である化合物、化合物番号981〜1010はQが式(b)で表される基である化合物である。
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
Figure 0003875263
なお、2−オキソ−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸誘導体は、以下の参考例1〜3の方法で合成した。
参考例1
1−ブロモ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)ベンゼンの合成
2−ブロモベンジルアルコール(25.00g,0.134mol)の塩化メチレン(100ml)溶液にパラ−トルエンスルホン酸ピリジニウム(0.30g)を加え室温下で攪拌した。その中に3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(16.86g,0.200mol)を加えた。室温下で2時間攪拌後、飽和重炭酸ナトリウム水溶液(200ml)を加え、塩化メチレンで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、目的物の1−ブロモ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)ベンゼン(36.00g,99.3%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.45-1.80(6H,m),3.45-3.55(1H,m),3.80-3.90(1H,m),4.52(1H,d,J=15.0),4.80(1H,m),4.90(1H,d,J=15.0),7.16(1H,t,J=7.3),7.31(1H,t,J=7.3),7.51(1H,d,J=7.3),7.54(1H,d,J=7.3).
参考例2
2−オキソ−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸エチルの合成
1−ブロモ−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)ベンゼン(27.11g,0.100mol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液に、窒素ガス雰囲気下でマグネシウム(2.67g,0.110mol)、ブロモエタン(0.20ml)を加え、室温下で1時間攪拌して、グリニャール試薬を調製した。そのグリニヤ試薬を、−78℃で冷却したシュウ酸ジエチル(29.23g,0.200mol)のテトラヒドロフラン(100ml)溶液に滴下した。−78℃で1時間攪拌後、水(150ml)を加え、エーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物の2−オキソ−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸エチル(22.60g,77.3%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.38(3H,t,J=7.0),1.40-1.85(6H,m),3.50-3.60(1H,m),3.80-3.90(1H,m),4.32-4.40(2H,m),4.69(1H,m),4.85(1H,d,J=14.6),5.09(1H,d,J=14.6),7,43(1H,t,J=7.3),7.58-7.70(3H,m).
参考例3
2−オキソ−N−メチル−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸アミドの合成
2−オキソ−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸エチル(2.00g,6.8mmol)のメタノール(20ml)溶液に、40%モノメチルアミン−メタノール(2.65g,34.1mmol)溶液を加え、室温下で2時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物の2−オキソ−N−メチル−2−[2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)フェニル]酢酸アミド(1.30g,69%)を油状物として得た。
NMR(δppm,TMS/CDCl3):1.56-1.80(6H,m),2.96(3H,d,J=5.5),3.40-3.50(1H,m),3.75-3.85(1H,m),4.60(1H,m),4.75(1H,d,J=14.0),4.97(1H,d,J=14.0),7.05(1H,brs),7.35-7.39(1H,m),7.51(2H,m),7.79(1H,d,J=7.9).
次に本発明の種々の化合物の茎葉散布による各種植物病害防除効果を以下のポット試験により説明する。
[試験方法]
試験はすべて予防効果試験、すなわち、被検液を検定植物に噴霧処理し、24時間後に病原菌を接種する方法で行った。被検液は化合物を少量のN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、展着剤を含む蒸留水で500ppmとなるよう希釈した。防除率は以下の式により求めた。
防除率(%)={(無処理区の発病程度・病斑数等−処理区の発病程度・病斑数等)/無処理区の発病程度・病斑数等}×100
試験例1
イネいもち病防除効果試験
播種2週間後の稲(品種;愛知旭)苗を直径9cmのプラスチックカップに移植しさらに2週間育苗後、化合物溶液または懸濁液を茎葉部に噴霧処理した。病原菌の接種は、化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した検定植物の茎葉部に、予めオートミール培地で培養したイネいもち病菌(Pyricularia oryzae)の分生胞子懸濁液を噴霧することによって行った。接種後は湿室(28℃、100%R.H.)に24時間保ち、さらに温室で5日間保った。接種6日後接種葉に現れた病斑数を調査し防除率を求めた。
本化合物はイネいもち病に対して高い防除率を示した。例えば化合物番号75、139、140、161、163、165、166、170、175、176、186、193、194、196、197、211、212、214、217、219、221、223、233、267、372、423、427、429、432、448、459、465、466、467、472、474、475、476、477、486、488、491、492、494、495、499、500、501、503、513、516、517、518、526、529、532、535、544、553、556、559、562、580、609、616、639、678、680、682、684、686、688、690、692、698、701、702、704、707、710、717、718、721、722、725、726、733、736、739、740、773、781、785、813、819、824、837、883、および982は500ppmで90%以上の防除率を示した。
試験例2
キュウリうどんこ病防除効果試験
直径9cmのプラスチックカップに播種し2〜3週間育苗後のきゅうり(品種;筑波白いぼ)苗の第一本葉に化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した。病原菌の接種は、化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した検定植物に、きゅうり葉上で培養したキュウリうどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea)の分生胞子懸濁液を噴霧することにより行い、接種後は20℃の温室に保った。接種10日後接種葉に現れた標兆の占有面積程度を調査し防除率を求めた。
本化合物はキュウリうどんこ病に対して高い防除率を示した。例えば化合物番号64、75、78、113、139、140、141、142、143、144、145、149、151、152、155、156、161、165、170、173、174、176、179、180、183、185、186、189、193、194、195、196、197、198、205、206、207、208、209、210、211、212、213、214、215、216、217、218、219、221、223、231、233、262、263、267、291、292、296、297、362、372、417、420、423、427、429、432、433、436、437、443、448、453、454、459、461、465、466、467、468、469、472、474、475、476、477、482、486、488、489、491、492、494、497、498、500、501、503、504、506、513、515、516、517、518、520、523、526、527、529、532、535、541、542、544、553、556、559、577、580、586、587、589、590、592、593、603、606、609、616、627、639、678、680、682、684、686、688、690、692、698、701、702、704、707、710、717、718、721、722、725、726、733、734、736、737、738、739、740、756、759、773、777、781、785、813、819、824、および883は、500ppmで97%以上の防除率を示した。
試験例3
キュウリベと病防除効果試験
直径9cmのプラスチックカップに播種し2〜3週間育苗後のきゅうり(品種;筑波白いぼ)苗の第一本葉に化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した。病原菌の接種は、きゅうり葉上で培養したキュウリベと病菌(Pseudoperonospora cubensis)の遊走子嚢懸濁液を、化合物溶液または懸濁液を噴霧処理したきゅうり葉の表面に滴下することにより行った。接種後は20℃の湿室に10日間保った後接種部周辺に現れた病斑拡大程度を調査し防除率を求めた。
本化合物はキュウリベと病に対して高い防除率を示した。例えば化合物番号74、113、139、140、156、161、165、170、176、186、189、193、194、196、197、206、207、209、210、212、216、217、218、219、221、223、231、233、263、267、291、362、372、417、420、423、427、429、432、433、443、448、453、459、465、466、467、468、472、474、476、477、478、482、487、488、489、491、492、494、495、496、497、498、499、500、501、503、504、505、506、507、508、509、512、513、515、516、517、518、523、526、527、529、535、541、542、544、553、556、559、562、576、580、581、583、586、587、589、590、606、609、616、627、639、678、680、682、684、686、688、690、692、698、701、702、704、707、710、717、718、721、722、725、726、733、734、735、736、737、739、740、756、757、758、759、773、777、781、785、813、819、824、837、883、982、995、1016、1019、1030、1031、1033、および1034は500ppmで90%以上の防除率を示した。
試験例4
コムギうどんこ病防除効果試験
直径9cmのプラスチックカップに播種し2〜3週間育苗後の小麦(品種;農林61号)苗に化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した。病原菌の接種は、小麦葉上で培養したコムギうどんこ病菌(Erysiphe graminis f.sp. tritici)の分生胞子を、化合物溶液または懸濁液を噴霧処理した検定植物上に払い落とすことにより行い、接種後は20℃の温室に保った。接種10日後接種葉に現れた標兆の占有面積程度を調査し防除率を求めた。
本化合物はコムギうどんこ病に対して高い防除率を示した。例えば化合物番号2、75、113、139、140、141、142、143、144、145、151、152、161、170、174、175、176、179、184、185、186、188、189、193、194、195、196、197、198、206、212、216、217、218、219、223、263、297、362、372、417、420、423、427、429、432、433、443、448、454、459、465、466、467、474、477、488、492、498、500、517、518、526、527、541、542、590、603、627、686、701、726、739、および883は500ppmで90%以上の防除率を示した。
上記のとおり、本発明によれば、殺菌活性を有する新規α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法、その製造用中間体およびそれを有効成分として含有する農業用殺菌剤が提供される。

Claims (19)

  1. 一般式(I):
    Figure 0003875263
    [式中、R1ハロゲン化されていてもよいアルコキシ基;Qは置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロ環基、モノ置換またはジ置換メチレンアミノ基、置換されていてもよい(置換イミノ)メチル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換カルボニル基または置換スルホニル基;Xは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい水酸基;Yは置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基または置換されていてもよいアミノ基;Zは酸素原子または硫黄原子;Mは酸素原子、S(O)i(iは0、1または2)、NR2(R2は水素原子、アルキル基またはアシル基)または単結合;およびnは0、1または2を示す]で表される化合物またはその塩。
  2. 1がアルコキシ基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  3. 1がメトキシ基である請求項2記載の化合物またはその塩。
  4. Qが一般式(XX):
    Figure 0003875263
    [式中、U、VおよびWは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい水酸基、アルキルチオ基、または置換されていてもよいアミノ基を示す]で表される基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  5. U、VおよびWが同一または異なって、水素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基またはメトキシ基である請求項4記載の化合物またはその塩。
  6. Qがそれぞれ置換されていてもよいピリジル基、ピリミジニル基、キノリル基、キナゾリニル基、ベンゾチアゾリル基またはピラゾリル基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  7. Qが置換されていてもよいピリジル基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  8. Xが水素原子である請求項1記載の化合物またはその塩。
  9. Yがモノアルキルアミノ基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  10. Yがモノメチルアミノ基である請求項1記載の化合物またはその塩。
  11. Zが酸素原子である請求項1記載の化合物またはその塩。
  12. Mが酸素原子、硫黄原子またはNR2である請求項1記載の化合物またはその塩。
  13. nが1である請求項1記載の化合物またはその塩。
  14. Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルコキシ基または置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいフェニル基、およびnがOまたは1である請求項1記載の化合物またはその塩。
  15. Xが水素原子、R1がアルコキシ基、Zが酸素原子、Yがアルコキシ基または置換されていてもよいアミノ基、Mが酸素原子、Qが置換されていてもよいヘテロ環基、およびnが0または1である請求項1記載の化合物またはその塩。
  16. 一般式(I)で表される化合物が、
    _Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがメトキシ基、Mが酸素原子、Qが2,5−ジメチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号139);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2,5−ジメチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号140);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが4−クロロ−2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号186);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが2−メチルフェニル基、およびnが1である化合物(化合物番号197);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−クロロ−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号427);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3,5−ジクロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号433);
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−トリフルオロメチル−5−クロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号448);または
    Xが水素原子、R1がメトキシ基、Zが酸素原子、Yがモノメチルアミノ基、Mが酸素原子、Qが3−クロロピリジン−2−イル基、およびnが1である化合物(化合物番号466)
    またはその塩である請求項1記載の化合物。
  17. 請求項1記載の化合物を有効成分として含有することを特徴とする農薬用殺菌剤。
  18. 植物病源菌に冒されたまたは冒され得る部分に請求項1記載の化合物またはその塩を有効成分として適用することを特徴とする植物病原菌の殺菌または予防方法。
  19. 農業用殺菌剤の製造のための請求項1記載の化合物またはその塩の使用方法
JP52623695A 1994-04-06 1995-04-06 α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを含有する農業用殺菌剤 Expired - Lifetime JP3875263B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6843294 1994-04-06
JP15579194 1994-07-07
JP27119894 1994-11-04
JP1179095 1995-01-27
PCT/JP1995/000663 WO1995027693A1 (fr) 1994-04-06 1995-04-06 DERIVE D'ACIDE PHENYLACETIQUE A SUBSTITUTION α, SON PROCEDE D'OBTENTION ET BACTERICIDE AGRICOLE LE CONTENANT

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3875263B2 true JP3875263B2 (ja) 2007-01-31

Family

ID=27455678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52623695A Expired - Lifetime JP3875263B2 (ja) 1994-04-06 1995-04-06 α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを含有する農業用殺菌剤

Country Status (14)

Country Link
US (1) US5948819A (ja)
EP (1) EP0754672B1 (ja)
JP (1) JP3875263B2 (ja)
KR (1) KR100362787B1 (ja)
CN (2) CN1176918C (ja)
AT (1) ATE196896T1 (ja)
AU (1) AU711211B2 (ja)
BR (1) BR9507106A (ja)
DE (1) DE69519087T2 (ja)
DK (1) DK0754672T3 (ja)
ES (1) ES2152396T3 (ja)
GR (1) GR3035209T3 (ja)
PT (1) PT754672E (ja)
WO (1) WO1995027693A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010095505A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物の防除方法
JP2010095524A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 種子処理剤及び植物保護方法

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530199A1 (de) * 1995-08-17 1997-02-20 Bayer Ag Alkoxyacrylsäurethiolester
AU1733597A (en) * 1996-02-23 1997-09-10 Shionogi & Co., Ltd. Process for the preparation of alpha-alkoxyphenylacetic acid derivatives
WO1998029381A1 (en) * 1996-12-27 1998-07-09 Shionogi & Co., Ltd. PROCESS FOR THE PREPARATION OF α-ALKOXYPHENYL-ACETIC ACID DERIVATIVES
AU1818400A (en) * 1998-11-12 2000-05-29 Eli Lilly And Company Aryloxime linkers in the solid-phase synthesis of 3-aminobenzisoxazoles
WO2000040537A1 (fr) * 1998-12-29 2000-07-13 Nippon Soda Co., Ltd. Procedes de production d'un derive d'acide acrylique
US7067539B2 (en) 2001-02-08 2006-06-27 Schering Corporation Cannabinoid receptor ligands
US7507767B2 (en) 2001-02-08 2009-03-24 Schering Corporation Cannabinoid receptor ligands
US6727277B1 (en) 2002-11-12 2004-04-27 Kansas State University Research Foundation Compounds affecting cholesterol absorption
US8309562B2 (en) 2003-07-03 2012-11-13 Myrexis, Inc. Compounds and therapeutical use thereof
WO2005003100A2 (en) * 2003-07-03 2005-01-13 Myriad Genetics, Inc. 4-arylamino-quinazolines as activators of caspases and inducers of apoptosis
EP1833482A4 (en) 2005-01-03 2011-02-16 Myriad Genetics Inc COMPOUNDS AND ITS THERAPEUTIC USE
US8258145B2 (en) 2005-01-03 2012-09-04 Myrexis, Inc. Method of treating brain cancer
EP2121681B1 (en) 2007-01-11 2015-04-15 Critical Outcome Technologies, Inc. Compounds and method for treatment of cancer
JP5169243B2 (ja) * 2007-03-22 2013-03-27 住友化学株式会社 新規還元酵素、その遺伝子、およびその利用法
JP5169244B2 (ja) 2007-03-22 2013-03-27 住友化学株式会社 新規還元酵素、その遺伝子、およびその利用法
EP2225226B1 (en) 2007-12-26 2016-08-17 Critical Outcome Technologies, Inc. Compounds and their use in a method for treatment of cancer
BRPI0911134B1 (pt) * 2008-03-21 2017-01-17 Sumitomo Chemical Co composição de controle de doenças de plantas, método de controle de doenças de plantas, e uso
JP5365047B2 (ja) * 2008-03-28 2013-12-11 住友化学株式会社 植物病害防除組成物および植物病害防除方法
AU2013228008B2 (en) * 2008-03-28 2015-06-18 Sumitomo Chemical Company, Limited Plant disease controlling composition and method for controlling plant disease
CA2999321A1 (en) 2008-07-17 2010-01-21 Critical Outcome Technologies Inc. Thiosemicarbazone inhibitor compounds and cancer treatment methods
JP5417860B2 (ja) * 2008-08-26 2014-02-19 住友化学株式会社 α−ヒドロキシエステル類の製造方法
JP5417814B2 (ja) 2008-11-25 2014-02-19 住友化学株式会社 植物病害防除用組成物及び植物病害の防除方法
JP5365158B2 (ja) 2008-11-25 2013-12-11 住友化学株式会社 植物病害防除用組成物及び植物病害の防除方法
JP5365161B2 (ja) * 2008-11-25 2013-12-11 住友化学株式会社 植物病害防除用組成物及び植物病害の防除方法
KR101808479B1 (ko) * 2009-02-16 2017-12-12 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 페닐아세트아미드 화합물의 제조 방법
EP2413696A4 (en) * 2009-04-03 2012-10-24 Sinai School Medicine COMPOSITIONS FOR THE TREATMENT OF ALZHEIMER'S DISEASE
ES2464517T3 (es) 2009-05-25 2014-06-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Composición y método para controlar enfermedades de las plantas
JP5326891B2 (ja) * 2009-07-14 2013-10-30 住友化学株式会社 シバ病害の防除方法
JP2011201857A (ja) 2010-03-03 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2011201852A (ja) 2010-03-03 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP5793883B2 (ja) * 2010-03-03 2015-10-14 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP5691595B2 (ja) 2010-03-03 2015-04-01 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2011201850A (ja) 2010-03-03 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2011201853A (ja) * 2010-03-03 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2011201856A (ja) 2010-03-03 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP5747542B2 (ja) 2010-03-03 2015-07-15 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP5764957B2 (ja) 2010-03-03 2015-08-19 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP5799518B2 (ja) 2010-03-03 2015-10-28 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2010132707A (ja) * 2010-03-04 2010-06-17 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除組成物及び有害生物の防除方法
JP2010120976A (ja) * 2010-03-04 2010-06-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除組成物及び有害生物の防除方法
JP2010132706A (ja) * 2010-03-04 2010-06-17 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除組成物及び有害生物の防除方法
EP2552915B1 (en) 2010-04-01 2017-07-19 Critical Outcome Technologies Inc. Compounds for the treatment of hiv
ES2605777T3 (es) 2010-04-27 2017-03-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Composición pesticida y su uso
BR112012027377A2 (pt) 2010-04-27 2015-09-15 Sumitomo Chemical Co composto praguicida e seu uso
JP5782678B2 (ja) 2010-04-27 2015-09-24 住友化学株式会社 有害生物防除組成物およびその用途
CN102858171B (zh) 2010-04-27 2015-06-17 住友化学株式会社 杀虫组合物及其用途
JP5712504B2 (ja) 2010-04-27 2015-05-07 住友化学株式会社 有害生物防除組成物およびその用途
CN102858170B (zh) 2010-04-28 2014-12-10 住友化学株式会社 杀虫组合物及其用途
JP5789918B2 (ja) 2010-04-28 2015-10-07 住友化学株式会社 植物病害防除組成物およびその用途
JP2011246453A (ja) 2010-04-28 2011-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物およびその用途
JP5724210B2 (ja) 2010-04-28 2015-05-27 住友化学株式会社 植物病害防除組成物およびその用途
EP2563135B1 (en) 2010-04-28 2016-09-14 Sumitomo Chemical Company, Limited Plant disease control composition and its use
JP5724211B2 (ja) 2010-04-28 2015-05-27 住友化学株式会社 植物病害防除組成物およびその用途
JP5724212B2 (ja) 2010-04-28 2015-05-27 住友化学株式会社 植物病害防除組成物およびその用途
JP5857512B2 (ja) 2010-08-10 2016-02-10 住友化学株式会社 植物病害防除組成物およびその用途
JP5793896B2 (ja) 2010-10-07 2015-10-14 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2012097063A (ja) * 2010-10-07 2012-05-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
JP2012102076A (ja) 2010-10-14 2012-05-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2012102075A (ja) * 2010-10-14 2012-05-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2012136503A (ja) 2010-10-14 2012-07-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2012102077A (ja) 2010-10-14 2012-05-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2012102074A (ja) * 2010-10-14 2012-05-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2012106984A (ja) 2010-10-28 2012-06-07 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物防除方法
JP2011137030A (ja) 2011-03-01 2011-07-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除組成物及び有害生物の防除方法。
JP2012206990A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物の生長を促進する方法
JP2013107875A (ja) 2011-10-27 2013-06-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物及び植物病害の防除方法
TWI568721B (zh) 2012-02-01 2017-02-01 杜邦股份有限公司 殺真菌之吡唑混合物
WO2013187423A1 (ja) 2012-06-15 2013-12-19 住友化学株式会社 有害節足動物防除組成物及び有害節足動物の防除方法
JP2014001180A (ja) 2012-06-20 2014-01-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物の防除方法
JP2014019680A (ja) * 2012-07-20 2014-02-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 植物病害防除組成物およびその用途
PL2936981T3 (pl) 2012-12-21 2019-06-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Sposób zwiększania liczby lub masy nasion roślin uprawnych
TWI614242B (zh) 2013-01-31 2018-02-11 住友化學股份有限公司 有害生物防治組成物及有害生物之防治方法
CN105705020A (zh) 2013-07-22 2016-06-22 住友化学株式会社 植物病害防治组合物及其用途
UA127978C2 (uk) 2013-10-03 2024-02-28 Сінгента Партісіпейшнс Аг Композиція та спосіб боротьби з захворюваннями, спричиненими фітопатогенами
TWI670010B (zh) 2014-03-20 2019-09-01 日商三井化學Agro股份有限公司 植物病害防治用組成物及施用該組成物以防治植物病害的方法
WO2015147314A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 住友化学株式会社 芳香族化合物及びその用途
US9907307B2 (en) 2014-03-28 2018-03-06 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic compound and uses thereof
JP2017165716A (ja) 2016-03-11 2017-09-21 住友化学株式会社 植物病害防除組成物及び植物病害防除方法
CN107094788A (zh) * 2017-04-26 2017-08-29 深圳诺普信农化股份有限公司 杀菌组合物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3422140A (en) * 1962-01-17 1969-01-14 Haessle Ab 2,3-dihydroxyphenylalkanamides
US3600437A (en) * 1969-05-28 1971-08-17 Lilly Co Eli Substituted phenylalkanoic acids and derivatives thereof
JPS57188579A (en) * 1981-05-15 1982-11-19 Takeda Chem Ind Ltd 2-iminothiazolidin-4-one derivative and its preparation
JPS62153283A (ja) * 1985-12-27 1987-07-08 Tokuyama Soda Co Ltd ピラゾ−ル化合物
JPH07110833B2 (ja) * 1986-12-02 1995-11-29 株式会社トクヤマ α−置換フエニル酢酸誘導体
GB8726179D0 (en) * 1987-11-09 1987-12-16 Fujisawa Pharmaceutical Co Heterocyclic derivatives
DE3917352A1 (de) * 1989-05-27 1990-11-29 Basf Ag Neue oximether und diese enthaltende fungizide
CA2075637A1 (en) * 1990-02-13 1991-08-14 William J. Greenlee Angiotensin ii antagonists incorporating a substituted benzyl element
DE4030038A1 (de) * 1990-09-22 1992-03-26 Basf Ag Ortho-substituierte phenylessigsaeureamide
JPH10505596A (ja) * 1994-09-10 1998-06-02 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト アルキルフェニルアセタート
JP3408725B2 (ja) * 1997-08-25 2003-05-19 川崎製鉄株式会社 鋼の連続鋳造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010095505A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 有害生物防除用組成物及び有害生物の防除方法
JP2010095524A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Sumitomo Chemical Co Ltd 種子処理剤及び植物保護方法

Also Published As

Publication number Publication date
BR9507106A (pt) 1997-11-18
EP0754672B1 (en) 2000-10-11
KR100362787B1 (ko) 2003-02-25
DK0754672T3 (da) 2000-11-13
CN1105703C (zh) 2003-04-16
GR3035209T3 (en) 2001-04-30
ATE196896T1 (de) 2000-10-15
EP0754672A1 (en) 1997-01-22
ES2152396T3 (es) 2001-02-01
DE69519087D1 (de) 2000-11-16
AU711211B2 (en) 1999-10-07
AU2147395A (en) 1995-10-30
CN1394846A (zh) 2003-02-05
KR970702235A (ko) 1997-05-13
PT754672E (pt) 2001-04-30
DE69519087T2 (de) 2001-03-22
US5948819A (en) 1999-09-07
CN1176918C (zh) 2004-11-24
CN1145061A (zh) 1997-03-12
WO1995027693A1 (fr) 1995-10-19
EP0754672A4 (en) 1998-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3875263B2 (ja) α−置換フェニル酢酸誘導体、その製造法ならびにそれを含有する農業用殺菌剤
US6313150B1 (en) α-substituted phenylacetic acid derivative, its production and agricultural fungicide containing it
JP2828186B2 (ja) アクリレート系化合物、その製法及び殺菌剤
EP0629609B1 (en) Process for the preparation of Alkoxyiminoacetamide derivatives and an intermediate therefor
KR900002063B1 (ko) 피라졸 옥심 유도체
KR100291874B1 (ko) 아미노피리미딘유도체및그의제조방법과용도
JP2897789B2 (ja) アルコキシイミノ酢酸アミド化合物およびその農業用殺菌剤としての用途
JP2819142B2 (ja) アクリル酸モルホリド類,その製造法及び製剤
CN109803956B (zh) 新颖的苯甲酰胺化合物、其制备方法及杀螨剂
US4804762A (en) N-cyanoalkylisonicotinamide derivatives
US5770614A (en) 2-(substituted phenyl)-2-alkoxyimino-N-alkylacetamide compounds and fungicides containing the same
JPH07258223A (ja) 4−フェネチルアミノピリミジン誘導体、その製法及び農園芸用の有害生物防除剤
JP3366715B2 (ja) アミノピリミジン誘導体、その製造法および製造用中間体ならびにそれを含有する農業用殺菌剤、殺虫剤および殺ダニ剤
CA2187174C (en) .alpha.-substituted phenylacetic acid derivative, process for producing the same, and agricultural bactericide containing the same
JP3852523B2 (ja) ピリジンカルボン酸ハロアルケニルエステル誘導体、その製法及び農園芸用の有害生物防除剤
JPH0995482A (ja) α−置換酢酸を有する複素環誘導体、その製造用中間体ならびにそれを含有する農薬
WO1997009302A1 (en) α-ALKOXYPHENYLACETIC ACID DERIVATIVES, INTERMEDIATE FOR PRODUCING THE SAME, AND PESTICIDE CONTAINING THE SAME
KR100508496B1 (ko) 불소화 스티렌 치환기를 가진 프로페노익 에스테르 및아미드 유도체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 살균제조성물
JP3485123B2 (ja) フェノキシアルキルアミン誘導体、その製法及び農園芸用の有害生物防除剤
JPH03161485A (ja) アミノピリミジン誘導体、その製造法及び殺虫・殺菌剤
MXPA96005685A (en) Compounds of 2- (phenyl-substituted) -2-alcoxyimin-n-alkylacetamide fungicides that contains them
JPH0670035B2 (ja) 新規ピラゾ−ル誘導体、その製造法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤
JPH02300176A (ja) オキシムエーテル誘導体及び殺虫・殺ダニ剤及び殺菌剤
JPS63264562A (ja) 置換アセトアミド誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060704

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060823

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061017

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061026

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102

Year of fee payment: 7

EXPY Cancellation because of completion of term