JP3872279B2

JP3872279B2 - Cathode ray tube

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Publication number: JP3872279B2
Application number: JP2000348447A
Authority: JP
Inventors: 茂夫中寺; 哲郎小澤; 健司斎藤; 秀郎井口; 秀和小島; 崇行米澤; 智久三上; 陽子河南
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-11-15
Filing date: 2000-11-15
Publication date: 2007-01-24
Anticipated expiration: 2020-11-15
Also published as: JP2002150964A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陰極線管内部に備えられ、地磁気などの外部磁界による電子ビームのランディング位置ずれを少なくする内部磁気シールドを備えた陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１７は、従来のカラー陰極線管８００の管軸を通る上下方向の断面図である。以下の説明の便宜のために、図示したように、管軸を通り、かつ管軸に垂直な水平方向軸をＸ軸、管軸を通り、かつ管軸に垂直な垂直方向軸をＹ軸、管軸をＺ軸とするＸＹＺ−３次元直交座標系を設定する。
【０００３】
前面パネル８０１とファンネル８０２とが一体化されて外囲器８０３を形成する。前面パネル８０１の内面には略矩形状に蛍光体スクリーン８０４が形成されている。蛍光体スクリーン８０４から離間し、かつこれに対向して、色選別電極（例えばシャドウマスク）８０５がフレーム８１０に架張されて設置されている。フレーム８１０は、その外周面に設置された板バネ状の弾性支持体（図示せず）を、前面パネル８０１の内面に植設されたパネルピン（図示せず）に掛止することで、前面パネル８０１に保持されている。ファンネル８０２のネック部には電子銃８０６が内蔵される。ファンネル８０２の外周面上には偏向ヨーク８０８が設けられており、これによって電子銃８０６からの電子ビーム８０７は水平方向及び垂直方向に偏向されて、蛍光体スクリーン８０４上を走査する。
【０００４】
フレーム８１０の電子銃８０６側の面には、エレクトロンシールド板８２０が設置されている。エレクトロンシールド板８２０の管軸側の端部は、フレーム８１０の内側面より管軸側に突出しており、かつ、電子銃８０６側にわずかに屈曲されている。エレクトロンシールド板８２０は、電子ビーム８０７の軌道が何らかの理由で本来の軌道より外側方向にずれたときに、電子ビーム８０７がフレーム８１０に衝突し、色選別電極８０５側に反射して、表示画像を乱すのを防止する。
【０００５】
また、陰極線管に地磁気などの外部磁界が作用すると、電子ビーム８０７の軌道が変化して、電子ビーム８０７が蛍光体スクリーン８０４の所望する位置に到達せず、いわゆる「ミスランディング」を生じる。この結果、カラー陰極線管においては、色ずれなどの好ましくない現象が生じ、表示画像の品位を低下させる。外部磁界の方向は陰極線管の設置方向によって異なり、また、その大きさは陰極線管の設置位置によって異なる。したがって、陰極線管の設置方向や設置位置にかかわらず常に安定した画像表示を行なうためには、電子ビーム８０７を外部磁界から遮蔽するか、あるいは外部磁界を少なくともミスランディングを生じない方向の磁界に変換する必要がある。このような目的のため、フレーム８１０と偏向ヨーク８０８との間に内部磁気シールド８３０が設置されている。
【０００６】
図１８は、フレーム８１０、エレクトロンシールド板８２０、内部磁気シールド８３０からなる色選別構体の構成を示した分解斜視図である。
【０００７】
フレーム８１０は、所定距離だけ離間して平行に配置された一対の長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂと、所定距離だけ離間して平行に配置された一対の短辺フレーム８１２ａ，８１２ｂとからなる。長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂは、金属板を断面が中空三角柱形状になるように折り曲げて形成され、その一側面を蛍光体スクリーン側に延伸させて、その端部に色選別電極８０５が架張される。短辺フレーム８１２ａ，８１２ｂは、金属板を断面が略コ字状になるように折り曲げて形成される。一対の長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂと一対の短辺フレーム８１２ａ，８１２ｂとを略矩形状に組み合わせて、接合部を溶接してフレーム８１０が構成される。
【０００８】
エレクトロンシールド板８２０は、一対の長辺シールド板８２１ａ，８２１ｂと、一対の短辺シールド板８２２ａ，８２２ｂとを、略矩形状に接合して構成される。
【０００９】
内部磁気シールド８３０は、略台形状の対向する一対の長辺側板８３１ａ，８３１ｂと、略台形状の対向する一対の短辺側板８３２ａ，８３２ｂとを有し、これらを略四角錘面の一部を形成するように接合して構成される。長辺側板８３１ａ，８３１ｂのフレーム８１０側の辺（下側底辺）には、Ｘ−Ｙ平面と略平行になるように屈曲された長辺スカート８３３ａ，８３３ｂが形成されている。また、短辺側板８３２ａ，８３２ｂのフレーム８１０側の辺には短辺スカート８３４ａ，８３４ｂ（短辺スカート８３４ｂは図示せず）が形成されている。
【００１０】
以上のように構成されたフレーム８１０の長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂ上に、エレクトロンシールド板８２０の長辺シールド板８２１ａ，８２１ｂと、内部磁気シールド８３０の長辺スカート８３３ａ，８３３ｂとを順に重ね合わせ、それぞれの接合箇所８１５，８２５，８３５で点溶接される。このとき、内部磁気シールド８３０の短辺スカート８３４ａ，８３４ｂは、短辺シールド板８２２ａと短辺フレーム８１２ａとの隙間、及び短辺シールド板８２２ｂと短辺フレーム８１２ｂとの隙間にそれぞれ挿入される。
【００１１】
以上により、図１９に示すような色選別構体が形成される。
【００１２】
内部磁気シールドに関しては、地磁気などの外部磁界を、色ずれなどを生じない方向の磁界に変換する方法が種々提案されている。例えば、内部磁気シールド８３０の一対の短辺側板８３２ａ，８３２ｂにＶ字状の切り欠きを設けることで管軸（Ｚ軸）方向の外部磁界（以下、「管軸磁界」という）によるミスランディングを防止できることが特開昭５３−１５０６１号公報に記載されている。また、一対の長辺側板８３１ａ，８３１ｂに、電子ビームの軌道方向に沿って（即ち、略台形状である長辺側板の上側底辺と下側底辺とを結ぶように）細長いスリット８３６，８３７を設けることにより、Ｘ軸方向の外部磁界（以下、「横磁界」という）によるミスランディングを防止できることが特開昭５８−１７８９４５号公報に記載されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
コンピュータ技術の発展等に伴って、高精細な画像表示が要求されるようになり、表示画素はますますファインピッチ化されつつある。このため、電子ビームのミスランディングに対する許容範囲が厳しくなり、従来の内部磁気シールドの構成では、電子ビームのミスランディングによって無視できない色ずれを生じるようになりつつある。
【００１４】
本発明者らは、電子ビームのミスランディングを起こさせる要因を種々検討した結果、新たな問題因子が存在することを見出した。以下、これについて説明する。
【００１５】
図２０は、図１９のＹ−Ｚ平面に平行なＥ−Ｅ線での矢印方向から見た断面図である。図２０において、紙面上方向から下方向に走る管軸磁界が付与されている場合を考える。管軸磁界は、内部磁気シールド８３０の長辺側板８３１ａに吸収されて、長辺スカート８３３ａに流れる。そして、エレクトロンシールド板８２０の長辺シールド板８２１ａに入り、更にその一部は長辺フレーム８１１ａに入る。このとき、一部の磁界が長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出して、Ｙ軸方向の磁界Ｂｙが発生する。ここでは、長辺側板８３１ａ側の断面を用いて説明したが、長辺側板８３１ｂ側も同様に、長辺シールド板８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ｂから管軸側に向かってＹ軸方向の磁界Ｂｙが発生する。このような磁界Ｂｙは電子ビームの軌道をＸ軸方向に変位させるため、色ずれを発生させる。
【００１６】
本発明は、長辺シールド板８２１ａ，８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂのＹ軸方向端部から管軸側に噴き出す磁界Ｂｙの発生を少なくすることにより、管軸磁界による電子ビームのミスランディングの発生を防止できる陰極線管を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の目的を達成するために、以下の構成とする。
【００１８】
本発明に係る陰極線管は、前面パネル及びファンネルからなる外囲器と、前記前面パネルの内面に形成された蛍光体スクリーンと、前記蛍光体スクリーンに対向して配置された色選別電極と、前記色選別電極を保持するフレームと、前記ファンネル内に設置された電子銃と、前記フレームに保持されて、前記色選別電極より前記電子銃側に設置された内部磁気シールドと、前記フレームと前記内部磁気シールドとの間に配置されたエレクトロンシールド板とを有する。前記内部磁気シールドは、対向して配置された略台形状の一対の長辺側板と、対向して配置された略台形状の一対の短辺側板とが、略四角錐面の一部を形成するように組み合わされてなる。前記長辺側板の下側底辺に沿って又はこれを切断するように、前記長辺側板にスリット又は切り欠きが形成されている。前記エレクトロンシールド板は、その長手方向が前記一対の長辺側板の前記下側底辺と平行である一対の長辺シールド板を含むことを特徴とする。
【００１９】
ここで、本発明において「下側底辺」とは、略台形状を有する長辺側板の平行な一対の辺のうち、長い方の辺を意味する。なお、他方の短い方の辺を「上側底辺」と呼ぶことにする。
【００２１】
上記本発明の陰極線管によれば、スリット又は切り欠きが内部磁気シールド内を通過する管軸磁界に対して磁気抵抗として作用して、長辺シールド板及び長辺フレームのＹ軸方向端部から管軸側に噴き出す磁界Ｂｙの発生を少なくするすることができる。その結果、管軸磁界による電子ビームのミスランディングが抑えられ、色ずれの発生を防止することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態１のカラー陰極線管の構成は、図１７に示したカラー陰極線管８００と、内部磁気シールドを除いて同様である。したがって、内部磁気シールド以外の構成についての詳細な説明を省略する。
【００２３】
図１は、本実施の形態１のカラー陰極線管に使用される色選別構体の構成を示した分解斜視図である。
【００２４】
フレーム８１０及びエレクトロンシールド板８２０は図１８に示したものと同一であり、図１８と同一の部材には同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２５】
内部磁気シールド１００は、略台形状の対向する一対の長辺側板１０１ａ，１０１ｂと、略台形状の対向する一対の短辺側板１０２ａ，１０２ｂとを有し、これらを略四角錘面の一部を形成するように接合して構成される。長辺側板１０１ａ，１０１ｂのフレーム８１０側の辺（下側底辺）には、Ｘ−Ｙ平面と略平行になるように屈曲された長辺スカート１０３ａ，１０３ｂが形成されている。また、短辺側板１０２ａ，１０２ｂのフレーム８１０側の辺には短辺スカート１０４ａ，１０４ｂ（短辺スカート１０４ｂは図示せず）が形成されている。
【００２６】
本実施の形態では、長辺側板１０１ａ，１０１ｂに、Ｘ軸方向を長手方向とする細長い第１スリット１１１，１１２が形成されている。第１スリット１１１，１１２は、長辺側板１０１ａ，１０１ｂと長辺スカート１０３ａ，１０３ｂとの境界である屈曲部１０９（これは、略台形状の長辺側板１０１ａ，１０１ｂの下側底辺に一致する）を開口の一方の端部とし、長辺側板１０１ａ，１０１ｂ側に所定高さで開口している。第１スリット１１１のＸ軸方向の中心点は屈曲部（下側底辺）１０９の中点に一致し、その両側の第１スリット１１２は屈曲部（下側底辺）１０９の中点から離れた位置に、該中点に対して対称に形成されている。
【００２７】
更に、一対の長辺側板１０１ａ，１０１ｂに、電子ビームの軌道方向に沿って（即ち、略台形状である長辺側板の上側底辺と下側底辺とを結ぶように）細長い第２スリット１０６，１０７が形成されている。第２スリット１０６は略長方形状でＸ軸方向の中央の位置に、その両側の第２スリット１０７は略台形状でスリット１０６に対して対称の位置に対称形状に形成されている。
【００２８】
内部磁気シールド１００及びエレクトロンシールド板８２０は、高透磁率の材料（例えば軟鉄）を用いて、プレスなどの周知の方法で製造される。
【００２９】
このような内部磁気シールド１００は、従来と同様に、エレクトロンシールド板８２０を介してフレーム８１０に装着され、接合箇所１０５，８２５，８１５で点溶接されて、図２に示す色選別構体が得られる。
【００３０】
次に、本実施の形態の第１スリット１１１，１１２の作用について説明する。
【００３１】
図３は、図２のＹ−Ｚ平面に平行なＡ−Ａ線での矢印方向から見た断面図である。図３において、紙面上方向から下方向に走る管軸磁界が付与されている場合を考える。管軸磁界は、内部磁気シールド１００の長辺側板１０１ａに吸収されて、長辺スカート１０３ａ側に流れようとする。ところが、本実施の形態では、長辺側板１０１ａと長辺スカート１０３ａとの間に第１スリット１１１が存在し、これが抵抗となって管軸磁界の通過を妨げる。その結果、長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を、図２０の場合に比べて弱めることができ、電子ビームのランディング位置のずれ量を少なくすることができる。第１スリット１１２も同様の作用を有する。また、長辺側板１０１ｂ側においても同様に、第１スリット１１１，１１２により長辺シールド板８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ｂの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を弱めることができる。
【００３２】
上記の作用を具体例を用いて更に詳細に説明する。
【００３３】
上記の図１〜図３に示す構造を有する、対角サイズが３８インチのカラー陰極線管用の色選別構体を製作した。各種寸法は以下の通りである。内部磁気シールド１００を長辺側板１０１ａ側から見た側面図を示した図４において、中央の第１スリット１１１のＸ軸方向長さＷ１＝１６０ｍｍ、そのＺ軸方向高さＨ１＝３ｍｍ、両側の第１スリット１１２のＸ軸方向長さＷ２＝８０ｍｍ、そのＺ軸方向高さＨ２＝３ｍｍ、長辺側板１０１ａの下側底辺の長さＬ＝６００ｍｍ、長辺側板１０１ａのＸ軸方向端部から第１スリット１１２の近い方の端部までの長さＤ１＝６０ｍｍ、第１スリット１１１と第１スリット１１２との間隔Ｄ２＝８０ｍｍとした（実施例１）。
【００３４】
また、両側の第１スリット１１２を形成せず、中央の第１スリット１１１のみを上記と同じ位置に同じ大きさで形成する以外は上記の実施例１と同様にして色選別構体を製作した（実施例２）。
【００３５】
また、第１スリット１１１，１１２を形成しない以外は上記の実施例１と同様にして色選別構体を製作した（比較例１）。
【００３６】
実施例１，２及び比較例１の色選別構体に対して管軸磁界を付与して、長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向磁界Ｂｙ（図３，図２０参照）を、Ｘ軸方向に沿って測定した。
【００３７】
その結果を図５〜図８に示す。
【００３８】
図５において、横軸は、下側底辺の中点をＸ＝０ｍｍとしたときのＸ軸方向の位置を示す。縦軸は、Ｘ軸方向の各位置での上記Ｙ軸方向磁界Ｂｙの磁束密度を示す。色選別構体は、Ｘ＝０の位置を中心として対称に形成されており、磁界Ｂｙの測定結果もＸ＝０の位置を中心として対称であったので、Ｘ≦０の領域のみを図示してある。図５の上部に示した領域Ｉは実施例１において中央部の第１スリット１１１が形成されている領域を示し、領域IIはその両側の１スリット１１２が形成されている領域を示す。
【００３９】
また、図６，図７，図８は、それぞれ実施例１，実施例２，比較例１のＹ軸方向磁界Ｂｙの発生状況を、図５に示した結果にしたがって視覚的に示した分解斜視図である。図６〜図８に示した磁界Ｂｙの矢印の長さは、磁界の強さ（磁束密度）に対応している。また、図７において、１００’は、長辺方向の中央部にのみ第１スリット１１１を設けた実施例２の内部磁気シールドを示す。
【００４０】
第１スリット１１１，１１２を設けない比較例１においては、図５及び図８に示すように、磁界Ｂｙは長辺方向の端部（Ｘ＝±３００ｍｍの地点）から中央部に行くにしたがって急激に増加し、Ｘ値が−１５０〜＋１５０ｍｍの範囲で最大かつ一定となる。
【００４１】
これに対して、長辺方向の中央部のみに第１スリット１１１を設けた実施例２においては、図５及び図７に示すように、磁界Ｂｙは比較例１と同様に長辺方向の端部（Ｘ＝±３００ｍｍの地点）から中央部に行くにしたがって急激に増加している。しかしながら、磁界ＢｙはほぼＸ＝±１５０ｍｍの地点で最大となり、これより中央部に行くにしたがって急激に低下する。長辺方向中央部での磁界Ｂｙの低下は第１スリット１１１に起因する。即ち、第１スリット１１１は、管軸磁界に対して磁気抵抗として作用して、長辺方向中央部での磁界Ｂｙの吹き出し量を低下させている。
【００４２】
更に、長辺方向中央部の第１スリット１１１に加えて、その両側に第１スリット１１２を設けた実施例１においては、図５及び図６に示すように、磁界Ｂｙの最大値が実施例２の磁界Ｂｙの最大値の約半分程度にまで低下し、中央部での磁界Ｂｙの強度も実施例２より大きく低下している。このように、実施例１では、第１スリットを長辺方向に３箇所設けたことで、長辺方向の全幅にわたって磁界Ｂｙの吹き出し量を低下させることができ、また、幅方向の磁界Ｂｙの強度のばらつきも低減させることができる。
【００４３】
以上から明らかなように、内部磁気シールドの長辺側板の、フレームとの接続部近傍に、長辺方向を長手方向とする細長いスリットを設けることにより、管軸磁界が内部磁気シールド内を通過するのを妨げることができる。したがって、長辺シールド板８２１ａ，８２１ｂや長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂの管軸側の端部から噴き出すＹ軸方向磁界Ｂｙを低減することができる。その結果、電子ビームのミスランディングを少なくし、色ずれの発生を抑えることができる。
【００４４】
第１スリットのＸ軸方向の形成位置は、上記の効果が奏される限り、上記の実施例に限定されない。例えば、実施例１において、長辺方向中央部の第１スリット１１１を設けずに、両側の第１スリット１１２のみを設けることもできる。あるいは、第１スリット１１１と第１スリット１１２とを連続させて形成することもできる。但し、長辺方向に長いスリットは内部磁気シールドの機械的強度を低下させ、振動の発生原因ともなるので、長辺方向において第１スリットが下側底辺に占める割合（図４の例では、（Ｗ２＋Ｗ１＋Ｗ２）／Ｌ）が３／４以下、更には１／２以下であるのが好ましく、これを満足する範囲内で、磁界Ｂｙの分布が最適になるように、必要に応じて第１スリットを長辺方向に複数に分割して設けることが好ましい。
【００４５】
また、内部磁気シールド１００をフレーム８１０に固定するための接合箇所１０５と固定強度とを確保するために、第１スリットを下側底辺の端部まで形成するのは好ましくない。即ち、図４において、下側底辺の端部から第１スリットの該端部側の端までの距離Ｄ１は２０ｍｍ以上であることが好ましく、４０ｍｍ以上であることがより好ましい。
【００４６】
いずれの場合であっても、第１スリットは下側底辺の中点（Ｘ＝０の地点）に対して対称の位置に対称形状に設けることが、画面の左右の色ずれ量のバランスを確保する観点から好ましい。
【００４７】
また、第１スリットの管軸方向の開口高さ（図４のＨ１，Ｈ２）は、管軸磁界の通過を効果的に阻止するために必要なサイズである必要があり、３ｍｍ以上であることが好ましい。しかしながら、開口高さが大きすぎると、電子ビームが通過してハレーションを発生させたり、内部磁気シールドの機械的強度が低下したりする。したがって、上記開口高さは５ｍｍ程度以下とするのが好ましい。
【００４８】
また、上記の例のように、電子ビームの軌跡方向に沿った第２スリット１０６，１０７を設ける場合、これらと第１スリット１１１，１１２とを接続して形成するのは好ましくない。また、可能な限り、第２スリットの延長線上を回避して第１スリットを設けることが好ましい。いずれも、内部磁気シールドの機械的強度を確保するためである。
【００４９】
また、上記の例では、第１スリットは、長辺スカート１０３ａ，１０３ｂと長辺側板１０１ａ，１０１ｂとの境界である屈曲部１０９に沿って、即ち、第１スリットの開口の一方の端部が屈曲部１０９と一致するように、長辺側板側に設けている。屈曲部１０９から電子銃側に離間して設けると、第１スリットと屈曲部１０９との間の領域に管軸磁界が回り込むので、第１スリットの磁気抵抗としての効果が低減する。
【００５０】
次に、第２スリット１０６，１０７について説明する。
【００５１】
第２スリットは、電子ビームの軌道方向に沿って設けられて、横磁界に対して磁気抵抗として作用する。したがって、そのＸ軸方向の開口幅は横磁界の通過を効果的に阻止するために必要なサイズである必要があり、３ｍｍ以上であることが好ましい。しかしながら、開口幅が大きすぎると、管軸磁界に対する遮蔽効果が低減したり、内部磁気シールドの機械的強度が低下したりする。したがって、上記開口幅は２０ｍｍ程度以下とするのが好ましい。
【００５２】
また、一方の長辺側板に形成する第２スリットの本数は上記のように３本に限定されず、陰極線管のサイズなどに応じて適宜変更できる。スリット本数が多いほど横磁界の阻止効果は向上すが、管軸磁界に対する遮蔽効果や機械的強度は低下する。一般には３〜９本が好ましい。第２スリットの配置と形状は、Ｘ＝０の地点を通るＹ−Ｚ平面に平行な直線に対して対称であることが好ましい。各第２スリットのＸ軸方向の位置を変えることで、管軸磁界及び横磁界のそれぞれによる電子ビームのランディング位置の変位量及び変位方向を調整することができる。
【００５３】
（実施の形態２）
本実施の形態２は、内部磁気シールドの第１スリットを除いて上記の実施の形態１と同様である。
【００５４】
図９は、実施の形態２の内部磁気シールド２００の概略構成を示した斜視図である。図９において、実施の形態１の内部磁気シールド１００と同一の機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
【００５５】
本実施の形態の内部磁気シールド２００の第１スリット２１１，２１２は、実施の形態１の第１スリット１１１，１１２と異なり、長辺側板１０１ａ，１０１ｂから屈曲部１０９を越えて長辺スカート１０３ａ，１０３ｂに及ぶように形成されている。
【００５６】
本実施の形態２の内部磁気シールド２００は、実施の形態１と同様に、エレクトロンシールド板８２０を介してフレーム８１０に装着されて（図１参照）、色選別構体を構成する。
【００５７】
図１０は、本実施の形態２の内部磁気シールド２００を用いた色選別構体を図９のＹ−Ｚ平面に平行なＢ−Ｂ線に相当する面で切断した場合の断面図である。図１０において、紙面上方向から下方向に走る管軸磁界が付与されている場合を考える。実施の形態１の場合と同様に、管軸磁界は、内部磁気シールド２００の長辺側板１０１ａに吸収されて、長辺スカート１０３ａ側に流れようとするが、長辺側板１０１ａと長辺スカート１０３ａとの間の第１スリット２１１が抵抗となって管軸磁界の通過を妨げる。その結果、長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を、図２０の場合に比べて弱めることができ、電子ビームのランディング位置のずれ量を少なくすることができる。第１スリット２１２も同様の作用を有する。また、長辺側板１０１ｂ側においても同様に、第１スリット２１１，２１２により長辺シールド板８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ｂの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を弱めることができる。
【００５８】
第１スリット２１１，２１２のＸ軸方向の形成位置やＸ軸方向の長さ、屈曲部１０９からの管軸（Ｚ軸）方向の開口高さ、第２スリット１０６，１０７との関係は実施の形態１における説明が同様に適用できる。
【００５９】
このように、屈曲部１０９を切断するように（屈曲部１０９を跨ぐように）第１スリットを長辺側板に設けても、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００６０】
（実施の形態３）
本実施の形態３は、内部磁気シールドの長辺スカートを除いて上記の実施の形態２と同様である。
【００６１】
図１１は、実施の形態３の内部磁気シールド３００の概略構成を示した斜視図である。図１１において、実施の形態２の内部磁気シールド２００と同一の機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
【００６２】
本実施の形態３の内部磁気シールド３００の長辺スカート３２０ａ，３２０ｂは、屈曲部１０９を介して長辺側板１０１ａ，１０１ｂと接続された長辺第１スカート３２１ａ，３２１ｂと、長辺第１スカート３２１ａ，３２１ｂと接続された長辺第２スカート３２２ａ，３２２ｂとからなる。長辺第１スカート３２１ａ，３２１ｂはＸ−Ｙ平面と略平行であり、また、長辺第２スカート３２２ａ，３２２ｂはＸ−Ｚ平面と略平行である。
【００６３】
第１スリット２１１，２１２は、実施の形態２と同様に、長辺側板１０１ａ，１０１ｂから屈曲部１０９を越えて長辺第１スカート３２１ａ，３２１ｂに及ぶように形成されている。
【００６４】
本実施の形態３の内部磁気シールド３００は、実施の形態１，２と同様に、エレクトロンシールド板８２０を介してフレーム８１０に装着されて（図１参照）、色選別構体を構成する。
【００６５】
図１２は、本実施の形態３の内部磁気シールド３００を用いた色選別構体を図１１のＹ−Ｚ平面に平行なＣ−Ｃ線に相当する面で切断した場合の断面図である。
【００６６】
図１２において、紙面上方向から下方向に走る管軸磁界が付与されている場合を考える。実施の形態１，２の場合と同様に、管軸磁界は、内部磁気シールド３００の長辺側板１０１ａに吸収されて、長辺スカート３２０ａ側に流れようとするが、長辺側板１０１ａと長辺スカート３２０ａとの間の第１スリット２１１が抵抗となって管軸磁界の通過を妨げる。その結果、長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を、図２０の場合に比べて弱めることができ、電子ビームのランディング位置のずれ量を少なくすることができる。第１スリット１１２も同様の作用を有する。また、長辺側板１０１ｂ側においても同様に、第１スリット２１１，２１２により長辺シールド板８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ｂの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を弱めることができる。
【００６７】
また、本実施の形態では図１２に示すように、長辺第１スカート３２１ａは長辺シールド板８２１ａを介して長辺フレーム８１１ａの上面（管軸と垂直な面）に積層され、長辺第２スカート３２２ａは長辺フレーム板８１１ａの外側側面と接触する。図示していないが、対向する長辺側の長辺第１スカート３２１ｂ、長辺第２スカート３２２ｂも同様の構造を採る。このように、長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂの外側側面と接するように長辺第２スカート３２２ａ，３２２ｂを設けることにより、管軸磁界の磁束が長辺第２スカート３２２ａ，３２２ｂを介して長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂの外側側面に流れるので、長辺シールド板８２１ａ，８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ａ，８１１ｂの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙを更に弱めることができる。
【００６８】
第１スリット２１１，２１２のＸ軸方向の形成位置やＸ軸方向の長さ、屈曲部１０９からの管軸（Ｚ軸）方向の開口高さ、第２スリット１０６，１０７との関係は実施の形態１における説明が同様に適用できる。
【００６９】
上記に示した内部磁気シールド３００の第１スリット２１１，２１２は実施の形態２と同様の構成であるが、これに代えて実施の形態１と同様の第１スリット１１１，１１２を形成しても良い。
【００７０】
（実施の形態４）
本実施の形態４は、内部磁気シールドの第１スリットを除いて上記の実施の形態１と同様である。
【００７１】
図１３は、実施の形態４の内部磁気シールド４００の概略構成を示した斜視図である。図１３において、実施の形態１の内部磁気シールド１００と同一の機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
【００７２】
本実施の形態の内部磁気シールド４００には、実施の形態１の第１スリット１１１，１１２に代えて、長辺スカート１０３ａ，１０３ｂの自由端側から屈曲部１０９を越えて長辺側板１０１ａ，１０１ｂに及ぶような略矩形状の切り欠き４１１，４１２が形成されている。
【００７３】
本実施の形態４の内部磁気シールド４００は、実施の形態１と同様に、エレクトロンシールド板８２０を介してフレーム８１０に装着されて（図１参照）、色選別構体を構成する。
【００７４】
図１４は、本実施の形態４の内部磁気シールド４００を用いた色選別構体を図１３のＹ−Ｚ平面に平行なＤ−Ｄ線に相当する面で切断した場合の断面図である。図１４において、紙面上方向から下方向に走る管軸磁界が付与されている場合を考える。実施の形態１と同様に、管軸磁界は、内部磁気シールド４００の長辺側板１０１ａに吸収されて、長辺スカート１０３ａ側に流れようとするが、長辺側板１０１ａに形成された切り欠き４１１が抵抗となって管軸磁界の通過を妨げる。その結果、長辺シールド板８２１ａ及び長辺フレーム８１１ａの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を、図２０の場合に比べて弱めることができ、電子ビームのランディング位置のずれ量を少なくすることができる。切り欠き４１２も同様の作用を有する。また、長辺側板１０１ｂ側においても同様に、切り欠き４１１，４１２により長辺シールド板８２１ｂ及び長辺フレーム８１１ｂの管軸寄りの端部から噴き出すＹ軸方向の磁界Ｂｙの発生を弱めることができる。
【００７５】
切り欠き４１１，４１２のＸ軸方向の形成位置やＸ軸方向の長さ、屈曲部１０９からの管軸（Ｚ軸）方向の開口高さ、第２スリット１０６，１０７との関係は実施の形態１における説明が同様に適用できる。
【００７６】
上記に示した内部磁気シールド４００の長辺スカートを、その自由端側端部を延長しＸ−Ｚ平面と平行となるように折り曲げることにより、実施の形態３の長辺スカート３２０ａ，３２０ｂと同様の形状にしても良い。
【００７７】
（実施の形態５）
本実施の形態５は、内部磁気シールドの第２スリットを除いて上記の実施の形態１と同様である。
【００７８】
図１５は、実施の形態５の内部磁気シールド５００の概略構成を示した斜視図である。図１５において、実施の形態１の内部磁気シールド１００と同一の機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
【００７９】
本実施の形態の内部磁気シールド５００の第２スリット５０６，５０７は、実施の形態１の第２スリット１０６，１０７と異なり、長辺側板１０１ａ，１０１ｂの電子銃側（図１５の紙面の上方向）の端部（上側底辺）にまで達するように形成されている。
【００８０】
このような構成により、第２スリットによる横磁界に対する磁気抵抗効果がより大きく発現し、横磁界による電子ビームのミスランディングをより一層低減することができる。
【００８１】
なお、全ての第２スリットを上記のように上側底辺に達するように形成するのではなく、その一部のみを本実施の形態５のように形成し、他を実施の形態１のように形成しても良い。
【００８２】
本実施の形態の第２スリットは、上述した実施の形態２〜４の内部磁気シールドにも同様に適用することができる。
【００８３】
（実施の形態６）
図１６は、実施の形態６の内部磁気シールド６００の概略構成を示した斜視図である。図１６において、実施の形態５の内部磁気シールド５００と同一の機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
【００８４】
本実施の形態６の内部磁気シールド６００では、長辺側板１０１ａ，１０１ｂに実施の形態５と同様に第２スリット５０６，５０７が形成され、その上側底辺に沿って非磁性体材料（例えば、ステンレス鋼ＳＵＳ３０４など）からなる保持板６０１ａ，６０１ｂを貼り付けて（溶接して）構成されている。
【００８５】
このような構成により、長辺側板１０１ａ，１０１ｂの第２スリット５０６，５０７によって分割された上側底辺が保持板６０１ａ，６０１ｂで連結されるので、内部磁気シールド６００の機械的強度が向上し、有害な振動の発生を防止でき、陰極線管の組立作業も容易になる。
【００８６】
また、保持板６０１ａ，６０１ｂを長辺側板１０１ａ，１０１ｂの上側底辺に沿って取り付けているので、上側底辺と下側底辺との間の位置に取り付ける場合に比べて、機械的強度や振動に対する改善効果が大きい。また、内部磁気シールドの形状精度を維持しやすいので、ラスター歪みや、外部磁界による電子ビームのランディング位置ずれの陰極線管ごとのばらつきを小さく抑えることができる。
【００８７】
上記の各実施の形態で説明した本発明の内部磁気シールドの短辺側板１０２ａ，１０２ｂには、電子銃側端部からフレーム側に向かってＶ字状の切り欠きを設けても良い。
【００８８】
また、上記の説明では、フレーム８１０と内部磁気シールドとの間にエレクトロンシールド板８２０を設置した陰極線管を示したが、本発明はエレクトロンシールド板８２０が設けられていない陰極線管についても適用でき、上記と同様の効果を奏する。但し、エレクトロンシールド板８２０を備えた場合は、図２０に示したＹ軸方向磁界Ｂｙの吹き出し量が増大するので、本発明の効果はエレクトロンシールド板８２０を備えた陰極線管においてより顕著に発現する。
【００８９】
また、本発明においてフレーム８１０の材質は特に問わず、例えば鉄系材料、インバー材などが使用できるが、インバー材を用いた場合に図２０に示したＹ軸方向磁界Ｂｙの吹き出し量が増大するので、本発明の効果はインバー材からなるフレーム８１０を備えた陰極線管においてより顕著に発現する。
【００９０】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、長辺側板の下側底辺に沿って形成したスリットが内部磁気シールド内を通過する管軸磁界に対して磁気抵抗として作用して、長辺シールド板及び長辺フレームのＹ軸方向端部から管軸側に噴き出す磁界Ｂｙの発生を少なくするすることができる。その結果、管軸磁界による電子ビームのミスランディングが抑えられ、色ずれの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１のカラー陰極線管に使用される色選別構体の構成を示した分解斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態１のカラー陰極線管に使用される色選別構体の全体斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線での矢印方向から見た断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１の内部磁気シールドを長辺側板側から見た側面図である。
【図５】実施例１，２及び比較例１の色選別構体の、Ｙ軸方向磁界Ｂｙの磁束密度分布を示した図である。
【図６】実施例１のＹ軸方向磁界Ｂｙの発生状況を示した分解斜視図である。
【図７】実施例２のＹ軸方向磁界Ｂｙの発生状況を示した分解斜視図である。
【図８】比較例１のＹ軸方向磁界Ｂｙの発生状況を示した分解斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態２の内部磁気シールドの概略構成を示した斜視図である。
【図１０】本発明の実施の形態２の色選別構体の、第１スリットを通りＹ−Ｚ平面に平行な面における断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態３の内部磁気シールドの概略構成を示した斜視図である。
【図１２】本発明の実施の形態３の色選別構体の、第２スリットを通りＹ−Ｚ平面に平行な面における断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態４の内部磁気シールドの概略構成を示した斜視図である。
【図１４】本発明の実施の形態４の色選別構体の、切り欠きを通りＹ−Ｚ平面に平行な面における断面図である。
【図１５】本発明の実施の形態５の内部磁気シールドの概略構成を示した斜視図である。
【図１６】本発明の実施の形態６の内部磁気シールドの概略構成を示した斜視図である。
【図１７】陰極線管の概略構成を示した断面図である。
【図１８】従来のカラー陰極線管に使用される色選別構体の構成を示した分解斜視図である。
【図１９】従来のカラー陰極線管に使用される色選別構体の全体斜視図である。
【図２０】図１９のＥ−Ｅ線での矢印方向から見た断面図である。
【符号の説明】
１００，１００’ 内部磁気シールド
１０１ａ，１０１ｂ長辺側板
１０２ａ，１０２ｂ短辺側板
１０３ａ，１０３ｂ長辺スカート
１０４ａ，１０４ｂ短辺スカート
１０５接合箇所
１０６，１０７第２スリット
１０９屈曲部
１１１，１１２第１スリット
２００内部磁気シールド
２１１，２１２第１スリット
３００内部磁気シールド
３２０ａ，３２０ｂ長辺スカート
３２１ａ，３２１ｂ長辺第１スカート
３２２ａ，３２２ｂ長辺第２スカート
４００内部磁気シールド
４１１，４１２切り欠き
５００内部磁気シールド
５０６，５０７第２スリット
６００内部磁気シールド
６０１ａ，６０１ｂ保持板
８００カラー陰極線管
８０１前面パネル
８０２ファンネル
８０３外囲器
８０４蛍光体スクリーン
８０５色選別電極
８０６電子銃
８０７電子ビーム
８０８偏向ヨーク
８１０フレーム
８１１ａ，８１１ｂ長辺フレーム
８１２ａ，８１２ｂ短辺フレーム
８１５接合箇所
８２０エレクトロンシールド板
８２１ａ，８２１ｂ長辺シールド板
８２２ａ，８２２ｂ短辺シールド板
８２５接合箇所
８３０内部磁気シールド
８３１ａ，８３１ｂ長辺側板
８３２ａ，８３２ｂ短辺側板
８３３ａ，８３３ｂ長辺スカート
８３４ａ，８３４ｂ短辺スカート
８３５接合箇所
８３６，８３７スリット[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention provides an internal magnetic seal that is provided inside a cathode ray tube and reduces the landing position deviation of an electron beam due to an external magnetic field such as geomagnetism. Do The present invention relates to a provided cathode ray tube.
[0002]
[Prior art]
FIG. 17 is a vertical sectional view passing through the tube axis of a conventional color cathode ray tube 800. For convenience of the following description, as shown in the figure, the horizontal axis perpendicular to the tube axis and perpendicular to the tube axis is the X axis, the vertical axis perpendicular to the tube axis is Y axis, An XYZ-3D Cartesian coordinate system with the tube axis as the Z axis is set.
[0003]
The front panel 801 and the funnel 802 are integrated to form an envelope 803. A phosphor screen 804 is formed in a substantially rectangular shape on the inner surface of the front panel 801. A color selection electrode (for example, a shadow mask) 805 is stretched over the frame 810 so as to be separated from the phosphor screen 804 and opposed thereto. The frame 810 is configured such that a leaf spring-like elastic support body (not shown) installed on the outer peripheral surface of the frame 810 is hooked on a panel pin (not shown) planted on the inner surface of the front panel 801. 801. An electron gun 806 is built in the neck portion of the funnel 802. A deflection yoke 808 is provided on the outer peripheral surface of the funnel 802, whereby the electron beam 807 from the electron gun 806 is deflected in the horizontal direction and the vertical direction to scan the phosphor screen 804.
[0004]
An electron shield plate 820 is installed on the surface of the frame 810 on the electron gun 806 side. The end of the electron shield plate 820 on the tube axis side protrudes from the inner surface of the frame 810 toward the tube axis, and is slightly bent toward the electron gun 806 side. The electron shield plate 820 collides with the frame 810 when the trajectory of the electron beam 807 deviates outward from the original trajectory for some reason, and reflects it toward the color selection electrode 805 to display a display image. Prevent disturbance.
[0005]
Further, when an external magnetic field such as geomagnetism acts on the cathode ray tube, the trajectory of the electron beam 807 changes, and the electron beam 807 does not reach a desired position on the phosphor screen 804, so-called “mislanding” occurs. As a result, in the color cathode ray tube, an undesirable phenomenon such as color misregistration occurs, and the quality of the display image is lowered. The direction of the external magnetic field varies depending on the installation direction of the cathode ray tube, and the magnitude thereof varies depending on the installation position of the cathode ray tube. Therefore, in order to always perform stable image display regardless of the installation direction or installation position of the cathode ray tube, the electron beam 807 is shielded from an external magnetic field, or the external magnetic field is converted into a magnetic field in a direction that does not cause at least mislanding. There is a need to. For this purpose, an internal magnetic shield 830 is installed between the frame 810 and the deflection yoke 808.
[0006]
FIG. 18 is an exploded perspective view showing the configuration of the color selection structure including the frame 810, the electron shield plate 820, and the internal magnetic shield 830.
[0007]
The frame 810 includes a pair of long side frames 811a and 811b that are arranged in parallel by being separated by a predetermined distance, and a pair of short side frames 812a and 812b that are arranged in parallel by being separated by a predetermined distance. The long side frames 811a and 811b are formed by bending a metal plate so that the cross section has a hollow triangular prism shape, and one side surface thereof is extended to the phosphor screen side, and a color selection electrode 805 is stretched on the end portion. The The short side frames 812a and 812b are formed by bending a metal plate so that the cross section is substantially U-shaped. A pair of long side frames 811a and 811b and a pair of short side frames 812a and 812b are combined in a substantially rectangular shape, and a joint portion is welded to form a frame 810.
[0008]
The electron shield plate 820 is configured by joining a pair of long side shield plates 821a and 821b and a pair of short side shield plates 822a and 822b in a substantially rectangular shape.
[0009]
The internal magnetic shield 830 has a pair of opposing long side plates 831a and 831b having a substantially trapezoidal shape and a pair of opposing short side plates 832a and 832b having a substantially trapezoidal shape. It is constituted by joining so as to form. Long side skirts 833a and 833b bent so as to be substantially parallel to the XY plane are formed on the side (lower side) of the long side plates 831a and 831b on the frame 810 side. Short side skirts 834a and 834b (short side skirts 834b are not shown) are formed on the sides of the short side plates 832a and 832b on the frame 810 side.
[0010]
On the long side frames 811a and 811b of the frame 810 configured as described above, the long side shield plates 821a and 821b of the electron shield plate 820 and the long side skirts 833a and 833b of the internal magnetic shield 830 are superposed in order. Spot welding is performed at the respective joint portions 815, 825, and 835. At this time, the short side skirts 834a and 834b of the internal magnetic shield 830 are inserted into the gap between the short side shield plate 822a and the short side frame 812a and the gap between the short side shield plate 822b and the short side frame 812b, respectively.
[0011]
Thus, a color selection structure as shown in FIG. 19 is formed.
[0012]
With respect to the internal magnetic shield, various methods have been proposed for converting an external magnetic field such as geomagnetism into a magnetic field in a direction that does not cause color shift. For example, by providing V-shaped cutouts in the pair of short side plates 832a and 832b of the internal magnetic shield 830, mislanding due to an external magnetic field in the tube axis (Z-axis) direction (hereinafter referred to as “tube axis magnetic field”) is prevented. JP-A-53-15061 discloses that this can be prevented. In addition, elongated slits 836 and 837 are formed in the pair of long side plates 831a and 831b along the trajectory direction of the electron beam (that is, so as to connect the upper base side and the lower base side of the substantially trapezoidal long side plate). Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-178945 discloses that the provision of such a film prevents mislanding due to an external magnetic field in the X-axis direction (hereinafter referred to as “lateral magnetic field”).
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
With the development of computer technology and the like, high-definition image display is required, and display pixels are becoming increasingly fine pitch. For this reason, an allowable range for mislanding of the electron beam becomes strict, and the conventional internal magnetic shield configuration is causing a color shift that cannot be ignored due to the mislanding of the electron beam.
[0014]
As a result of various studies on factors that cause electron beam mislanding, the present inventors have found that there are new problem factors. This will be described below.
[0015]
20 is a cross-sectional view as seen from the direction of the arrows along the line EE parallel to the YZ plane of FIG. In FIG. 20, a case is considered where a tube axis magnetic field that runs from the upper side to the lower side of the drawing is applied. The tube axis magnetic field is absorbed by the long side plate 831a of the internal magnetic shield 830 and flows to the long side skirt 833a. Then, it enters the long side shield plate 821a of the electron shield plate 820, and a part of it enters the long side frame 811a. At this time, a part of the magnetic field is ejected from the ends of the long side shield plate 821a and the long side frame 811a near the tube axis, and a magnetic field By in the Y-axis direction is generated. Here, the cross section on the long side plate 831a side has been described. Similarly, the long side plate 831b side also has a magnetic field By in the Y-axis direction from the long side shield plate 821b and the long side frame 811b toward the tube axis side. appear. Since such a magnetic field By displaces the trajectory of the electron beam in the X-axis direction, color misregistration occurs.
[0016]
The present invention reduces mislanding of electron beams due to the tube axis magnetic field by reducing the generation of the magnetic field By ejected from the Y-axis direction ends of the long side shield plates 821a and 821b and the long side frames 811a and 811b to the tube axis side. Can be prevented Shade The purpose is to provide a polar tube.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.
[0018]
According to the present invention Cathode ray tube Is An envelope composed of a front panel and a funnel; a phosphor screen formed on the inner surface of the front panel; a color selection electrode disposed opposite the phosphor screen; and a frame for holding the color selection electrode; An electron gun installed in the funnel, an internal magnetic shield held by the frame and installed on the electron gun side from the color selection electrode, and disposed between the frame and the internal magnetic shield. And an electron shield plate. The inner magnetic shield is A pair of substantially trapezoidal long side plates disposed opposite to each other, and a pair of substantially trapezoidal short side plates disposed opposite to each other. But , Combined to form part of a substantially quadrangular pyramid surface Being done. A slit or notch is formed in the long side plate so as to cut or cut along the bottom side of the long side plate. Yes. The electron shield plate includes a pair of long side shield plates whose longitudinal direction is parallel to the lower base of the pair of long side plates. It is characterized by that.
[0019]
Here, in the present invention, the “lower base” means the longer side of a pair of parallel sides of the long side plate having a substantially trapezoidal shape. The other shorter side is referred to as the “upper base”.
[0021]
The present invention Shade of According to the polar tube, the slit or notch acts as a magnetic resistance to the tube axis magnetic field passing through the inner magnetic shield, and the tube axis side from the Y-axis direction end of the long side shield plate and the long side frame It is possible to reduce the generation of the magnetic field By ejected to the surface. As a result, the mislanding of the electron beam due to the tube axis magnetic field is suppressed, and the occurrence of color misregistration can be prevented.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(Embodiment 1)
The configuration of the color cathode ray tube according to Embodiment 1 of the present invention is the same as that of the color cathode ray tube 800 shown in FIG. 17 except for the internal magnetic shield. Therefore, a detailed description of the configuration other than the internal magnetic shield is omitted.
[0023]
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the configuration of a color selection structure used in the color cathode ray tube of the first embodiment.
[0024]
The frame 810 and the electron shield plate 820 are the same as those shown in FIG. 18, and the same members as those in FIG.
[0025]
The internal magnetic shield 100 has a pair of opposed long side plates 101a and 101b having a substantially trapezoidal shape and a pair of opposed short side plates 102a and 102b having a substantially trapezoidal shape, which are part of a substantially quadrangular pyramid surface. It is constituted by joining so as to form. Long side skirts 103a and 103b bent so as to be substantially parallel to the XY plane are formed on the frame 810 side (lower base) of the long side plates 101a and 101b. Short side skirts 104a and 104b (the short side skirt 104b is not shown) are formed on the sides of the short side plates 102a and 102b on the frame 810 side.
[0026]
In the present embodiment, elongated first slits 111 and 112 having the X-axis direction as the longitudinal direction are formed in the long side plates 101a and 101b. The first slits 111 and 112 are bent portions 109 (which are the boundaries between the long side plates 101a and 101b and the long side skirts 103a and 103b, which coincide with the lower bottom sides of the substantially trapezoidal long side plates 101a and 101b). ) Is one end of the opening, and is opened at a predetermined height on the long side plates 101a and 101b side. The center point of the first slit 111 in the X-axis direction coincides with the midpoint of the bent portion (lower base) 109, and the first slits 112 on both sides of the first slit 111 are located away from the midpoint of the bent portion (lower base) 109. Further, it is formed symmetrically with respect to the midpoint.
[0027]
Furthermore, the second slits 106 that are elongated along the pair of long side plates 101a and 101b along the orbit direction of the electron beam (that is, so as to connect the upper base and the lower base of the long side plate having a substantially trapezoidal shape), 107 is formed. The second slit 106 is substantially rectangular and is formed at a central position in the X-axis direction, and the second slits 107 on both sides thereof are substantially trapezoidal and are symmetrically formed at positions symmetrical to the slit 106.
[0028]
The inner magnetic shield 100 and the electron shield plate 820 are manufactured by a known method such as pressing using a material with high magnetic permeability (for example, soft iron).
[0029]
Such an internal magnetic shield 100 is attached to the frame 810 via the electron shield plate 820 and spot welded at the joints 105, 825, and 815 as in the conventional case, and the color selection structure shown in FIG. 2 is obtained. .
[0030]
Next, the operation of the first slits 111 and 112 of the present embodiment will be described.
[0031]
FIG. 3 is a cross-sectional view seen from the direction of the arrow along the line AA parallel to the YZ plane of FIG. In FIG. 3, a case is considered in which a tube axis magnetic field that runs from the upper side to the lower side of the drawing is applied. The tube axis magnetic field is absorbed by the long side plate 101a of the internal magnetic shield 100 and tends to flow toward the long side skirt 103a. However, in the present embodiment, the first slit 111 exists between the long side plate 101a and the long side skirt 103a, which acts as a resistance and prevents the passage of the tube axis magnetic field. As a result, the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long-side shield plate 821a and the long-side frame 811a near the tube axis can be weakened compared to the case of FIG. The amount of deviation can be reduced. The first slit 112 has a similar function. Similarly, on the side of the long side plate 101b, the first slits 111 and 112 can weaken the generation of the magnetic field By in the Y axis direction that is ejected from the ends of the long side shield plate 821b and the long side frame 811b near the tube axis. it can.
[0032]
The above operation will be described in more detail using a specific example.
[0033]
A color selection structure for a color cathode ray tube having a diagonal size of 38 inches having the structure shown in FIGS. Various dimensions are as follows. In FIG. 4 showing a side view of the internal magnetic shield 100 viewed from the long side plate 101a side, the X-axis direction length W1 = 160 mm of the central first slit 111, its Z-axis direction height H1 = 3 mm, The length W2 = 80 mm in the X-axis direction of the first slit 112, the height H2 = 3 mm in the Z-axis direction, the length L = 600 mm of the lower bottom side of the long side plate 101a, and the X-axis direction end of the long side plate 101a The length D1 = 60 mm to the near end of the first slit 112 and the distance D2 between the first slit 111 and the first slit 112 = 80 mm (Example 1).
[0034]
Further, a color selection structure was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the first slits 112 on both sides were not formed, and only the central first slit 111 was formed at the same position and with the same size as above ( Example 2).
[0035]
Further, a color selection structure was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the first slits 111 and 112 were not formed (Comparative Example 1).
[0036]
A Y-axis direction magnetic field By (FIG. 5) is applied to the color selection structures of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 and is ejected from the ends of the long-side shield plate 821a and the long-side frame 811a near the tube axis. 3, FIG. 20) was measured along the X-axis direction.
[0037]
The results are shown in FIGS.
[0038]
In FIG. 5, the horizontal axis indicates the position in the X-axis direction when the midpoint of the lower base is X = 0 mm. The vertical axis indicates the magnetic flux density of the Y-axis direction magnetic field By at each position in the X-axis direction. Since the color selection structure is formed symmetrically around the position X = 0, and the measurement result of the magnetic field By is also symmetrical around the position X = 0, only the region where X ≦ 0 is illustrated. is there. The area I shown in the upper part of FIG. 5 shows the area where the first slit 111 is formed in the central part in Example 1, and the area II shows the area where the 1 slits 112 on both sides are formed.
[0039]
6, 7, and 8 are exploded perspective views visually showing the generation state of the Y-axis direction magnetic field By of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, respectively, according to the results shown in FIG. 5. FIG. The length of the arrow of the magnetic field By shown in FIGS. 6 to 8 corresponds to the strength of the magnetic field (magnetic flux density). In FIG. 7, reference numeral 100 ′ denotes the internal magnetic shield of Example 2 in which the first slit 111 is provided only in the central part in the long side direction.
[0040]
In Comparative Example 1 in which the first slits 111 and 112 are not provided, as shown in FIG. 5 and FIG. 8, the magnetic field By suddenly increases from the end in the long side direction (X = ± 300 mm point) to the center. The X value becomes maximum and constant in the range of −150 to +150 mm.
[0041]
On the other hand, in the second embodiment in which the first slit 111 is provided only in the central portion in the long side direction, the magnetic field By is the end in the long side direction as in the first comparative example, as shown in FIGS. It increases rapidly from the part (X = ± 300 mm point) to the center part. However, the magnetic field By becomes a maximum at a point where X = ± 150 mm, and decreases rapidly toward the center. The decrease in the magnetic field By at the center in the long side direction is caused by the first slit 111. That is, the first slit 111 acts as a magnetic resistance with respect to the tube axis magnetic field, and reduces the blowing amount of the magnetic field By at the center in the long side direction.
[0042]
Further, in the first embodiment in which the first slits 112 are provided on both sides in addition to the first slit 111 at the central portion in the long side direction, the maximum value of the magnetic field By is as shown in FIGS. 5 and 6. 2 is reduced to about half of the maximum value of the magnetic field By, and the intensity of the magnetic field By at the center is also greatly reduced compared to the second embodiment. Thus, in Example 1, by providing three first slits in the long side direction, the blowout amount of the magnetic field By can be reduced over the entire width in the long side direction, and the magnetic field By in the width direction can be reduced. Variations in strength can also be reduced.
[0043]
As is clear from the above, by providing an elongated slit with the long side direction as the longitudinal direction in the vicinity of the connection portion of the long side plate of the internal magnetic shield with the frame, the tube axis magnetic field passes through the internal magnetic shield. Can be prevented. Therefore, it is possible to reduce the Y-axis direction magnetic field By ejected from the end portions on the tube axis side of the long side shield plates 821a and 821b and the long side frames 811a and 811b. As a result, the mislanding of the electron beam can be reduced and the occurrence of color misregistration can be suppressed.
[0044]
The formation position of the first slit in the X-axis direction is not limited to the above-described embodiment as long as the above effect is achieved. For example, in the first embodiment, it is possible to provide only the first slits 112 on both sides without providing the first slit 111 at the center in the long side direction. Alternatively, the first slit 111 and the first slit 112 can be formed continuously. However, since the slit long in the long side direction reduces the mechanical strength of the internal magnetic shield and causes vibration, the ratio of the first slit to the bottom side in the long side direction (in the example of FIG. W2 + W1 + W2) / L) is preferably 3/4 or less, more preferably 1/2 or less, and the first slit may be provided as necessary so that the distribution of the magnetic field By is optimized within a range satisfying this. It is preferable to divide into a plurality in the long side direction.
[0045]
In addition, it is not preferable to form the first slit to the end of the lower bottom side in order to secure the joint location 105 for fixing the inner magnetic shield 100 to the frame 810 and the fixing strength. That is, in FIG. 4, the distance D1 from the end portion of the lower base to the end portion of the first slit is preferably 20 mm or more, and more preferably 40 mm or more.
[0046]
In any case, the first slit is provided in a symmetrical shape at a symmetrical position with respect to the midpoint of the lower base (X = 0 point), thereby ensuring a balance between the color misregistration amounts on the left and right sides of the screen. From the viewpoint of
[0047]
Further, the opening height (H1, H2 in FIG. 4) of the first slit in the tube axis direction needs to be a size necessary to effectively prevent passage of the tube axis magnetic field, and is 3 mm or more. Is preferred. However, if the opening height is too large, the electron beam passes and halation is generated, and the mechanical strength of the internal magnetic shield is reduced. Therefore, the opening height is preferably about 5 mm or less.
[0048]
Moreover, when providing the 2nd slits 106 and 107 along the locus direction of an electron beam like said example, it is unpreferable to connect and these and the 1st slits 111 and 112. In addition, it is preferable to provide the first slit while avoiding the extension line of the second slit as much as possible. Both are for ensuring the mechanical strength of the internal magnetic shield.
[0049]
In the above example, the first slit is formed along the bent portion 109 that is the boundary between the long side skirts 103a and 103b and the long side plates 101a and 101b, that is, one end of the opening of the first slit is It is provided on the long side plate side so as to coincide with the bent portion 109. If it is provided away from the bent portion 109 toward the electron gun side, the tube axis magnetic field wraps around the region between the first slit and the bent portion 109, so that the effect of the first slit as the magnetic resistance is reduced.
[0050]
Next, the second slits 106 and 107 will be described.
[0051]
The second slit is provided along the trajectory direction of the electron beam and acts as a magnetic resistance against the transverse magnetic field. Therefore, the opening width in the X-axis direction needs to be a size necessary for effectively preventing the passage of the transverse magnetic field, and is preferably 3 mm or more. However, if the opening width is too large, the shielding effect against the tube axis magnetic field is reduced, and the mechanical strength of the internal magnetic shield is reduced. Therefore, the opening width is preferably about 20 mm or less.
[0052]
Further, the number of the second slits formed in one long side plate is not limited to three as described above, and can be appropriately changed according to the size of the cathode ray tube. As the number of slits increases, the transverse magnetic field blocking effect improves, but the shielding effect and mechanical strength against the tube axis magnetic field decrease. Generally 3 to 9 are preferred. The arrangement and shape of the second slit are preferably symmetric with respect to a straight line parallel to the YZ plane passing through the point X = 0. By changing the position of each second slit in the X-axis direction, the displacement amount and the displacement direction of the landing position of the electron beam by the tube axis magnetic field and the transverse magnetic field can be adjusted.
[0053]
(Embodiment 2)
The second embodiment is the same as the first embodiment except for the first slit of the internal magnetic shield.
[0054]
FIG. 9 is a perspective view showing a schematic configuration of the internal magnetic shield 200 of the second embodiment. In FIG. 9, components having the same functions as those of the internal magnetic shield 100 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
[0055]
Unlike the first slits 111 and 112 of the first embodiment, the first slits 211 and 212 of the inner magnetic shield 200 of the present embodiment extend from the long side plates 101a and 101b to the long side skirt 103a, 103b is formed.
[0056]
As in the first embodiment, the inner magnetic shield 200 according to the second embodiment is mounted on the frame 810 via the electron shield plate 820 (see FIG. 1) to form a color selection structure.
[0057]
FIG. 10 is a cross-sectional view of the color selection structure using the internal magnetic shield 200 according to the second embodiment, cut along a plane corresponding to the BB line parallel to the YZ plane of FIG. In FIG. 10, a case is considered where a tube axis magnetic field running from the upper side to the lower side of the drawing is applied. As in the case of the first embodiment, the tube axis magnetic field is absorbed by the long side plate 101a of the internal magnetic shield 200 and tends to flow toward the long side skirt 103a, but the long side plate 101a and the long side skirt 103a The first slit 211 between them becomes a resistance and prevents the passage of the tube axis magnetic field. As a result, the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long-side shield plate 821a and the long-side frame 811a near the tube axis can be weakened compared to the case of FIG. The amount of deviation can be reduced. The first slit 212 has the same function. Similarly, on the side of the long side plate 101b, the first slits 211 and 212 can weaken the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long side shield plate 821b and the long side frame 811b near the tube axis. it can.
[0058]
The positions of the first slits 211 and 212 in the X-axis direction, the length in the X-axis direction, the opening height in the tube axis (Z-axis) direction from the bent portion 109, and the relationship with the second slits 106 and 107 are as follows. The description in Embodiment 1 can be similarly applied.
[0059]
Thus, even if the first slit is provided in the long side plate so as to cut the bent portion 109 (so as to straddle the bent portion 109), the same effect as in the first embodiment can be obtained.
[0060]
(Embodiment 3)
The third embodiment is the same as the second embodiment except for the long side skirt of the internal magnetic shield.
[0061]
FIG. 11 is a perspective view showing a schematic configuration of the internal magnetic shield 300 of the third embodiment. In FIG. 11, components having the same functions as those of the internal magnetic shield 200 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals.
[0062]
The long side skirts 320a and 320b of the internal magnetic shield 300 according to the third embodiment include the long side first skirts 321a and 321b connected to the long side plates 101a and 101b via the bent portion 109, and the long side first skirt. It comprises long side second skirts 322a and 322b connected to 321a and 321b. The long side first skirts 321a and 321b are substantially parallel to the XY plane, and the long side second skirts 322a and 322b are substantially parallel to the XZ plane.
[0063]
As in the second embodiment, the first slits 211 and 212 are formed so as to extend from the long side plates 101a and 101b to the long side first skirts 321a and 321b beyond the bent portion 109.
[0064]
As in the first and second embodiments, the internal magnetic shield 300 according to the third embodiment is mounted on the frame 810 via the electron shield plate 820 (see FIG. 1) to form a color selection structure.
[0065]
FIG. 12 is a cross-sectional view of the color selection structure using the internal magnetic shield 300 according to the third embodiment, cut along a plane corresponding to the CC line parallel to the YZ plane of FIG.
[0066]
In FIG. 12, a case where a tube axis magnetic field that runs from the upper side to the lower side in the drawing is applied is considered. As in the first and second embodiments, the tube axis magnetic field is absorbed by the long side plate 101a of the internal magnetic shield 300 and tends to flow toward the long side skirt 320a. The first slit 211 between the skirt 320a becomes a resistance and prevents the passage of the tube axis magnetic field. As a result, the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long-side shield plate 821a and the long-side frame 811a near the tube axis can be weakened compared to the case of FIG. The amount of deviation can be reduced. The first slit 112 has a similar function. Similarly, on the side of the long side plate 101b, the first slits 211 and 212 can weaken the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long side shield plate 821b and the long side frame 811b near the tube axis. it can.
[0067]
In the present embodiment, as shown in FIG. 12, the first long skirt 321a is laminated on the upper surface (surface perpendicular to the tube axis) of the long side frame 811a via the long side shield plate 821a. The two skirts 322a are in contact with the outer side surface of the long side frame plate 811a. Although not shown, the long side first skirt 321b and the long side second skirt 322b on the opposite long side side have the same structure. In this way, by providing the long side second skirts 322a and 322b so as to be in contact with the outer side surfaces of the long side frames 811a and 811b, the magnetic flux of the tube axis magnetic field passes through the long side second skirts 322a and 322b. Since it flows to the outer side surfaces of 811a and 811b, the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long side shield plates 821a and 821b and the long side frames 811a and 811b near the tube axis can be further weakened.
[0068]
The positions of the first slits 211 and 212 in the X-axis direction, the length in the X-axis direction, the opening height in the tube axis (Z-axis) direction from the bent portion 109, and the relationship with the second slits 106 and 107 are as follows. The description in Embodiment 1 can be similarly applied.
[0069]
The first slits 211 and 212 of the inner magnetic shield 300 shown above have the same configuration as that of the second embodiment, but the first slits 111 and 112 similar to those of the first embodiment may be formed instead. good.
[0070]
(Embodiment 4)
The fourth embodiment is the same as the first embodiment except for the first slit of the internal magnetic shield.
[0071]
FIG. 13 is a perspective view showing a schematic configuration of the internal magnetic shield 400 of the fourth embodiment. In FIG. 13, components having the same functions as those of the internal magnetic shield 100 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
[0072]
In the inner magnetic shield 400 of this embodiment, instead of the first slits 111 and 112 of the first embodiment, the long side plates 101a and 101b extend from the free end side of the long side skirts 103a and 103b beyond the bent portion 109. The substantially rectangular cutouts 411 and 412 are formed.
[0073]
As in the first embodiment, the inner magnetic shield 400 according to the fourth embodiment is mounted on the frame 810 via the electron shield plate 820 (see FIG. 1) to form a color selection structure.
[0074]
FIG. 14 is a cross-sectional view of the color selection structure using the internal magnetic shield 400 of the fourth embodiment, cut along a plane corresponding to a DD line parallel to the YZ plane of FIG. In FIG. 14, a case is considered where a tube axis magnetic field that runs from the upper side to the lower side of the drawing is applied. Similar to the first embodiment, the tube axis magnetic field is absorbed by the long side plate 101a of the internal magnetic shield 400 and tends to flow toward the long side skirt 103a, but the notch 411 formed in the long side plate 101a. Acts as a resistance and prevents the passage of the tube axis magnetic field. As a result, the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction ejected from the ends of the long-side shield plate 821a and the long-side frame 811a near the tube axis can be weakened compared to the case of FIG. The amount of deviation can be reduced. The notch 412 has a similar effect. Similarly, on the side of the long side plate 101b, the notches 411 and 412 can weaken the generation of the magnetic field By in the Y-axis direction that is ejected from the ends of the long side shield plate 821b and the long side frame 811b near the tube axis. .
[0075]
The positions of the notches 411 and 412 in the X-axis direction, the length in the X-axis direction, the opening height in the tube axis (Z-axis) direction from the bent portion 109, and the relationship with the second slits 106 and 107 are described in the embodiment. The description in 1 is applicable as well.
[0076]
Similar to the long-side skirts 320a and 320b of the third embodiment, the long-side skirt of the inner magnetic shield 400 shown above is bent so that the end on the free end side is extended and parallel to the XZ plane. You may make it the shape.
[0077]
(Embodiment 5)
The fifth embodiment is the same as the first embodiment except for the second slit of the internal magnetic shield.
[0078]
FIG. 15 is a perspective view showing a schematic configuration of the internal magnetic shield 500 of the fifth embodiment. In FIG. 15, components having the same functions as those of the internal magnetic shield 100 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
[0079]
Unlike the second slits 106 and 107 of the first embodiment, the second slits 506 and 507 of the inner magnetic shield 500 of the present embodiment are on the electron gun side of the long side plates 101a and 101b (upward direction on the paper surface of FIG. 15). ) End (upper base).
[0080]
With such a configuration, the magnetoresistive effect with respect to the transverse magnetic field by the second slit is more greatly exhibited, and mislanding of the electron beam due to the transverse magnetic field can be further reduced.
[0081]
Not all the second slits are formed so as to reach the upper base as described above, but only a part thereof is formed as in the fifth embodiment, and the other is formed as in the first embodiment. You may do it.
[0082]
The second slit of the present embodiment can be similarly applied to the internal magnetic shields of the above-described second to fourth embodiments.
[0083]
(Embodiment 6)
FIG. 16 is a perspective view showing a schematic configuration of the internal magnetic shield 600 of the sixth embodiment. In FIG. 16, components having the same functions as those of the inner magnetic shield 500 of the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals.
[0084]
In the internal magnetic shield 600 of the sixth embodiment, second slits 506 and 507 are formed in the long side plates 101a and 101b similarly to the fifth embodiment, and a non-magnetic material (for example, stainless steel) is formed along the upper base. Holding plates 601a and 601b made of steel SUS304 or the like are attached (welded) to each other.
[0085]
With such a configuration, since the upper bases divided by the second slits 506 and 507 of the long side plates 101a and 101b are connected by the holding plates 601a and 601b, the mechanical strength of the internal magnetic shield 600 is improved and harmful. Generation of vibrations can be prevented, and the cathode ray tube can be easily assembled.
[0086]
Further, since the holding plates 601a and 601b are attached along the upper bases of the long side plates 101a and 101b, the mechanical strength and vibration are improved as compared with the case where the holding plates 601a and 601b are attached between the upper base and the lower base. Great effect. In addition, since the shape accuracy of the internal magnetic shield can be easily maintained, variations in the cathode ray tube from raster distortion and displacement of the landing position of the electron beam due to the external magnetic field can be suppressed.
[0087]
The short side plates 102a and 102b of the internal magnetic shield of the present invention described in the above embodiments may be provided with V-shaped notches from the electron gun side end toward the frame side.
[0088]
In the above description, the cathode ray tube in which the electron shield plate 820 is installed between the frame 810 and the internal magnetic shield is shown. However, the present invention can also be applied to a cathode ray tube in which the electron shield plate 820 is not provided. The same effect as described above is achieved. However, when the electron shield plate 820 is provided, the blowout amount of the Y-axis direction magnetic field By shown in FIG. 20 increases. Therefore, the effect of the present invention is more noticeably exhibited in the cathode ray tube provided with the electron shield plate 820. .
[0089]
In the present invention, the material of the frame 810 is not particularly limited. For example, an iron-based material or an invar material can be used. However, when the invar material is used, the amount of blowing out the Y-axis direction magnetic field By shown in FIG. 20 increases. Therefore, the effect of the present invention is more remarkably exhibited in the cathode ray tube including the frame 810 made of Invar material.
[0090]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the slit formed along the lower base of the long side plate acts as a magnetic resistance against the tube axis magnetic field passing through the internal magnetic shield, and the long side shield plate and It is possible to reduce the generation of the magnetic field By ejected from the end of the long side frame in the Y-axis direction toward the tube axis. As a result, the mislanding of the electron beam due to the tube axis magnetic field is suppressed, and the occurrence of color misregistration can be prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of a color selection structure used in a color cathode ray tube according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 2 is an overall perspective view of a color selection structure used in the color cathode ray tube according to Embodiment 1 of the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
FIG. 4 is a side view of the internal magnetic shield according to the first embodiment of the present invention as viewed from the long side plate side.
5 is a diagram showing a magnetic flux density distribution of a Y-axis direction magnetic field By of the color selection structures of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. FIG.
6 is an exploded perspective view showing a state of generation of a Y-axis direction magnetic field By of Embodiment 1. FIG.
FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating a generation state of a Y-axis direction magnetic field By of the second embodiment.
8 is an exploded perspective view showing a state of generation of a Y-axis direction magnetic field By of Comparative Example 1. FIG.
FIG. 9 is a perspective view showing a schematic configuration of an internal magnetic shield according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view of a color selection structure according to a second embodiment of the present invention on a plane that passes through the first slit and is parallel to the YZ plane.
FIG. 11 is a perspective view showing a schematic configuration of an internal magnetic shield according to a third embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view of a color selection structure according to a third embodiment of the present invention on a plane that passes through the second slit and is parallel to the YZ plane. FIG.
FIG. 13 is a perspective view showing a schematic configuration of an internal magnetic shield according to a fourth embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view of a color selection structure according to a fourth embodiment of the present invention on a plane that passes through the notch and is parallel to the YZ plane. FIG.
FIG. 15 is a perspective view showing a schematic configuration of an internal magnetic shield according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a perspective view showing a schematic configuration of an internal magnetic shield according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a cathode ray tube.
FIG. 18 is an exploded perspective view showing a configuration of a color selection structure used in a conventional color cathode ray tube.
FIG. 19 is an overall perspective view of a color selection structure used in a conventional color cathode ray tube.
20 is a cross-sectional view taken along the line E-E in FIG. 19 as viewed from the direction of the arrows.
[Explanation of symbols]
100,100 'internal magnetic shield
101a, 101b Long side plate
102a, 102b Short side plate
103a, 103b Long side skirt
104a, 104b Short side skirt
105 joints
106,107 Second slit
109 Bend
111, 112 1st slit
200 Internal magnetic shield
211, 212 1st slit
300 Internal magnetic shield
320a, 320b Long side skirt
321a, 321b Long side first skirt
322a, 322b Long side second skirt
400 Internal magnetic shield
411, 412 cutout
500 Internal magnetic shield
506, 507 Second slit
600 Internal magnetic shield
601a, 601b holding plate
800 color cathode ray tube
801 Front panel
802 Funnel
803 Envelope
804 phosphor screen
805 Color selection electrode
806 electron gun
807 Electron beam
808 deflection yoke
810 frames
811a, 811b Long side frame
812a, 812b Short side frame
815 Joint
820 Electron shield plate
821a, 821b Long side shield plate
822a, 822b Short side shield plate
825 junction
830 Internal magnetic shield
831a, 831b Long side plate
832a, 832b Short side plate
833a, 833b Long side skirt
834a, 834b Short side skirt
835 joint
836, 837 slit

Claims

前面パネル及びファンネルからなる外囲器と、前記前面パネルの内面に形成された蛍光体スクリーンと、前記蛍光体スクリーンに対向して配置された色選別電極と、前記色選別電極を保持するフレームと、前記ファンネル内に設置された電子銃と、前記フレームに保持されて、前記色選別電極より前記電子銃側に設置された内部磁気シールドと、前記フレームと前記内部磁気シールドとの間に配置されたエレクトロンシールド板とを有する陰極線管であって、
前記内部磁気シールドは、対向して配置された略台形状の一対の長辺側板と、対向して配置された略台形状の一対の短辺側板とが、略四角錐面の一部を形成するように組み合わされてなり、前記長辺側板の下側底辺に沿って又はこれを切断するように、前記長辺側板にスリット又は切り欠きが形成されており、
前記エレクトロンシールド板は、その長手方向が前記一対の長辺側板の前記下側底辺と平行である一対の長辺シールド板を含むことを特徴とする陰極線管。 An envelope composed of a front panel and a funnel; a phosphor screen formed on the inner surface of the front panel; a color selection electrode disposed opposite the phosphor screen; and a frame for holding the color selection electrode; An electron gun installed in the funnel, an internal magnetic shield held by the frame and installed on the electron gun side from the color selection electrode, and disposed between the frame and the internal magnetic shield. A cathode ray tube having an electron shield plate,
The internal magnetic shield includes a pair of long sides plates substantially trapezoidal arranged opposite, and the pair of short sides plates substantially trapezoidal disposed facing, forming part of the substantially rectangular cone combination is made by so that, to cut or this along the lower bottom of the long side plates, and a slit or cutout is formed in the long side plates,
The electron shield plate may be a cathode ray tube whose longitudinal direction is characterized in that it comprises a pair of long sides shield plate is parallel to the lower base of the pair of long sides plates.

前記スリット又は切り欠きは、前記下側底辺の中央に設けられている請求項１に記載の陰極線管。The cathode ray tube according to claim 1, wherein the slit or notch is provided at a center of the lower bottom side.

前記スリット又は切り欠きは、前記下側底辺の中央と端部との間に設けられている請求項１に記載の陰極線管。2. The cathode ray tube according to claim 1, wherein the slit or notch is provided between a center and an end of the lower base.

前記長辺側板の前記下側底辺に長辺スカートが接続されており、前記スリットは、前記長辺側板と前記長辺スカートとの境界部に沿って又はこれを跨ぐように形成されている請求項１に記載の陰極線管。A long side skirt is connected to the lower bottom side of the long side plate, and the slit is formed along or across the boundary between the long side plate and the long side skirt. Item 4. The cathode ray tube according to Item 1.

前記長辺側板の前記下側底辺に長辺スカートが接続されており、前記切り欠きは前記長辺スカートから前記下側底辺を越えて前記長辺側部に及ぶように形成されている請求項１に記載の陰極線管。A long side skirt is connected to the lower bottom side of the long side plate, and the notch is formed so as to extend from the long side skirt to the long side side part beyond the lower base side. 2. The cathode ray tube according to 1.

前記長辺側板の前記下側底辺の端部から前記スリット又は切り欠きの前記端部側の端までの距離が２０ｍｍ以上である請求項１に記載の陰極線管。2. The cathode ray tube according to claim 1, wherein a distance from an end of the lower bottom side of the long side plate to an end of the slit or notch on the end side is 20 mm or more.

前記長辺側板に、下側底辺と上側底辺とを結ぶ方向を長手方向とする第２スリットが形成されている請求項１に記載の陰極線管。2. The cathode ray tube according to claim 1, wherein a second slit having a longitudinal direction in a direction connecting the lower base and the upper base is formed in the long side plate.

前記第２スリットは前記上側底辺に達している請求項７に記載の陰極線管。The cathode ray tube according to claim 7, wherein the second slit reaches the upper base.

前記第２スリットによって分割された前記上側底辺を連結する、非磁性体材料からなる保持板が設けられている請求項８に記載の陰極線管。The cathode ray tube according to claim 8, further comprising a holding plate made of a nonmagnetic material that connects the upper bases divided by the second slit.

前記第２スリットは、前記長辺側板の下側底辺に沿って又はこれを切断するように形成された前記スリット又は切り欠きとつながっていない請求項７に記載の陰極線管。8. The cathode ray tube according to claim 7, wherein the second slit is not connected to the slit or the notch formed so as to cut or cut along the lower bottom side of the long side plate. 9.

前記フレームは中空三角柱断面を有する一対の長辺フレームと一対の短辺フレームとが略矩形状に組み合わされてなり、The frame is formed by combining a pair of long side frames having a hollow triangular prism section and a pair of short side frames in a substantially rectangular shape,
前記色選別電極は前記一対の長辺フレームにより架張されており、The color selection electrode is stretched by the pair of long side frames,
前記長辺フレームの前記中空三角柱断面は管軸寄りの端部を備え、The hollow triangular prism section of the long side frame has an end near the tube axis,
前記短辺フレームと前記色選別電極との間には空間が形成されており、A space is formed between the short side frame and the color selection electrode,
前記一対の長辺フレームと前記一対の長辺シールド板とが重ね合わされている請求項１に記載の陰極線管。The cathode ray tube according to claim 1, wherein the pair of long side frames and the pair of long side shield plates are overlapped.