JP3858895B2 - 光ファイバ心線およびその製造方法 - Google Patents

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本発明は、ガラスファイバを紫外線硬化樹脂層によって被覆した光ファイバ心線およびその製造方法に関し、特に、安定した巻替性が得られるとともに、表面に形成される着色層の密着性を向上させた光ファイバ心線およびその製造方法に関する。
従来、光ファイバのコーティング材として紫外線硬化樹脂が主に用いられ、ファイバの線引速度の高速化、線引長の長尺化が進んでいる(例えば、特許文献1参照。)。
通常、線引後の品質チェックとして、巻替を兼ねたプルーフテストが行われる。プルーフテストは、光ファイバのガラスに強度の低い欠陥部分の有無を調べる試験で、一定の張力を加えて巻替を実施する。このプルーフテストもファイバを高速で走行させるため、ファイバ表面に摩擦による静電気が発生しやすい。
そのため、光ファイバの巻き乱れが生じ、伝送損失が増加するという問題があり、通常、静電気除去装置を取り付けて対処している(例えば、特許文献2参照。)。
また、光ファイバ心線の表面のタック性(べたつき)が強いと、巻乱れが生じやすくなるので、表面の滑性や平滑性を付与するためレベリング剤などの添加剤が紫外線硬化樹脂に配合されたりしている。
特開2000−193855号公報 特開平8−110417号公報
しかし、静電気除去装置の除電性能を安定して保つには、センサーのメンテナンスを頻繁に行う必要があること、周囲の湿度に大きく影響を受けることがあり、除電効果が十分に発揮されない場合が多い。そのため、巻替時に巻乱れが生じ、伝送損失が増加して、再度巻替を実施する必要や、ひどい場合には廃却する必要があるなどの問題がある。
また、表面に滑性を付与するためにコーティング材中に滑剤などの添加剤を多く配合すると、光ファイバ心線外層に識別のために設けられる着色層との密着が低下する問題がある。着色層の密着が弱い着色光ファイバ心線を複数本並べて、紫外線硬化樹脂などで一括被覆されたテープファイバおいては、端末施工時に被覆層を一括して除去する際に着色層の剥がれが生じ、識別不良が起こる。さらに、温水中では、着色層と下層との間にブリスタが発生し、伝送損失が増加するという問題が発生する。
従って、本発明の目的は、安定した巻替性が得られるとともに、表面に形成される着色層の密着性を向上させた光ファイバ心線およびその製造方法を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するため、ガラスファイバの外周に紫外線硬化樹脂層を形成した光ファイバ心線において、前記紫外線硬化樹脂層は、その表面の平均面粗さが0.5〜10nm、最大高低差が50nm以下であることを特徴とする光ファイバ心線を提供する。
上記紫外線硬化樹脂層は、その表面の平均面粗さが0.5〜5nm、最大高低差が20nm以下であるのが好ましい。
本発明は、上記目的を達成するため、ガラスファイバの外周に紫外線硬化樹脂を塗布し、未硬化の前記紫外線硬化樹脂が塗布された前記ガラスファイバを、不活性ガスが流入する石英管内に通過させるとともに、前記ガラスファイバに前記石英管を通して紫外線を照射することにより、前記未硬化の紫外線硬化樹脂を硬化させて光ファイバ心線を製造する光ファイバ心線の製造方法において、前記石英管内に流入する前記不活性ガス中の酸素濃度を10000〜30000ppmに調整することにより、前記紫外線硬化樹脂の表面を粗化することを特徴とする光ファイバ心線の製造方法を提供する。
本発明は、上記の目的を達成するため、ガラスファイバの外周に紫外線硬化樹脂を塗布し、前記紫外線硬化樹脂が塗布された前記ガラスファイバを、不活性ガスが流入する石英管内に通過させるとともに、前記ガラスファイバに前記石英管を通して紫外線を照射することにより、未硬化の前記紫外線硬化樹脂を硬化させて第1の被覆層を形成し、前記第1の被覆層の上に紫外線硬化樹脂を更に塗布し、前記紫外線硬化樹脂が塗布された前記ガラスファイバを、前記不活性ガスが流入する石英管内に通過させるとともに、前記ガラスファイバに前記石英管を通して紫外線を照射することにより、未硬化の前記紫外線硬化樹脂を硬化させて第2の被覆層を形成して光ファイバ心線を製造する光ファイバ心線の製造方法において、前記石英管内に流入する前記不活性ガス中の酸素濃度を5000〜50000ppmに調整することにより、前記第2の被覆層の表面を粗化することを特徴とする光ファイバ心線の製造方法を提供する。
本発明の光ファイバ心線によれば、ガラスファイバを保護する紫外線硬化樹脂層の表面の平均面粗さを0.5〜10nm、最大高低差を50nm以下とすることにより、良好な巻替性が得られるとともに、その表面に形成される着色層の密着性が向上する。
紫外線硬化樹脂層の表面の平均面粗さを0.5〜5nm、最大高低差を20nm以下とすることにより、より安定した巻替性が得られる。
本発明の光ファイバ心線の製造方法によれば、ガラスファイバを保護する紫外線硬化樹脂の表面を粗化することにより、良好な巻替性が得られるとともに、その表面に形成される着色層の密着性が向上する。
紫外線硬化樹脂を硬化させる際に供給する不活性ガス中の酸素濃度を5000〜50000ppmに調整することにより、所望の表面粗さが得られる。
図1は、本発明の実施の形態に係る着色光ファイバ心線を示す。この着色光ファイバ心線1は、同図(a)に示すように、ガラスファイバ2の周囲を、平均面粗さ0.5〜10nm、最大高低差は50nm以下の表面3aを有する被覆層3で被覆し、その表面3aに着色層4を形成したものである。なお、同図(b)は、着色層4を形成する前の光ファイバ心線1aを示す。
ガラスファイバ2は、例えば、石英ガラスからなり、情報通信等の伝達に用いられるものであるが、材料は特に限定するものではない。
被覆層3は、例えば、比較的柔らかい紫外線硬化樹脂からなる第1の被覆層30、および比較的硬い紫外線硬化樹脂からなる第2の被覆層31の2層構造を有する。なお、第1および第2の被覆層30,31の材料は、同じものでもよく、また光ファイバに用いられるものであれば、特に限定するものではなく、例えば、ウレタンクリレート、エステルクリレート、エポキシクリレート等の市販のものを用いることができる。
被覆層3の表面3aの平均面粗さを0.5〜10nm、最大高低差を50nm以下とするのは、0.5nmより粗さが小さいと、巻替性や識別のために施される着色層4に対する密着効果が得られないためである。また、平均面粗さが10nmより大きいと、巻替時に巻き乱れが生じやすくなるためである。さらに表面3aの粗さの最大高低差が50nmより大きいと、巻替時に巻き乱れが生じやすくなるためである。好ましくは平均面粗さが0.5〜5nm、最大高低差が20nm以下がよい。
図2は、被覆層3となる紫外線硬化樹脂を硬化するための紫外線照射装置を示し、(a)は1灯式、(b)は2灯式を示す。図2(a)示す紫外線照射装置10Aは、一対の反射板11A,11Bによって筒状に仕切られた空間内に、その長手方向に沿って第1の被覆層30あるいは第2の被覆層31となる紫外線硬化樹脂が塗布された光ファイバ心線1aを通過させる石英管12を配置し、石英管12の近傍にこれと平行に紫外線照射ランプ13を配置し、不活性ガスを不活性ガス導入路14から石英管12内に導入し、不活性ガス排出路15から排出するようにしている。
図2(b)に示す紫外線照射装置10Bは、紫外線照射ランプ13を2つ用いたものであり、他は図2(a)に示す紫外線照射装置10Aと同様に構成されている。必要に応じて図2(a)に示す紫外線照射装置10Aと図2(b)に示す紫外線照射装置10Bとを使い分けるのが好ましい。
紫外線照射ランプ13としては、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、メタルハライドランプ等の市販のランプを用いることができる。好ましくは、メタルハライドランプが望ましい。また、有電極タイプ及び無電極タイプのいずれを用いてもよい。
不活性ガスとして、例えば、酸素濃度が5000〜50000ppmの窒素ガスを用いる。不活性ガス中の酸素濃度を5000〜50000ppmとするのは、5000ppmより少ないと、光ファイバ心線1aの表面3aの粗さが小さく、粗化効果が得られないからである。また、50000ppmより多いと、表面3aの粗さが大きくなり、さらに表面3aの硬化性が著しく低下し、表面3aの粘着が生じやすくなり、光ファイバ心線1をボビンに巻き取った場合に、心線1a同士がくっついたり、巻乱れが生じる等の不具合が出るためである。好ましくは、10000〜30000ppmが良い。
次に、上記紫外線照射装置10A,10Bを用いた着色光ファイバ心線1の製造方法の一例を説明する。ガラスファイバ2に紫外線硬化樹脂を塗布し、それを図2(a)に示す紫外線照射装置10Aの不活性ガスが供給される石英管12内に通過させながら、紫外線照射ランプ13から光ファイバ心線1aに紫外線を照射して未硬化の紫外線硬化樹脂を硬化させ、光ファイバ心線1a上の第1の被覆層30を形成する。
次に、硬化した第1の被覆層30上に紫外線硬化樹脂を塗布し、ガラスファイバ2に紫外線硬化樹脂を塗布し、それを図2(b)に示す紫外線照射装置10Bの不活性ガスが供給される石英管12内に通過させながら、2つの紫外線照射ランプ13から光ファイバ心線1aに紫外線を照射して未硬化の紫外線硬化樹脂を硬化させ、光ファイバ心線1a上の第2の被覆層31を形成する。これにより、被覆層3の表面3aの平均面粗さが0.5〜10nm、最大高低差が50nm以下の光ファイバ心線1aが得られる。
次に、硬化した第2の被覆層31上に着色層4を形成することにより、着色光ファイバ心線1が得られる。
図3、図4、図5は、複数の図1(a)に示す着色光ファイバ心線1をテープ材5によって被覆したテープファイバを示す。図3は、2本の着色光ファイバ心線1を用いた2心テープファイバ20A、図4は、4本の着色光ファイバ心線1を用いた4心テープファイバ20B、図5は、8本の着色光ファイバ心線1を用いた8心テープファイバ20Cをそれぞれ示す。
本発明の実施例1に係る光ファイバ心線の製造方法を説明する。この実施例1は、紫外線照射装置10A,10Bの石英管12内に流す窒素ガス中の酸素濃度を10000ppmとし、この窒素ガスを光ファイバ心線1aの走行方向と逆方向に流しながら、光ファイバ心線1aを構成する第1の被覆層30に対して図2(a)に示す6kWの1灯式の紫外線照射装置10A(ランプ長250mm)を用い、第1の被覆層30が硬化した光ファイバ心線1aを構成する第2の被覆層31に対して図2(b)に示す6kWの2灯式の紫外線照射装置10B(ランプ長各250mm)を用い、線引速度1200m/分で図1(b)に示す光ファイバ心線1aを550km線引した。この光ファイバ心線1aについて、走査型プローブ顕微鏡(SPI3800N ステーション セイコーインスツルメンツ(株)製)で被覆層3の表面3aの平均面粗さと最大高低差を調べた。また、プルーフ兼巻替装置にて、25km巻きボビンを20個準備し、OTDR(Optical Time Domain Refractmeter)装置にて段差の発生有無を調べた。次に、着色工程で、光ファイバ心線1aに着色層4を施した図1(a)に示す着色光ファイバ心線1を作製し、1000m束を3つ用意し、60℃温水中に浸漬(端末は温水槽の外に出して)して、伝送損失の経時変化を30日間測定した。
本発明の実施例2に係る光ファイバ心線の製造方法を説明する。この第2の実施例は、紫外線照射装置10A,10Bの石英管12内に流す窒素ガス中の酸素濃度を20000ppmとし、光ファイバ1aを構成する第1の被覆層30に対して図2(a)に示す6kWの1灯式の紫外線照射装置10A(ランプ長250mm)、第2の被覆層31に対して図2(b)に示す6kWの2灯式の紫外線照射装置10B(ランプ長各250mm)を用い、線引速度1200m/分で550km線引して得た光ファイバ心線1aを、実施例1と同様にサンプルを作製して試験を行った。
本発明の実施例3に係る光ファイバ心線の製造方法を説明する。この第3の実施例は、紫外線照射装置10A,10Bの石英管12内に流す窒素ガス中の酸素濃度を30000ppmとし、光ファイバ心線1aを構成する第1の被覆層30に対して図2(a)に示す6kWの1灯式の紫外線照射装置10A(ランプ長250mm)、第2の被覆層31に対して図2(b)に示す6kWの2灯式の紫外線照射装置10B(ランプ長各250mm)を用い、線引速度1200m/分で550km線引して得た光ファイバ心線1aを、実施例1と同様にサンプルを作製して試験を行った。
比較例1
比較例1に係る光ファイバ心線の製造方法を説明する。この比較例1は、紫外線照射装置10A,10Bの石英管12内に流す窒素ガス中の酸素濃度を4000ppmとし、光ファイバ心線1aを構成する第1の被覆層30に対して図2(a)に示す6kWの1灯式の紫外線照射装置10A(ランプ長250mm)、第2の被覆層31に対して図2(b)に示す6kWの2灯式の紫外線照射装置10B(ランプ長各250mm)を用い、線引速度1200m/分で550km線引して得た光ファイバ心線1aを、実施例1と同様にサンプルを作製して試験を行った。
比較例2
比較例2に係る光ファイバ心線の製造方法を説明する。この比較例2は、紫外線照射装置10A,10Bの石英管12内に流す窒素ガス中の酸素濃度を60000ppmとし、光ファイバ心線1aを構成する第1の被覆層30に対して図2に示す6kW1灯式の紫外線照射装置10A(ランプ長250mm)、第2の被覆層31に対して図3に示す6kW2灯式の紫外線照射装置10B(ランプ長各250mm)を用い、線引速度1200m/分で550km線引して得た光ファイバ心線1aを、実施例1と同様にサンプルを作製して試験を行った。
Figure 0003858895
表1は、実施例1,2,3および比較例1,2で測定を行った段差発生数と60℃温水浸漬時の伝送損失結果を示す。
表1から明らかなように、実施例1,2および3では、巻替に伴うOTDR段差の発生数が、比較例1,2に比べて少なく、また60℃温水浸漬時に伝送損失の増加も生じにくいものが得られている。
図6は、実施例2の酸素濃度20000ppmで線引き作製した光ファイバ心線1aの表面3aの表面粗さを走査型プローブ顕微鏡(SPI3800Nセイコーインスツルメンツ(株)製)で測定した一例を示す。図6(a)は、5×5μmの領域の表面粗さ、図6(b)は、あるライン上の表面粗さのプロファイルを示す。
これから明らかなように光ファイバ心線1aの表面3aの平均面粗さを0.5〜10nmとすることにより、巻替性に優れた光ファイバ心線を得ることができる。
(a)は、本発明の実施の形態に係る着色光ファイバ心線の断面図、(b)は、着色層を形成する前の光ファイバ心線の断面図である。 本発明の実施の形態に係る光ファイバ心線の紫外線硬化樹脂を硬化させるための紫外線照射装置を示し、(a)は1灯式の紫外線照射装置を示す図、(b)は2灯式の紫外線照射装置を示す図である。 本発明の実施の形態に係る着色光ファイバ心線を2本用いたテープファイバを示す断面図である。 本発明の実施の形態に係る着色光ファイバ心線を4本用いたテープファイバを示す断面図である。 本発明の実施の形態に係る着色光ファイバ心線を8本用いたテープファイバを示す断面図である。 本発明の実施例2の酸素濃度20000ppmで線引き作製した光ファイバ心線1aの表面3aの表面粗さを走査型プローブ顕微鏡による測定結果を示し、(a)は、5×5μmの領域の表面粗さ、(b)は、あるライン上の表面粗さのプロファイルを示す写真である。
符号の説明
1 着色光ファイバ心線
1a 光ファイバ心線
2 ガラスファイバ
3 被覆層
3a 被覆層の表面
4 着色層
5 テープ材
10A,10B 紫外線照射装置
11A,11B 反射板
12 石英管
13 紫外線照射ランプ
14 不活性ガス導入路
15 不活性ガス排出路
20A,20B,20C テープファイバ
30 第1の被覆層
31 第2の被覆層

Claims (3)

  1. ガラスファイバの外周に紫外線硬化樹脂層を形成した光ファイバ心線において、
    前記紫外線硬化樹脂層は、その表面の平均面粗さが0.5〜10nm、最大高低差が50nm以下であることを特徴とする光ファイバ心線。
  2. 前記紫外線硬化樹脂層は、その表面の平均面粗さが0.5〜5nm、最大高低差が20nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ心線。
  3. ガラスファイバの外周に紫外線硬化樹脂を塗布し、
    前記紫外線硬化樹脂が塗布された前記ガラスファイバを、不活性ガスが流入する石英管内に通過させるとともに、前記ガラスファイバに前記石英管を通して紫外線を照射することにより、未硬化の前記紫外線硬化樹脂を硬化させて光ファイバ心線を製造する光ファイバ心線の製造方法において、
    前記石英管内に流入する前記不活性ガス中の酸素濃度を10000〜30000ppmに調整することにより、前記紫外線硬化樹脂の表面を粗化することを特徴とする光ファイバ心線の製造方法。
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