JP3843399B2 - サブミクロメートル範囲における3次元構造を判定する方法及び装置 - Google Patents

サブミクロメートル範囲における3次元構造を判定する方法及び装置 Download PDF

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Description

本発明は、特許請求の範囲第1項の上位概念に記載の方法、及び特許請求の範囲第8項記載の装置に関する。サブミクロメートル範囲における構造は、例えば走査力顕微鏡によって測定され、その際、測定される対象物は、サブミクロメートル範囲においてサーボ装置によってシフトされ、かつ測定対象物の表面構造は、微細測定チップによって走査される。その際に使用すべき微細測定チップは、この時、頻繁に損傷し、かつそれにより意図に反した動作の中断に至る。さらに微細チップによって対象物表面上に作用する力は、0.1ないし1・10*−9ニュートンの範囲にある。この小さな力は、すでに測定対象物に表面の変化を引起こすことがある。
本発明の課題は、測定すべき対象物の表面を走査する機械的要素がもはや必要ない、方法及び装置を提供することにある。
この時、本発明において、光学顕微鏡とは相違して、ビーム光学系が動作させられるのではなく、測定すべき対象物から出る空間的及び時間的な複素振幅(強度及び移動分布)が、判定されかつ処理される。
両方の部分ビームの種々のビーム状態とは、検出器フィールドにおける検出器の場所において異なったかつ両方の部分ビームの重畳によって生じるビームフィールドを発生する状態のことである。これら種々のビームフィールドの位相角は、同一の検出器場所において全波振動の種々の数分の1だけ異なっている。同一の場所におけるなるべく少なくとも3つの測定から、この時、重畳フィールドの振幅及び位相は、一義的に判定することができる。一方の部分ビームは、判定すべき対象物から到来するので、この時に測定された重畳フィールドは、対象物の構造の情報を含んでいる。
この時、種々のビーム状態は、後に説明するように、例えばわずかに相違したビーム周波数を有する両方の部分ビームの周波数ビート状態の1つのビート周期内に発生することができる。しかし一方の部分ビームは、他方のものに対して波長の数分の1だけ相対的に遅れることができ、かつそのビーム構成は変更することができる。遅延は、例えば電気光学的な、音響光学的な、磁気光学的な構造ユニット、機械的なシフト要素等によって行なうことができる。
なるべく位相判定のために1つの場所あたり少なくとも3つの測定が行なわれる。しかし隣接する検出器の測定が、互いに比較され、かつ関連づけられる場合、それより少ない測定でも十分なことがある。
空間的な強度及び位相角度分布による作業は、ホログラフィーから周知である。拡大された対象物構造を検出する本発明による測定方法において、この時、基準ビームによって発生される干渉構造が観察されるのではなく、点ごとに複素振幅が測定される。この時、この複素振幅からこれに所属する位相角値が、測定値から計算により検出される。位相値は、拡大を決める掛け算係数によって一段と高められる。これら高められた位相値及び測定された初期の複素振幅の実部によって、第2の複素振幅が検出され、それからこの第2の複素振幅から、検出器の場所座標によって測定対象物の拡大された構造が(例えばホログラムとして)検出可能であり、この構造は、それから(その後の計算による改訂の後に)プロッタ又は別の結像装置によって表示することができる。
有利なように、測定対象物の測定すべき構造から返送されるビームによる複素振幅の位相角値の判定の際、重畳されたビームによって作業が行なわれ、これらビームは、低い周波数のビート周波数を有する。利用可能なビート周波数は、とりわけ検出器フィールドの検出器から読み出された個々の検出器の値のためのメモリサイクルの速度に従う。
次に本発明による方法及びこの方法を実施する装置の例を、図面により詳細に説明する。本発明のその他の利点は、次の明細書文から明らかである。ここでは:
図1は、装置のブロック回路図を示し、
図2は、平面波の重畳を計算するために利用される座標系を示し、
図3は、レンズの焦点の回りにおける点から出発して明らかなように、平面及び球面波の位相関係を計算するための表示を示し、かつ
図4は、横分解能の計算の際の誤差評価のための表示を示している。
対象物1のサブミクロメートル範囲における3次元構造を判定するための図1に示された装置は、コヒーレントなビーム、なるべくコヒーレントなレーザビームによって動作する。コヒーレントなビーム3は、ビームスプリッタ4によって2つの部分ビーム5a及び5bに分割される。転向ミラー6によって部分ビーム5bは、部分ビーム5aに対して平行に向けられる。続いて両方の部分ビーム5a及び5bは、そのビーム周波数をシフトするそれぞれ1つの要素7a及び7bを通過する。周波数シフトは、それぞれ1つの音響光学的変調器7a及び7bによって達成される。両方の変調器7a及び7bの音響的変調周波数は、ここでは例えば100ヘルツだけ相違しており、すなわち両方のビームのビーム周波数fa及びfbは、互いに100ヘルツだけシフトされている。それぞれ音響光学的変調器7a又は7b内において変調周波数の密度波によって転向されない透過するビーム9a又は9bは、吸収器10a又は10b内において吸収される。周波数fa及びfbを有する転向されたビーム11a及び11bだけが、引続き処理される。しかしながらなるべくブラッグ角で入射するので、ほぼすべてのビームエネルギーが、第1の転向された秩序内に入る。
この時、ビーム11aは、別のビームスプリッタ13に当たる。ビーム11aの第1のビーム部分14aは、このビームスプリッタ13を透過し、かつ第2の別の部分14bは反射され、かつ吸収器15において受け止められる。部分ビーム14aは、共焦点に配置された2つの同じレンズ16a及び16bを通過し、かつ両方のミラー17a及び17bによる入れ換えられた反射の後に、ビームスプリッタ13に送られ、かつここからCCDカメラの検出器フィールド19に反射される。
ビーム11bは、ビーム軸線に対して傾斜しかつビームスプリッタ13に対して平行に配置された面平行の板20を通過し、かつ両方のミラー17a及び17bによって転向されたビーム14aと同じ場所において、ビームスプリッタ13の裏側に当たる。ここにおいてビーム11bの第1のビーム部分21は、反射され、かつレンズ23によって場所24において対象物1上に収束される。収束直径は、利用されたレーザビームに応じて、1ミクロメートルよりわずかに下にある。この時、場所24からビーム25が、逆に散乱し、後の説明にしたがって、多かれ少なかれ収束レンズ23によって平面波に変換され、ビームスプリッタ13を透過し、かつ検出器フィールド19においてビーム14aに重畳される。
ここではそれ以上考察されないビーム11bのビーム部分は、ビーム26としてビームスプリッタ13を透過し、両方のミラー17b及び17aによって転向され、両方のレンズ16b及び16aを透過し、ビームスプリッタ13において反射され、かつそれから吸収器27によって吸収される。
検出器フィールド19上において、この時、ビーム周波数faを有する部分ビーム14a(5a−11a)、及びビーム周波数fbを有しかつ対象物1上における場所24から反射散乱されたビーム25(5b−11b−21)は重畳され、このビーム周波数fbは、100ヘルツ(差角周波数、Ω=2π・|fa−fb|)だけ周波数faとは相違している。
支障ない重畳を維持するために、部分ビーム5a−11a−14aの光学的行程Iと部分ビーム5b−11b−21−25の光学的行程IIとが、ビーム3のコヒーレントな長さ以内にあることに注意する。両方の行程I及びIIにおける群速度の分散を避けるために、行程長さは、空気とは別の材料−例えばビームスプリッタ4及び13及びレンズ16a、16b及び23の材料−によって同じ長さに選定される。
それ故に行程Iは、検出器フィールド19に達するために、ビームスプリッタ4の1つの(ガラス)透過厚さ及びビームスプリッタ13の3つの(ガラス)透過厚さを有する。それ故に行程IIは、検出器フィールド19に到達するために、ビームスプリッタ4の2つの(ガラス)透過厚さ、面平行な板201つの(ガラス)透過厚さ及びビームスプリッタ13の1つの(ガラス)透過厚さを有する。両方のビームスプリッタ4及び13及び板20の光学的構成が同じである場合、両方の経路I及びIIは、同じ数の(平面ガラス)“透過厚さ”を有する。
行程Iにおいて、レンズ23は2度透過される。レンズ16a、16b及び23の光学的構成が同じである場合、両方の行程I及びIIは、同じ数の(球面)“透過厚さ”を有する。面平行な板20、ビームスプリッタ4、13及びレンズ23、16a及び16bのために使われた光学材料(例えばガラス)は、利用された(レーザ)ビームに対してほぼ同じ光学特性を有するようにする。したがって群速度の分散は、もはや生じない。
検出器フィールドは、例えば1024×1024のCCD素子からなり、これらCCD素子は、互いにほぼ6.8μmの間隔を置いて配置されている。これら検出器は、評価ユニット29に接続されており、この評価ユニットは、100Hzのビート周波数の1周期内に3回、検出器を高感度に切換え、測定値を読み出し、かつ検出器ごとに相応する数の検出器及び走査サイクルを有する第1のメモリにおいて良好には300,000の個別メモリ内にファイルする。
この時、ビート周波数の周期及び検出器(場所)あたり3つの測定値が評価されるので、第1の計算ユニット31によって、それぞれの検出器における複素振幅(強度及び位相角)が検出できる。複素振幅は、作用を受けていないビーム(ビーム14a)と測定すべき対象物の場所から反射されたビーム(ビーム25)の重畳である。対象物1の構造情報は、検出された複素振幅内に含まれている。
この時に検出された検出器あたりの位相角値は、もう一度良好には300,000の個別メモリを必要とするそれに所属の振幅値(強度値)をプラスして、第2のメモリ33(同様に良好には300,000の個別メモリを有する)内に記憶される。第2のメモリ33内に記憶された位相角値は、掛け算ユニット35によって場所24の構造の拡大を決める値と掛け算され、かつ第3のメモリ36内に記憶される。第3のメモリ36内に記憶され拡大された位相角値及び第2のメモリ33からのこれに所属の強度値によって、この時、例えばウルフ.シュナールス他の刊行物、“デジタル・ホログラフィー−アイン・ノイエス・フェルファーレン・デア・レーザメステヒニク”、レーザ・ウント・オプトエレクトロニク、26(5)、1994、第40−45頁、及びU.シュナールス、“ダイレクト・フェイズ・デラーミネーション・イン・ホログラム・インターフェロメトリー・ウイズ・ユーズ・オブ・デジタル・レコーデッド・ホルグラム”、J.Opt.Soc.Am.A、11、(7)、2011−2015、1994、7月、に説明されたように、第2の計算ユニット37によりここにファイルされた2次元フーリエ変換の計算アルゴリズムを利用して、画像が点ごとに計算され、この画像が、出力ユニット39を介して表示することができる。この時、出力ユニット39において、画像スクリーン又はプロッタを問題にすることができる。ここにおいて発生された画像は、場所24にある構造の拡大をなしている。この画像は、従来の光学顕微鏡結像に対して、もはや回析によって制限されていない。これは、空間的な構造を有する。
次に顕微鏡以下の拡大過程を明らかにするいくつかの数学的な考察を行なう。理解を容易にするために、まず間隔zを置いて1つの点において重畳する2つの平面波前面A及びRから出発し、これら波前面は、次の式(1)及び(2)にしたがって表すことができる:
A=A0・cos(wt−kz+Φd) (1)
R=R0・cos[(w+Ω)t−kz] (2)
A0とR0は、ビームのそれぞれの振幅値、wは、低い方の周波数fa(w=2πfa)を有するビームの角周波数、(w+Ω)は、高い方の周波数fbを有するビームの角周波数であり、その際、Ωは、ビート周波数である。kは、波ベクトルである。
したがって基準場所から間隔dを置いた波の位相角Φは、この場所における位相角に対して、次の値だけシフトしている:
Φd=k・d (3)
この時、Aは、基準場所から間隔dを有する構造の場所から出る波、及びRは、基準波であるものとする。レンズ23を考慮せずに、検出器フィールド19の場所における重畳対して、この時、検出器によって測定される強度Iに対して次の式が成り立つ:
I=(A+R)*2
I=(A0・cos(wt−kz+Φd)+R0
・cos[(w+Ω)t−kz])*2
検出器は、この時、光学周波数fa及びfbに追従することができず、かつそれによりここに当たる強度から平均値<I>を形成する:
<I>=1/2A0*2+1/2R0*2+2A0R0<cos[wt−kz+Φd]・cos[(w+Ω)t+kz]>
<I>=1/2A0*2+1/2R0*2+2A0R0・cos[Ωt−Φd] (4)
したがってビート信号A0R0・cos[Ωt−kz]が得られ、このビート信号から実験的に10*−3の精度で位相角値が検出できる。すなわち間隔dは、次(3)、d=10*−3/kによれば、500nmの光波長を利用して、
d=10*−3/2π・500[nm]=8・10*−2[nm]
に決めることができる。
この時、位相角は、前に述べたように、同じ時間間隔を置いて1つのビート周波数Ωあたり3回、検出器の値を読み出すことによって決められる。
両方の波A及びRにおいて、角度δをなして互いに傾斜した平面波が問題になる場合、基準場所が通る基準軸線41から間隔sを置いて、前の説明と同様に波に対して次の式が得られる:
A=A0・cos[wt−k・δ・s+Φd] (5)
基準波Rは、変化しない。
I=(A+R)*2
I=(A0・cos(wt−k・δ・s+Φd)+R0・cos[(w+Ω)t−kz])*2
検出器の平均値形成のため次のようになる:
<I>=1/2A0*2+1/2R0*2+A0R0<cos[(2w+Ω)t−k・δ・s+Φd]・cos[Ωt+k・δ・s−Φd]>
<I>=1/2A0*2+1/2R0*2+A0R0
・cos[Ωt+k・δ・s−Φd (6)
したがって基準軸線41(検出器平面19内)から間隔sを置いた場所における位相角Φtrの変化は、次のようになる:
Φtr=k・δ・s−Φd (7)
Φd=0と置けば、角度に依存した位相シフトに対して単独で次のようになる:
δ=Φtr/k・s (7a)
したがって前記の仮定により500nmのレーザ波長及び1mmの間隔sの際、このことはほぼ1024×1024のCCD検出器フィールドの縁検出器に相当するが、次のような分解能が得られる:
δ=10*−3/2π・500nm/1mm=8・10*−8 (8)
この時、この角度分解能を空間分解能に変換するために、例えば焦点距離fを有する球面レンズが利用される。したがって図3に示すように、対象物1の点P1及びP2から出る波は、平面波に変換される。座標x=0、y=0及びz=0を有する点P1から出る波は、前記の式(1)と同様に次のように記述することができる:
A=A0・cos(wt−kz) (9)
座標x=−h、y=0及びz=0を有する点P2から出る波は、前記の式(5)と同様に次のように記述することができる:
A=A0・cos(wt−k・δ・s) (10)
座標x=0、y=0及びz=gを有する点P3から出る波は、この時、P3がもはやレンズ23の焦点内にないので、平面波ではなく、仮想の中心から間隔zvを有する球面波である。この間隔zvは、レンズの式から決めることができ、その際、f23は、レンズ23の焦点距離である:
1/(zv+f23)=1/f23−1/(f23−g) 1/f23
−(1+g/f23)/f23=−g/f23*2 (11)
又は
zv=−f23*2/g−f23 −f23*2/g (12)
g→0に対して、すなわちP3が焦点面内に“ずれる”とき、zvは、∞に向かい、かつ再び同じ波が得られる。したがって間隔dを置いた検出器平面19内における場所0に対して、次のような位相シフトが得られる。
Φg=k・((zv*2+u*2)−zv) (13)
u zvにしたがって
Φg=k・((zv*2+u*2)−zv)=k・(zv (1+(u/zv)*2)−zv)=k・(zv(1+1/2(u/zv)*2)−zv)=k・zv/2・(u/zv)*2=k・u*2/2zv
この式に式(12)を代入すると、放射の波長lwによる位相シフトΦgに対して次のようになる:
Φg=k・u*2/2zv=−k・u*2・g/2・f23*2
=−π・u*2・g/
lw・f23*2 (14)
ほぼ1024×1024のCCD検出器フィールドの縁検出器に相当するすでに前に使用したu=1mmに対する例の値、500nmの波長l、及びf=2mmのレンズ23の焦点距離が使用された場合、位相シフトに対して次のようになる:
|Φg|=π/4・g/lw
この時、10*−3のオーダの位相シフトが、測定技術的に測定可能なので、次のような分解能が得られる:
g=4・lw/π・Φg=0.64nm
点P1に対して横方向にhだけずらされた座標x=−h、y=0及びz=0を有する点P2から、収束レンズ23に向かって角度δをなして平面波が出発する。したがって次の式が成立つ:
δ=h/f23
この時、式(7a)により次のようになる:
h=(Φtr/k・s)・f=lw・Φtr・f23/2π・s
l=500nm、Φtr=10*−3、f23=2mm及びs(又はu)=1mmのすでに前に利用した例の値を、この式に代入すれば、0.16nmの横分解能が得られる。この分解能は、近似的な計算だけに由来する。
図4によれば、2mmの焦点距離及び1mmの基準軸線から(縁)検出器までの距離により次の評価が取扱われる:
m=(f23*2+s*2)−f23=(2*2+1*2)−2=0.23
この時、この間隔mは、最大間隔f23=2mmと比較され:
m/f23=0.23/2 0.1
この値0.1だけ前記の理論的な分解能は縮小される。
本発明による方法及び本発明による装置によって、光学的な回折効果によって制限される光学顕微鏡のものより著しく良好な分解能が達成できることは、これらの説明から明らかである。
この時、対象物1の光学的な性質に応じて、示された発明に値する測定方法又は発明に値する測定装置によって、表面構造を測定することができ、又は対象物1内に侵入するビームの場合、内部の空間的なものを判定することができる。
ホログラフ測定方法とは相違して、発明に値する測定方法は、もはや測定ビームと基準ビームとの間の測定可能又は記録可能な干渉を頼りにしていない。位相角値を計算により高めることによって、“測定自身が、所望の分解能のために必要な干渉自体を提供する”。
1つ又は2つの音響光学変調器7a及び7bによって両方の部分ビーム5a及び5b相互の周波数シフトを達成する代わりに、両方のミラー17a及び17bの場所を周期的に変更してもよい。回転格子、及び加えられた電圧に依存した位相シフトを伴う電気光学的変調器を利用することもできる。
ビート周波数|fa−fb|は、両方の部分ビーム5a−11a、14a及び5b−11b−21−25の間の理論的な又はその他の行程長さ変化が、測定値の変造を生じないようにするために、できるだけ大きく選定するようにする。しかしながらこのビート周波数は、検出器からの測定値の読み出し及び記憶速度によって、かつその感度によって制限される。
2次元フーリエ変換の使用は、省略することができる。この時、直接観察できる画像の代わりに、それから相応するコヒーレントなビームによって観察することができるホログラム状の画像が発生される。

Claims (11)

  1. コヒーレントなビーム(3)が、2つの部分ビーム(5a,11a,14a;5b,11b,22)に分割され、
    第1の部分ビーム(5b,11b,21)が、ほぼビームの波長を有する収束直径を有するように構造的に測定すべき対象物(1)上に収束され、
    収束レンズ(23)によって反射されたビーム(25)が、第2の部分ビーム(5a,11a,14a)のビームとともに互いに無関係な複数の検出器を有する検出器フィールド(19)上において重畳され、かつ
    検出器上における両方の部分ビーム(5a,11a,14a;5b,11b,21)のうちの少なくとも一方の少なくとも3つの異なったビーム状態に対して場所に依存するビーム強度値(<I>)が、これら検出器によってアナログ電気信号に変換され、かつ記憶され、
    これらの記憶された値から、検出器の場所における局所的な波フィールドの第1の位相値(φ)を有するそれぞれの複素振幅値が判定され、かつ
    判定された第1の位相値から所定の値との掛け算による計算によって第2の位相値が形成され、かつ
    この第2の位相値、第1のメモリに記憶された複素振幅値の強度値及びそれぞれの検出器の場所座標から、拡大された対象物構造を含むホログラム状の画像が発生される、
    サブミクロメートル範囲における3次元構造を判定する方法。
  2. 拡大された対象物構造を含むホログラム状の画像の画像情報から、2次元フーリエ変換及び所定の計算形式を利用して、拡大された対象物構造を表示する直接観察可能な第2の画像の第2の画像情報が計算されることを特徴とする、請求項1記載の方法。
  3. 検出器上に時間に依存したビーム強度値(<I>)を発生する種々のビーム状態が構成されることを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
  4. 種々のビーム状態を構成するために、第1の部分ビーム(11b,21,25)のビーム周波数(fb)が、第2の部分ビーム(11a,14a)のビーム周波数(fa)に対して、電子構成群による処理を可能にする周波数値だけシフトされることを特徴とする、請求項3記載の方法。
  5. 両方の部分ビーム(5a,5b)が、第1及び第2の強度変調周波数(fb,fa)によって作用を受け、これら強度変調周波数の周波数値が、差によって区別されることを特徴とする、請求項4記載の方法。
  6. 変調周波数の差(|fa−fb|)によって引起こされるビート周波数(Ω)の周期の間、ビート周期あたり少なくとも3回、検出器フィールド(19)の検出器によって測定されるビーム強度値(<I>)が記憶されることを特徴とする、請求項3ないし5の1つに記載の方法。
  7. 種々のビーム状態が、両方のビーム相互の相対的な光学的行程長さ変化によって発生されることを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
  8. コヒーレントなビーム(3)を2つの部分ビーム(5a,5b)に分割するビームスプリッタ(4)、
    第1の部分ビーム(5b,11b,21)をビームの波長範囲にある収束直径(24)で測定すべき対象物(1)上又はその中に収束する収束レンズ(23)、
    対象物(1)から反射された第1の部分ビーム(25)と第2の部分ビーム(14a)をここに重畳しかつ互いに無関係に検出を行なう複数の検出器を有する検出器フィールド(19)、
    検出器のそれぞれから供給される電気的な値のための複数の第1のメモリ(30)を備えかつ検出器に接続された評価ユニット(29)、
    第1のメモリ(30)内に記憶された値の助けにより複素振幅を検出するために第1のメモリ(30)に接続された第1の計算ユニット(31)、
    検出可能な複素振幅を記憶するために第1の計算ユニット(31)に接続された第2のメモリ(33)、
    対象物(1)の対象物構造の所望の拡大を決める係数と複素振幅値の第1の位相値(φ)を計算により掛け算するために第2のメモリ(33)に接続された掛け算ユニット(35)、
    掛け算により得ることができる第2の位相値を記憶するために掛け算ユニット(35)に接続された第3のメモリ(36)、
    第2の計算ユニット(37)内にファイルされた計算アルゴリズムにより第2の位相値と第2のメモリ内に記憶可能な強度値とから拡大された対象物構造を判定するために第2及び第3のメモリ(33,36)に接続された第2の計算ユニット(37)、
    ここにおいて第2の計算ユニット(37)から検出可能な拡大された対象物画像又はホログラム状の画像を表示することができかつ第2の計算ユニット(37)に接続された出力ユニット(39)を有する、
    請求項1ないし7の1つに記載の方法によりサブミクロメートル範囲における3次元構造を判定する装置。
  9. 一方の部分ビーム(5a)のビーム周波数(fa)を他方の部分ビーム(5b)のビーム周波数(fb)に対してシフトするために周波数シフト要素(7a,7b)が設けられていることを特徴とする、請求項8記載の装置。
  10. 周波数シフト要素(7a,7b)によって、所定の周波数により少なくとも一方の部分ビーム(5a,5b)の強度及び/又は位相が変調可能であり、この一方の部分ビームの変調周波数が、他方の部分ビームの変調周波数に対して、数百ヘルツの差周波数だけ相違していることを特徴とする、請求項9記載の装置。
  11. 第2のビームスプリッタ/結合器(13)及びビーム転向器(17a,17b)が設けられており、その際、第1のビーム(5b,11b,21,25)が、収束レンズ(23)によって測定すべき対象物(1)上に収束可能であり、かつ焦点(24)から反射可能であるように、収束レンズ(23)及びビームスプリッタ(13)を通って検出器フィールド(19)の検出器上に放射可能であり、第2の部分ビーム(5a,11a)が、第2のビームスプリッタ(13)を通ってビーム転向器(17a,17b)によって第2のビームスプリッタ(13)に向かって第1のビームの通過する場所に反射可能であり、かつこの第1のビームと結合可能であるように、検出器フィールド(19)の検出器上に放射可能であることを特徴とする、請求項9又は10記載の装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6509138B2 (en) 2000-01-12 2003-01-21 Semiconductor Research Corporation Solventless, resistless direct dielectric patterning
EP1299691B1 (de) * 2000-07-13 2004-12-08 Werth Messtechnik GmbH Verfahren zum berührungslosen messen von geometrien von gegenständen
DE10045535A1 (de) * 2000-09-13 2002-04-04 Gerhard Bonnet Optische Vorrichtung
WO2003001165A1 (en) * 2001-06-26 2003-01-03 Iatia Imaging Pty Ltd Processing of phase data to select phase visualisation image
US6768951B2 (en) * 2002-08-22 2004-07-27 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for measuring a parameter in a host device
KR100859253B1 (ko) * 2007-02-09 2008-09-18 한국원자력연구원 실시간 대구경 레이저 빔의 근시야상 검출을 위한 리니어ccd 신호처리시스템 및 방법
TWI366749B (en) * 2007-12-10 2012-06-21 Ind Tech Res Inst Multi-color off-axis digital holographic system and the imaging method thereof
JP6501307B2 (ja) * 2016-03-14 2019-04-17 ツクモ工学株式会社 ヘテロダイン干渉装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4476434A (en) * 1982-01-25 1984-10-09 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Non-destructive testing method and apparatus utilizing phase multiplication holography
US4732485A (en) * 1985-04-17 1988-03-22 Olympus Optical Co., Ltd. Optical surface profile measuring device
GB8820761D0 (en) * 1988-09-02 1988-10-05 Tyrer J R Interferometry
US5194918A (en) * 1991-05-14 1993-03-16 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method of providing images of surfaces with a correlation microscope by transforming interference signals
JP3206843B2 (ja) * 1992-12-18 2001-09-10 株式会社小松製作所 3次元画像計測装置
US5627363A (en) * 1995-02-16 1997-05-06 Environmental Research Institute Of Michigan System and method for three-dimensional imaging of opaque objects using frequency diversity and an opacity constraint

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