JP3793135B2 - Cleaning method using flux cleaning agent and cleaning device using flux cleaning agent - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラックス洗浄剤を用いた洗浄方法およびフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置に関する。特に、酸化防止剤を実質的に使用しなくとも、優れた洗浄効果を維持したまま、寿命を長期化することが可能なフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法、およびそのようなフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント基板等のフラックス洗浄に際して、図９に示すように、洗浄槽２１２と、リンス槽２１４と、乾燥槽２１６とからなる洗浄装置２００が使用されていた。かかる洗浄装置２００において、ヒータ等の加熱手段２１９により、主成分としてグリコール化合物を含むフラックス洗浄剤２２１が、高温加熱されて使用されていた。そのため、半田フラックス等によって、フラックス洗浄剤の酸化劣化（熱分解）が促進され、例えば、１００℃の温度条件において、５０時間程度の使用時間であっても、洗浄効果が低下するという問題が見られた。
ここで、図１０のラインＡに、未使用のフラックス洗浄剤の赤外線吸収スペクトルを示し、ラインＢに、劣化したフラックス洗浄剤の赤外線吸収スペクトルを示し、そして、ラインＣにラインＡとＢとの間の差スペクトルを示す。かかる差スペクトルから、劣化したフラックス洗浄剤においては、水素結合性のカルボニル基（波数１７００ｃｍ-1付近のピークＰ４）や、水酸基を有するカルボン酸化合物（波数２９００ｃｍ-1付近のピークＰ５や波数３６００ｃｍ-1付近のピークＰ６）が生成されていることがわかる。
また、フラックス洗浄剤が酸化劣化して、カルボン酸化合物（有機酸化合物）が生成すると、洗浄装置に使用されている樹脂部品、例えば、ゴムパッキンを化学腐食するという問題も見られた。
【０００３】
そこで、酸化劣化が少ないフラックス洗浄剤や、その製造方法が各種提案されている。
例えば、炭素数５〜２０の炭化水素および炭素数５〜２０の極性基を有する有機化合物を主とする有機溶媒系洗浄剤に、フェノール系酸化防止剤と、アミン系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種以上の酸化防止剤を添加したフラックス洗浄剤がある（特許文献１参照）。
また、油汚れなどの洗浄性能に優れ、かつ、経時による洗浄剤の色調の劣化を生じることがなく、さらには、アルミニウム材質への影響の軽減を目的として、アルカノールアミン類と、界面活性剤と、溶剤と、特定のカルボン酸化合物と、を含有してなるフラックス洗浄剤がある（特許文献２参照）。
【０００４】
さらに、耐酸化性の強い脂肪酸の選択に左右されない液体洗浄組成物を効率的に提供することを目的として、当該液体洗浄組成物の製造方法がある（特許文献３参照）。
すなわち、（Ａ）水溶性高分子を水性成分に溶解して、水相を調製する水相製造工程と、（Ｂ）脂肪酸をアルカリ性物質で中和して、脂肪酸塩含有混合物を製造する中和工程と、（Ｃ）得られた水相を仕込んだ乳化釜を６００ｍｍＨｇ以下の真空度に減圧し、中和工程で製造した脂肪酸塩含有混合物を、高せん断攪拌下、水相中に投入し混合する工程と、を有する液体洗浄組成物の製造方法である。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１３１０９５号公報
【特許文献２】
特開平１１−２６９４９０号公報
【特許文献３】
特開平１１−３３５６９８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平１１−１３１０９５号公報等に記載された従来のフラックス洗浄剤、あるいは特開平１１−３３５６９８号公報等に記載された従来の製造方法で得られた液体洗浄組成物（フラックス洗浄剤）は、いずれも所定量の酸化防止剤等を添加するのみであって、寿命としてはいまだ不十分であり、被洗浄物を安定して洗浄することが困難であった。
また、このようなフラックス洗浄剤は、所定量の酸化防止剤等を含有するため、当該酸化防止剤等と、洗浄剤とが反応して、被洗浄物を洗浄するための洗浄力が低下したり、変色しやすくなったりするという問題が見られた。
さらに、このようなフラックス洗浄剤は、酸化防止剤等を均一に混合添加しなければならず、当該フラックス洗浄剤の製造コストが高くなるばかりか、それにつれて洗浄コスト自体も高くなるという問題も見られた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、以下の（Ａ）洗浄工程と、（Ｂ）接触工程と、を備えることを特徴とするフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
（Ａ）アルコール、グリコール化合物、およびグリコール化合物のエーテル化物の少なくとも一つの化合物を主成分としたフラックス洗浄剤であって、その酸価を０．０１〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内の値としたフラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄する洗浄工程
（Ｂ）フラックス洗浄剤に対して、
平均粒径が０．０１〜２０ｍｍである粒状の塩形成化合物と、
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料、または、フラックス用洗浄剤の主成分１００ｇに対して、面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 2 の面積を有するとともに、接触工程を実施するための接触装置中に配置された板状の酸化合物吸着材料と、の両方、あるいは、塩形成化合物と、酸化合物吸着材料と、のいずれか一方を接触させる接触工程
すなわち、酸価を調整したフラックス洗浄剤と、特定の塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させることにより、フラックス洗浄剤中に含まれるフラックス残渣の影響を排し、当該フラックス残渣に起因したフラックス洗浄剤の酸化劣化防止や、低分子量化を有効に防止することができる。したがって、塩形成化合物等との接触処理という経済的かつ簡易な方法によって、優れた洗浄効果を維持したまま、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させることが可能である。
なお、塩形成化合物や酸化合物吸着材料が、所定の平均粒径を有する粒状等であることにより、塩形成化合物等の取り扱いが容易となるばかりか、当該塩形成化合物等がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環されることを有効に防止することができる。すなわち、塩形成化合物等が洗浄工程中に循環されてしまうと、結析して、装置破損が生じたり、フラックス洗浄剤がマイナス酸価となって、後工程の管理が複雑化するなどの問題が生じる場合があるためである。
また、塩形成化合物等が所定の平均粒径を有する粒状であることより、フラックス洗浄剤との接触面積を適宜制御することができる。したがって、粒状の塩形成化合物等を使用することにより、フラックス洗浄剤に対する劣化防止効果を長期間にわたって発揮することができる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、フラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄する工程と、フラックス洗浄剤に対して、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方を接触させる工程と、を含むことを特徴としたフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させることにより、フラックス洗浄剤中に含まれるフラックス残渣の影響を排し、当該フラックス残渣に起因したフラックス洗浄剤の酸化劣化防止や、低分子量化を有効に防止することができる。したがって、塩形成化合物等との接触処理という経済的かつ簡易な方法によって、優れた洗浄効果を維持したまま、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させることが可能である。
【０００９】
なお、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させるとは、一例として、酸化防止剤を実質的に使用することなく、１００℃の温度条件において、１００時間以上、より好ましくは３００時間以上、空気をバブリングした場合であっても、フラックス洗浄剤の初期的な洗浄効果を実質的に維持することができ、しかも、フラックス洗浄剤において、変色や悪臭の発生が無いことを意味する。
また、同条件で評価した場合に、以下の代替特性のいずれかが得られれば、フラックス洗浄剤の寿命を長期化できたということができる。
１）赤外線吸収スペクトルにおいて、カルボン酸化合物の顕著な生成が認められない。
２）ガスクロマトグラフィにおいて、低分子量物の顕著な生成が認められない。
３）酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の値である。
４）フラックス洗浄剤の導電率（ＥＣ）が１５μＳ／ｃｍ以下の値である。
５）ＪＩＳ２型くし型電極付き基板を用いて、相対湿度９７％の雰囲気下で測定された誘電損失（ｔａｎδ９７ＲＨ％）と、相対湿度５４％の雰囲気下で測定された誘電損失（ｔａｎδ５４ＲＨ％）の差（ｔａｎδ９７％ＲＨ−ｔａｎδ５４％ＲＨ）が０．０２以下の値である。
【０００１０】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、塩形成化合物が、アルカリ金属水酸化物、およびアルカリ土類金属水酸化物、あるいはいずれか一方の水酸化物であることが好ましい。
このように安価な塩形成化合物を使用することにより、洗浄コストが低下するばかりか、比較的少ない使用量によっても、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させることができる。
【００１１】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、塩形成化合物が、粒状であることが好ましい。
このように実施することにより、塩形成化合物の取り扱いが容易となるばかりか、当該塩形成化合物がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環されることを有効に防止することができる。すなわち、塩形成化合物が洗浄工程中に循環されてしまうと、結析して、装置破損が生じたり、フラックス洗浄剤がマイナス酸価となって、後工程の管理が複雑化するなどの問題が生じる場合があるためである。
また、塩形成化合物が粒状であることより、フラックス洗浄剤との接触面積を適宜制御することができる。したがって、粒状の塩形成化合物を使用することにより、フラックス洗浄剤に対する劣化防止効果を長期間にわたって発揮することができる。
【００１２】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、塩形成化合物が、穴あき部材により被覆してあるか、あるいはカートリッジ化してあることことが好ましい。
このように実施することにより、塩形成化合物の取り扱いが容易となるばかりか、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物とが十分に接触することができる。また、このように実施することにより、塩形成化合物がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環されることを有効に防止することができる。
【００１４】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、酸化合物吸着材料が、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、マグネシウムシリケート、アルミニウムシリケート、およびカルシウムシリケートからなる群から選択される少なくとも一つの無機化合物であることが好ましい。
このように固体酸および固体塩基を有する酸化合物吸着材料を使用することにより、少量の使用によって、優れた劣化防止効果を発揮することができるばかりか、液状物等と異なり、取り扱いが容易である。
【００１５】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、フラックス洗浄剤が、グリコール化合物、グリコール化合物のエーテル化物、水溶性アミド化合物、アルコール、およびアルコール／水混合物の少なくとも一つの化合物を主成分としたものであることが好ましい。
このように揮発性が比較的少ない化合物を用いて洗浄方法を実施することにより、加熱した状態での取り扱いが容易となるばかりか、優れた洗浄効果を得ることができる。
【００１６】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を実施するにあたり、フラックス洗浄剤を循環させる循環路またはバイパスを設けるとともに、当該循環路またはバイパスの途中で、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させることが好ましい。
このように実施することにより、被洗浄物をフラックス洗浄剤によって効率的に洗浄することができるとともに、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物等とを定量的に接触させることができる。
また、このように実施することにより、弁やフィルター等を併せて設けることができるため、塩形成化合物等がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に流出して、循環されることを有効に防止することができる。
【００１７】
また、本発明は、以下の（ａ）洗浄槽と、（ｂ）接触装置（第１の接触装置と称する場合がある。）と、を備えることを特徴とするフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置である。
（ａ）アルコール、グリコール化合物、およびグリコール化合物のエーテル化物の少なくとも一つの化合物を主成分としたフラックス洗浄剤であって、その酸価を０．０１〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内の値としたフラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄するための洗浄槽
（ｂ）平均粒径が０．０１〜２０ｍｍである粒状の塩形成化合物と、
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料、または、フラックス用洗浄剤の主成分１００ｇに対して、面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 2 の面積有するとともに、接触装置中に配置された板状の酸化合物吸着材料と、の両方、あるいは、塩形成化合物と、酸化合物吸着材料と、のいずれか一方を接触させるための接触装置
このように構成することにより、フラックス洗浄剤により被洗浄物を効率的に洗浄することができるとともに、酸化防止剤を実質的に使用することなく、あるいは少量の使用であっても、フラックス洗浄剤の劣化を有効に防止することができる。
【００１８】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置を構成するにあたり、フラックス洗浄剤を循環させる循環路またはバイパスを設けるとともに、当該循環路またはバイパスの途中で、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させる接触装置を設けることが好ましい。
このように構成することにより、フラックス洗浄剤により被洗浄物を効率的に洗浄することができるとともに、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物等とを定量的に接触させることができる。
また、このように構成することにより、塩形成化合物等がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に流出して、循環されることを有効に防止することができる。
【００２０】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置を構成するにあたり、洗浄槽に対して、フラックス洗浄剤が収容されたリンス槽が連結してあるとともに、当該リンス槽に、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方をフラックス洗浄剤に接触させるための接触装置が、前記洗浄槽に設けられた接触装置（第１の接触装置）とは別に、第２の接触装置として設けてあることが好ましい。
このように第１の接触装置とは別に第２の接触装置を備えて洗浄装置を構成することにより、リンス槽のフラックス洗浄剤についても、劣化防止を効果的に図ることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明のフラックス洗浄剤を用いた被洗浄物の洗浄方法、およびフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置についての実施形態につき、それぞれ適宜図面を参照しながら具体的に説明する。
【００２２】
［第１の実施形態］
第１の実施形態は、例えば、図１に示すように、フラックス洗浄剤２１によって、被洗浄物２３を洗浄する工程（図１中、点線Ａで概ね示す領域）と、フラックス洗浄剤２１に対して、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方の化合物や材料２６を接触させる工程（図１中、点線Ｂで概ね示す領域）と、を含むことを特徴としたフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法である。
以下、フラックス洗浄剤による被洗浄物の洗浄工程および塩形成化合物等との接触工程と、それらに続く、リンス工程や乾燥工程に分けてそれぞれ説明する。
【００２３】
１．被洗浄物の洗浄工程
（１）被洗浄物
被洗浄物の種類は、半田付け箇所を有する部品や製品はもちろんのこと、半田付け箇所がなくとも、フラックスの影響がある部品等も好適に使用することができる。したがって、被洗浄物の種類は、特に制限されるものではないが、例えば、プリント樹脂配線基板、セラミック配線基板、半導体素子（ＢＧＡ、ＣＳＰ、ＰＧＡ、ＬＧＡ等の半導体部品を含む。）、半導体素子搭載基板、バンプ付きＴＡＢテープ、バンプ無しＴＡＢテープ、半導体素子搭載ＴＡＢテープ、リードフレーム、コンデンサ、および抵抗等が具体的に挙げられる。
【００２４】
（２）フラックス洗浄剤
▲１▼種類
また、使用するフラックス洗浄剤の種類は特に制限されるものではないが、例えば、グリコール化合物や、当該グリコール化合物のエーテル化物、水溶性アミド化合物あるいはアルコールおよびアルコール／水混合物を主成分としたものであることが好ましい。
この理由は、グリコール化合物や水溶性アミド化合物等を使用することにより、取り扱いが容易となるばかりか、優れた洗浄効果を効果的かつ経済的に得ることができるためである。
また、好ましいグリコール化合物や、当該グリコール化合物のエーテル化物として、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノオクチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノオクチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノオクチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジオクチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジヘキシルエーテル、トリエチレングリコールジオクチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジヘキシルエーテル、プロピレングリコールジオクチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールジオクチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジプロピルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールジオクチルエーテル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、エチレングリコールと、プロピレングリコールの両方が付加した形のグリコールエーテル化合物や、メトキシブタノールおよびメチルメトキシブタノール、さらには分子内に含まれるアルコール基がエステル化された化合物、例えば酢酸エステル化された化合物等も挙げられる。また、これらのグリコール化合物に、イソ体がある場合には、それについても好適に使用することができる。
また、好ましい水溶性アミド化合物としては、具体的に、２−ピロリドン、Ｎ−アルキル−２−ピロリドン（例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−プロピル−２−ピロリドン）、５−アルキル−２−ピロリドン（例えば、５−メチル−２−ピロリドン、５−エチル−２−ピロリドン、５−プロピル−２−ピロリドン）、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
さらに、好ましいアルコールとしては、具体的に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２５】
▲２▼添加物
また、使用するフラックス洗浄剤中に、アミン化合物およびアルキルアンモニウムヒドロキシド化合物、あるいはいずれか一方の化合物を、さらに含有することが好ましい。
このように構成すると、フラックス残渣の化学的除去がさらに促進され、フラックス残渣を、より効率的に除去することができる。
ここで、好ましいアミン化合物として、モノメタノールアミン、モノエタノールアミン、モノプロパノールアミン、モノブタノールアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、ジブタノールアミン、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン、トリプロパノールアミン、トリブタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−シクロヘキジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン等が挙げられる。
なお、アミン化合物を添加する場合、その添加量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００重量部に対して、０．１〜５０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるアミン化合物の添加量が、０．１重量部未満の値となると、添加効果が発現しない場合があるためであり、一方、５０重量部を超えた値となると、フラックスの除去効率が逆に低下する場合があるためである。
したがって、アミン化合物の添加量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００重量部に対して、１〜４０重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、５〜２０重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２６】
（４）酸価
また、使用するフラックス洗浄剤の酸価を０．０１〜２０の範囲内の値とする。
この理由は、かかるフラックス洗浄剤の酸価が２０を超えると、フラックス洗浄剤の洗浄力が低下したり、洗浄装置における樹脂を劣化させたり、さらにはフラックス洗浄剤が変色したり、異臭をはなつ場合があるためである。
したがって、フラックス洗浄剤の酸価を０．０１〜１０の範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜５の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２７】
▲４▼酸価
また、使用するフラックス洗浄剤の酸価を２０以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるフラックス洗浄剤の酸価が２０を超えると、フラックス洗浄剤の洗浄力が低下したり、洗浄装置における樹脂を劣化させたり、さらにはフラックス洗浄剤が変色したり、異臭をはなつ場合があるためである。
したがって、フラックス洗浄剤の酸価を０．０１〜１０の範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜５の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２８】
ここで、フラックス洗浄剤の酸価を制御する理由を、図４を参照しながら説明する。かかる図４は、横軸に経過時間（Ｈｒｓ）を採って示してあり、縦軸にフラックス洗浄剤の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を採って示してある。
そして、図４中、ラインＡは、フェノール系酸化防止剤が０．５重量％、フラックス残渣が２．６重量％それぞれ含まれたフラックス洗浄剤の結果を示しており、ラインＢは、酸化合物吸着材料として、後述する半田／銅板を使用したフラックス洗浄剤（フラックス残渣を２．６重量％含む。）における結果を示している。また、ラインＣは、塩形成化合物として、粒状の消石灰が２重量％、フラックス残渣が２．６重量％それぞれ含まれたフラックス洗浄剤の結果を示しており、ラインＤは、フラックス洗浄剤に粒状の消石灰を２重量％、フラックス残渣が２．６重量％それぞれ含むとともに、当該消石灰を５０時間ごとに交換した場合の結果を示している。そして、それぞれフラックス洗浄剤を１００℃で、エアーバブリングしながら加熱した場合におけるフラックス洗浄剤の酸価の変化を示してある。
この図４に示す結果から容易に理解されるように、通常のフラックス洗浄剤は、所定量の酸化防止剤だけでは、劣化を防止することができずに酸化がすすんでしまい、エアーバブリングが２００時間程度になると、酸価が１３．８ｍｇＫＯＨ／ｇ程度まで上昇した。一方、本発明の塩形成化合物や酸化合物吸着材料と接触させたフラックス洗浄剤の場合は、酸価の値の経時変化が少なく、とくに、消石灰を５０時間ごとに交換した場合には、経過時間が３００時間程度にあっても、初期値よりも若干低い値であった。
したがって、循環させるフラックス洗浄剤の酸価は、劣化の目安になるとともに、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物等とを接触させ、当該フラックス洗浄剤の酸価を管理、制御することで、フラックス洗浄剤の劣化防止を容易に図ることが可能である。
【００２９】
（７）導電率（ＥＣ）
また、使用するフラックス洗浄剤の導電率（ＥＣ）を１５μＳ／ｃｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるフラックス洗浄剤の導電率が１５μＳ／ｃｍを超えると、フラックス洗浄剤の洗浄力が低下したり、洗浄装置における樹脂を劣化させたり、さらにはフラックス洗浄剤が変色したり、異臭をはなつ場合があるためである。ただし、かかるフラックス洗浄剤の導電率が過度に小さくなると、使用できるフラックス洗浄剤の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、フラックス洗浄剤の導電率を０．０１〜１０μＳ／ｃｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜３μＳ／ｃｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３０】
（３）洗浄条件
フラックス洗浄剤による洗浄条件（洗浄様式等）は、被洗浄物に対する洗浄効果や損傷性を考慮して定めることが好ましいが、例えば、図１（ａ）および（ｂ）に示すように、フラックス洗浄剤２１を、洗浄槽１２に収容した状態で洗浄するいわゆるバッチ式とすることが好ましい。このように構成することにより、少量多品種の被洗浄物に対して、柔軟に対応することができ、フラックス洗浄剤の温度管理や酸価の管理も容易であって、劣化した場合の迅速な取り替えも可能である。また、洗浄装置を全体としてコンパクトにすることができるため、省スペース化、低コスト化にも有利である。
そして、図１（ａ）および（ｂ）に示すように、搬送治具２０を用いて、被洗浄物２３を、洗浄槽１２に収容されたフラックス洗浄剤２１中に浸漬させることにより洗浄することが好ましい。
なお、このようなバッチ式の洗浄方法を採用する場合、洗浄槽中のフラックス洗浄剤の濃度が均一となるように、図示はしないが、攪拌機等を用いて、フラックス洗浄剤を流動させることが好ましい。
【００３１】
一方、図２に示すように、フラックス洗浄剤用タンク１１７と、洗浄槽１００とを設け、その間に循環路１１９、１２４や、送液ポンプ１１８を設けて、フラックス洗浄剤１０２を循環させながら、被洗浄物を洗浄するいわゆる循環式とすることも好ましい。このように構成することにより、大量の被洗浄物を、短時間で洗浄することができ、また、フラックス洗浄剤用タンクを介して、フラックス洗浄剤の温度管理や酸価の管理ができるため、洗浄方法の自動化についても容易となる。
そして、このような循環式の洗浄方法を採用する場合、フラックス洗浄剤１０２の循環速度を１００ｃｍ3／分〜２ｍ3／分の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる循環速度が１００ｃｍ3／分未満の値となると、被洗浄物に対する洗浄効果が低下する場合があるためである。一方、かかる循環速度が２ｍ3／分を超えると、空気を巻き込み易くなり、フラックス洗浄剤の酸化劣化が促進される場合があるためである。
したがって、フラックス洗浄剤の循環速度を１、０００ｃｍ3／分〜１ｍ3／分の範囲内の値とすることがより好ましく、１０、０００ｃｍ3／分〜０．５ｍ3／分の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３２】
また、バッチ式および循環式の洗浄方法を採用する場合、あるいはそれ以外の洗浄方法を採用する場合であっても、図示はしないが、被洗浄物を効率的に洗浄できるように、洗浄槽においてフラックス洗浄剤に対して、超音波振動を付与することが好ましい。
その場合、付与する超音波振動の周波数を２０ＫＨｚ〜３ＭＨｚの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる超音波振動の周波数が２０ＫＨｚ未満の値となると、騒音が大きくなる場合があるためである。一方、かかる超音波振動の周波数が３ＭＨｚを超えると、洗浄力が低下したり、超音波振動装置が高価となったりする場合があるためである。
したがって、フラックス洗浄剤に付与する超音波振動の周波数を２０ＫＨｚ〜１ＭＨｚの範囲内の値とすることがより好ましく、２０ＫＨｚ〜３００ＫＨｚの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３３】
２．接触工程
（１）塩形成化合物
▲１▼種類
接触工程で使用する塩形成化合物は、フラックス洗浄剤中に含まれるフラックス残渣としてのカルボン酸化合物や他の酸化合物と反応できる化合物であれば、特にその種類は制限されるものではないが、例えば、アルカリ金属水酸化物、およびアルカリ土類金属水酸化物、あるいはいずれか一方の水酸化物であることが好ましい。
より具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの水酸化物であれば、カルボン酸化合物と反応して、容易に塩を形成するので、フラックス洗浄剤に含まれるカルボン酸化合物等を容易に除去したり、不活性化したりすることができる。
さらに、これらの塩形成化合物のうち、比較的少量の使用によって、優れたフラックス洗浄剤の劣化防止効果が得られ、しかも極めて安価であることから、水酸化カルシウム（消石灰）を使用することがより好ましい。
なお、後述するように、適当な粒状とするため、アルカリ金属水酸化物やアルカリ土類金属水酸化物に対して、粒状形成剤、たとえば、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂等の高分子材料や、セラミック材料、シリカゲル等の無機化合物を混合使用することも好ましい。
その場合、粒状形成剤の使用量を、全体量に対して、１〜９０重量％の範囲内の値とすることが好ましく、５〜８０重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜７０重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
このような粒状形成剤の使用量であれば、フラックス洗浄剤中に含まれるフラックス残渣と効率的に反応できる一方、所定形状を保持することが容易となるためである。
【００３４】
▲２▼形状
また、塩形成化合物の形状についても特に制限されるものではないが、例えば、粒状であることが好ましい。
このような塩形成化合物であれば、取り扱いが容易となるばかりか、当該塩形成化合物がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環されることを有効に防止することができる。したがって、塩形成化合物が洗浄工程中で、結析して、装置破損が生じたり、フラックス洗浄剤がマイナス酸価となって、後工程の管理が複雑化したりするなどの問題が少なくなる。
【００３５】
また、塩形成化合物が粒状の場合、その平均粒径を０．０１〜２０ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる塩形成化合物の平均粒径が０．０１ｍｍ未満の値となると、フラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環される場合があるためである。一方、かかる塩形成化合物の平均粒径が２０ｍｍを超えると、フラックス洗浄剤との接触が不十分となって、フラックス洗浄剤の長寿命化が困難となる場合があるためである。
したがって、塩形成化合物の平均粒径を０．１〜１０ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．５〜５ｍｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、比較的粒径が小さい粒状の塩形成化合物を使用した場合、後述するように塩形成化合物の周囲を穴あき部材で被覆した場合であっても、洗浄槽に循環されるおそれがある。したがって、そのような場合には、図１（ｂ）に示すように、流路２２の途中であって、洗浄槽１２の手前にフィルター２８を設けることが好ましい。
【００３６】
▲３▼被覆処理
また、塩形成化合物と、フラックス洗浄剤とを接触させるにあたり、図５（ａ）に示すように、塩形成化合物の周囲を穴あき部材１７２、例えば、メッシュ素材、不織布、穴あきプレート等によって被覆処理することが好ましい。
このように被覆処理することにより、穴あき部材を介して、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物とが十分に接触することができる。
また、穴あき部材により、塩形成化合物を拘束することができるため、当該がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に循環されることを有効に防止することができる。
さらに、このように被覆処理することにより、塩形成化合物の取り扱いやが交換等が容易となり、塩形成化合物の被覆物を、このままの状態で洗浄工程中に吊り下げたり、所定場所に配置したりするだけで、フラックス洗浄剤の長寿命化を図ることができる。
【００３７】
▲４▼カートリッジ化
また、塩形成化合物と、フラックス洗浄剤とを接触させるにあたり、図５（ｂ）に示すように、塩形成化合物を、例えば、一部に開口部やメッシュ部を有するカートリッジ部材に充填することが好ましい。
このようにカートリッジ化することにより、図５（ｂ）に示すように、表裏にそれぞれ設けられた開口板やメッシュ部１８０を介して、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物等とが十分に接触することができる。
また、カートリッジ部材により、塩形成化合物を拘束することができるため、当該がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に流出して、循環されることを有効に防止することができる。
さらに、このようにカートリッジ化することにより、塩形成化合物の取り扱いやが交換等が容易となり、塩形成化合物のカートリッジを洗浄工程中に吊り下げたり、所定場所に配置したりするだけで、フラックス洗浄剤の長寿命化を図ることができる。
【００３８】
▲５▼使用量
また、塩形成化合物の使用量は、接触させるフラックス洗浄剤の使用寿命や、フラックス洗浄剤中のアルカリ濃度を考慮して定めることが好ましいが、例えば、塩形成化合物の使用量を、フラックス洗浄剤１００重量部あたり、０．００１〜３０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる塩形成化合物の使用量が、０．００１重量部未満の値になると、フラックス洗浄剤との接触が不十分となって、フラックス洗浄剤の長寿命化が困難となる場合があるためである。一方、かかる塩形成化合物の使用量が、３０重量部を超えても洗浄効果が変わらない反面、装置が大がかりになる場合があるためである。
したがって、塩形成化合物の使用量を、フラックス洗浄剤１００重量部あたり、０．０１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜５重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３９】
（２）酸化合物吸着材料
▲１▼種類１
酸化合物吸着材料としては、フラックス洗浄剤中のカルボン酸化合物や他の酸化合物を吸着できる材料であれば特に制限されるものではないが、例えば、銅板、ニッケル板、アルミニウム板、亜鉛板、マグネシウム板、半田部分被覆銅板、半田部分被覆ニッケル板、半田部分被覆アルミニウム板、半田部分被覆亜鉛板および半田部分被覆マグネシウム板からなる群から選択される少なくとも一つの板状物、あるいはこれら板状物の加工品、さらにはこれら板状物と、他の材料との複合物であることが好ましい。
このような構成の酸化合物吸着材料を使用することにより、配置場所の大きさや形態に合わせて、板状物の大きさ、例えば金属板の大きさや形状、あるいは厚さを任意に変更したり、設定したりすることができる。したがって、板状物自体の取り扱いや設置が容易となる。
また、板状物等の性能が低下した場合に、かかる板状物等の表面を洗浄することによって、新たに活性な表面が回復するため、容易かつ迅速に性能を回復することができる。さらに、スペアの板状物等を用意しておき、板状物等の性能が低下した場合に、それと取り替えることにより、洗浄工程を中断することなく、洗浄液に対する劣化防止効果を連続的に発揮させることができる。
【００４０】
（２）種類２
また、種類１とは異なる酸化合物吸着材料として、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料であることがより好ましい。
この理由は、このような無機化合物であれば、少量の使用であってもカルボン酸化合物等を効果的に吸着することができるためである。また、かかる無機化合物は、液体物等と異なり、所定の平均粒径を有する粒状であって、取り扱いも容易である。
なお、固体塩基による酸性物質の吸着性の目安として、塩酸吸着能（濃度０．０３％ＨＣｌ・ジプロピレングルコール溶液に、濃度０．２５重量％の粒子状物を添加し、６０℃、６０分の条件で放置した後の塩酸吸着量）が、１ｍｇ／ｇ以上の値であることが好ましく、１０ｍｇ／ｇ以上の値であることがより好ましく、２０ｍｇ／ｇ以上の値であることがさらに好ましい。
【００４１】
▲２▼種類２
また、種類１とは異なる酸化合物吸着材料として、マグネシウムシリケート（ケイ酸マグネシウム、２ＭgＯ・６ＳｉＯ2・ｘＨ2Ｏ）、アルミニウムシリケート（ケイ酸アルミニウム、Ａｌ2Ｏ3・９ＳｉＯ2・ｘＨ2Ｏ）、カルシウムシリケート（ケイ酸カルシウム）、ハイドロタルサイト（水酸化アルミニウム・マグネシウム炭酸塩水和物）、カオリン（Ａｌ2・Ｓｉ2Ｏ5・（ＯＨ）4）、タルク（Ｍｇ3・Ｓｉ4Ｏ10・（ＯＨ）2）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3・ｘＨ2Ｏ）、水酸化アルミニウム・炭酸水素ナトリウム複合物（Ａｌ（ＯＨ）3・ＮａＨＣＯ3）、マグネシウム・水酸化アルミニウム・三酸化炭素水和物（Ｍｇ6・Ａｌ（ＯＨ）16・ＣＯ3・４Ｈ2ＯまたはＭｇ4.5・Ａｌ（ＯＨ）13・Ｃｏ3・３．５Ｈ2Ｏ）、マグネシウム・酸化アルミニウム（Ｍｇ0.7・Ａｌ0.3Ｏ1.15）、シラス、ゼオライト、酸性白土（モンモリロナイト系粘土）、これらの酸処理物、さらには、カーボンブラック、活性炭、陽イオン交換樹脂や陰イオン交換樹脂等が挙げられる。
そして、これらの酸化合物吸着材料のうち、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、マグネシウムシリケート、アルミニウムシリケート、およびカルシウムシリケートからなる群から選択される少なくとも一つの無機化合物であることがより好ましい。
この理由は、このような無機化合物であれば、少量の使用であってもカルボン酸化合物等を効果的に吸着することができるためである。また、かかる無機化合物は、液体物等と異なり、所定の平均粒径を有する粒状であって、取り扱いも容易である。
なお、固体塩基による酸性物質の吸着性の目安として、塩酸吸着能（濃度０．０３％ＨＣｌ・ジプロピレングルコール溶液に、濃度０．２５重量％の粒子状物を添加し、６０℃、６０分の条件で放置した後の塩酸吸着量）が、１ｍｇ／ｇ以上の値であることが好ましく、１０ｍｇ／ｇ以上の値であることがより好ましく、２０ｍｇ／ｇ以上の値であることがさらに好ましい。
【００４２】
（４）使用量
また、種類１の酸化合物吸着材料の使用量を、接触工程を実施するための接触装置中に配置された状態で、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００ｇに対して、板状物の面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 2 の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる酸化合物吸着材料の使用面積が０．１ｃｍ 2 未満の値となると、カルボン酸化合物等の除去効率が極端に低下する場合があるためである。
一方、かかる酸化合物吸着材料の使用面積が２００ｃｍ2を超えると、取り扱い性が低下したり、接触工程が大容量化したりするおそれがあるためである。
したがって、酸化合物吸着材料の使用量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００ｇに対して、金属板の面積換算で、０．１〜１００ｃｍ2の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜５０ｃｍ2の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４３】
▲４▼使用量
また、種類１の酸化合物吸着材料の使用量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００ｇに対して、板状物の面積換算で、０．０１〜２００ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる酸化合物吸着材料の使用面積が０．０１ｃｍ2未満の値となると、カルボン酸化合物等の除去効率が極端に低下する場合があるためである。
一方、かかる酸化合物吸着材料の使用面積が２００ｃｍ2を超えると、取り扱い性が低下したり、接触工程が大容量化したりするおそれがあるためである。
したがって、酸化合物吸着材料の使用量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００ｇに対して、金属板の面積換算で、０．１〜１００ｃｍ2の範囲内の値とすることがより好ましく、１〜５０ｃｍ2の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４４】
一方、種類２の酸化合物吸着材料の使用量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００重量部に対して、０．００１〜３０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる酸化合物吸着材料の使用量が０．００１重量部未満の値となると、カルボン酸化合物等の除去効率が極端に低下する場合があるためである。
一方、かかる酸化合物吸着材料の使用量が３０重量部を超えると、酸化合物吸着材料が、被洗浄物である導体接合部に残留する場合があるためであり、また、フラックス用洗浄剤組成物の主成分に対して、均一に混合分散することが困難となる場合があるためである。さらに、かかる使用量が３０重量部を超えると、装置自体が大型化する場合があるためである。
したがって、かかる酸化合物吸着材料の使用量を、フラックス用洗浄剤組成物の主成分１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の割合で添加することが好ましく、０．１〜５重量部の割合で添加することがさらに好ましい。
【００４５】
（３）接触方法
フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させるにあたり、かかる塩形成化合物等を、洗浄工程の循環しているフラックス洗浄剤中に浸漬することが好ましい。
具体的に、図１（ａ）に示すように、フラックス洗浄剤２１中に、塩形成化合物を収容した接触部や酸化合物吸着材料を配置した接触部２９を設けて、フラックス洗浄剤２１と、塩形成化合物等とを接触させることが好ましい。この理由は、このように実施することにより、本発明の洗浄方法を実施する上で、従来の洗浄装置をそのまま使用することができ、極めて簡便かつ経済的なためである。
また、図１（ｂ）に示すように、洗浄槽１２に流路２２を設けて、フラックス洗浄剤２１を一部循環させて、その途中に塩形成化合物を収容した接触部や酸化合物吸着材料を配置した接触装置２６を設けて、フラックス洗浄剤２１と、塩形成化合物等とを接触させることも好ましい。この理由は、このように構成することにより、フラックス洗浄剤２１と、塩形成化合物との接触が定量的になり、フラックス洗浄剤２１の寿命を確実に向上させることができるためである。また、接触装置２６が、流路２２の途中に設けてあり、塩形成化合物等の管理や交換等も容易になるためである。さらに、流路２２の途中であって、接触装置２６と、洗浄槽１２との間にフィルター２８を設けることが容易にできるため、塩形成化合物等が、洗浄工程中に流出して循環されることを防止することができるためである。
また、図２に示すように、循環路１１９、１２４の途中にバイパス１１２を設けて、当該バイパス１１２の途中において、フラックス洗浄剤１０２と、塩形成化合物等を接触させることも好ましい。
この理由は、このように実施することにより、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを定量的に接触させることができるとともに、塩形成化合物等がフラックス洗浄剤とともに、洗浄工程中に流出して、循環されることを有効に防止することができるためである。
【００４６】
一方、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方と、を接触させるにあたり、塩形成化合物等を、所定時間ごとに新品と取り替えることが好ましい。
具体的には、フラックス洗浄剤の使用頻度や劣化度合を考慮して定めることが好ましいが、例えば、１０〜２、０００時間ごとに取り替えることが好ましい。この理由は、塩形成化合物等を１０時間未満で取り替えるのは作業が頻繁すぎて、煩雑になる場合があるためであり、一方、２、０００時間を超えると、塩形成化合物等の性能が著しく低下する場合があるためである。したがって、塩形成化合物等を２０〜１、０００時間ごとに取り替えることがより好ましく、３０〜５００時間ごとに取り替えることがさらに好ましい。
なお、所定の劣化防止効果を発揮させるためには、塩形成化合物等を一度に全て取り替える必要はなく、経済的な側面からは、劣化した塩形成化合物等を部分的に取り替えることも好ましい。
【００４７】
（４）誘電損失の測定工程
▲１▼測定方法
被洗浄物の誘電損失を測定する工程を設けることが好ましい。このように、被洗浄物の誘電損失を測定することにより、洗浄度合を定量化することができる。したがって、洗浄方法の自動化や、洗浄液の劣化の判定が容易となる。
ここで、被洗浄物の誘電損失を測定するにあたり、被洗浄物の誘電損失を直接的に測定することもできるが、被洗浄物の規格化のために、代表品として、ＪＩＳ２型くし型電極付き基板を用いることが好ましい。
また、誘電損失を測定する場合、所定条件で洗浄処理を実施した後、一例として、実施例１に示す条件（測定周波数：１００Ｈｚ）で、誘電損失（ｔａｎδ）を測定することができる。
【００４８】
▲２▼誘電損失
また、被洗浄物の誘電損失を測定するに際して、例えば、フラックス洗浄剤で処理したＪＩＳ２型くし型電極付き基板を用い、相対湿度９７％の雰囲気下で測定される誘電損失（ｔａｎδ９７ＲＨ％）と、相対湿度５４％の雰囲気下で測定される誘電損失（ｔａｎδ５４ＲＨ％）の差（ｔａｎδ９７ＲＨ％−ｔａｎδ５４ＲＨ％）を０．０２以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる誘電損失（ｔａｎδ）の差が、０．０２を超えると、フラックス洗浄剤が過度に酸化劣化し、フラックス洗浄剤が変色したり、異臭をはなったりする場合があるためである。
したがって、かかる誘電損失（ｔａｎδ）の差を０．０１以下の値とすることがより好ましく、０．００５以下の値とすることがさらに好ましい。
なお、図７に、フラックス洗浄剤で処理したＪＩＳ２型くし型電極付き基板を用いて測定した誘電損失（ｔａｎδ）の測定例を示す。横軸に、測定周波数（Ｈｚ）を採って示してあり、縦軸に、ｔａｎδの対数値を採って示してある。かかるｔａｎδの対数値は、測定周波数の依存性があって、測定周波数の値が高いほど、ｔａｎδの対数値も高くなる傾向があるが、測定周波数を一点決めれば、フラックス洗浄剤の劣化を追跡することが可能である。
【００４９】
３．リンス工程
また、洗浄工程の後に、リンス工程を設けることが好ましい。すなわち、図１に示すように、フラックス洗浄剤が収容されたリンス槽１４を設けて、被洗浄物に付着したフラックス残渣はもちろんのこと、洗浄槽で汚染されたフラックス洗浄剤についても、すすいで除去する工程である。
また、かかるリンス槽は一槽に限らず、二槽以上の複数とすることも好ましい。したがって、洗浄工程の後に、例えば、第１のリンス槽と、第２のリンス槽とを準備し、二回リンス工程を実施することにより、フラックス残渣等をさらに効果的に除去することができる。
さらに、当該リンス槽に使用するフラックス洗浄剤についても、洗浄槽と同様に、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方を接触させることが好ましい。このように実施することにより、リンス槽に使用するフラックス洗浄剤ばかりか、当該フラックス洗浄剤が回収された後、洗浄槽で使用された場合に、それぞれにおける酸化劣化を長期間防止することができる。
【００５０】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、図１（ｂ）に示すように、フラックス洗浄剤２１によって被洗浄物２３を洗浄するための洗浄槽１２と、当該フラックス洗浄剤２１に対して、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方の化合物を接触させるための接触装置（第１の接触装置）２６と、を備えることを特徴としたフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置である。
すなわち、以下の（ａ）洗浄槽と、（ｂ）接触装置と、を備えることを特徴とするフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置である。
（ａ）アルコール、グリコール化合物、およびグリコール化合物のエーテル化物の少なくとも一つの化合物を主成分としたフラックス洗浄剤であって、その酸価を０．０１〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内の値としたフラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄するための洗浄槽
（ｂ）平均粒径が０．０１〜２０ｍｍである粒状の塩形成化合物と、
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料、または、フラックス用洗浄剤の主成分１００ｇに対して、面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 2 の面積有するとともに、接触装置中に配置された板状の酸化合物吸着材料と、の両方、あるいは、塩形成化合物と、酸化合物吸着材料と、のいずれか一方を接触させるための接触装置
以下、第１の実施形態と重複する部分は適宜省略しながら、第２の実施形態の特徴である洗浄装置関係について中心に説明する。
【００５１】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、図１（ｂ）に示すように、フラックス洗浄剤２１によって被洗浄物２３を洗浄するための洗浄槽１２と、当該フラックス洗浄剤２１に対して、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方の化合物を接触させるための接触装置（第１の接触装置）２６と、を備えることを特徴としたフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置である。
以下、第１の実施形態と重複する部分は適宜省略しながら、第２の実施形態の特徴である洗浄装置関係について中心に説明する。
【００５２】
１．被洗浄物の洗浄槽
被洗浄物の洗浄槽は、フラックス洗浄剤を所定量収容できるとともに、被洗浄物を効率的に収容して、洗浄できるものが好ましい。したがって、被洗浄物の洗浄槽を、通常、円筒形や長方体とすることが好ましい。
また、洗浄槽の容量は、被洗浄物の大きさや処理量を考慮して定めることが好ましいが、具体的に、１００ｃｍ3〜１、０００、０００ｃｍ3の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる洗浄槽の容量が１００ｃｍ3未満の値となると、洗浄可能な被洗浄物の大きさや処理量が過度に制限される場合があるためである。一方、かかる洗浄槽の容量が１、０００、０００ｃｍ3超えると、必要な洗浄液の量が過度に多くなったり、温度分布が大きくなったりして、洗浄効果にばらつきが生じる場合があるためである。
したがって、洗浄槽の容量を１、０００ｃｍ3〜５００、０００ｃｍ3の範囲内の値とすることがより好ましく、２、０００ｃｍ3〜１００、０００ｃｍ3の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、洗浄槽は、洗浄液を高温としても腐食されないように、例えば、ステンレス製とすることが好ましい。
【００５３】
２．接触装置
また、図１（ｂ）に示す接触装置（第１の接触装置）２６は、塩形成化合物等を収容するための収容部と、フラックス洗浄剤の流路２２と、から構成してあることが好ましい。すなわち、かかる流路２２を介して、洗浄槽１２のフラックス洗浄剤２１の一部を接触装置２６まで取り出して、収容部の塩形成化合物等と接触させることが好ましい。
ただし、接触装置２６の配置場所は特に制限されるものでなく、洗浄槽１２の内部や上部に設けても良く、あるいは、図２の上方に示すように、循環路１２４を設けて、その途中に設けることも好ましい。
また、図３に、フラックス洗浄剤の濃度を一定に保つとともに、劣化したフラックス洗浄剤を分離して、再生するために、取り付けるための再生装置３０を示すが、接触装置２６を、当該再生装置３０の入口、内部、あるいは出口のいずれかに設けることも好ましい。
特に、図３に示す再生装置３０のように、蒸発層３４と、冷却管４０を含むコンデンサ３９と、を有している場合、蒸発層３４の内部に接触装置２６を設けることによって、フラックス洗浄剤の寿命を延ばすことができるばかりか、既に劣化したフラックス洗浄剤の一部を再生できることからより好ましい。
【００５４】
ここで、図８を参照して、劣化したフラックス洗浄剤の再生について、詳細に説明する。
図８は、図３に示す再生装置３０を用いて採取したデータに基づいたものであって、横軸に、フラックス洗浄剤を蒸発させるための蒸発槽における加熱時間（分）を採って示してあり、横軸に、コンデンサで凝縮して得られたフラックス洗浄剤における導電率（ＥＣ、μＳ／ｃｍ）を採って示してある。
そして、蒸発槽に、予め劣化したフラックス洗浄剤を収容しているため、時間０（分）においても、回収したフラックス洗浄剤の導電率は既に６μＳ／ｃｍ程度の値を示している。
そこで、２００分程度、フラックス洗浄剤の加熱蒸留を行い、回収したフラックス洗浄剤の導電率が６μＳ／ｃｍ程度の値を維持していることを確認した。
次いで、２２５０ｇのフラックス洗浄剤が収容された蒸発槽の内部に、５０メッシュのネット材で周囲を被覆した消石灰（平均粒径２０ｍｍ）を３５ｇ収容した。その結果、回収したフラックス洗浄剤の導電率はすぐに低下しはじめ、スタートから３００分、すなわち消石灰を添加してから１００分ほどで、約半分の導電率、すなわち２μＳ／ｃｍ程度まで低下することを確認した。
よって、本発明の接触装置によれば、フラックス洗浄剤の劣化を防止できるばかりでなく、一旦劣化したフラックス洗浄剤について、効果的に再生することも可能である。
【００５５】
３．その他
（１）リンス槽および乾燥槽
第１の実施形態において説明したように、洗浄槽の後に、リンス工程を実施するためのリンス槽を設けたり、被洗浄物を効果的に乾燥するための乾燥槽をさらに設けたりすることが好ましい。
そして、リンス槽においても、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを接触させるために、上述した接触装置と同様の構成を、第２の接触装置として設けることが好ましい。
【００５６】
（２）前処理槽
また、洗浄槽の前に、フラックス洗浄剤を前処理するための前処理槽、すなわち、前処理して、フラックス洗浄剤の濃度、温度、酸価、誘電損失、粘度等の特性を所定範囲に調整することが好ましい。
さらに、前処理槽において、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物および酸化合物吸着材料、あるいはいずれか一方とを、予め接触させることも好ましい。このように前処理すると、洗浄槽におけるフラックス洗浄剤の劣化を極めて効率的に防止することができる。
なお、前処理槽において、フラックス洗浄剤と、塩形成化合物等を接触させるにあたり、上述した接触装置と同様の構成を、第３の接触装置として設けることも好ましい。
【００５７】
【実施例】
[実施例１]
１．洗浄工程および接触工程の実施
以下の条件で、被洗浄物に対する洗浄工程、およびフラックス洗浄剤と塩形成化合物との接触工程を、それぞれ擬似的に同時実施した。
すなわち、５００ｍｌのガラス容器内に、半田フラックスとしてのソルダーライトＡ−２２６（タムラ化研（株）製）を３重量％の濃度で含むグリコール系フラックス洗浄剤のマイクロクリンＲＳ−１２Ｍ（化研テック（株）製）３００ｇと、平均粒径が２ｍｍの粒状消石灰１０ｇとを収容した後、ガラス容器を１００℃の温度条件に設定されたオイルバス中に浸漬した。
なお、粒状消石灰は、ポリアミド製のメッシュネットおよび穴あきフィルムにより周囲を被覆した状態で、ガラス容器内に収容した。
なお、粒状消石灰は、ポリアミド製のメッシュネットおよび穴あきフィルムにより周囲を被覆した状態で、ガラス容器内に収容した。
次いで、ガラス容器内のフラックス洗浄剤の酸化劣化を促進するために、エアーポンプを用い、フラックス洗浄剤中に、ガラス管を介して、流量が６００ｍｌ／分の条件で、エアー（空気）を連続的にバブリングした。
その状態で、０時間、５０時間、１００時間、１５０時間、２００時間それぞれ経過した後のフラックス洗浄剤を採取した。
【００５８】
２．フラックス洗浄剤の評価
（１）酸価の測定
ＫＯＨを用いた中和滴定法により、採取したフラックス洗浄剤の酸価を測定した。
【００５９】
（２）誘電損失の測定
上述したフラックス洗浄剤を用いて、ＪＩＳ２型くし型電極付き基板を以下の条件で洗浄処理した後、１００Ｈｚ〜１ＭＨｚの周波数において、相対湿度９７％および５４％のそれぞれの条件下で誘電損失（ｔａｎδ）を測定し、その差（ｔａｎδ９７ＲＨ％−ｔａｎδ５４ＲＨ％）を算出した。
【００６０】
▲１▼洗浄処理
洗浄（７５℃、２０分）
リンス１回目（２０℃、１０分）
リンス２回目（２０℃、１０分）
乾燥（８０℃、１０分）
▲２▼誘電損失
測定器：ＬＣＲ Ｍｅｔｅｒ ＨＰ４２８４Ａ（横河ヒューレットパッカード社製）
測定温度：２５℃
測定電位：１Ｖ
測定周波数：１００Ｈｚ〜１ＭＨｚ
測定環境条件：９７％ＲＨ・５４％ＲＨ
加湿時間：１時間
【００６１】
（３）金属腐食試験
ＪＩＳ Ｚ ３１９７に準じて、厚さ０．３×縦３０×横３０ｍｍの銅板の表面を紙やすりで研磨し、エチルアルコールにより表面の汚れを洗い去った後、空気中に放置して、自然乾燥させた。
次いで、上述したフラックス洗浄剤を７５℃に加熱し、その中に、銅板を浸漬させた。その後、８０℃オーブンで、銅板を１０分間乾燥させ、さらに４０℃、９７％ＲＨの高温高湿状態に、１２０時間放置した。その後、銅板を取り出し、以下の判断基準に即して、変色および変形等の外観変化から金属腐食性を評価した。
◎：外観変化無し。
○：ほとんど外観変化無し。
△：少々外観変化有り。
×：顕著な外観変化有り。
【００６２】
（４）樹脂腐食試験
上述したフラックス洗浄剤を８０℃に加熱し、その中に、厚さ１ｍｍのネオプレンゴムパッキンを浸漬させた状態で、１４日間放置した。その後、ネオプレンゴムパッキンを取り出し、以下の判断基準に即して、変色および変形等の外観変化から樹脂腐食性を評価した。
◎：外観変化無し。
○：ほとんど外観変化無し。
△：少々外観変化有り。
×：顕著な外観変化有り。
【００６３】
[実施例２]
粒状消石灰の使用量を、１０ｇから３０ｇに増加させたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表１に示す。
かかる結果から理解できるように、実施例１よりも粒状消石灰の使用量が多くなったためと思われるが、酸価の経時変化による上昇がさらに抑制される傾向が見られた。また、実施例１と同様に、実験開始直後に、酸価が初期値よりも低下する傾向が見られたが、その低下程度が若干大きかった。
【００６４】
[実施例３]
粒状消石灰の使用量を、１０ｇから３ｇに減少させたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表１に示す。
かかる結果から理解できるように、実施例１よりも粒状消石灰の使用量が少なくなったためと思われるが、酸価の経時変化による上昇が若干大きい傾向が見られた。
【００６５】
[実施例４]
粒状消石灰の平均粒径を２ｍｍから０．１ｍｍに変えたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表１に示す。
かかる結果から理解できるように、実施例１よりも粒状消石灰の平均粒径が小さくなり、フラックス洗浄剤との接触面積が多くなったためと思われるが、経時変化による酸価の上昇がさらに抑制される傾向が見られた。
【００６６】
[実施例５]
粒状消石灰の平均粒径を２ｍｍから２０ｍｍに変えたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表１に示す。
かかる結果から理解できるように、実施例１よりも粒状消石灰の平均粒径が大きくなり、フラックス洗浄剤との接触面積が小さくなったためと思われるが、経時変化による酸価の上昇がわずかに大きい傾向が見られた。
【００６７】
[実施例６および７]
粒状消石灰のかわりに、実施例６では、酸化合物吸着材料として、銅（Ｃｕ）／半田板（Ｐｂ−Ｓｎ）に変え、実施例７では、銅（Ｃｕ）／ニッケル板（Ｎｉ）に変えたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程をそれぞれ実施し、その後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表２に示す。かかる結果から理解できるように、それぞれ特定の種類の金属板を使用しているため、酸価の経時変化による上昇が抑制される傾向が見られた。また、粒状消石灰と異なり、実験開始直後に、酸価が初期値よりも低下する傾向は見られなかった。
【００６８】
[実施例８および９]
粒状消石灰のかわりに、実施例８では、酸化合物吸着材料として、マグネシウムシリケート（ケイ酸マグネシウム、２ＭｇＯ・６ＳｉＯ2・ｘＨ2Ｏ、平均粒径１．５ｍｍ）であるキョーワ−ド６１５（協和化学工業（株）製）、実施例９では、アルミニウムシリケート（ケイ酸アルミニウム、Ａｌ2Ｏ3・９ＳｉＯ2・ｘＨ2Ｏ、平均粒径１．５ｍｍ）であるキョーワード１１５（協和化学工業（株）製）にそれぞれ変えたほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施し、その後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表２に示す。
かかる結果から理解できるように、それぞれカルボン酸化合物に対する強い吸着性能を有しているため、酸価の上昇が抑制される傾向が見られた。また、粒状消石灰と同様に、実験開始直後に、酸価が初期値よりも低下する傾向が見られた。
【００６９】
[実施例１０]
フェノール系酸化防止剤（ＢＨＴ）を０．５重量％さらに添加したほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表２に示す。
かかる結果から理解できるように、フェノール系酸化防止剤を少量でも添加したためと思われるが、経時変化による酸価の上昇がわずかに小さい傾向が見られた。
【００７０】
[比較例１]
粒状消石灰を使用しなかったほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表１に示す。
かかる結果から理解できるように、粒状消石灰と接触させていないため、フラックス洗浄剤が、１００℃の加熱状態下、５０時間程度のバブリングによって容易に酸化劣化してしまった。
【００７１】
[比較例２]
粒状消石灰を使用しないとともに、フェノール系酸化防止剤（ＢＨＴ）を、フラックス洗浄剤の全体量に対して０．５重量％となるように添加したほかは、実施例１と同様に、洗浄工程および接触工程を実施した後、フラックス洗浄剤の評価を実施した。得られた結果を表２に示す。
かかる結果から理解できるように、多量の酸化防止剤を使用しているものの、粒状消石灰等と接触させていないためと思われるが、フラックス洗浄剤が、１００℃の加熱状態下、２００時間程度のバブリングによって容易に酸化劣化してしまった。また、フェノール系酸化防止剤を添加しているためと思われるが、フラックス洗浄剤の劣化とともに、顕著に着色する傾向が見られた。
【００７２】
【表１】
【表２】
【発明の効果】
本発明のフラックス洗浄剤を用いた被洗浄物の洗浄方法によれば、フラックス洗浄剤に対して、粒状消石灰等の塩形成化合物や、銅（Ｃｕ）／半田板（Ｐｂ−Ｓｎ）等の酸化合物吸着材料を接触させる工程を含むことにより、酸化防止剤を実質的に使用しなくとも、優れた洗浄効果を維持したまま、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させることが可能となった。
したがって、本発明の洗浄方法によれば、フラックス洗浄剤に対する酸化防止剤の使用量を可及的に少なくすることができるため、フラックス洗浄剤を蒸留回収した場合に、酸化防止剤の残渣や、着色の問題についても解消できるようになった。
【００７５】
また、本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄装置によれば、経済的な処方により、フラックス洗浄剤の寿命を長期化させながら、被洗浄物に対して、優れた洗浄効果が発揮できるようになった。
【００７６】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のフラックス洗浄剤を用いた洗浄方法を説明するために供する図である（その１）。
【図２】 本発明のフラックス洗浄剤を用いた別の洗浄方法を説明するために供する図である（その２）。
【図３】 本発明のフラックス洗浄剤を用いた別の洗浄方法を使用するための再生装置を説明するために供する図である。
【図４】 フラックス洗浄剤に対するバブリング時間と、酸価との関係を示す特性図である。
【図５】 塩形成化合物の被覆形態を説明するために供する図である。
【図６】 酸化合物吸着材料の形態を説明するために供する図である。
【図７】 誘電損失と、測定周波数との関係を示す特性図である。
【図８】 塩形成化合物等と接触させた場合のフラックス洗浄剤における導電率の変化を示す図である。
【図９】 従来の洗浄方法を説明するために供する図である。
【図１０】 フラックス洗浄剤の赤外線吸収スペクトルを示す図である。
【００７７】
【符号の説明】
１０：洗浄装置
１２：洗浄槽
１４：リンス槽
１５：リンス液
１６：乾燥槽
２１：フラックス洗浄剤
２２：循環路
２６：接触装置
２８：フィルター
３０：再生装置
１０２：フラックス洗浄剤
１０６：フィルター
１０８、１１４：接触装置
１２４：循環路
１３０：洗浄装置
１５４：酸化合物吸着材料
１７０：塩形成化合物（袋）
１９０：塩形成化合物（カートリッジ）[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning method using a flux cleaning agent and a cleaning apparatus using the flux cleaning agent. In particular, a cleaning method using a flux cleaning agent capable of extending the life while maintaining an excellent cleaning effect without substantially using an antioxidant, and such a flux cleaning agent is used. The present invention relates to a cleaning device.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, for flux cleaning of printed circuit boards and the like, as shown in FIG. 9, a
Here, the infrared absorption spectrum of the unused flux cleaner is shown in line A of FIG. 10, the infrared absorption spectrum of the deteriorated flux cleaner is shown in line B, and the lines A and B are shown in line C. The difference spectrum between is shown. From this difference spectrum, in the deteriorated flux cleaning agent, a hydrogen-bonding carbonyl group (wave number 1700 cm)-1Near peak P4) and a carboxylic acid compound having a hydroxyl group (wave number 2900 cm)-1Nearby peak P5 and wave number 3600cm-1It can be seen that a nearby peak P6) is generated.
Further, when the flux cleaning agent is oxidatively deteriorated to produce a carboxylic acid compound (organic acid compound), there has been a problem that the resin parts used in the cleaning device, for example, rubber packing, are chemically corroded.
[0003]
Therefore, various flux cleaning agents with little oxidative degradation and their manufacturing methods have been proposed.
For example, an organic solvent-based cleaning agent mainly composed of a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms and an organic compound having a polar group having 5 to 20 carbon atoms, a phenol-based antioxidant, an amine-based antioxidant, and a phosphorus-based oxidation There is a flux cleaning agent to which at least one or more antioxidants selected from inhibitors are added (see Patent Document 1).
In addition, it has excellent cleaning performance such as oil stains, does not cause deterioration of the color of the cleaning agent over time, and further, for the purpose of reducing the influence on the aluminum material, alkanolamines, surfactants and There is a flux cleaning agent containing a solvent and a specific carboxylic acid compound (see Patent Document 2).
[0004]
Furthermore, there exists a manufacturing method of the said liquid cleaning composition in order to provide efficiently the liquid cleaning composition which is not influenced by selection of a fatty acid with strong oxidation resistance (refer patent document 3).
That is, (A) an aqueous phase production process in which a water-soluble polymer is dissolved in an aqueous component to prepare an aqueous phase, and (B) neutralization in which a fatty acid salt-containing mixture is produced by neutralizing a fatty acid with an alkaline substance. Step (C) The emulsification kettle charged with the obtained aqueous phase is depressurized to a vacuum of 600 mmHg or less, and the fatty acid salt-containing mixture produced in the neutralization step is charged into the aqueous phase with high shear stirring and mixed. A process for producing a liquid cleaning composition.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-11-131095
[Patent Document 2]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-269490
[Patent Document 3]
JP-A-11-335698
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, a conventional flux cleaning agent described in JP-A No. 11-131095 or a liquid cleaning composition (flux cleaning agent) obtained by a conventional manufacturing method described in JP-A No. 11-335698 or the like. In any case, only a predetermined amount of an antioxidant or the like is added, and the lifetime is still insufficient, and it is difficult to stably wash the article to be washed.
In addition, since such a flux cleaning agent contains a predetermined amount of antioxidant, etc., the antioxidant and the cleaning agent react with each other to reduce the cleaning power for cleaning the object to be cleaned. The problem of becoming easy to change or discoloration was seen.
Furthermore, such a flux cleaning agent has to be mixed and added with an antioxidant or the like, which not only increases the manufacturing cost of the flux cleaning agent, but also increases the cleaning cost. It was.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, there is provided a cleaning method using a flux cleaning agent comprising the following (A) cleaning step and (B) contact step, which solves the above-described problems. it can.
(A) A flux cleaning agent mainly composed of at least one compound of alcohol, glycol compound, and etherified product of glycol compound, the flux having an acid value in the range of 0.01 to 20 mgKOH / g Cleaning process for cleaning objects to be cleaned with cleaning agents
(B) For flux cleaner
A granular salt-forming compound having an average particle size of 0.01 to 20 mm;
0.1-200 cm in terms of area with respect to 100 g of the granular acid compound adsorbing material comprising magnesium oxide or calcium oxide or the main component of the flux cleaning agent 2 And a plate-shaped acid compound adsorbing material disposed in a contact device for carrying out the contacting step, or both of the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material. Contact process to contact
That is, by contacting the flux cleaning agent whose acid value is adjusted with a specific salt-forming compound and / or acid compound adsorbing material, or any one of them, the influence of the flux residue contained in the flux cleaning agent is eliminated, It is possible to effectively prevent oxidative deterioration of the flux cleaning agent due to the flux residue and to reduce the molecular weight. Therefore, it is possible to prolong the life of the flux cleaning agent while maintaining an excellent cleaning effect by an economical and simple method of contact treatment with a salt-forming compound or the like.
In addition, since the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material are granular having a predetermined average particle diameter, not only the handling of the salt-forming compound is facilitated, but the salt-forming compound and the like together with the flux cleaning agent, Circulation during the washing process can be effectively prevented. That is, if salt-forming compounds, etc. are circulated during the cleaning process, they will precipitate, causing damage to the equipment, and the flux cleaning agent will have a negative acid value, which will complicate the management of subsequent processes. This is because there are cases in which
Further, since the salt-forming compound or the like is granular having a predetermined average particle size, the contact area with the flux cleaning agent can be appropriately controlled. Therefore, the use of a granular salt-forming compound or the like can exert a deterioration preventing effect on the flux cleaning agent over a long period of time.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, the method includes a step of cleaning an object to be cleaned with a flux cleaning agent, and a step of bringing a salt-forming compound and / or an acid compound adsorbing material into contact with the flux cleaning agent. A cleaning method using the flux cleaning agent is provided, and the above-mentioned problems can be solved.
That is, by contacting the flux cleaning agent with the salt-forming compound and / or the acid compound adsorbing material, or any one of them, the influence of the flux residue contained in the flux cleaning agent is eliminated, and the flux cleaning caused by the flux residue is performed. It is possible to effectively prevent oxidative degradation of the agent and to reduce the molecular weight. Therefore, it is possible to prolong the life of the flux cleaning agent while maintaining an excellent cleaning effect by an economical and simple method of contact treatment with a salt-forming compound or the like.
[0009]
For example, extending the life of the flux cleaning agent means that air is bubbled for 100 hours or more, more preferably 300 hours or more at a temperature of 100 ° C. without substantially using an antioxidant. Even in this case, the initial cleaning effect of the flux cleaning agent can be substantially maintained, and the flux cleaning agent does not cause discoloration or malodor.
Moreover, if any of the following alternative characteristics is obtained when evaluated under the same conditions, it can be said that the life of the flux cleaning agent can be extended.
1) No significant formation of carboxylic acid compound is observed in the infrared absorption spectrum.
2) No significant production of low molecular weight substances is observed in gas chromatography.
3) The acid value is a value of 20 mgKOH / g or less.
4) The conductivity (EC) of the flux cleaning agent is a value of 15 μS / cm or less.
5) Dielectric loss (tan δ 97 RH%) measured in an atmosphere with a relative humidity of 97% and dielectric loss (tan δ 54 RH%) measured in an atmosphere with a relative humidity of 54% using a substrate with a JIS2 type comb electrode. The difference (tan δ 97% RH−tan δ 54% RH) is a value of 0.02 or less.
[00010]
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, the salt-forming compound may be an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, or one of the hydroxides. preferable.
By using such an inexpensive salt-forming compound, not only the cleaning cost is lowered, but also the life of the flux cleaning agent can be extended even with a relatively small amount of use.
[0011]
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, the salt-forming compound is preferably granular.
By carrying out in this way, handling of the salt-forming compound is facilitated, and it is possible to effectively prevent the salt-forming compound from being circulated with the flux cleaning agent during the cleaning step. In other words, if the salt-forming compound is circulated during the cleaning process, it will precipitate, causing damage to the equipment, and the flux cleaning agent will have a negative acid value, which will complicate subsequent process management. This is because it may occur.
Further, since the salt-forming compound is granular, the contact area with the flux cleaning agent can be appropriately controlled. Therefore, by using a granular salt-forming compound, the effect of preventing deterioration of the flux cleaning agent can be exhibited over a long period of time.
[0012]
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, it is preferable that the salt-forming compound is covered with a perforated member or is made into a cartridge.
By carrying out in this way, handling of the salt-forming compound is facilitated, and the flux cleaning agent and the salt-forming compound can be sufficiently brought into contact. Moreover, by implementing in this way, it can prevent effectively that a salt formation compound is circulated with a flux cleaning agent during a washing | cleaning process.
[0014]
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, the acid compound adsorbing material is at least one inorganic material selected from the group consisting of magnesium oxide, calcium oxide, magnesium silicate, aluminum silicate, and calcium silicate. A compound is preferred.
By using an acid compound adsorbing material having a solid acid and a solid base as described above, it is possible not only to exhibit an excellent deterioration preventing effect by using a small amount, but also to handle easily unlike liquid materials. .
[0015]
In carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, the flux cleaning agent contains at least one compound of a glycol compound, an etherified product of a glycol compound, a water-soluble amide compound, an alcohol, and an alcohol / water mixture. The main component is preferred.
By carrying out the cleaning method using a compound having a relatively low volatility as described above, handling in a heated state is facilitated, and an excellent cleaning effect can be obtained.
[0016]
Further, in carrying out the cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention, a circulation path or bypass for circulating the flux cleaning agent is provided, and in the middle of the circulation path or bypass, the flux cleaning agent, the salt-forming compound, and It is preferable to contact the acid compound adsorbing material or any one of them.
By carrying out in this way, the object to be cleaned can be efficiently cleaned with the flux cleaning agent, and the flux cleaning agent and the salt-forming compound can be brought into quantitative contact.
In addition, by carrying out in this way, a valve, a filter, etc. can be provided together, so that salt forming compounds etc. together with the flux cleaning agent are effectively prevented from flowing out during the cleaning process and being circulated. be able to.
[0017]
Moreover, this invention is equipped with the following (a) cleaning tanks, and (b) contact apparatus (it may be called a 1st contact apparatus), The cleaning apparatus using the flux cleaning agent characterized by the above-mentioned. It is.
(A) A flux cleaning agent comprising as a main component at least one of alcohol, glycol compound, and etherified product of glycol compound, the flux having an acid value in the range of 0.01 to 20 mgKOH / g Cleaning tank for cleaning objects to be cleaned with cleaning agents
(B) a granular salt-forming compound having an average particle diameter of 0.01 to 20 mm;
0.1-200 cm in terms of area with respect to 100 g of the granular acid compound adsorbing material comprising magnesium oxide or calcium oxide or the main component of the flux cleaning agent 2 And a plate-like acid compound adsorbing material disposed in the contact device, or a contact device for bringing either the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material into contact with each other
By configuring in this way, the object to be cleaned can be efficiently cleaned with the flux cleaning agent, and the flux cleaning agent can be used without substantially using an antioxidant or even in a small amount. Can be effectively prevented.
[0018]
Further, in configuring the cleaning device using the flux cleaning agent of the present invention, a circulation path or a bypass for circulating the flux cleaning agent is provided, and in the middle of the circulation path or the bypass, the flux cleaning agent, the salt-forming compound, and It is preferable to provide a contact device for contacting the acid compound adsorbing material or any one of them.
By comprising in this way, while being able to wash | clean a to-be-cleaned object efficiently with a flux cleaning agent, a flux cleaning agent, a salt formation compound, etc. can be made to contact quantitatively.
Moreover, by comprising in this way, it can prevent effectively that a salt formation compound etc. flow out in a washing | cleaning process with a flux cleaning agent, and are circulated.
[0020]
Further, in configuring the cleaning apparatus using the flux cleaning agent of the present invention, a rinse tank containing the flux cleaning agent is connected to the cleaning tank, and the salt forming compound and the acid are connected to the rinse tank. A contact device for bringing the compound adsorbing material or either one into contact with the flux cleaning agent is provided as a second contact device separately from the contact device (first contact device) provided in the cleaning tank. It is preferable.
Thus, by comprising the 2nd contact device separately from the 1st contact device and comprising a washing device, degradation prevention can be aimed at effectively also about the flux cleaning agent of a rinse tank.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of a method for cleaning an object to be cleaned using the flux cleaning agent of the present invention and a cleaning apparatus using the flux cleaning agent will be specifically described with reference to the drawings as appropriate.
[0022]
[First Embodiment]
In the first embodiment, for example, as shown in FIG. 1, with respect to the
Hereinafter, the cleaning process of the object to be cleaned with the flux cleaning agent, the contact process with the salt-forming compound, etc., and the subsequent rinsing process and drying process will be described separately.
[0023]
1. Cleaning process of the object to be cleaned
(1) Objects to be cleaned
As the type of the object to be cleaned, not only parts and products having soldering points, but also parts having flux influence can be suitably used even if there are no soldering points. Accordingly, the type of the object to be cleaned is not particularly limited. For example, a printed resin wiring board, a ceramic wiring board, a semiconductor element (including semiconductor parts such as BGA, CSP, PGA, and LGA), a semiconductor element. Specific examples include a mounting substrate, a TAB tape with bumps, a TAB tape without bumps, a TAB tape with semiconductor elements, a lead frame, a capacitor, and a resistor.
[0024]
(2) Flux cleaner
▲ 1 ▼ Type
The type of flux cleaning agent to be used is not particularly limited. For example, the main component is a glycol compound, an etherified product of the glycol compound, a water-soluble amide compound, or an alcohol and an alcohol / water mixture. Preferably there is.
This is because the use of a glycol compound, a water-soluble amide compound, etc. not only facilitates handling but also provides an excellent and effective cleaning effect.
Further, preferred glycol compounds and etherified products of the glycol compounds include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monooctyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monooctyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene Glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monooctyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, di Propylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol monooctyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monohexyl ether, tripropylene glycol Nooctyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dihexyl ether, diethylene glycol dioctyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dipropyl ether, triethylene glycol dipropyl ether Butyl ether, triethylene glycol dihexyl ether, triethylene glycol dioctyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dipropyl ether, propylene glycol dibutyl ether, propylene group Recall dihexyl ether, propylene glycol dioctyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dipropyl ether, dipropylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dihexyl ether, dipropylene glycol dioctyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, One kind or a combination of two or more kinds of tripropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol dipropyl ether, tripropylene glycol dibutyl ether, tripropylene glycol dihexyl ether, tripropylene glycol dioctyl ether and the like can be mentioned.
In addition, a glycol ether compound in which both ethylene glycol and propylene glycol are added, methoxybutanol and methylmethoxybutanol, and a compound in which an alcohol group contained in the molecule is esterified, for example, an acetate ester compound And so on. Moreover, when there exists an isoisomer in these glycol compounds, it can be used suitably also about it.
Specific examples of preferable water-soluble amide compounds include 2-pyrrolidone, N-alkyl-2-pyrrolidone (for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-propyl-2- Pyrrolidone), 5-alkyl-2-pyrrolidone (eg, 5-methyl-2-pyrrolidone, 5-ethyl-2-pyrrolidone, 5-propyl-2-pyrrolidone), N-vinyl-2-pyrrolidone alone or A combination of two or more types can be mentioned.
Furthermore, specific examples of preferable alcohols include one kind or a combination of two or more kinds such as methanol, ethanol, propanol, and butanol.
[0025]
(2) Additive
Moreover, it is preferable that the flux cleaning agent to be used further contains an amine compound and an alkylammonium hydroxide compound, or any one of them.
If comprised in this way, the chemical removal of a flux residue is further accelerated | stimulated and a flux residue can be removed more efficiently.
Here, as a preferred amine compound, monomethanolamine, monoethanolamine, monopropanolamine, monobutanolamine, dimethanolamine, diethanolamine, dipropanolamine, dibutanolamine, trimethanolamine, triethanolamine, tripropanolamine, Tributanolamine, N-methylethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethylethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-propylethanolamine, N-propyldiethanolamine, N-butylethanolamine, N-butyldiethanolamine, N- Cyclohexiethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, N, N-dipropylethanolamine Emissions, N, N-dibutyl ethanolamine, and the like.
In addition, when adding an amine compound, it is preferable to make the addition amount into the value within the range of 0.1-50 weight part with respect to 100 weight part of main components of the cleaning composition for fluxes.
The reason for this is that when the amount of the amine compound added is less than 0.1 parts by weight, the effect of addition may not be manifested. On the other hand, when the amount exceeds 50 parts by weight, the flux is removed. This is because the efficiency may decrease.
Therefore, the addition amount of the amine compound is more preferably set to a value within the range of 1 to 40 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the main component of the flux cleaning composition, within the range of 5 to 20 parts by weight. More preferably, the value of
[0026]
(4) Acid value
In addition, the acid value of the flux cleaning agent usedA value in the range of 0.01-20.
The reason for this is that if the acid value of the flux cleaning agent exceeds 20, the cleaning power of the flux cleaning agent is reduced, the resin in the cleaning device is deteriorated, the flux cleaning agent is discolored, or an odor is generated. This is because there are cases.
Therefore, the acid value of the flux cleaning agent is more preferably set to a value within the range of 0.01 to 10, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 5.
[0027]
(4) Acid value
Moreover, it is preferable to make the acid value of the flux cleaning agent used into the value of 20 or less.
The reason for this is that if the acid value of the flux cleaning agent exceeds 20, the cleaning power of the flux cleaning agent is reduced, the resin in the cleaning device is deteriorated, the flux cleaning agent is discolored, or an odor is generated. This is because there are cases.
Therefore, the acid value of the flux cleaning agent is more preferably set to a value within the range of 0.01 to 10, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 5.
[0028]
Here, the reason for controlling the acid value of the flux cleaning agent will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows the elapsed time (Hrs) on the horizontal axis and the acid value (mgKOH / g) of the flux cleaning agent on the vertical axis.
In FIG. 4, line A shows the result of the flux cleaning agent containing 0.5% by weight of the phenolic antioxidant and 2.6% by weight of the flux residue, and line B shows the acid compound. The results are shown for a flux cleaning agent (containing 2.6% by weight of flux residue) using a solder / copper plate described later as an adsorbing material. Line C shows the results of the flux cleaning agent containing 2% by weight of granular slaked lime and 2.6% by weight of flux residue as the salt-forming compound. Line D shows the granularity of the flux cleaning agent. 2% by weight of slaked lime and 2.6% by weight of flux residue, respectively, and the results are shown when the slaked lime is replaced every 50 hours. And the change of the acid value of the flux cleaning agent when the flux cleaning agent is heated at 100 ° C. while air bubbling is shown.
As can be easily understood from the results shown in FIG. 4, a normal flux cleaning agent cannot be prevented from being deteriorated by a predetermined amount of antioxidant alone, and the oxidation proceeds. At about the time, the acid value increased to about 13.8 mgKOH / g. On the other hand, in the case of the flux cleaning agent brought into contact with the salt-forming compound or acid compound adsorbing material of the present invention, there is little change with time in the acid value, and in particular, when the slaked lime is replaced every 50 hours, the elapsed time Even at about 300 hours, the value was slightly lower than the initial value.
Accordingly, the acid value of the flux cleaning agent to be circulated is a measure of deterioration, and the flux cleaning agent is brought into contact with a salt-forming compound, and the acid value of the flux cleaning agent is managed and controlled to control the flux cleaning. It is possible to easily prevent the deterioration of the agent.
[0029]
(7) Conductivity (EC)
Moreover, it is preferable that the electric conductivity (EC) of the flux cleaning agent to be used is set to a value of 15 μS / cm or less.
The reason for this is that when the conductivity of the flux cleaning agent exceeds 15 μS / cm, the cleaning power of the flux cleaning agent decreases, the resin in the cleaning device deteriorates, the flux cleaning agent discolors, or has a strange odor. This is because there are cases in which there are cases. However, if the conductivity of the flux cleaning agent is excessively small, the types of flux cleaning agents that can be used may be excessively limited.
Therefore, the conductivity of the flux cleaning agent is more preferably set to a value within the range of 0.01 to 10 μS / cm, and further preferably set to a value within the range of 0.1 to 3 μS / cm.
[0030]
(3) Cleaning conditions
The cleaning conditions (cleaning mode, etc.) with the flux cleaning agent are preferably determined in consideration of the cleaning effect and damage to the object to be cleaned. For example, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), flux cleaning It is preferable that the
And as shown to FIG. 1 (a) and (b), using the
In addition, when adopting such a batch type cleaning method, the flux cleaning agent may be flowed using a stirrer or the like, although not shown, so that the concentration of the flux cleaning agent in the cleaning tank is uniform. preferable.
[0031]
On the other hand, as shown in FIG. 2, a flux cleaning
When such a circulation type cleaning method is employed, the circulation rate of the
This is because the circulation speed is 100 cm.ThreeThis is because when the value is less than / minute, the cleaning effect on the object to be cleaned may be reduced. On the other hand, the circulation speed is 2 mThreeThis is because if it exceeds / min, air is easily trapped, and the oxidative deterioration of the flux cleaning agent may be promoted.
Therefore, the circulation rate of the flux cleaning agent is 1,000 cm.Three/ Min ~ 1mThreeMore preferably, the value is within the range of 10,000 minutes.Three/Min~0.5mThreeMore preferably, the value is within the range of / min.
[0032]
In addition, although not shown, even if a batch-type and circulation-type cleaning method is used, or a case where other cleaning methods are used, in the cleaning tank, the object to be cleaned can be efficiently cleaned. It is preferable to apply ultrasonic vibration to the flux cleaning agent.
In that case, it is preferable to set the frequency of the ultrasonic vibration to be applied to a value in the range of 20 KHz to 3 MHz.
This is because the noise may increase when the frequency of the ultrasonic vibration is less than 20 KHz. On the other hand, if the frequency of the ultrasonic vibration exceeds 3 MHz, the cleaning power may be reduced or the ultrasonic vibration device may be expensive.
Therefore, it is more preferable to set the frequency of the ultrasonic vibration applied to the flux cleaning agent to a value within the range of 20 KHz to 1 MHz, and even more preferable to set the value within the range of 20 KHz to 300 KHz.
[0033]
2. Contact process
(1) Salt-forming compound
▲ 1 ▼ Type
The salt-forming compound used in the contacting step is not particularly limited as long as it is a compound that can react with a carboxylic acid compound or other acid compound as a flux residue contained in the flux cleaning agent. , Alkali metal hydroxide, and alkaline earth metal hydroxide, or any one of them is preferable.
More specifically, one kind of sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide or the like may be used alone or in combination of two or more kinds.
If these hydroxides react with the carboxylic acid compound to easily form a salt, the carboxylic acid compound or the like contained in the flux cleaning agent can be easily removed or inactivated. .
Furthermore, among these salt-forming compounds, the use of a relatively small amount provides an excellent effect of preventing the deterioration of the flux cleaning agent and is extremely inexpensive. Therefore, it is more preferable to use calcium hydroxide (slaked lime). preferable.
As will be described later, in order to obtain an appropriate granular form, a granular forming agent such as a polyester resin, a vinyl chloride resin, an olefin resin, an acrylic resin, etc., for alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides. It is also preferable to use a mixture of an inorganic compound such as a polymer material, a ceramic material, or silica gel.
In that case, the amount of the granular forming agent used is preferably a value in the range of 1 to 90% by weight, more preferably a value in the range of 5 to 80% by weight, based on the total amount. More preferably, the value is within the range of 20 to 70% by weight.
This is because such a use amount of the granular forming agent can efficiently react with the flux residue contained in the flux cleaning agent, while maintaining a predetermined shape.
[0034]
(2) Shape
Further, the shape of the salt-forming compound is not particularly limited, but is preferably, for example, granular.
Such a salt-forming compound not only facilitates handling, but can effectively prevent the salt-forming compound from being circulated with the flux cleaning agent during the cleaning step. Therefore, problems such as the salt-forming compound being precipitated during the cleaning process, causing damage to the apparatus, and the flux cleaning agent having a negative acid value, complicating the management of the subsequent process are reduced.
[0035]
Moreover, when a salt formation compound is granular, it is preferable to make the average particle diameter into the value within the range of 0.01-20 mm.
This is because when the average particle size of the salt-forming compound is less than 0.01 mm, it may be circulated during the cleaning process together with the flux cleaning agent. On the other hand, when the average particle size of the salt-forming compound exceeds 20 mm, the contact with the flux cleaning agent becomes insufficient, and it may be difficult to extend the life of the flux cleaning agent.
Therefore, the average particle size of the salt-forming compound is more preferably set to a value within the range of 0.1 to 10 mm, and further preferably set to a value within the range of 0.5 to 5 mm.
In addition, when a granular salt-forming compound having a relatively small particle size is used, there is a possibility that the salt-forming compound may be circulated into the cleaning tank even when the periphery of the salt-forming compound is covered with a perforated member as described later. Therefore, in such a case, as shown in FIG. 1B, it is preferable to provide a filter 28 in the middle of the
[0036]
(3) Covering treatment
Further, when the salt-forming compound and the flux cleaning agent are brought into contact with each other, as shown in FIG. 5A, the periphery of the salt-forming compound is covered with a
By performing the coating treatment in this manner, the flux cleaning agent and the salt-forming compound can be sufficiently brought into contact with each other through the perforated member.
Further, since the salt-forming compound can be restrained by the perforated member, it is possible to effectively prevent the salt-forming compound from being circulated during the cleaning process together with the flux cleaning agent.
Furthermore, the coating treatment makes it easy to handle and exchange the salt-forming compound, and the salt-forming compound coating can be suspended during the washing process or placed at a predetermined location. By doing this, the life of the flux cleaning agent can be extended.
[0037]
(4) Cartridge
Further, when the salt-forming compound and the flux cleaning agent are brought into contact with each other, as shown in FIG. 5B, the salt-forming compound may be filled in, for example, a cartridge member partially having an opening or a mesh part. preferable.
By forming the cartridge in this way, as shown in FIG. 5 (b), the flux cleaning agent and the salt-forming compound etc. are sufficiently in contact with each other through the opening plates and
Further, since the salt-forming compound can be restrained by the cartridge member, it is possible to effectively prevent the salt-forming compound from flowing out during the cleaning step and being circulated together with the flux cleaning agent.
In addition, the use of the cartridge in this way facilitates the handling and replacement of the salt-forming compound, and the flux cleaning can be performed simply by suspending the cartridge of the salt-forming compound during the cleaning process or by placing it in place. The life of the agent can be extended.
[0038]
(5) Usage
Further, the amount of salt-forming compound used is preferably determined in consideration of the service life of the flux cleaning agent to be contacted and the alkali concentration in the flux cleaning agent. A value within the range of 0.001 to 30 parts by weight per 100 parts by weight is preferable.
The reason for this is that when the amount of the salt-forming compound used is less than 0.001 part by weight, the contact with the flux cleaning agent becomes insufficient, and it may be difficult to extend the life of the flux cleaning agent. Because there is. On the other hand, even if the amount of the salt-forming compound used exceeds 30 parts by weight, the cleaning effect does not change, but the apparatus may become large.
Therefore, the amount of the salt-forming compound used is more preferably a value within the range of 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the flux cleaning agent, and a value within the range of 0.1 to 5 parts by weight. More preferably.
[0039]
(2) Acid compound adsorption material
▲ 1 ▼ Type 1
The acid compound adsorbing material is not particularly limited as long as it is a material that can adsorb carboxylic acid compounds and other acid compounds in the flux cleaning agent. For example, copper plate, nickel plate, aluminum plate, zinc plate, magnesium At least one plate selected from the group consisting of a plate, a solder partially coated copper plate, a solder partially coated nickel plate, a solder partially coated aluminum plate, a solder partially coated zinc plate, and a solder partially coated magnesium plate, or of these plates It is preferable to be a processed product, or a composite of these plate and other materials.
By using the acid compound adsorbing material having such a configuration, the size of the plate-like material, for example, the size or shape of the metal plate, or the thickness is arbitrarily changed according to the size or form of the arrangement place, Can be set. Therefore, handling and installation of the plate-like object itself become easy.
In addition, when the performance of a plate-like object or the like is deteriorated, a new active surface is recovered by washing the surface of the plate-like object or the like, so that the performance can be easily and quickly recovered. Furthermore, a spare plate-like material is prepared, and when the performance of the plate-like material is deteriorated, it can be replaced to continuously exhibit the effect of preventing deterioration of the cleaning liquid without interrupting the cleaning process. be able to.
[0040]
(2)
Further, the acid compound adsorbing material different from type 1 is more preferably a granular acid compound adsorbing material made of magnesium oxide or calcium oxide.
This is because such an inorganic compound can effectively adsorb a carboxylic acid compound or the like even when used in a small amount. Further, such an inorganic compound is a granular material having a predetermined average particle diameter, unlike a liquid material, and is easy to handle.
As a measure of the adsorptivity of an acidic substance by a solid base, hydrochloric acid adsorption ability (particulate matter having a concentration of 0.25 wt% was added to a 0.03% HCl / dipropylene glycol solution, The amount of hydrochloric acid adsorbed after standing under the condition of minutes) is preferably a value of 1 mg / g or more, more preferably a value of 10 mg / g or more, and further a value of 20 mg / g or more. preferable.
[0041]
▲ 2 ▼
Further, as an acid compound adsorbing material different from the type 1, magnesium silicate (magnesium silicate, 2MgO · 6SiO2XH2O), aluminum silicate (aluminum silicate, Al2OThree・ 9SiO2XH2O), calcium silicate (calcium silicate), hydrotalcite (aluminum hydroxide / magnesium carbonate hydrate), kaolin (Al2・ Si2OFive・ (OH)Four), Talc (MgThree・ SiFourOTen・ (OH)2), Magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), aluminum hydroxide (Al (OH))ThreeXH2O), aluminum hydroxide / bicarbonate composite (Al (OH)Three・ NaHCOThree), Magnesium, aluminum hydroxide, carbon trioxide hydrate (Mg6・ Al (OH)16・ COThree・ 4H2O or Mg4.5・ Al (OH)13・ CoThree・ 3.5H2O), magnesium / aluminum oxide (Mg)0.7・ Al0.3O1.15), Shirasu, zeolite, acidic clay (montmorillonite clay), these acid-treated products, carbon black, activated carbon, cation exchange resin, anion exchange resin, and the like.
Of these acid compound adsorbing materials, at least one inorganic compound selected from the group consisting of magnesium oxide, calcium oxide, magnesium silicate, aluminum silicate, and calcium silicate is more preferable.
This is because such an inorganic compound can effectively adsorb a carboxylic acid compound or the like even when used in a small amount. Further, such an inorganic compound is a granular material having a predetermined average particle diameter, unlike a liquid material, and is easy to handle.
As a measure of the adsorptivity of an acidic substance by a solid base, hydrochloric acid adsorption ability (particulate matter having a concentration of 0.25 wt% was added to a 0.03% HCl / dipropylene glycol solution, The amount of hydrochloric acid adsorbed after standing under the condition of minutes) is preferably a value of 1 mg / g or more, more preferably a value of 10 mg / g or more, and further a value of 20 mg / g or more. preferable.
[0042]
(4) Usage
In addition, the amount of the acid compound adsorbing material of type 1In a state where it is arranged in a contact device for carrying out the contact process,With respect to 100 g of the main component of the flux cleaning composition, in terms of the area of the plate,0.1-200cm 2 It is preferable to set the value within the range.
This is because the area of use of the acid compound adsorbing material is0.1cm 2 If the value is less thanThis is because the removal efficiency of carboxylic acid compounds and the like may be extremely reduced.
On the other hand, the use area of such an acid compound adsorbing material is 200 cm.2This is because the handleability may decrease or the contact process may have a large capacity.
Therefore, the amount of the acid compound adsorbing material used is 0.1 to 100 cm in terms of the area of the metal plate with respect to 100 g of the main component of the flux cleaning composition.2More preferably, the value is within the range of 1 to 50 cm.2It is more preferable to set the value within the range.
[0043]
(4) Usage
Moreover, the usage-amount of the kind 1 acid compound adsorption material is 0.01-200 cm in conversion of the area of a plate-shaped object with respect to 100 g of main components of the cleaning composition for flux.2It is preferable to set the value within the range.
This is because the area of use of the acid compound adsorbing material is 0.01 cm.2This is because when the value is less than 1, the removal efficiency of the carboxylic acid compound or the like may be extremely reduced.
On the other hand, the use area of such an acid compound adsorbing material is 200 cm.2This is because the handleability may decrease or the contact process may have a large capacity.
Therefore, the amount of the acid compound adsorbing material used is 0.1 to 100 cm in terms of the area of the metal plate with respect to 100 g of the main component of the flux cleaning composition.2More preferably, the value is within the range of 1 to 50 cm.2It is more preferable to set the value within the range.
[0044]
On the other hand, the amount of the acid compound adsorption material of
The reason for this is that when the amount of the acid compound adsorbing material used is less than 0.001 part by weight, the removal efficiency of the carboxylic acid compound or the like may extremely decrease.
On the other hand, if the amount of the acid compound adsorbing material used exceeds 30 parts by weight, the acid compound adsorbing material may remain in the conductor joint that is the object to be cleaned, and the flux cleaning composition. This is because it may be difficult to uniformly mix and disperse the main component. Furthermore, if the amount used exceeds 30 parts by weight, the device itself may be enlarged.
Therefore, it is preferable to add the usage amount of the acid compound adsorbing material at a ratio of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component of the flux cleaning composition. More preferably, it is added at a ratio of parts.
[0045]
(3) Contact method
In bringing the flux cleaning agent into contact with the salt-forming compound and / or the acid compound adsorbing material, or either one, it is preferable to immerse the salt-forming compound or the like in the flux cleaning agent circulating in the cleaning step.
Specifically, as shown in FIG. 1A, a
Further, as shown in FIG. 1 (b), a
In addition, as shown in FIG. 2, it is also preferable to provide a
The reason for this is that the flux cleaning agent can be brought into quantitative contact with the salt-forming compound and / or the acid compound-adsorbing material, or the salt-forming compound or the like can be brought into contact with the flux cleaning agent. At the same time, it is possible to effectively prevent outflow and circulation during the cleaning process.
[0046]
On the other hand, when the flux cleaning agent is brought into contact with the salt forming compound and / or the acid compound adsorbing material, it is preferable to replace the salt forming compound or the like with a new one every predetermined time.
Specifically, it is preferable to determine the frequency of use and the degree of deterioration of the flux cleaning agent, but it is preferable to replace it every 10 to 2,000 hours, for example. The reason for this is that replacing the salt-forming compound or the like in less than 10 hours is because the operation is too frequent and complicated, and if it exceeds 2,000 hours, the performance of the salt-forming compound or the like is remarkably increased. This is because it may decrease. Therefore, it is more preferable to replace the salt-forming compound and the like every 20 to 1,000 hours, and even more preferably to replace every 30 to 500 hours.
In order to exert a predetermined deterioration preventing effect, it is not necessary to replace all of the salt-forming compounds etc. at once, and it is also preferable to replace partially the deteriorated salt-forming compounds etc. from an economical aspect.
[0047]
(4) Dielectric loss measurement process
(1) Measurement method
It is preferable to provide a step of measuring the dielectric loss of the object to be cleaned. Thus, the degree of cleaning can be quantified by measuring the dielectric loss of the object to be cleaned. Therefore, it is easy to automate the cleaning method and determine the deterioration of the cleaning liquid.
Here, when measuring the dielectric loss of the object to be cleaned, the dielectric loss of the object to be cleaned can also be directly measured. For the standardization of the object to be cleaned, as a representative product, a JIS2 type comb electrode It is preferable to use an attached substrate.
Moreover, when measuring dielectric loss, after performing a washing process on predetermined conditions, dielectric loss (tan-delta) can be measured on the conditions (measurement frequency: 100 Hz) shown in Example 1 as an example.
[0048]
(2) Dielectric loss
Further, when measuring the dielectric loss of the object to be cleaned, for example, using a substrate with a JIS2 type comb electrode treated with a flux cleaning agent, the dielectric loss (tan δ 97 RH%) measured in an atmosphere with a relative humidity of 97%, It is preferable to set the difference (tan δ 97 RH% −tan δ 54 RH%) in dielectric loss (tan δ 54 RH%) measured in an atmosphere having a relative humidity of 54% to a value of 0.02 or less.
The reason for this is that if the difference in dielectric loss (tan δ) exceeds 0.02, the flux cleaning agent may be excessively oxidized and deteriorated, and the flux cleaning agent may be discolored or have a strange odor. is there.
Therefore, the difference in dielectric loss (tan δ) is more preferably 0.01 or less, and further preferably 0.005 or less.
FIG. 7 shows a measurement example of dielectric loss (tan δ) measured using a JIS2 type comb electrode-coated substrate treated with a flux cleaning agent. The horizontal axis indicates the measurement frequency (Hz), and the vertical axis indicates the logarithmic value of tan δ. The logarithmic value of tan δ depends on the measurement frequency, and the higher the value of the measurement frequency, the higher the log value of tan δ. However, once the measurement frequency is determined, the deterioration of the flux cleaning agent is traced. Is possible.
[0049]
3. Rinse process
Moreover, it is preferable to provide a rinse process after a washing | cleaning process. That is, as shown in FIG. 1, a rinse
In addition, the number of rinse tanks is not limited to one tank, and a plurality of rinse tanks is also preferable. Therefore, after the cleaning process, for example, a first rinsing tank and a second rinsing tank are prepared, and by performing the rinsing process twice, the flux residue and the like can be further effectively removed.
Further, the flux cleaning agent used in the rinsing tank is preferably brought into contact with either the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material, as in the cleaning tank. By carrying out in this way, not only the flux cleaning agent used in the rinsing tank, but also when the flux cleaning agent is recovered and then used in the cleaning tank, oxidative deterioration in each can be prevented for a long time. .
[0050]
[Second Embodiment]
In the second embodiment, as shown in FIG. 1 (b), a
That is, it is a cleaning apparatus using a flux cleaning agent characterized by comprising the following (a) cleaning tank and (b) contact device.
(A) A flux cleaning agent comprising as a main component at least one of alcohol, glycol compound, and etherified product of glycol compound, the flux having an acid value in the range of 0.01 to 20 mgKOH / g Cleaning tank for cleaning objects to be cleaned with cleaning agents
(B) a granular salt-forming compound having an average particle diameter of 0.01 to 20 mm;
0.1-200 cm in terms of area with respect to 100 g of the granular acid compound adsorbing material comprising magnesium oxide or calcium oxide or the main component of the flux cleaning agent 2 And a plate-like acid compound adsorbing material disposed in the contact device, or a contact device for bringing either the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material into contact with each other
Hereinafter, the parts related to the cleaning apparatus, which is a feature of the second embodiment, will be mainly described while omitting portions overlapping with those of the first embodiment as appropriate.
[0051]
[Second Embodiment]
In the second embodiment, as shown in FIG. 1 (b), a
Hereinafter, the parts related to the cleaning apparatus, which is a feature of the second embodiment, will be mainly described while omitting portions overlapping with those of the first embodiment as appropriate.
[0052]
1. Cleaning tank for objects to be cleaned
The cleaning tank for the object to be cleaned is preferably one that can store a predetermined amount of the flux cleaning agent and can efficiently store and clean the object to be cleaned. Therefore, it is usually preferable that the cleaning tank for the object to be cleaned is cylindrical or rectangular.
The capacity of the cleaning tank is preferably determined in consideration of the size of the object to be cleaned and the processing amount.Three~ 1,000,000cmThreeIt is preferable to set the value within the range. This is because the capacity of the washing tank is 100 cm.ThreeThis is because when the value is less than 1, the size and the processing amount of the object to be cleaned can be excessively limited. On the other hand, the capacity of the washing tank is 1,000,000 cm.ThreeThis is because the amount of the necessary cleaning liquid may be excessively increased or the temperature distribution may be increased, resulting in variations in the cleaning effect.
Therefore, the capacity of the washing tank is 1,000 cmThree~ 500,000cmThreeMore preferably, the value is within the range of 2,000 cm.Three~ 100,000cmThreeIt is more preferable to set the value within the range.
The cleaning tank is preferably made of stainless steel, for example, so as not to be corroded even when the cleaning liquid is heated to a high temperature.
[0053]
2. Contact device
Further, the contact device (first contact device) 26 shown in FIG. 1 (b) is composed of an accommodating portion for accommodating a salt-forming compound and the like, and a flux cleaning
However, the arrangement location of the
Also, FIG. 3 shows a
In particular, in the case of having the
[0054]
Here, with reference to FIG. 8, regeneration of the deteriorated flux cleaning agent will be described in detail.
FIG. 8 is based on data collected using the
And since the flux cleaning agent deteriorated previously is accommodated in the evaporation tank, the electric conductivity of the collected flux cleaning agent has already shown a value of about 6 μS / cm even at time 0 (minutes).
Therefore, the flux cleaning agent was heated and distilled for about 200 minutes, and it was confirmed that the electrical conductivity of the recovered flux cleaning agent maintained a value of about 6 μS / cm.
Next, 35 g of slaked lime (average particle size: 20 mm) covered with a 50-mesh net material was accommodated in the evaporation tank containing 2250 g of the flux cleaning agent. As a result, the conductivity of the collected flux cleaning agent begins to decrease immediately, and decreases to about half the conductivity, that is, about 2 μS / cm in about 300 minutes from the start, that is, about 100 minutes after adding slaked lime. It was confirmed.
Therefore, according to the contact device of the present invention, it is possible not only to prevent the flux cleaning agent from being deteriorated, but also to effectively regenerate the once deteriorated flux cleaning agent.
[0055]
3. Other
(1) Rinse tank and drying tank
As described in the first embodiment, it is preferable to provide a rinsing tank for carrying out a rinsing step after the cleaning tank or further provide a drying tank for effectively drying the object to be cleaned. .
In the rinsing tank, the same configuration as the contact device described above is provided as the second contact device in order to bring the flux cleaning agent into contact with the salt-forming compound and / or the acid compound adsorbing material. Is preferred.
[0056]
(2) Pretreatment tank
In addition, before the cleaning tank, a pre-processing tank for pre-processing the flux cleaning agent, that is, by pre-processing, the characteristics such as the concentration, temperature, acid value, dielectric loss, viscosity, etc. of the flux cleaning agent are within a predetermined range. It is preferable to adjust.
Furthermore, in the pretreatment tank, it is also preferable that the flux cleaning agent and the salt-forming compound and / or the acid compound adsorbing material are brought into contact with each other in advance. When pretreatment is performed in this manner, deterioration of the flux cleaning agent in the cleaning tank can be prevented very efficiently.
In the pretreatment tank, when the flux cleaning agent is brought into contact with the salt-forming compound or the like, it is also preferable to provide the third contact device with the same configuration as the contact device described above.
[0057]
【Example】
[Example 1]
1. Implementation of cleaning and contact processes
Under the following conditions, the cleaning process for the object to be cleaned and the contact process between the flux cleaning agent and the salt-forming compound were each performed simultaneously in a pseudo manner.
That is, in a 500 ml glass container, Microclin RS-12M (Kakeken Tech Co., Ltd.), a glycol-based flux cleaning agent containing Solderlite A-226 (manufactured by Tamura Kaken Co., Ltd.) as a solder flux at a concentration of 3% by weight. After housing 300 g and 10 g of granular slaked lime having an average particle diameter of 2 mm, the glass container was immersed in an oil bath set to a temperature condition of 100 ° C.
The granular slaked lime was accommodated in a glass container in a state where the periphery was covered with a mesh net made of polyamide and a perforated film.
The granular slaked lime was accommodated in a glass container in a state where the periphery was covered with a mesh net made of polyamide and a perforated film.
Next, in order to promote oxidative deterioration of the flux cleaning agent in the glass container, air (air) is continuously supplied to the flux cleaning agent through the glass tube at a flow rate of 600 ml / min. Bubbling.
In this state, the flux cleaning agent after each of 0 hours, 50 hours, 100 hours, 150 hours, and 200 hours was collected.
[0058]
2. Evaluation of flux cleaner
(1) Measurement of acid value
The acid value of the collected flux cleaning agent was measured by a neutralization titration method using KOH.
[0059]
(2) Measurement of dielectric loss
After cleaning the substrate with JIS2 type comb-type electrode under the following conditions using the flux cleaning agent described above, dielectric loss (tan δ) was performed under the respective conditions of 97% and 54% relative humidity at a frequency of 100 Hz to 1 MHz. ) Was measured, and the difference (tan δ 97 RH%-tan δ 54 RH%) was calculated.
[0060]
(1) Cleaning treatment
Cleaning (75 ° C, 20 minutes)
First rinse (20 ° C, 10 minutes)
Second rinse (20 ° C, 10 minutes)
Dry (80 ° C, 10 minutes)
(2) Dielectric loss
Measuring instrument: LCR Meter HP4284A (manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company)
Measurement temperature: 25 ° C
Measuring potential: 1V
Measurement frequency: 100 Hz to 1 MHz
Measurement environment conditions: 97% RH, 54% RH
Humidification time: 1 hour
[0061]
(3) Metal corrosion test
In accordance with JIS Z 3197, the surface of a copper plate with a thickness of 0.3 x 30 x 30 mm is polished with sandpaper, the surface is washed away with ethyl alcohol, and then left in the air to dry naturally. I let you.
Subsequently, the flux cleaning agent mentioned above was heated at 75 degreeC, and the copper plate was immersed in it. Thereafter, the copper plate was dried in an 80 ° C. oven for 10 minutes and further left in a high temperature and high humidity state of 40 ° C. and 97% RH for 120 hours. Thereafter, the copper plate was taken out, and metal corrosivity was evaluated from appearance changes such as discoloration and deformation according to the following criteria.
A: No change in appearance.
○: Almost no change in appearance.
Δ: Some change in appearance.
X: Significant changes in appearance.
[0062]
(4) Resin corrosion test
The above-described flux cleaning agent was heated to 80 ° C., and a neoprene rubber packing having a thickness of 1 mm was immersed therein, and left for 14 days. Thereafter, the neoprene rubber packing was taken out, and the resin corrosivity was evaluated from appearance changes such as discoloration and deformation in accordance with the following criteria.
A: No change in appearance.
○: Almost no change in appearance.
Δ: Some change in appearance.
X: Significant changes in appearance.
[0063]
[Example 2]
Except that the amount of granular slaked lime used was increased from 10 g to 30 g, the flux cleaning agent was evaluated after carrying out the cleaning step and the contacting step in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.
As can be understood from the results, it is considered that the amount of granular slaked lime used was larger than that in Example 1, but a tendency to further suppress the increase due to the change in the acid value with time was observed. As in Example 1, immediately after the start of the experiment, the acid value tended to decrease from the initial value, but the degree of decrease was somewhat large.
[0064]
[Example 3]
Except that the amount of granular slaked lime used was reduced from 10 g to 3 g, the flux cleaning agent was evaluated after carrying out the cleaning step and the contacting step in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.
As can be understood from the results, it is considered that the amount of granular slaked lime used was smaller than that in Example 1, but a tendency for a slight increase in acid value with time was observed.
[0065]
[Example 4]
Except that the average particle size of the granular slaked lime was changed from 2 mm to 0.1 mm, the flux cleaning agent was evaluated after carrying out the washing step and the contact step in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.
As can be understood from the results, it seems that the average particle size of the granular slaked lime is smaller than that of Example 1 and the contact area with the flux cleaning agent is increased, but the increase in the acid value due to change with time is further suppressed. The tendency was seen.
[0066]
[Example 5]
Except for changing the average particle size of the granular slaked lime from 2 mm to 20 mm, the flux cleaning agent was evaluated after performing the cleaning step and the contact step in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.
As can be understood from the results, the average particle diameter of the granular slaked lime is larger than that in Example 1, and it is considered that the contact area with the flux cleaning agent is decreased. There was a trend.
[0067]
[Examples 6 and 7]
Instead of granular slaked lime, in Example 6, the acid compound adsorbing material was changed to copper (Cu) / solder plate (Pb-Sn), and in Example 7, it was changed to copper (Cu) / nickel plate (Ni). Other than that, the cleaning process and the contact process were performed in the same manner as in Example 1, and then the flux cleaning agent was evaluated. The obtained results are shown in Table 2. As can be understood from these results, since a specific type of metal plate is used, an increase due to a change with time in the acid value tends to be suppressed. Further, unlike granular slaked lime, the acid value did not tend to decrease from the initial value immediately after the start of the experiment.
[0068]
[Examples 8 and 9]
In Example 8, instead of granular slaked lime, magnesium silicate (magnesium silicate, 2MgO.6SiO) was used as the acid compound adsorbing material.2XH2O, average particle size 1.5 mm) Kyowaard 615 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), in Example 9, aluminum silicate (aluminum silicate, Al2OThree・ 9SiO2XH2O, the average particle size is 1.5 mm) The cleaning step and the contact step are performed in the same manner as in Example 1 except that the KYOWARD 115 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) is used. Evaluation of the agent was performed. The obtained results are shown in Table 2.
As can be understood from the results, each has a strong adsorption performance with respect to the carboxylic acid compound, and thus a tendency to suppress an increase in the acid value was observed. Moreover, the tendency for an acid value to fall from an initial value was seen immediately after the experiment start similarly to granular slaked lime.
[0069]
[Example 10]
The flux cleaning agent was evaluated after carrying out the cleaning step and the contacting step in the same manner as in Example 1 except that 0.5% by weight of phenolic antioxidant (BHT) was further added. The obtained results are shown in Table 2.
As can be understood from these results, it seems that the phenolic antioxidant was added even in a small amount, but there was a tendency that the increase in the acid value due to the change with time was slightly small.
[0070]
[Comparative Example 1]
Except not having used granular slaked lime, it implemented the washing | cleaning process and the contact process similarly to Example 1, and implemented the flux cleaning agent. The obtained results are shown in Table 1.
As can be understood from these results, the flux cleaning agent was easily oxidized and deteriorated by bubbling for about 50 hours under a heating state of 100 ° C. because it was not brought into contact with granular slaked lime.
[0071]
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1 except that granular slaked lime is not used, and a phenolic antioxidant (BHT) is added so as to be 0.5% by weight with respect to the total amount of the flux cleaning agent. After performing the contact process, the flux cleaning agent was evaluated. The obtained results are shown in Table 2.
As can be understood from the results, although a large amount of antioxidant is used, it seems that it is not in contact with granular slaked lime, etc., but the flux detergent is about 200 hours under a heating state of 100 ° C. It was easily oxidized and deteriorated by bubbling. Moreover, although it seems that it is because the phenolic antioxidant was added, there was a tendency to noticeably color with the deterioration of the flux cleaning agent.
[0072]
[Table 1]
[Table 2]
【The invention's effect】
According to the method for cleaning an object to be cleaned using the flux cleaning agent of the present invention, a salt forming compound such as granular slaked lime or an acid such as copper (Cu) / solder plate (Pb-Sn) is used for the flux cleaning agent. By including the step of bringing the compound adsorbing material into contact, it was possible to extend the life of the flux cleaning agent while maintaining an excellent cleaning effect without substantially using an antioxidant.
Therefore, according to the cleaning method of the present invention, the amount of antioxidant used for the flux cleaning agent can be reduced as much as possible, so when the flux cleaning agent is recovered by distillation, the residue of the antioxidant, It became possible to solve the problem of coloring.
[0075]
In addition, according to the cleaning apparatus using the flux cleaning agent of the present invention, it is possible to exert an excellent cleaning effect on an object to be cleaned while extending the life of the flux cleaning agent by economical prescription. became.
[0076]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram for explaining a cleaning method using a flux cleaning agent of the present invention (part 1).
FIG. 2 is a diagram for explaining another cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention (part 2).
FIG. 3 is a diagram for explaining a regenerating apparatus for using another cleaning method using the flux cleaning agent of the present invention.
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the bubbling time for the flux cleaning agent and the acid value.
FIG. 5 is a diagram for explaining a coating form of a salt-forming compound.
FIG. 6 is a diagram provided for explaining the form of an acid compound adsorbing material.
FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between dielectric loss and measurement frequency.
FIG. 8 is a diagram showing a change in conductivity in a flux cleaning agent when contacted with a salt-forming compound or the like.
FIG. 9 is a diagram for explaining a conventional cleaning method.
FIG. 10 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of a flux cleaning agent.
[0077]
[Explanation of symbols]
10: Cleaning device
12: Cleaning tank
14: Rinse tank
15: Rinse solution
16: Drying tank
21: Flux cleaner
22: Circulation path
26: Contact device
28: Filter
30: Playback device
102: Flux cleaning agent
106: Filter
108, 114: contact device
124: Circuit
130: Cleaning device
154: Acid compound adsorbing material
170: Salt-forming compound (bag)
190: Salt-forming compound (cartridge)
Claims (8)
（Ａ）アルコール、グリコール化合物、およびグリコール化合物のエーテル化物の少なくとも一つの化合物を主成分としたフラックス洗浄剤であって、その酸価を０．０１〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内の値としたフラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄する洗浄工程(A) A flux cleaning agent mainly comprising at least one of alcohol, glycol compound, and etherified product of glycol compound, the flux having an acid value in the range of 0.01 to 20 mgKOH / g Cleaning process for cleaning objects to be cleaned with cleaning agents
（Ｂ）前記フラックス洗浄剤に対して、(B) For the flux cleaning agent,
平均粒径が０．０１〜２０ｍｍである粒状の塩形成化合物と、 A granular salt-forming compound having an average particle size of 0.01 to 20 mm;
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料、または、前記フラックス用洗浄剤の主成分１００ｇに対して、面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 0.1 to 200 cm in terms of area with respect to 100 g of the granular acid compound adsorbing material made of magnesium oxide or calcium oxide or the main component of the flux cleaning agent. 22 の面積を有するとともに、接触工程を実施するための接触装置中に配置された板状の酸化合物吸着材料と、の両方、あるいは、前記塩形成化合物と、前記酸化合物吸着材料と、のいずれか一方を接触させる接触工程And a plate-shaped acid compound adsorbing material disposed in a contact device for carrying out the contacting step, or both of the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material Contact process to contact one
（ａ）アルコール、グリコール化合物、およびグリコール化合物のエーテル化物の少なくとも一つの化合物を主成分としたフラックス洗浄剤であって、その酸価を０．０１〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内の値としたフラックス洗浄剤により被洗浄物を洗浄するための洗浄槽(A) A flux cleaning agent comprising as a main component at least one of alcohol, glycol compound, and etherified product of glycol compound, the flux having an acid value in the range of 0.01 to 20 mgKOH / g Cleaning tank for cleaning objects to be cleaned with cleaning agents
（ｂ）平均粒径が０．０１〜２０ｍｍである粒状の塩形成化合物と、(B) a granular salt-forming compound having an average particle diameter of 0.01 to 20 mm;
酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムからなる粒状の酸化合物吸着材料、または、前記フラックス用洗浄剤の主成分１００ｇに対して、面積換算で、０．１〜２００ｃｍ 0.1 to 200 cm in terms of area with respect to 100 g of the granular acid compound adsorbing material made of magnesium oxide or calcium oxide or the main component of the flux cleaning agent. 22 の面積を有するとともに、接触装置中に配置された板状の酸化合物吸着材料と、の両方、あるいは、前記塩形成化合物と、前記酸化合物吸着材料と、のいずれか一方を接触させるための接触装置And a plate-like acid compound adsorbing material arranged in a contact device, or a contact for bringing either the salt-forming compound and the acid compound adsorbing material into contact with each other apparatus
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- 2002-10-02 JP JP2002290261A patent/JP3793135B2/en not_active Expired - Lifetime
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