JP3791394B2 - 光導波路基板 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、光導波路基板に係り、詳しくは、マルチモード伝送に用いられる光導波路基板に関する
【0002】
【従来の技術】
光を情報の伝送媒体として利用した光通信技術が広く普及してきている。このような光通信技術においては、光信号を伝送するために、基板上に光導波路が形成された光導波路基板が用いられて、光信号は光導波路に沿って伝送される。ここで、光導波路は屈折率の高いコア層の周囲を屈折率の低いクラッド層で包込んだ構造に形成されて、光導波路の一方端面に臨界角以下で入射した光信号は、コア層とクラッド層との境界で全反射を繰り返しながらコア層内に閉じ込められてコア層の長さ方向に沿って進行して、光導波路の他方端面から出射される。このような光伝送を行う場合、多次光の光信号を伝送するマルチモード伝送が行われている。
【0003】
マルチモード伝送を行う場合、光信号はコア層とクラッド層との境界で大きな角度で全反射を繰り返しながら進行するので、低次モード伝送に比べて単位距離当たりの反射回数が多くなって伝送速度が制約されるので、伝送損失が増大して出射光の出力が低下するという欠点が生ずる。このような欠点を防止するようにした光導波路基板(光信号伝送システム)が、例えば特開2000−39531号公報に開示されている。同光導波路基板は、光導波路の光信号の入射端面に曲凸面部を形成することにより、図19(a)に示すように、その曲凸面部のレンズ効果で平行光に変換した光信号51をコア層52に入射させるようにしたものである。このような光導波路基板によれば、0次モードの光信号のみを平行光として出射させることができるので、出射光の光強度が大きくなって、出力の低下を避けることができるようになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報記載の光導波路基板では、光導波路の入射端面に入射する平行光の入射する方向が傾くと、この傾きに対応した高次モードの光信号が伝送されるようになるので、光信号の伝送特性が変動する、という問題がある。
すなわち、図19(b)に示すように、平行光である光信号51がコア層52の入射端面に角度Gだけ傾いて入射したとすると、この角度Gの傾きに対応した高次モードの光信号が伝送されるようになるので、その分出射される0次モードの光信号の光強度が小さくなる。このような出射光を光変調あるいは光スイッチング処理する場合には、0次モードの光信号が使用されるが、上述したように0次モードの光信号の光強度が小さくなっているので、光信号の伝送特性が変動するようになる。
【0005】
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、光導波路を進行する光信号の伝送特性を安定化することができるようにした光導波路基板を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項1記載の発明は、基板と、該基板面に形成されて、入射される光束の広がりを略平行光に変えて出射させる光路変換手段と、前記基板上に形成されて前記光路変換手段から出射される光束が入射される光導波路とを備えてなる光導波路基板に係り、前記光路変換手段が、前記光導波路の光束入射端に近接した位置に設置された光透過性の樹脂体と、該樹脂体の下面に形成された平面鏡とからなると共に、前記樹脂体が、前記基板面に対して互いに反対向きの角度をなす態様に形成された2つの曲面であって、前記光束が入射される第1の曲面からなる入射面と、前記光束が出射される第2の曲面からなる出射面とを有してなることを特徴としている。
【0007】
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の光導波路基板に係り、前記基板面に平行な光束が前記第1の曲面から前記樹脂体に入射されると、入射された前記光束が前記樹脂体の前記第1の曲面で屈折し、屈折された光束が、次に、下面の前記平面鏡の鏡面で反射され、反射された光束が、前記第2の曲面に達して屈折されて出射され、出射された光束が、前記光導波路に入射するように、前記第1及び第2の曲面の曲率設定されていることを特徴徴としている。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。説明は、実施例を用いて具体的に行う。
◇第1実施例
図1は、この発明の第1実施例である光導波路基板の構成を示す側面図、図2は図1のA−A矢視断面図、図3は図2のB−B矢視断面図、図4は同光導波路基板の動作の原理を説明するための図、図5は同光導波路基板の凹面鏡の設計方法を概略的に示す図、図6は同光導波路基板の動作を説明するための図である。
この例の光導波路基板10は、図1乃至図3に示すように、光源1と、基板2上に形成されて光源1からの入射光の光路を基板2面に垂直方向から水平方向に変換し光束を集光する光路変換手段3と、基板2上に形成されて光路変換手段3から光束が入射されてマルチモード伝送を行う光導波路4とから構成されている。ここで、光源1は例えばレーザダイオード、シングルモード光ファイバー等が用いられ、基板2は内部に銅等から成る配線パターン5が形成されたガラスエポキシ基板、セラミック基板あるいはシリコン基板等が用いられ、光路変換手段3は例えば樹脂体が用いられてこの表面は回転楕円体面12に形成され、また回転楕円体面12の曲面には金属めっきにより凹面鏡9が形成され、光導波路4は屈折率の高いコア層6の周囲を屈折率の低いクラッド層7で包込んだ例えば有機樹脂から成る構造が用いられて接着剤8によって基板2上に形成されている。符号13は楕円体の焦点位置、符号11Aは光束の入射位置である。
【0021】
光導波路4は、予め有機樹脂から成るコア層6の周囲を有機樹脂から成るクラッド層7で包込んだ構造を用意して、これを接着剤8で基板2に固定して形成する。あるいは、基板2上に有機樹脂から成る下クラッド層を接着剤8により固定した後、この下クラッド層上に有機樹脂から成るコア層6を固定し、さらにこのコア層6を包込むように有機樹脂から成る上クラッド層で覆うことにより形成する。あるいは、光導波路4は、コア層6及びクラッド層7として石英ガラスを用いて形成したものを接着剤8により基板1上に固定してもよく、さらには光ファイバを用いてこれを接着剤8により基板1上に固定してもよい。
【0022】
光路変換手段3の凹面鏡9は、光源1からの入射光を反射する反射面として作用して、基板2面に垂直方向に入射してきた光を水平方向に変換させて光束を集光する。光反射面として作用する凹面鏡9は、球面の一部、回転楕円体面の一部あるいは非球面の一部となっている。凹面鏡9を構成する金属めっき材料としては、例えば銅、ニッケル、金等が用いられて、適宜組み合わされて形成される。
【0023】
次に、この例の光導波路基板の構成について、より詳細に説明する。
(1)光源1としては、例えばレーザダイオードを用いて、直径d=10μmの領域からレーザ光束を発光して、その発光位置にビームウエストを存在させるようにする。
(2)光導波路4としては、マルチモード伝送用のものを用いて、そのコア層6の厚さt=50μmとする。
【0024】
ここで、光の伝送モードは以下のように計算される。
光導波路4の伝送モードは、光がコア層6の軸線に対して入射角θにて光導波路4のコア層6に入射され、臨界角θC以下で全反射を繰り返しながら伝送していく過程で、コア層6の長さ方向Xの位相変化の和が2πm(但し、次数m=0、1、2、…)となる条件で形成される。
臨界角θCは、次式で与えられる。
θC=(π/2)−[sin-1(n2/n1)]≒(sin-1(2△)1/2
但し、△:比屈折率差
n1:コア層の屈折率
n2:クラッド層の屈折率
△=(n12−n22)/(2・n12)≒(n1−n2)/n1
【0025】
また、真空中の伝送定数K=2π/λの光が媒体中を、光軸に垂直方向に一往復するときの全位相変化量CHは、次式で与えられる。
CH=(t・n1・K・sinθ+Ψg)・2
但し:t:コア層の厚さ
λ:真空中の光の波長
Ψg:グースーヘンシェンシフト
【0026】
ここで、伝送モードの次数がmの場合に光が伝送する場合の入射角度θは、次式で計算される。
(t・n1・K・sinθ+Ψg)・2=2πm
すなわち、入射角度θに対して、次式1が成立する。
(πm−Ψg)/(t・n1・K)=sinθ …(式1)
また、上記グースーヘンシェンシフトΨgは、次式で与えられる。なお、Ψgはθ≧θCのとき0であり、θ=0のとき−πである。
電界方向が入射面に平行なP偏光に対しては、
tan(Ψg/2)=
−[(cosθ)2・(n1/n2)4−(n1/n2)21/2/sinθ
電界方向が入射面に垂直なS偏光に対しては、
Figure 0003791394
ここで、n1とn2との屈折率差が小さければ、S偏光とP偏光とでほとんど違いがなくなる。
【0027】
S偏光において、式1にグースーヘンシェンシフトの式を代入すると、次式が与えられる。
tan(t・n1・K・sinθ/2−πm/2)=[(2△)/(sinθ)2−1]1/2
このように、光波は任意の伝送角をとることができず、上式を満足するとびとびの伝送角の光のみが伝送可能となる。上式から、
ξ=sinθ/(2△)1/2(但し、(0≦ξ≦1))、及び
v=t・n1・K・(2△)1/2/2、とおくと、次式が得られる。
v=(cos-1ξ+mπ/2)/ξ
ここで、光導波路がシングルモードであるための条件は、m=0だけの解がある場合である。この条件としては、
v<π/2
となることである。したがって、近似的にシングルモードが伝送する条件の次式が得られる。
λ/(2・n1・t)>(2△)1/2=sinθC
これから、n1=1.5として、一例としてλ=1μm、t=50μmを代入すると、上式からシングルモードを伝送するに、△<0.000022が必要になるが、実際にこのような微小の屈折率の調整を行うことは困難であり、一般に△=0.003が光導波路で用いられているn1とn2との比屈折率差である。そのため、△=0.003とする。上述のように、コア層の厚さt=50μmである場合にはマルチモード伝送となる。
【0028】
しかしながら、この場合にも、大きな広がり角度の光の成分が存在しなければ、シングルモードのみ伝送することができる。シングルモードの光伝送が可能な光束の真空中の広がり半角Ω1の限界は、以下の式で計算される。
Ω1=λ/(2t)
光束がこの角度(Ω1)の広がり半角以下の成分だけならば、シングルモード伝送になる。一例として波長λ=1μmにして、光導波路のコア層の厚さt=50μmに設定すると、この場合は、Ω1=0.6度=0.01rad(radian)になる。
【0029】
光導波路に入射する光束の真空中の広がり半角(Ω)をλ/(2t)以上に設定すると、より高次モードの光も伝送する。伝送可能なモード範囲がm次までの光束の広がり半角(Ω2)は、次式2で表される。
Ω2=(m+1)λ/(2t) …(式2)
【0030】
図5は、X方向に沿って進み、X=0の位置で最小のビーム径に絞り込まれるレーザ光束11を示す図である。このレーザ光束11の真空中での座標位置(X、Z)での光強度Iの分布は、以下の式で表される。
Figure 0003791394
この式で、dは最小ビーム径と呼ばれる。光束が最小に絞り込れるX=0の位置(ビームウエストの位置)で、Z=d/2の位置における光強度Iは、Z=0の位置における光強度のexp(−2)の比で弱くなる。また、この最小ビーム径dの範囲内の光エネルギーは95%程度である。上式は、Zが十分に大きい位置では、以下の式で表される。
I∝exp[−2{(πd/(2λ))・Z/X}2]/X2
この式で、以下の式3の光成分の広がり角Ω3を満たす位置の光強度は、同じXの値でX=0となる光束の中心位置の光強度に対してexp(−2)の比で弱くなる。
Ω3=Z/X=(2λ/(πd)) …(式3)
この位置までの光束の直径(Z・2)がビームの直径として定義される。
また、レーザ光の強度の角度分布は、Ω3=Z/Xの関数として表される。
ここで、レーザ光の広がり角度範囲はΩ3程度のガウス分布であり、また、0次光の広がり角度範囲は角度の範囲がΩ1程度のガウス分布である。
【0031】
光導波路に入射レーザ光束の中心軸が0次光の中心軸の方向から偏向する角度ずれCがある場合に、レーザ光束が0次光に光エネルギーを供給する量は、入射光の角度分布と0次光の角度分布の積の積分に比例するとして計算する。その結果、伝送光に角度ずれCがある場合の0次光の光量のバラツキRは、以下の式で表わされる。
R=1−exp(−2・C2/(Ω12+Ω32))
また、光が角度Ω2で光導波路の光軸から傾いて伝送する成分を有する場合は、光の伝送時間のバラツキBは、以下の式で表わされる。
B=(1/cos(Ω3)−1)
先に、Ω1=0.6度と計算したが、その場合に、光束方向の角度づれCが0.6度程度ある場合に、Ω3の値による光量割合と、光伝送速度を計算し、以下の表1に示す。また、式2により、その広がり半角Ω2の光束が光導波路中に伝送可能なモードの次数を計算して併記する。
【0032】
【表1】
Figure 0003791394
【0033】
表1から明らかなように、光導波路に入射させるレーザ光束の広がり半角Ω3が1.2度以上で2.4度以下の光束が、0次光のバラツキ(R)を少なくできる。また、伝送時間のバラツキ(B)も0.1%以下であるため、略40cmの寸法の基板に略40cmの長さの光導波路で屈折率が略1.5の光導波路に光を伝送する場合、伝送時間が略2n秒で略0.1%が2p秒以内のバラツキに留まるので、略50GHzまでのパルス信号を伝送することができ、伝送時間のバラツキが少なくなる。このため、広がり半角(Ω3)は略2.4度以内に制限することが好ましい。この発明では、この範囲の広がり角度のレーザ光束をコア層の厚さtが50μmのマルチモード光導波路に入射させる。この場合に、0次モードから3次モード以内の光伝送を行う。また、コア層の厚さtが100μmの場合の計算結果を表2に示す。
【0034】
【表2】
Figure 0003791394
【0035】
表2から明らかなように、この場合も、光導波路へ入射させるレーザ光束の広がり角度(Ω3)を1.2度から2.4度の範囲に設定することが好ましい。また、コア層の厚さtが100μmの場合は、Ω1=0.3度になるが、光路の角度ずれCが0.6以下の場合、例えばCが0.3度以内にできる場合は、光導波路へ入射させるレーザ光束の広がり角度Ω3は0.6度から1.2度の範囲に設定し、0次光のバラツキRを33%から11%以内に抑えることもできる。この場合は、レーザ光束の広がり角度Ω3は0.6度から1.2度の範囲に設定することが好ましい。
【0036】
0次光のバラツキRが少ないために好ましい条件は、次式のように表わされる。
Ω3≧(5C2−Ω121/2
上式から明らかなように、光導波路において、光路の角度ずれCが0次モードの広がり半角Ω1以上ある場合に、光導波路へ入射させるレーザ光束の広がり半角Ω3を角度ずれCの範囲の2倍以上の角度とすることが望ましい。
【0037】
(3)凹面鏡は、回転楕円体の曲面の凹面に金属めっきにより鏡面を形成した凹面鏡を用いる。
前述したように、光路変換手段3の凹面鏡9は、回転楕円体面12の焦点位置13から発した光が凹面鏡9の鏡面で反射し、略直角に進路を変えるように反射面を設計する。以下、図4を参照して、凹面鏡9の設計について具体的に説明する。
回転楕円体面12の長径=2a、回転楕円体面12の短径=2bとすると、焦点位置13は、回転楕円体面12の中心から(a2−b21/2の位置にある。
この凹面鏡9から焦点位置13までの距離は、
Le1=[2(a2−b2−a(a2−2b21/2)]1/2 …(式5)
Le2=[2(a2−b2+a(a2−2b21/2)]1/2
となる。また、図4において、座標(x、y)は、次のように表される。
x=−a(a2−2b21/2/(a2−b21/2
y=−b2/(a2−b21/2
また、この凹面鏡9により形成される像の拡大率Lは、次式で表わされる。
L=[(a2−b2+a(a2−2b21/2]/b2
【0038】
一方、光束の広がり角度Ω2はその逆に、その比で小さくなる。また、常に、a/b=21/2とする必要がある。 一方、拡大率Lによりa/bは、次式で表わされる。
a/b=(1+L)/(2L)1/2
【0039】
この発明においては、光導波路4のコア層6に入射させる光束は、コア層の厚さtの領域で制限され平行光束が干渉により生ずる光束の広がり角度の2倍から4倍の広がり角度の光束を入射させる。このための条件として、光源の直径deは、式3を用いると、次式で表わされる。
L=d/de=[4/(m+1)π]t/de
また、凹面鏡の光束が投影される寸法は、光線の光軸に垂直な方向の寸法Wは、式3に光源の直径deを代入し、得られたビーム半角Ωに式5の距離を掛け算してその値を2倍すれば、光量が1/e2までの、光束の範囲の直径(W)が得られる。寸法Wは次式で表わされる。
W=(de2+da2) …(式6)
da=4λ/(πde)・Le1 (式7)
【0040】
ここで、具体例として、光導波路のコア層の厚さt=50μm、光源の直径de)=10μm、そして、包含する光伝送モードの次数m=3とする場合は、式4から、光導波路内に投影するレーザ光束のビーム直径はコア層の厚さtの32%に、すなわち16μmにする必要がある。こうするための拡大率は、L=1.6倍となる。
この場合、(a/b)=1.45と計算される。すなわち、凹面鏡は長径が短径の1.45倍の回転楕円体面とした凹面鏡を用いる必要がある。また、この場合には、式5及び式7から、
Le1=1.1b(Le2=1.8b)
da=1.4λb/de
となる。
ここで、de=10μm、λ=0.85μm、b=0.4mm(a=0.58mm)とすると、凹面鏡から光源までの高さLe1=0.44mmとなり、また、da=48μmとなる。
【0041】
以上により、式6から、凹面鏡の光線の光軸に垂直な方向に必要とする寸法Wは、W=49μmと計算され、凹面鏡の寸法は縦、横及び高さ寸法がそれぞれ49μm以上の寸法が必要となり、略100μmの寸法があればこの凹面鏡を収納できる十分な大きさとなる。
また、この場合に、凹面鏡面の真上に距離Le1=0.44mmの位置、すなわち回転楕円体面の第1の焦点位置に発光源を設ける。このとき、光束は凹面鏡で垂直方向に反射され、凹面鏡面から水平方向の距離Le2=0.72mmの位置、すなわち、回転楕円体面の第2の焦点位置に光束が集光する。この場合は、この凹面鏡の焦点距離は0.27mmである。
その第2の焦点位置でのビーム直径d=16μmである。この光束のビーム径は、凹面鏡位置で49μmであり、それが焦点位置Le2で16μmに絞り込まれる。光導波路のコア層の厚さtは50μmあり、その間のどの位置の光束のビーム径よりも大きいため、光導波路の光束入射端は、その間のどの位置に設けてもよい。凹面鏡と光導波路の位置合わせを容易にするため、凹面鏡の近くに光導波路の光束入射端を設ける。
【0042】
また、発光素子に発光光束の方向を偏向する面発光素子を用い、光導波路へ入射する光路の光導波路の0次光の方向からずれ角度Cを少なく調整するようにし、凹面鏡により光導波路へ集光する光の入射方向を調整するようにすることが好ましい。そうすれば、光路のずれ角度Cを小さく調整することができるため、光導波路への入射光の広がり角度Ω3をより小さく設計でき、光導波路へ入射する光線のモード数を少なくできるからである。
また、図2に示したように、複数の平行する光導波路に対応し複数の凹面鏡が一体になった凹面鏡を用い、複数の光源からの光をそれぞれに対応した凹面鏡で折り返し、複数の平行する光導波路に導く場合には、以下のように設計する。
【0043】
すなわち、図2に示したように、光導波路4の入射端面での反射光が光路を逆戻りすることを防ぐため、平行する光導波路4の入射端面を光導波路4のコア層6のパターンの光路に垂直方向から角度δ=8度程度傾けるようにする。一方、光導波路4の入射端面は複数の凹面鏡9の並びの方向に平行にし複数の凹面鏡9と光導波路4との位置を合わせる。光導波路4の光路方向に光を導くため、入射端面に垂直方向から12度傾いた光線を光導波路4の入射端面に入射する。
このように、12度の傾きがある光線は、凹面鏡群の鏡面の回転楕円体面12の軸の向きを12度傾けて必要な光線の方向に向けることで実現できる。あるいは、凹面鏡9の回転楕円体面12の軸方向は凹面鏡群の並びの方向に垂直に設定し、一方、その凹面鏡9に入射させる光線の位置を、凹面鏡9の入射側の焦点位置からずらすことで、凹面鏡9からの出射光の方向の凹面鏡9の光軸から12度傾けて出射させるようにしてもよい。
【0044】
このようにこの例の構成によれば、光導波路4の入射端面に垂直な方向から12度の傾きで入射した光はその入射面で屈折し入射端面に垂直な方向から8度傾きのコア層6のパターンの光軸方向に進むので、その光路方向を、光導波路4のコアパターンの方向とすることができる。この入射端面は入射光に対して垂直ではないため、この入射面からの反射光が光路を逆行するのを防止することができる。
このマルチモード光導波路に入射した平行光束14は、図6に示すように、マルチモード光導波路の光の伝送モードのうち、主にm=0の0次モードから、m=3の3次モードの光成分を含み、モードの数が少ないため、シングルモードに近い光信号の伝送が行われる。それゆえ、光信号を高速で伝送することができるようになる。また、m=0〜3の伝送モード、すなわち0次モードよりも高いモードを包含するように光の角度成分に広がりがあるため、光の方向のずれがある場合でも、光の角度成分の広がりの範囲が0次モードの方向から1次モードの方向までを含み、光導波路への入射光の向きのずれが生じた場合も0次モードの光強度が大きく変動することがなくなる。
したがって、光導波路を進行する光信号の伝送特性を安定化することができるようになる。
【0045】
◇第2実施例
図7は、この発明の第2実施例である光導波路基板の構成を示す側面図、図8は図7のC−C矢視断面図である。この第2実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、光導波路のコア層の入射面を接着剤で被覆するようにした点である。この例の光導波路基板15は、図7及び図8に示すように、光路変換手段3は、樹脂体16の曲面に金属膜から成る凹面鏡9が形成され、凹面鏡9は他の樹脂体18により覆われ、樹脂体18の上面は基板2面に対して5乃至20度傾けられている。これは、光源1からの光が樹脂体18の表面で反射して光源1に逆戻りするのを防止するためである。また、光路変換手段3の樹脂体18と光導波路4との間の空間にはコア層6と略同じ屈折率の接着剤19が充填されている。このように光導波路4の入射面を接着剤19で被覆することにより、光の表面反射がなくなるので、光導波路4の入射面を光路に垂直方向から傾ける必要がなくなる。すなわち、第1実施例の図2で示したように、角度(δ)の設定は不要になる。
【0046】
上述したように、凹面鏡9を2つの樹脂体16、18の間に埋め込むように形成するので、凹面鏡9の強度を確保するために金属膜をめっきで形成しないで、蒸着で形成しても、損傷から保護されるので、低コストで曲面鏡を形成することもできる。また、この例では、凹面鏡9で反射することで集光して光導波路4内に出射する光の広がり角度としては、第1実施例と略同様に、複数の光伝送モードを伝達する広がり角度を持たせるようにする。なお、図7及び図8において、図1及び図2の構成部分と対応する各部には、同一の番号を付してその説明を省略する。
【0047】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、光導波路のコア層の入射面が接着剤で被覆されて表面反射が防止されているため、光導波路の入射面を光路に垂直方向から傾ける必要がなくなる。
【0048】
◇第3実施例
図9は、この発明の第3実施例である光導波路基板の構成を示す側面図、図10は図9のD−D矢視断面図、図11は同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。この第3実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、光路変換手段が光路を折り返す鏡面を平面とし、複数の並列な光路変換手段を一体に設置する場合に、それらの光路変換手段に共通する面で折り返し鏡を形成し、各光束を凸の球面の表面を有する樹脂体を通過させるようにし、かつ、光束をその凸の球面の中心位置からずらした位置を通過させ、それにより光束を、複数の光路変換手段の並びの方向に入射面を有する光導波路群の入射面に垂直な方向から傾けた光導波路群に入射させるようにした点である。
この例の光導波路基板20は、図9及び図10に示すように、光導波路4は、そのコア層6がクラッド層7よりも略0.3%屈折率が高く設定して形成されている。また、光路変換手段3は、光導波路4に近接配置された樹脂体21が形成され、樹脂体21の光導波路4側の表面は複数の平行する光導波路4に対応する複数の球面22に形成され、樹脂体21には光源1からの光を反射する平面鏡23が形成されて、この平面鏡23は複数の光導波路4に共通の1つの面にされている。球面22は球面レンズを構成している。平面鏡23は樹脂体21に蒸着された金属膜により形成され、この平面鏡23は充填樹脂体24により被覆されている。また、樹脂体21の上面は基板2面に対して8乃至20度傾けられている。これは、光源1からの光が樹脂体21の表面で反射して光源1に逆戻りするのを防止するためである。樹脂体21の上部には、樹脂体21の高さを光導波路4の上面を基準に合わせる突き当て部25を有している。この突き当て部25は、樹脂体21と光導波路4との間の空間を上側から覆う構造にする。
【0049】
樹脂体21を基板2上に設置し、基板2上方の光源1の光束11を樹脂体21に入射させ、その光束を平面鏡23で折り返して、最後に球面22の出射面で屈折させて光導波路4に導く。その樹脂体21が集光して光導波路4内に出射する光の広がり角度としては、第1実施例の略同様に、2あるいは3の光伝送モードを伝達する広がり角度を持たせる。また、図10に示すように、光導波路4の入射端面は、光導波路4のコア層6の光路に垂直な面から略8度傾けた面を形成する。そして、光導波路4の入射端面に入射させる光は、光導波路4の入射端面の垂直方向から略12度傾けて入射させる。また、この複数の光導波路4の入射端面に垂直方向に樹脂体21の球面22の光軸17を向ける。
【0050】
図11は、図10の球面22から構成される球面レンズの部分を示す図である。以下、図11を参照して詳細に説明する。まず、樹脂体21内の光束は、その球面レンズの光軸に平行に、光軸位置からは変位させた光路を進ませ、球面レンズの中心から、光軸からY方向に角度ε=22度の位置で樹脂体21の外に出射させるようにする。樹脂体21の屈折率は、例えば1.5とする。この場合は、樹脂体21から出射した光束はレンズ面で屈折されるためレンズの光軸から略12度傾いて出射される。その光束を光導波路4の端面に照射して、コア層6の光路に導入する。
【0051】
ここで、球面レンズの曲率半径(n)を140μmとして、Y方向では直径200μmの凸部を成す球面部を樹脂体21から突出させる。基板2面方向(Z方向)では、幅が略100μmで球面の切片を形成する。また、この球面レンズの曲面の形状はレンズの収差を補正した非球面に形成してもよい。
光源1からこの球面レンズの面までの距離を略0.44mmに設定すると、第1実施例と略同様に、レーザ光束は球面レンズ部分で略50μmのビーム径となる。そして、そのレーザ光が光導波路4の入射端面に照射される。
【0052】
上述したように、光導波路4側の樹脂体21表面を球面22としたので、この樹脂体21表面で反射する光線が光路を逆行するのを防止することができる。また、複数の平行する光導波路4の入射面を光導波路4の光軸17に垂直な面から傾けることで光導波路4の入射端で反射する光線が光路を逆行するのを防止することができる。その際に、樹脂体21の出射面に形成した球面22から構成される球面レンズの光軸位置から平行移動した光を出射させることで、光束の出射方向を光軸から傾けることができる。これにより、複数の光導波路4に対し樹脂体21が同じように光束を出射すると同時に、光導波路4の入射端面からの反射光に光路を逆戻りさせることがなくなる。
【0053】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、光導波路の入射端で反射する光線が光路を逆行するのを防止することができる。
【0054】
◇第4実施例
図12は、この発明の第4実施例である光導波路基板の構成を示す側面図、図13は図12のE−E矢視断面図、図14は同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。この第4実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、樹脂体の上面に球面レンズを設置し、その球面レンズに光束が入射する位置を球面レンズの光軸からずらした位置に設定した点と、前述の第2実施例と同様に、樹脂体と光導波路との間に光導波路のコア層と略同じ屈折率の接着剤を充填することができるようにした点である。
この例の光導波路基板30は、図12及び図13に示すように、光導波路4は、そのコア層6がクラッド層7よりも略0.3%屈折率が高く設定して形成されている。また、光路変換手段3は、光導波路4に近接配置された樹脂体26が形成され、樹脂体26の上面は複数の平行する光導波路4に対応する複数の球面27に形成され、樹脂体26には光源1からの光を反射する平面鏡23が形成されて、この平面鏡23は複数の光導波路4に共通の1つの面にされている。球面27は球面レンズを構成している。平面鏡23は樹脂体26に蒸着された金属膜により形成され、この平面鏡23は充填樹脂体24により被覆されている。
【0055】
樹脂体26を基板2上に設置し、基板2上方の光源1の光束を樹脂体26に入射させ、その光束を平面鏡23で折り返して、最後に球面27の出射面で屈折させて光導波路4に導く。その樹脂体26が集光して光導波路4内に出射する光の広がり角度としては、第1実施例の略同様に、2あるいは3の光伝送モードを伝達する広がり角度を持たせる。また、図13に示すように、光導波路4の入射端面は、光導波路4のコア層6の光路に垂直な面から略8度傾けた面を形成する。そして、光導波路4の入射端面に入射させる光は、光導波路4の入射端面の垂直方向から略12度傾けて入射させる。
【0056】
図14は、図13の樹脂体26を正面から見たYZ断面における球面27から構成される球面レンズの部分を示す図である。以下、図14を参照して詳細に説明する。まず、球面27が平面から角度ε=24度の傾きを成す部分に光源1から出射された光束11を入射させる。樹脂体26の屈折率は、例えば1.5とする。
この場合、光束11は球面27で屈折し、樹脂体26中にZ軸方向からY方向に略8.3度傾いた方向に進む。この光束を平面鏡23で略垂直に反射させると、反射した光束11はX軸方向からY方向に略8.3度傾いた方向に進む。この光束11は樹脂体26の出射面から外に出射すると、X軸方向からY軸方向に略12.5度傾いて進む。この光束11を光導波路4の入射面に導く。
【0057】
ここで、球面レンズの曲率半径(n)を140μmとして、Y方向では直径200μmの凸部を成す球面部を樹脂体26から突出させる。基板2面方向(X方向)では、幅が略100μmで球面の切片を形成する。また、この球面レンズの曲面の形状はレンズの収差を補正した非球面に形成してもよい。
また、樹脂体26と光導波路4との間に第2実施例と略同様に、樹脂体26と光導波路4のコア層6と略同じ屈折率の接着剤を充填することも可能である。
【0058】
上述したように、樹脂体26の上面を球面27から構成される球面レンズに設定し、そこに光束11が入射する面を光源1からの光束11の方向の垂直な面から略24度傾けたため、樹脂体26表面で反射した光束11が光源1に逆戻りするのを防止することができる。
【0059】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、樹脂体表面で反射した光束が光源に逆戻りするのを防止することができる。
【0060】
◇第5実施例
図15は、この発明の第5実施例である光導波路基板の構成を示す側面図、図16は同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。この第5実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、樹脂体と平面鏡の構造を単純化するようにした点である。
この例の光導波路基板35は、図15に示すように、光路変換手段3は、光導波路4に近接配置された樹脂体28が形成され、樹脂体28の上面28Aは基板2面から角度α傾けられ、樹脂体28の下面には光源1からの光を反射する平面鏡23が形成され、樹脂体28の光出射面はレンズの軸が基板2面から傾けられた球面29から構成された球面レンズが形成されている。このように球面レンズを形成することにより、球面レンズの面は、基板2面上にオーバーハングが存在しないように工夫されている。このようにする理由は、樹脂体28を型で成型する際に、型からの剥離を容易にするためである。
【0061】
その樹脂体28の各面が基板2面に対して成す角度は、基板2面に垂直方向の光が樹脂体28に入ると、(1)光線が樹脂体28の上面28Aで屈折し、(2)樹脂体28の下面の平面鏡23の鏡面で上方に反射し、(3)その光線が樹脂体28の上面28Aで全反射して側方に進み、(4)その光が球面29から構成される球面レンズで屈折されて出射される。その出射方向が基板2面に平行な方向になる。そのように、各面の傾き角度を定める。また、出射面に形成した球面レンズで光を集光するようにする。
【0062】
図16は、図15の樹脂体28を拡大して示す図である。以下、図16を参照して詳細に説明する。樹脂体28の屈折率(n)を、略1.5として、樹脂体28の出射部の球面レンズの曲率半径(r)を140μmとする。樹脂体28の球面の曲率中心点(O)は平面鏡23の鏡面より下側に設定する。ここでは、曲率中心点(O)を鏡面の高さと同じに設定する。また、光導波路4のコア層6に入射する光線位置を鏡面の位置の上方の高さ(h)を略50μmに設定する。これによって、球面の曲率中心点(O)と出射点(E)とを結ぶ線が基板2面と成す角度(α)は、arcsin(h/r)=21度(=0.367rad)になる。また、樹脂体28内から出射点(E)まで向かう光線が基板2面から成す角度(δ)はarcsin(h/r)−arcsin(h/nr)=7.1度となる。そして、樹脂体28内で平行に上下に進む光は樹脂体28の外で、r・cos(δ)/(n−1)の位置に焦点を結び、平行に左右に進む光は樹脂体28の外の他の距離の位置に焦点を結ぶ。それらの焦点位置は樹脂体28から略r/(n−1)=280mmの位置にある。
【0063】
一方、樹脂体28への入射面が基板2面と成す角度(β)が与えられると、樹脂体28の下の鏡面で反射し樹脂体28の上面で全反射して進む光線は基板2面から成す角度(δ)=3β−arcsin(sinβ/n)−π/2(rad)となり、これが7.1度=0.124radになるには、β=41度となる。曲率中心点(O)が樹脂体28への入射面上にある特殊な場合には、その入射面が出射部の球面と交差する最上位置(F)は鏡面の上方の高さ91μmの位置にある。光源からこの球面位置までの距離を略0.44mmに設定すると、レーザ光束11は球面部分から略770mm先の位置で収束され、集光位置13でのビーム直径は略18μmに絞り込まれ、第1実施例と略同様な光束変換を行うことができる。
【0064】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、樹脂体と平面鏡の構造が単純化されるので、製造が容易になる。
【0065】
◇第6実施例
図17は、この発明の第6実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。この第6実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、光源からの光束が基板面に平行に入射する場合に対応し、かつ、樹脂体の構造を単純化するようにした点である。
この例の光導波路基板40は、図17に示すように、光路変換手段3は、光導波路4に近接配置されたピラミッド状の樹脂体31が形成され、樹脂体31は光源1側及び光導波路4側にそれぞれ曲面32、33が形成されて、曲面32が光源1からの光を入射する一方、曲面33が樹脂体31の下面の平面鏡23で反射された光を光導波路4に出射するように構成されている。
【0066】
光源1からの光は曲面31に入射すると、平面鏡23で反射され、さらに曲面33で屈折されて基板2面に平行な光となって出射されて、光導波路4に入射される。このようなピラミッド状の樹脂体31は、型などを利用して容易に形成できるので、光束集光機能を有する光導波路基板を容易に形成することができる。
【0067】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、樹脂体の構造が単純化されるので、製造が容易になる。
【0068】
◇第7実施例
図18は、この発明の第7実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。この第7実施例の光導波路基板の構成が、上述の第1実施例のそれと大きく異なるところは、光路変換手段の焦点距離よりも十分大きな焦点距離の光路調整板を光源と光路変換手段との間に設置し、その光路調整板の位置を基板面に平行に移動可能にして光束位置を微調整できるようにした点である。
この例の光導波路基板45は、図18に示すように、光路変換手段3を構成する凹面鏡37と光源1との間に、基板2面に平行に移動可能となるように設置された光路調整板36を備えている。この光路調整板36は、まず光源1を凹面鏡37を固定した基板2に位置合わせして設置した後に、光源1と凹面鏡37との間に設置する。
【0069】
光路調整板36は、基板2上の設置位置を微調整することにより、光導波路4に入射する光路の光導波路4の0次光の方向からずれ角(C)を少なくなるように調整し、凹面鏡37により光導波路4へ集光する光の入射方向を調整することで光路のずれ角(C)を小さく調整し、光導波路4への入射光の広がり角度をより小さく設計し、光導波路に入射する光線のモード数を少なくする。
【0070】
光路調整板36は、片面の曲率半径が略1.4mm、直径が略400μm、厚さが略14μmから成る凸部を成す凸レンズ状に形成される。この凸レンズの焦点距離は略2.8mmであり、凹面鏡37の焦点距離が実施例1程度の略0.27mmであるのに比して、略10倍の値を有している。したがって、この光路調整板36を光導波路4面上を移動させることで位置を調整すれば、光導波路4のコア層6に入射する光束の方向を微調整し、光束の光導波路4への入射方向の狂いを少なくすることができる。このように、光路を微調整した後に光路調整板36を基板4に固定する。
また、光導波路4のコア層6のパターンの断面の寸法が7μmのシングルモードの光導波路の場合に対しても、光路調整板36により光束の方向を調整することで、コア層のパターンの断面に光束を位置合わせすることができる。
【0071】
このように、この例の構成によっても、第1実施例において述べたのと略同様の効果を得ることができる。
加えて、この例の構成によれば、光路調整板を光路の方向調整に用いたことで光路を微調整できるので、光束を光導波路のコア層に正確に導くことができ、特に光導波路がマルチモード光導波路である場合のみならず、シングルモードの光導波路に対して適用しても有効となる。
【0072】
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更などがあってもこの発明に含まれる。例えば、各実施例では光路変換手段及び光導波路を基板上に形成する例で説明したが、光路変換手段及び光導波路は基板内に埋め込むように形成してもよい。また、基板は内部に配線パターンが必ずしも形成されている必要はない。また、光路変換手段を樹脂体により構成する例について説明したが、樹脂体に限らず光透過性を有しているものであれば、絶縁材料全般を用いることができる。
【0073】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の光導波路基板の構成によれば、マルチモード光導波路の光の伝送モードのうち、m=0の0次モードから、m=3の3次モードの光成分のみを含むので、モードの数が少ないため、シングルモードに近い光信号の伝送が行われ、光信号を高速で伝送することができるようになる。したがって、光導波路を進行する光信号の伝送特性を安定化することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図2】図1のA−A矢視断面図である。
【図3】図2のB−B矢視断面図である。
【図4】同光導波路基板の動作の原理を説明するための図である。
【図5】同光導波路基板の凹面鏡の設計方法を概略的に示す図である。
【図6】同光導波路基板の動作を説明するための図である。
【図7】この発明の第2実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図8】図7のC−C矢視断面図である。
【図9】この発明の第3実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図10】図9のD−D矢視断面図である。
【図11】同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。
【図12】この発明の第4実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図13】図12のE−E矢視断面図である。
【図14】同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。
【図15】この発明の第5実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図16】同光導波路基板の主要部の構成を概略的に示す図である。
【図17】この発明の第6実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図18】この発明の第7実施例である光導波路基板の構成を示す側面図である。
【図19】従来の光導波路基板の欠点を説明する図である。
【符号の説明】
1 光源
2 基板
3 光路変換手段
4 光導波路
5 配線パターン
6 コア層
7 クラッド層
8 接着剤
9、37 凹面鏡
10、15、20、30、35、40、45 光導波路基板
11 レーザ光束
11A 光束の入射位置
12 回転楕円体面
13 回転体の焦点位置
14 平行光束
16、18、21、26、28、31 樹脂体
22、29 球面
23、27 平面鏡
24 充填樹脂体
25 突き当て部
32、33 曲面
36 光路調整板

Claims (2)

  1. 基板と、該基板面に形成されて、入射される光束の広がりを略平行光に変えて出射させる光路変換手段と、前記基板上に形成されて前記光路変換手段から出射される光束が入射される光導波路とを備えてなる光導波路基板であって、
    前記光路変換手段は、
    前記光導波路の光束入射端に近接した位置に設置された光透過性の樹脂体と、
    該樹脂体の下面に形成された平面鏡とからなると共に、
    前記樹脂体は、前記基板面に対して互いに反対向きの角度をなす態様に形成された2つの曲面であって、前記光束が入射される第1の曲面からなる入射面と、前記光束が出射される第2の曲面からなる出射面とを有してなることを特徴とする光導波路基板。
  2. 前記基板面に平行な光束が前記第1の曲面から前記樹脂体に入射されると、入射された前記光束が前記樹脂体の前記第1の曲面で屈折し、屈折された光束が、次に、下面の前記平面鏡の鏡面で反射され、反射された光束が、前記第2の曲面に達して屈折されて出射され、出射された光束が、前記光導波路に入射するように、前記第1及び第2の曲面の曲率設定されていることを特徴とする請求項記載の光導波路基板。
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