JP3771099B2 - グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法 - Google Patents

グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3771099B2
JP3771099B2 JP2000009073A JP2000009073A JP3771099B2 JP 3771099 B2 JP3771099 B2 JP 3771099B2 JP 2000009073 A JP2000009073 A JP 2000009073A JP 2000009073 A JP2000009073 A JP 2000009073A JP 3771099 B2 JP3771099 B2 JP 3771099B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
sheet
wiring
manufacturing
binder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000009073A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000281450A (ja
Inventor
康博 菅谷
修 井上
純一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2000009073A priority Critical patent/JP3771099B2/ja
Priority to EP00101365A priority patent/EP1024529A3/en
Priority to US09/492,781 priority patent/US6521069B1/en
Publication of JP2000281450A publication Critical patent/JP2000281450A/ja
Priority to US10/330,159 priority patent/US6696139B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3771099B2 publication Critical patent/JP3771099B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4803Insulating or insulated parts, e.g. mountings, containers, diamond heatsinks
    • H01L21/481Insulating layers on insulating parts, with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4857Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24926Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including ceramic, glass, porcelain or quartz layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、チップサイズパッケージ等に用いる多層配線基板ならびに両面配線基板の製造方法や、これら多層配線基板や両面配線基板の製造に適したグリーンシートや、グリーンシートの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、低温焼結ガラス多層配線基板の開発によって、配線抵抗の小さい低融点金属(金、銀、銅、銀パラジウムまたはそれらの混合物)を、多層配線基板の導体材料として用いることができるようになった。
【0003】
しかしながら、このような多層配線基板においては、通常、基板材料であるグリーンシート(セラミックと有機バインダーとを主成分としている)が焼結によって10〜20%体積収縮してしまううえ、焼結に際にして各方向に必ずしも均一に収縮しない。そのため、寸法精度の低下が生じて歩留まりを下げていた。
【0004】
このような体積収縮率のばらつきは、例えば、特願平03−257553号に例示されるように、次のようにして低減することができる。すなわち、グリーンシートの上面及び下面に難焼結性のグリーンシートを積層したううえでその積層体を焼結することにより、厚み方向のみ収縮してX−Y平面にはほぼ無収縮にし、これにより上記ばらつきを低減する。
【0005】
このような無収縮工法を用いると、体積収縮率のばらつきを抑えることができるうえにグリーンシートと金属箔配線等の導体配線とを同時焼成することが可能となる。
【0006】
上記無収縮焼結工法では、主として配線の形状に導体ぺーストを印刷形成したうえで、グリーンシートを焼成処理する際などにおいて同時に焼成することで配線を形成している。
【0007】
しかしながら、導体ペーストを用いた配線の形成方法を、上記無収縮焼結工法に採用すると、X−Y方向に収縮しないグリーンシート積層体が、導体ペーストの焼結を妨げてしまい、そのために、配線の導体抵抗値が高くなるという不都合がある。
【0008】
このような問題を解決するために、配線として金属箔を用い、グリーンシートに金属箔の配線を形成したのち、グリーンシートを積層して焼成することが試みられている。
【0009】
金属箔の配線をグリーンシートに形成する方法としては、特開平10−242644号に例示されるように、熱剥離シートを用いた転写法が考えられる。しかしながら、この転写法では、熱剥離シートに貼り付けた金属箔に対してウエットエッチングを施してパターニングするようになっているが、ウエットエッチングに用いられるエッチング液に対して熱剥離シートが耐久性を備えていないために、転写法でグリーンシート上にパターンを形成することは実質的に困難であった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本願出願人は、ウェットエッチング法を用いたサブトラクティブ法により、金属箔をグリーンシートに直接パターン形成することで配線を形成することを考えた。しかしながら、ウェットエッチング法では、金属箔をパターン形成することはできるものの、そのときに用いるエッチング液によりグリーンシートがダメージを受けてしまい、グリーンシートを緻密に焼結することができないという課題があった。
【0011】
本発明は、上述した課題を考慮して、耐エッチング性を有するグリーンシートの提供を目的としている。
【0012】
また、上記グリーンシートを用いて、配線抵抗の低い多層配線基板を提供することをさらなる目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために、セラミック原料粉末とバインダーとを含み、前記バインダーは、極性基のないアクリル樹脂を含んでグリーンシートを構成した。
【0014】
【発明の実施形態】
本発明の請求項1に記載の発明は、セラミック原料粉末とバインダーとを含み、前記バインダーは、メタクリル酸系アクリル樹脂を主成分とし、かつ、極性基のないアクリル樹脂を前記バインダーに対して重量比10%以上ないし重量比50%以下含むものであり、シート表面に表面が粗化処理された実質的に空孔を有さない金属箔導体層を設けることを特長とする耐エッチング性を有しており、これにより次のような作用を有する。すなわち、極性基のないアクリル樹脂を含むことによって良好な耐水性を有しているため、金属箔導体ともどもグリーンシートをエッチング液に浸積させて配線パターン形成を行うサブトラクティブ法を採用してもグリーンシートにダメージを与えることはない。従って、グリーンシート上に金属箔からなる配線を確実に形成することができる。
【0015】
また、バインダーがメタクリル酸系アクリル樹脂を主成分として構成されていることから、熱分解性が良好となり、非酸化雰囲気での脱バインダーが可能となる。そのため、例えば銅導体配線との同時焼成を実現することができる。
【0016】
また、エッチング液への浸漬に十分耐えうる耐水性を発揮できる。
【0017】
また、基板材料として十分なるシート強度を得ることができる。
【0018】
また、実質的に空孔を有さない導体で構成された導体層は焼結を必要としない。そのため、このグリーンシートを用いて無収縮焼結工法で多層配線基板を作製しても、導体層が焼結を必要としないために、無収縮焼結工法の影響で導体層の焼結が妨げられるといった不都合は全く生じず、したがって、不完全な焼結により生じていた導体層の導体抵抗値の上昇は生じなくなる。
【0019】
また、実質的に空孔を有さない導体層を比較容易に形成することができる。
【0020】
さらに、導体層とグリーンシートとの間の接着がさらに強固なものになる。
【0021】
本発明の請求項に記載の発明は、請求項に係るグリーンシートであって、前記導体層上に、グリーンシートの焼結温度で実質的に焼結収縮しない無機組成物を主成分とするマスクを有しており、これにより次のような作用を有する。すなわち、無機組成物を主成分とするマスクは、焼成後に容易に除去することができる。そのため、エッチングにより導体層をパターニングして配線を形成した後に実施するマスク剥離工程を簡略化することができる。このような作用は、このグリーンシートにより両面配線基板や多層配線基板を形成する場合において、両面配線基板に配線を形成する際や多層配線基板の最外層に位置する配線を形成する際に特に有効となる。
【0022】
本発明の請求項に記載の発明は、請求項1または2に係るグリーンシートであって、シート内部に、その厚み方向に沿った層間接続用の接続ヴィアを有しており、これにより、次のような作用を有する。すなわち、このグリーンシートを多層配線基板用のグリーンシートとして用いることができる。
【0023】
本発明の請求項に記載の発明は、極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシート上に金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングして配線を形成する工程と、を含むことを特徴とする配線付きグリーンシートの製造方法を構成しており、これにより次のような作用を有する。すなわち、極性基のないアクリル樹脂を含むことによって良好な耐水性を有するグリーンシートを用いているため、グリーンシート上に導体層を配置した後、それらをエッチング液に浸積させて配線パターンの形成を行うサブトラクティブ法を採用しても、グリーンシートにダメージを生じさせることなく、その上に配線パターンを確実に形成することができる。
【0024】
本発明の請求項に記載の発明は、極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシートにその厚み方向に沿って層間接続用の接続ヴィアを形成する工程と、前記グリーンシートに表面が粗化処理された実質的に空孔を有さない金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングする工程と、前記グリーンシートを複数枚積層する工程と、作製したグリーンシート積層体の両面もしくは片面に、このグリーンシート積層体の焼結温度で実質的に焼結収縮を示さない無機組成物を主成分とする拘束シートを配置した後、焼成処理を行い、その後、前記拘束シートを取り除く工程と、を含んで多層配線基板の製造方法を構成した。これにより次のような作用を有する。すなわち、導体層は、ペースト成分を含まない実質的に空孔を有さない導体から構成されているので、導体層に対して脱バインダー処理を施す必要がなくなる。そのため、脱バインダー処理により生じていた気泡の発生もなくなるうえ、X−Y方向に収縮しないため、グリーンシート上に形成された導体層のパターン(配線パターン)をそのまま維持することができる。その結果、導体ペーストを用いた配線では実現することが不可能である低抵抗の配線を得ることができる。
【0025】
また、極性基のないアクリル樹脂を含むことによって良好な耐水性を有するグリーンシートを用いているため、グリーンシート上に導体層を配置した後、それらをエッチング液に浸積させて配線パターンの形成を行うサブトラクティブ法を採用しても、グリーンシートにダメージを生じさせることなく、配線パターンを形成することができる。
【0027】
また、実質的に空孔を有さない導体層を比較的容易に形成することができる。
【0028】
さらに、導体層とグリーンシートとの接着性が向上する。
【0029】
本発明の請求項に記載の発明は、請求項に記載の多層配線基板の製造方法であって、前記ウエットエッチングのエッチング液として、塩化第2鉄水溶液を用いており、これにより、次のような作用を有する。すなわち、エッチング液として、塩化第2鉄水溶液を用いているので、導体層が銅で構成されている場合には、グリーンシートにダメージを与えることなく高速でパターン形成を行うことができる。
【0030】
本発明の請求項に記載の発明は、請求項5または6に記載の多層配線基板の製造方法であって、前記マスクとして、前記拘束シートと実質的に同一の材料のものを用いており、これにより次のような作用を有する。すなわち、拘束シートを除去する際に、最表層のマスクを同時に除去することができ、その分、最表層のマスクの除去作業を省略して工程の削減を図れる。
【0031】
本発明の請求項に記載の発明は、請求項に係る多層配線基板の製造方法であって、前記拘束シートと前記マスクとに含有させる無機組成物として、Al23を用いており、これにより次のような作用を有する。すなわち、Al23は上述した請求項11ないし15の作用を発揮したうえで、請求項16の作用を発揮するのに最適な材料である。
【0032】
本発明の請求項に記載の発明は、極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシートにその厚み方向に沿って層間接続用の接続ヴィアを形成する工程と、前記グリーンシートに実質的に空孔を有さない金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングする工程と、前記グリーンシートの両面もしくは片面に、前記グリーンシートの焼結温度で実質的に焼結収縮しない無機組成物を主成分とする拘束シートを配置した後、焼成処理を行い、その後、前記拘束シートを取り除く工程と、を含んで両面配線基板の製造方法を構成した。これにより次のような作用を有する。すなわち、導体層は、ペースト成分を含まない実質的に空孔を有さない導体から構成されているので、導体層に対して脱バインダー処理を施す必要がなくなる。そのため、脱バインダー処理により生じていた気泡の発生もなくなるうえ、X−Y方向に収縮しないため、グリーンシート上に形成された導体層のパターン(配線パターン)をそのまま維持することができる。その結果、導体ペーストを用いた配線では実現不可能であった低抵抗な配線を得ることができる。
【0033】
また、極性基のないアクリル樹脂を含むことによって良好な耐水性を有するグリーンシートを用いているため、グリーンシート上に導体層を配置した後、それらをエッチング液に浸積させて配線パターンの形成を行うサブトラクティブ法を採用しても、グリーンシートにダメージを生じさせることなく、配線パターンを形成することができる。
【0034】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態における両面配線基板を示す断面模式図である。図1に示すように、本実施形態における両面配線基板は、基板層1と、基板層1の両面に配置された配線2、2と、それらの配線2、2を電気的に接続する接続ヴィア3とを備えている。なお、符号4は、後述する製造工程においてのみ、基板層1の外側に配置される拘束シートである。
【0035】
基板層1はガラスセラミックを含むセラミックを主成分としている。配線2、2は、空孔率1%以下であって、実質的に空孔を有さない導体から構成されている。具体的には金属箔から配線2、2は構成されている。拘束シート4は、基板層1の焼成が行われる際における焼成温度において、実質的に焼結収縮を生じない無機組成物を主成分とするシートであり、この両面配線基板の焼成前に、両面配線基板のグリーンシートの両面もしくは片面に積層配置されるが、焼成完了後、全部除去されるものである。拘束シート4は、好ましくはAl23から構成されている。
【0036】
次に、本実施形態の両面配線基板の製造方法を説明する。
【0037】
まず、基板層1の材料として、基板層1となるグリーンシート10と、接続ヴィア3用の導体ペースト(以下、ヴィアペーストという)とを作製する。ここでいうセラミックとは、無機絶縁物の総称でありガラスセラミックを含む。
【0038】
グリーンシート10は次のようにして作製する。すなわち、無機粉末と有機バインダーとを十分に混合、混練してスラリーを作製したのち、このスラリーを、ドクターブレード法等によってシート状に成形する。スラリーシートは、ポリエチレン系樹脂やポリエステル系樹脂、紙等のベースフィルム上に形成する。形成したスラリーシートを乾燥させることで、グリーンシート10を作製する。
【0039】
グリーンシート10となるセラミック材料は特に限定されず、放熱性や強度、焼結温度、コストなどに応じて適宜決定すればよいが、一般に広く用いられているアルミナや、ガラスセラミックやBi−Ca−Nb−O材料のような配線金属の融点より低温で焼結されるセラミック材料を用いることができる。特に、ガラスセラミックは、焼成温度が900℃程度と低いためや、低抵抗で低融点のAgあるいはCuを配線材料として用いることができるために望ましい。
【0040】
ガラスセラミックに用いられるセラミック成分としては、アルミナ、シリカ、ムライト、フォルステライト等が挙げられる。ガラスセラミックに用いられるガラス成分は、結晶化ガラス系でも、非結晶化ガラス系でも用いることができる。結晶化ガラス系として、ほう珪酸ガラス、ほう珪酸鉛ガラスが一例として挙げられる。非結晶化ガラス系としては、ほう珪酸鉛系やほう珪酸カルシウム系などのほう珪酸塩系ガラスが一例として挙げられる。ほう珪酸塩系ガラスとしては、例えば珪酸塩ガラスやアルミノ珪酸塩ガラスが挙げられる。
【0041】
配線材料として卑金属を用いる場合には、グリーンシート10に含有させる有機バインダーを、熱分解温度の低いアクリル樹脂系のものとするのが望ましい。これは次のような理由によっている。
【0042】
有機バインダーとしてはアクリル樹脂系バインダーを用いている。一般に、有機バインダーとしては、エチルセルロース系、ポリビニルアルコール(PVA)系、ポリビニルブチラール(PVB)系の樹脂を用いることができ、これらの樹脂は熱分解温度が比較的高いため、配線材料が酸化されにくい銀の場合には問題なく用いることができる。しかしながら、銅などの酸化されやすい卑金属を配線材料として用いる場合や、ガラスセラミックなどの焼成温度が低いセラミックをグリーンシートの材料として用いる場合には、これらの樹脂は有機バインダーとしては不適当であり、アクリル樹脂系のバインダーが適している。本実施形態では、銅箔を配線材料として用いるために、アクリル樹脂系バインダーを用いている。
【0043】
さらには、アクリル樹脂系のバインダーの中でも、メタクリル酸系アクリル樹脂を主成分した有機バインダーを用いている。メタクリル酸系アクリル樹脂は低温でモノマー分解が進行しやすく、不活性雰囲気において脱バインダーを行うのに好適であるためである。より具体的には、平均分子量2.0×105以上5.0×105以下のメタクリル酸系アクリル樹脂バインダーが好ましい。これは、分子量が2.0×105以下であると十分なシート強度、シート加工性が得られず、分子量が5.0×105以上であると溶剤への溶解性が低下して脱バインダー性が悪化するためである。以上のことから本実施形態では、メタクリル酸系アクリル樹脂を主成分とする有機バインダーを用いている。
【0044】
さらには、シート強度やセラミック粉末の分散性を良くすることを目的として、有機バインダーを構成するアクリル樹脂には、COOH基(カルボキシル基)、あるいはOH基(水酸基)といった極性基を付加することが行われる。上述したメタクリル酸系アクリル樹脂は、一般的に極性基を有するアクリル樹脂である。しかしながら、アクリル樹脂に極性基を付加すると有機バインダーの耐水性能が損なわれてしまう。バインダーの耐水性能は、バインダー中における極性基のあるアクリル系樹脂の含有率に関係し、含有率が高い程、耐水性能の劣化する。
【0045】
通常の配線基板の製造プロセスでは、グリーンシートの耐水性能、耐薬品性能が求められることはまずないが、本発明で用いられる製造プロセスのウエットエッチング工程においては、後述するが耐水性能の欠如が問題となる。そのため、シート強度およびセラミック粉末の分散性と、耐水性能とを両立させるためには、グリーンシート10に含有させる有機バインダーは、メタクリル酸系アクリル樹脂を主成分として、極性基のないアクリル樹脂を含有したものが好ましく、本実施形態では、そのような樹脂からバインダーを構成している。
【0046】
極性基のないアクリル樹脂としては、ポリアルキルメタクリレートを成分とするアクリルバインダー等が挙げられる。一方、極性基のあるアクリル樹脂としては、不活性雰囲気における良好な脱バインダー性能からみて、メタクリル酸系アクリル樹脂が好ましい。
【0047】
なお、有機バインダー全体の熱分解性を損なわせないようにするためには、極性基のないアクリル樹脂の分子量は、比較的低分子量(約1×105程度)とするのが望ましい。また、有機バインダー全体に対する極性基のないアクリル樹脂の配合割合は、重量比10%以上50%以下とすることが望ましい。割合が10%以下では、耐水性能を向上させるには不十分であり、50%以上では、セラミック粉体の分散性が悪化し、シート強度が低下してしまうためである。
【0048】
グリーンシート10を作製する具体的な方法はドクターブレード法に限定されるものではなく、その他、カレンダー法、ロールコーター法などを採用することができる。
【0049】
このようにして作製したグリーンシート10に接続ヴィア3を充填する孔を加工する。孔の加工方法としては、例えばパンチングやドリル加工などが採用ができる。そして、ヴィア孔加工を施したグリーンシート10に接続ヴィア用の導体ペースト(以下、ヴィアペーストという)を充填することによって、接続ヴィア3を形成する。
【0050】
ヴィアペーストは、それに用いる金属粉末及び無機粉末と、有機バインダーと溶剤からなる有機ビヒクルを十分に混合・混練して作製する。ここでの有機バインダーの仕様は、上述したグリーンシート10用の有機バインダーと同様である。有機ビヒクルを構成する溶剤としてはテルピネオールなどのアルコール類や、ケトン類などが使用できる。また、適宜、可塑剤や界面活性剤を添加してもよい。また、ヴィアペーストの混練方法としては特に限定はなく、例えば3本ロールミルやボールミルなどが使用できる。
【0051】
次に、これらのグリーンシート10の両面に、実質的に空孔を有さない導体を主成分とする配線2、2を形成する。ここでいう導体とは、空孔率1%以下の固体としての金属導体が一例として挙げられ、具体的には、例えば、金属箔が挙げられ、配線抵抗の小さい低融点金属である点と経済性から考えて銅箔が好ましい。金属粉末ペーストより焼成することによって得られる焼結体は、ほぼ100%に緻密化されたものを除き、基本的にはここでいう導体に含まれない。
【0052】
配線2に用いられる金属導体及び上述したヴィアペーストの金属成分は特に限定されず、配線の金属成分、基板の作製方法や使用状態に応じて適宜選択すればよいが、Cu、Ag、Au、Pd、Pt、Niもしくはそれらの合金であることが好ましく、特に、低抵抗なAg、Cuが好ましい。
【0053】
配線2は、グリーンシート10の両面に直接形成する。配線2の作製方法の一例は次の通りである。すなわち、まず、図2(a)に示すように、グリーンシート10上に金属導体層12を配置する。金属導体層12としては、特に限られるものではなく、例えば蒸着法やスパッタリング法など薄膜プロセスによって作製する金属導体層12でもよいが、特に銅箔等の金属箔が簡略な工程及びコストの面から好ましい。
【0054】
そして、図2(b)に示すように、金属導体層12の上にマスク13を形成する。マスク13としては、拘束シート4と実質的に同一の材料、すなわち、グリーンシート10の焼成処理において、実質的に焼結収縮を生じない無機組成物(具体的には例えば、Al23)を主成分とする材料と樹脂成分とから構成されている。
【0055】
マスク13を形成した後、図2(c)に示すように、グリーンシート10をエッチング液に浸積して配線2のパターンニングを行い、十分に水洗浄した後、乾燥させる。
【0056】
なお、両面配線基板となるグリーンシート10に形成する配線2の場合には、配線2の形成後であってもマスク13を除去せずに残存させておく。このことが本実施形態の一つの特徴となるが、マスク13を残存させる理由は後述する。
【0057】
なお、金属箔から金属導体層12を構成する場合において、より強固に金属導体層12をグリーンシート10に密着させるためには、金属導体層12の表面状態を粗化させておくことが好ましい。更に、金属導体層12とグリーンシート10とを熱圧着させるのが好ましい。グリーンシート10内の有機バインダー、例えばアクリル樹脂バインダーの粘着力を最大限に引き出すには室温ではなく、適当な温度、例えば80℃以上に加熱して圧着することが必要で、そのことと金属導体層表面を粗化させることとによってお互いの噛み合わせをより向上させることが可能となる。
【0058】
更に、グリーンシート10と、金属箔からなる金属導体層12との噛み合わせを向上させるには、金属導体層12(粗化処理はしてもしなくともよい)に、キャスティング法にてグリーンシート10を形成してもよい。キャスティング法のやり方に特に限定はなく、ドクターブレード法、ロールコーター法等が採用できる。なお、キャスティング法にて金属導体層12上にグリーンシート10を形成したのち、その上で熱プレスをかけて圧着するとより好ましい。
【0059】
上述したマスク13の形成方法には、露光によりレジストを形成するフォトリソグラフィー法と、印刷法(オフセット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷等)とがある。本実施形態では、マスク13として、実質的に焼結収縮しないAl23を主成分とするものを用いているので、このような材料に適した印刷法を採用しているが、材料によってはフォトリソグラフィー法でもよい。
【0060】
印刷法やフォトリソグラフィー法はファインパターン配線を形成するのに適しているものの、これらの方法を採用する場合は、グリーンシート10を現像液やエッチング液、マスク剥離液等の薬液に浸積する工程が必要となる。そのため、薬液によりグリーンシート10が損傷等の影響を受ける可能性がある。しかしながら、バインダーは、極性基のないアクリル樹脂を含むものであるから良好な耐水性を有しており、金属導体層12ともどもグリーンシート10をエッチング液に浸積させても、グリーンシート10にダメージを与えることはない。
【0061】
なお、金属導体層12としてCuを用いる場合には、塩化第2鉄水溶液をエッチング液として用いるのが好ましい。エッチング液に希塩酸水溶液を用いると、ガラスグリーンシートの場合、ガラス組成がダメージを受けてしまい、十分水洗い、乾燥させた後焼成を行っても緻密に焼結させることができない。塩化第二鉄水溶液にはこのような不都合はない。
【0062】
以上のようにして、作製したグリーンシート10の両面あるいは片面(本実施形態では両面)に拘束シート4を積層配置する。拘束シート4は、マスク13と同様、グリーンシート10の焼成時に実質的に焼結しない無機組成物を含んだものから構成する。
【0063】
拘束シート4を積層配置したのち、この積層体を熱圧着する。以上の作製順序は必要に応じて変更、一部省略してもかまわない。
【0064】
そして、得られたグリーンシート積層体を加熱炉内で脱バインダー処理し、その後焼成処理を施す。そして、拘束シート4を全部取り除いて図1に示す両面配線基板を得る。なお、グリーンシート10の焼結処理後においても、配線2上のマスク13は残存しているが、上述したように、マスク13は、拘束シート4と実質的に同一の材料から構成されているので、拘束シート4の除去工程において、配線2上のマスク13も同時に除去される。そのため、配線2上のマスク13を除去する工程を省略することができ、その分、製造コストの削減および製造時間の短縮化が図れる。
【0065】
このような熱処理の雰囲気は、金属導体層12の種類によって異なり、金属導体層12がAu,Ag、Pd、Cu等のように大気中で酸化されないものを用いる場合は、大気、窒素、水素、水蒸気、二酸化炭素あるいはそれらの混合ガスなど目的に応じて何でも使用できるが、Cu、Ni等のように大気中では酸化されるものを用いる場合は、不活性雰囲気、例えば、窒素、水素、水蒸気、二酸化炭素あるいはそれらの混合ガスといったものに限定される。
【0066】
本実施形態の製造方法により作製される両面配線基板では、拘束シート4を積層して焼結させることによって、焼結収縮が主として面に垂直な方向に沿って生じ、X−Y方向にはほぼ無収縮となるため、焼結処理により収縮しない配線と同時焼成しても、クラック等が生じない。
【0067】
また、酸化銅ペーストを用いた場合には、脱バインダー後の水素、窒素の還元雰囲気での還元プロセスで配線2の体積収縮が生じたのち焼成する、といった配線2の導体抵抗値を増大させる要因となる工程を実施する必要があるが、本具体例ではこのような工程を実施する必要がないため、配線2の配線抵抗値は向上、すなわち、低下する。
(第2の実施形態)
図3は、本発明の第2の実施形態における多層配線基板を示す断面模式図である。図3に示すように、本実施形態における多層配線基板は、内部基板層1Aと、外部基板層1Bと、内部配線2Aと、外部配線2Bと、接続ヴィア3とを備えている。
【0068】
内部配線1Aは複数枚積層配置されている。外部基板層1Bは内部基板層1A、…の積層体の両面もしくは片面にそれぞれ一枚ずつ積層配置されている。外部基板層1Bは、図では、内部基板層1Aの積層体の両面に配置されている。内部配線2Aは各内部基板層1Aの層間に配置されている。外部配線2Bは、外部基板層1Bの表面に配置されている。接続ヴィア3は内部基板層1Aや外部基板層1Bを貫通して内部配線2Aどうしや、内部配線2Aと外部配線2Bとを電気的に接続している。
【0069】
なお、符号4は、後述する製造工程においてのみ、外部基板層1Bの外側に配置される拘束シートである。
【0070】
内部基板層1A、外部基板層1Bはガラスセラミックを含むセラミックを主成分としている。内部配線2Aおよび外部配線2Bは、空孔率1%以下であって、実質的に空孔を有さない導体から構成されている。具体的には金属箔から内部、外部配線2A、2Bは構成されている。拘束シート4は、内部、外部基板層1A、1Bの焼成が行われる際における焼成温度において、実質的に焼結収縮しない無機組成物を主成分とするシートであり、この多層配線基板の焼成前に、多層配線基板の外層用グリーンシート(焼成により外部基板層1Bとなる)の両面もしくは片面に積層配置されるが、焼成完了後、全部除去されるものである。
【0071】
次に、本実施形態における多層配線基板の製造方法を説明する。
【0072】
まず、多層配線基板の材料として、内部基板層1A、外部基板層1Bとなる内層用グリーンシート10Aおよび外層用グリーンシート10Bと、接続ヴィア3用の導体ペースト(以下、ヴィアペーストという)とを作製する。ここでいうセラミックとは、無機絶縁物の総称でありガラスセラミックを含む。
【0073】
内層用、外層用グリーンシート10A、10Bは、上述した第1の実施形態におけるグリーンシート10と同様の製造方法により作製する。
【0074】
このようにして作製した内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに接続ヴィア3を充填する孔を加工したのち、その孔にヴィアペーストを充填することで接続ヴィア3を形成する。ヴィアペーストの組成および接続ヴィア3の作製方法は第1の実施形態と同様である。
【0075】
次に、これらの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの表面に、実質的に空孔を有さない導体を主成分とする内部配線2A、外部配線2Bを形成する。内部、外部配線2A、2Bの作製方法は、図2に示す第1の実施形態の方法と同様である。ただし、内層用グリーンシート10Aに形成する内部配線2Aの場合には、マスク13は、内部配線2Aを形成した後に除去する。
【0076】
マスク13の除去は例えば次のように行う。すなわち、アクリル樹脂バインダーと粉末成分とからなるマスク13を用いた場合、バインダーを溶かす薬剤であるメタノール、エチレングリコール、ジメチルホルムアミド等の溶剤から適宜選択されたものを除去剤として用いれば、、マスク13は容易に除去できる。なお、マスク13を構成するバインダーと粉末成分との割合を変化させることによって、エッチング後の水洗いでマスクを除去することも可能である。さらには、ドライエッチング工程でマスクを除去することも可能であり、その場合には、除去工程によるグリーンシートの損傷を防ぐことが可能となる。
【0077】
以上のようにして、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに内部、外部配線2A、2Bを作製した後、これら内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを積層する。積層に際しては、一枚ないし複数枚の内層用グリーンシート10Aを積層したうえで、内層用グリーンシート10Aの積層体の最外層に外層用グリーンシート10Bを積層配置する。このとき、外部配線2Bの形成面が外向きになるように、外層用グリーンシート10Bを配置する。
【0078】
このようにして作製したグリーンシート積層体のさらに外側の両面あるいは片面に拘束シート4を積層配置する。本実施形態ではグリーンシート積層体の両面に拘束シート4を配置する。拘束シート4は、マスク13と同様、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの焼成時に実質的に焼結しない無機組成物を含んだものから構成する。
【0079】
グリーンシート積層体に対して拘束シート4を積層配置したのち熱圧着して積層体を得る。以上の作製順序は必要に応じて変更、一部省略してもかまわない。
【0080】
得られた積層体を加熱炉内で脱バインダー処理し、その後焼成処理を施す。そして、拘束シート4を全部取り除いて図3に示す本実施形態の多層配線基板を得る。なお、積層体の焼結処理後においても、外部配線2B上のマスク13は残存しているが、上述したように、マスク13は、拘束シート4と実質的に同一の材料から構成されているので、拘束シート4の除去工程において、外部配線2B上のマスク13も同時に除去される。そのため、外部配線2B上のマスク13を除去する工程を省略することができ、その分、製造コストの削減および製造時間の短縮化が図れる。
【0081】
このような熱処理の雰囲気は、金属導体層12の種類によって異なり、金属導体層12がAu,Ag、Pd、等のように大気中で酸化されないものを用いる場合は、大気、窒素、水素、水蒸気、二酸化炭素あるいはそれらの混合ガスなど目的に応じて何でも使用できるが、Cu、Ni等のように大気中では酸化されるものを用いる場合は、不活性雰囲気、例えば、窒素、水素、水蒸気、二酸化炭素あるいはそれらの混合ガスといったものに限定される。
【0082】
本実施形態の製造方法により作製される多層配線基板では、拘束シート4を積層して焼結させることによって、焼結収縮が主として面に垂直な方向に沿って生じ、X−Y方向にはほぼ無収縮となるため、内部、外部配線2A、2B(これら配線2A、2Bは焼結処理によって収縮しない)との同時焼成によるクラック等が生じない。
【0083】
また、内部、外部配線2A、2Bは、ペースト成分を含まない実質的に空孔を有さない導体から構成されているので、これら配線2A、2Bに対して脱バインダー処理を施す必要がなくなる。そのため、脱バインダー処理により生じていた気泡の発生もなくなるうえ、酸化銅ペーストを用いた場合に、脱バインダー後の水素、窒素の還元雰囲気での還元プロセスで内部、外部配線2A、2Bの体積収縮が生じたのち焼成する、といった内部、外部配線2A、2Bの導体抵抗値を増大させる要因となる工程を経ることがなくなる。したがって、その分、内部、外部配線2A、2Bの配線抵抗値は低下する。
【0084】
なお、第2の実施形態では、内部、外部配線2A、2Bをエッチング工程により形成していたが、蒸着法、スパッタ法、あるいはメッキ法によって形成してもよい。これらの方法では、膜形成と配線のパターン形成が同時に行われるため、ファインパターンを形成しやすいという特徴がある。
(第3の実施形態)
本実施形態の多層配線基板は、基本的には、第2の実施形態と同様の構成を備え、さらには、同様の製造方法により作製されるものであるが、内部、外部基板層1A'、1B'となる内層用グリーンシート10A'、10B'の組成が若干異なっている。それ以外の構成および製造方法は第2の実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。
【0085】
本実施形態の特徴となる内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'の組成を説明する。こられグリーンシート10A'、10B'となるセラミック材料は上述した第1、第2の実施形態と同様であるが、有機バインダーの組成に違いがある。
【0086】
有機バインダーは、基本的には第1の実施形態と同様の構成であるが、極性基のないアクリル樹脂は含まない。
【0087】
なお、極性基のないアクリル樹脂を含まないために、内部、外部配線2A、2Bをウエットエッチングによりパターニングすると、エッチング液により、内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'がダメージを受ける可能性がある。その場合には、内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'の裏面に化学的に安定なベースフィルムを張り付けておけば内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'の表面を覆う金属導体層12と相俟って、接続ヴィア3、内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'共々、エッチング液の影響を最小限に止めることができる。また、このようなエッチング液の影響は、内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'に含有する有機バインダーの選択によっても防ぐことができる。また、マスク除去方法としてドライエッチング工程で行うことも可能であり、そうすると、除去工程によるグリーンシートの損傷を防ぐことが可能となる。さらには、マスク除去をドライエッチング工程で行うと、本実施形態で述べたように内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'をそれぞれ使い分ける必要がなくなり、工程の簡略化が図れる。さらには、この方法は、L/S(ライン/スペース)が75μm/75μm以下となるようなファインパターン配線において特に有効である。
【0088】
本実施形態の製造方法により作製される多層配線基板では、拘束シート4を積層して焼結させることによって、焼結収縮が主として面に垂直な方向に沿って生じ、X−Y方向にはほぼ無収縮となるため、内部、外部配線2A、2B(これら配線2A、2Bは焼結処理によって収縮しない)との同時焼成によるクラック等が生じない。
【0089】
また、内部、外部配線2A、2Bは、ペースト成分を含まない実質的に空孔を有さない導体から構成されているので、これら配線2A、2Bに対して脱バインダー処理を施す必要がなくなる。そのため、脱バインダー処理により生じていた気泡の発生もなくなる。さらには、酸化銅ペーストを用いた場合には、脱バインダー後の水素、窒素の還元雰囲気での還元プロセスで内部、外部配線2A、2Bの体積収縮が生じたのち焼成する、といった内部、外部配線2A、2Bの導体抵抗値を増大させる要因となる工程を実施する必要があるが、本実施形態では、このような工程を実施する必要がないため、内部、外部配線2A、2Bの配線抵抗値は低下する。
【0090】
なお、第3の実施形態では、内部、外部配線2A、2Bをエッチング工程により形成していたが、蒸着法、スパッタ法、あるいはメッキ法によって形成してもよい。これらの方法では、膜形成と配線のパターン形成が同時に行われるため、ファインパターンを形成しやすいという特徴がある。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態を、図4を参照して説明する。本実施形態は、基本的には上述した第3の実施形態と同様であるが、次の点で相違している。すなわち、第3の実施形態における多層配線基板では、内部、外部配線2A、2Bと内部、外部基板層1A'、1B'とが直接、接しているのに対し、本実施形態における多層配線基板では、内部、外部配線2A、2Bと内部、外部基板層1A'、1B'との間にガラス接着層20A、20B、20Cを備えている。従って、本実施形態において、第3の実施形態と同様のものについては、同一符号を付与し、説明は省略する。また、特に説明のないものについては、第3の実施形態と同じとする。
【0091】
図4に示すように、本実施形態における多層配線基板は、内部、外部基板層1A'、1B'と、ガラス接着層20Aと、接続ヴィア3とを備えている。内部、外部基板層1A'、1B'はガラスセラミックを含むセラミックから構成されている。内部、外部配線2A、2Bは金属導体からなり、基板1A、1Bの層間または外部基板層1Bに配置されている。ガラス接着層20Aは、内部配線2A上に形成されている。接続ヴィア3は、内部、外部基板層1A'、1B'を貫通して内部配線2Aどうし、および、内部配線2Aと外部配線2Bとを電気的に接続している。第4の実施形態はガラス接着層20Aを、内部配線2A上に形成することで、内部配線2Aと内部、外部基板層1A、1Bとの接着強度を安定化させたことに特徴がある。
【0092】
また、本実施形態の変形例としては、図5に示すものがある。この多層配線基板は、内部、外部基板層1A'、1B'と、ガラス接着層20B、20Cと、内部、外部配線2A、2Bと、接続ヴィア3とを備えている。内部、外部基板層1A'、1B'と、内部、外部配線2A、2Bと、接続ヴィア3とは上述した第4の実施形態の構成と同じである。さらには、ガラス接着層20Cも、上述した第4の実施形態のガラス接着層20Aと同じ構成である。この変形例は、ガラス接着層20Bを設けたことに特徴がある。ガラス接着層20Bは、内部、外部基板層1Bの上面に設けられており、このガラス接着層20Bにより、内部、外部基板層1A'、1B'と、内部外部配線2A、2Bとの接続強度をさらに安定化させている。
【0093】
なお、拘束シート4は、後述する製造工程において、基板層1A'、1B'の焼成が行われる際の、焼成温度において、実質的に焼結収縮を生じない無機組成物を主成分とするものであり、前述した各実施形態で用いたものと同様のものである。
【0094】
次に、本実施形態における多層配線基板の製造方法を説明する。本実施形態に於ける金属導体多層配線基板の製造方法は、上述した第3の実施形態の製造方法において、内部、外部配線2A、2B上に形成するマスク13(図3参照)を、ガラス接着層20A、20Cに置き換えたうえでこれらガラス接着層20A、20Cを残存させている。さらには、内層用、外層用グリーンシート10A'、10B'と、内部、外部配線2A、2Bとの間にガラス接着層20Bを追加配置している。
【0095】
本実施形態に於ける各部材の材質については、これらガラス接着層20A、20B、20Cがガラス層であること以外は、第3の実施形態と同じである。
【0096】
ここで用いられているガラス接着層20A、20B、20Cを構成する材料は、配線用エッチング液に対して溶けないものであれば、特に限定されるものではない。例えば、焼結温度が900℃の場合には、軟化点温度が900℃以下の、ほう珪酸鉛ガラスや、さらには軟化点温度が500℃以下のアルカリ金属ガラス等が挙げられる。後者の場合、内部、外部基板層1A、1Bと、内部、外部配線2A、2Bとの間で強い接着強度が得られ好ましい。
【0097】
【実施例】
次に、本発明の実施例を説明する。
【0098】
以下に説明する実施例1〜4は、上述した第1〜第4の実施形態に於ける両面配線基板および多層配線基板の具体的実施例であって、グリーンシートを構成する有機バインダーを変化させた試料、内部、外部基板層1A、1B、1A'、1B'の種類、内部、外部配線2A、2Bの種類、内部、外部基板層1A、1B、1A'、1B'と内部、外部配線2A、2Bとの間に配設する中間層(ガラス接着層20A、20B、20C)等を変化させた試料、内部、外部配線2A、2Bとなる導体の作製方法を変化させた試料、内部、外部配線2A、2Bのパターン形成方法を変化させた試料等を作製したうえで、各試料の性能を比較したものである。各実施例の試料のうち、内部、外部基板層1A、1B、1A'、1B'と内部、外部配線2A、2Bとの間に中間層(ガラス接着層20A、20B、20C)が存在しないものが第1〜第3の実施形態に対応するものであり、また中間層(ガラス接着層20A、20B、20C)を備えるものが第4の実施形態に対応するものである。さらには、実施例1では、両面配線基板において本発明を実施したものであるが、そのデータは、多層配線基板である第2の実施形態と基本的に同様であるので、実質的に、実施例1が第1、第2の実施形態の実施例と見なせる。
【0099】
なお、本発明の効果を確認するため、上記試料と合わせて、本発明の対象外である試料も作製して、上記試料とともに比較をしている。本発明の対象外であるか否かの区別は、各実施例の結果を示す比較表中の「E/C」欄で、本発明の実施例に対応するものについては、「E」と記し、本発明の対象外であり、比較例として記載したものについては、「C」と記すことによって行っている。
【0100】
また、実施例1〜4においては、低電気抵抗の特徴を生かせるAgまたはCuからなる金属導体を内部、外部配線2A、2Bとして用いる場合を中心として本発明の具体的実施例を示す。AgまたはCuは融点が低いため、セラミック材料としては、低温で焼結できるものである必要がある。そのため、実施例1〜3については、セラミック材料として、ガラス−アルミナ混合系のガラスセラミックを選んだ。しかしながら、実施例4に示すように本発明はこのようなガラスセラミックに限定されるものではないのはいうまでもない。
(実施例1)
本実施例において、本発明の方法で作製した両面配線基板、およびその外部配線2Bの特性を測定した結果を、表1,表2を参照して説明する。本実施例では、試料の何れもが、両面の表層配線にCu箔を用いて以下の方法にて両面配線基板を作製した。
【0101】
まず、Cu粉末、融着用ガラス粉末にアクリル系樹脂とテルピネオールを3本ロールで十分に混合、混練し、ヴィアペーストを作製した。
【0102】
次に、ガラスーアルミナ混合の基板層用粉末(焼結温度900℃)と、バインダーである水酸基を含有するメタクリル酸系アクリル樹脂(分子量2×105)と、可塑剤であるベンジルブチルフタレートと、溶剤であるトルエンとを、ボールミルで十分に混合して混練した後、脱泡してスラリーを形成する。そして、得られたスラリーを、表面に離型処理を施したベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)上にシート状に成形して、厚み200μmのグリーンシート10を作製した。成形はドクターブレード法により行った。
【0103】
次に、グリーンシート10の所定箇所に0.2mmφのヴィア孔をパンチングにより穿孔し、このヴィア孔に上述したヴィアペーストを充填して接続ヴィア3を作製した。そして、グリーンシート10の表面に、表面が平滑(表面粗さ0.2μm以下)な厚み18μmのCu箔を圧着した。圧着は80℃の温度環境にて行った。
【0104】
そして、圧着したCu箔上に、後述する拘束シート4と同じ、アクリル系樹脂バインダーを含むアルミナペーストによりアルミナ膜を形成したのち、このアルミナ膜を印刷法によりパターニングすることでマスク13を形成した。さらに、グリーンシート10を各種エッチング液にてウエットエッチングすることで、Cu箔をパターニングして配線2A、2Bを得た。なお、これら配線2A、2Bのパターンは図6に示すシート抵抗測定用配線パターンであって、最小線幅は75μmで線間の最小幅は75μmとした。さらに絶縁抵抗測定用に2mm角のパターンの配線2A、2Bも形成した。
【0105】
配線2A、2Bを形成したグリーンシート10の外側に、拘束シート4を配置したうえで熱圧着した。拘束シート4は、アルミナを主成分として、バインダーとしてアクリル系樹脂を、可塑剤としてベンジルブチルフタレートを、溶剤としてトルエンを含んだものから構成した。
【0106】
得られた積層体は、加熱炉内の酸素20ppmを含む窒素中650℃で脱バインダー処理し、焼成は窒素中900℃、保持時間10分で行った。焼成後は、その焼結体の両面に付着している拘束シート4および、外部配線2B上のマスク13を洗浄により落とし、両面配線基板を得た。
【0107】
以下に説明する試料はいずれも上述した方法で作製されたものであるが、グリーンシートに用いたバインダー、特に極性基のないアクリル樹脂の含有量、配線パターンに用いたエッチング液等を変化させたものである。
No.1試料
有機バインダーにポリビニルブチラール系樹脂(PVB)を主成分とするグリーンシート10によって作製しており、極性基のないアクリル樹脂を含んでいない点を特徴としており、エッチング液には塩化第2鉄水溶液を用いている。グリーンシート10をエッチング液に浸積させる時間は、約10分である。
No.2試料
基本的には、No.1試料と同じ製法により作製しているが、極性基のないアクリル樹脂のみからなる有機バインダーを用いているところがNo.1試料と異なっている。
No.3試料
基本的に、No.2試料と同様の製法により作製しており、さらにはNo.2試料と同じくアクリル樹脂からなる有機バインダーを用いているが、そのアクリル系樹脂がメタクリル酸系樹脂であるところがNo.2試料と異なっている。さらには、有機バインダーはセラミック粉体の分散性を向上させるために水酸基(OH−)を有するアクリル樹脂を主成分としており、さらには極性基のないアクリル樹脂を含んでいないところも、No.2試料と異なっている。
No.4試料
基本的に、No.3試料と同様の製法により作製されており、さらには、No.3試料と同じくメタクリル酸系アクリル樹脂を主成分とする有機バインダーを用いるが、この有機バインターが極性基のないアクリル樹脂を重量比8%含んでいるところが異なっている。
No.5試料
基本的に、No.3試料と同様の製法により作製されており、さらには、No.3試料と同じくメタクリル酸系アクリル樹脂を主成分とする有機バインダーを用いるが、この有機バインターが極性基のないアクリル樹脂を重量比10%含んでいるところが異なっている。
No.6試料
基本的に、No.4試料と同様の製法により作製されているが、有機バインターが、極性基のないアクリル樹脂を重量比20%含んでいるところが異なっている。
No.7試料
基本的に、No.4試料と同様の製法により作製されているが、配線パターンを形成する際に用いるエッチング液として、希塩酸水溶液を用いているところが異なっている。
No.8試料
基本的に、No.4試料と同様の製法により作製されているが、有機バインダーが、極性基のないアクリル樹脂を重量比50%含んでいるところが異なっている。
No.9試料
基本的に、No.4試料と同様の製法により作製されているが、有機バインダーが、極性基のないアクリル樹脂成分を重量比60%含んでいるところが異なっている。
【0108】
このようにして得られた各試料のグリーンシートの性状を整理したものを表2に示す。また、各試料の外観、断面を検査し、両面に形成された配線2A、2Bを用いて絶縁抵抗、誘電正接等を測定した。その結果を表1、表2に示す。
【0109】
【表1】
Figure 0003771099
【0110】
【表2】
Figure 0003771099
No.1〜9試料全てにおいて、拘束シート4を配置して焼成しているので、基板の面内収縮は0.1%以下であり、外部配線2A,2Bの、断線、撓み、亀裂等は発生しなかった。また、No.1〜9試料においては、拘束シート4を水洗浄にて洗い流す際に、外部配線2A,2B上のマスク13もきれいに除去されており、工程上、エッチング後のマスク13の除去工程を省けることが実証された。シート抵抗値も、これらの試料(No.1〜9)ではいずれも低かった。
【0111】
No.1試料は、グリーンシートの強度、加工性は良好なものの、窒素雰囲気下での熱分解が進まず23000ppmと大量のカーボンが残留している。
【0112】
No.2試料は、熱分解性に優れたアクリル樹脂バインダーで構成されているため、熱分解が十分に進行してバインダーの除去については良好となり、カーボンは殆ど残留していない。しかしながら、アクリル樹脂バインダーが分散性に寄与する極性基を含まないので、ゲル化防止のためにグリーンシート用スラリー中のバインダーの含有量を低減せざるを得なくなっており、したがってゲル化しやすい。さらには、バインダーは極性基がないとその分子量が大きくて分散性の良いスラリーが得られにくいことから、十分なシート強度である約20Kg/cm2以上という値も得られていない。その結果、グリーンシートの強度、加工性は全く得られていない。
【0113】
No.3試料は、シート強度を十分有し、かつ熱分解性も良好なグリーンシートとなっているが、耐水性能、耐エッチング性能が十分でなく、エッチング後に、十分水洗いしてもエッチング液による着色が消えていない。また、バインダー除去が若干不十分であって、カーボン残量は1200ppmとやや多くなっている。そのため、焼成後の基板の密度、絶縁抵抗は1010Ω・cmと、やや劣化した特性になっている。
【0114】
No.4、No.5、N0.6,No.8,No.9試料のように耐水性の向上を得るため極性基のないアクリル樹脂をそれぞれ8%,10%,20%,50%、60%含有させると、グリーンシートの強度、加工性を維持したまま、耐エッチング性能は向上している。さらには、焼成後の絶縁抵抗もそれぞれ1011Ω・cm、1012Ω・cm、1014Ω・cm、1014Ω・cm、1014Ω・cmに上昇している。これらの結果から、極性基のないアクリル樹脂の最適含有量は、20%以上のレベルで、少なくとも10%以上含まれていることが望ましいことがわかる。含有量が8%では、絶縁抵抗が1010Ω・cmとやや低く、残留カーボン量も550ppmとやや多いため、不十分であるがわかる。一方、上記含有量が50%では、スラリーは多少、ゲル化しやすい傾向があり、シートの厚み方向の凹凸も発生し、厚みばらつきが10%以上生じている。さらに上記含有量が50%では、パンチング後にクラックが一部生じるためシートの加工性についても不十分といわざるを得ない。したがって、極性基のないアクリル樹脂の含有量としては、50%が上限レベルである。なお、60%含有させると、基板の誘電特性は引き続き良好なものの、シートの強度は12Kg/cm2と大幅に劣化し、加工性も大幅に劣化している。
【0115】
また、No.7試料に示すように、エッチング液を塩化第2鉄水溶液から希塩酸水溶液に変更すると、ガラス成分、特にガラスがほう珪酸鉛ガラスの場合において、グリーンシートにおけるその組成の損傷が大きくなり、焼成において、緻密に焼結せず、絶縁抵抗は108Ω・cmと低い値しか得られない。なお、エッチング液は塩化第2銅を用いても良好な結果が得られることを確認している。
(実施例2)
本実施例において、本発明の方法で作製した多層配線基板、およびその外部配線2Bの特性を測定した結果を表3を参照して説明する。本実施例では、試料の何れもが、外部配線2BにCu箔を用いて以下の方法にて多層配線基板を作製した。
o. 10試料
まず、Cu粉末、融着用ガラス粉末にアクリル系樹脂とテルピネオールを3本ロールで十分に混合、混練し、ヴィアペーストを作製した。
【0116】
次に、ガラスーアルミナ混合の基板層用粉末(焼結温度900℃)とバインダーとしてアクリル系樹脂、可塑剤としてベンジルブチルフタレート、溶剤としてトルエンをボールミルで十分に混合、混練した後、脱泡し、得られたスラリーを表面に離型処理を施したベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)上にドクターブレード法で成形し、厚み200μmの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを作製した。
【0117】
次に、これらの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの所定箇所に0.2mmφのヴィア孔をパンチングにより穿孔し、このヴィア孔に上述したヴィアペーストを充填して接続ヴィア3を作製した。そして、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの表面に、表面が平滑(表面粗さ0.2μm以下)な厚み18μmのCu箔を圧着した。圧着は80℃の温度環境にて行った。
【0118】
そして、圧着したCu箔上に、後述する拘束シート4と同じ、アクリル系樹脂バインダーを含むアルミナペーストによりアルミナ膜を形成したのち、このアルミナ膜を印刷法によりパターニングすることでマスク13を形成した。さらに、マスク13を形成した内層用、外層用グリーンシート10A、10Bをウエットエッチングすることで、Cu箔をパターニングして内部、外部配線2A、2Bを得た。なお、これら配線2A、2Bのパターンは図6に示すシート抵抗測定用配線パターンであって、最小線幅は50μmで線間の最小幅は50μmとした。さらに接着強度測定用に2mm角のパターンからなる配線層2A、2Bも形成した。
【0119】
これら配線2A、2Bを形成したのち、内部配線2A上のマスク13のみ除去した。
【0120】
内部、外部配線2A、2Bを形成した内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを外層用グリーンシート10Bを外側にして積層した。その際、内部、外部配線2A、2Bの両端位置と接続ヴィア3の位置が一致するようにした。
【0121】
さらに、外層用グリーンシート10Bの外側に、拘束シート4を配置したうえで、この積層体を熱圧着した。拘束シート4は、アルミナを主成分として、バインダーとしてアクリル系樹脂を、可塑剤としてベンジルブチルフタレートを、溶剤としてトルエンを含んだものから構成した。
【0122】
得られた積層体は、加熱炉内の酸素20ppmを含む窒素中650℃で脱バインダー処理し、焼成は窒素中900℃、保持時間10分で行った。焼成後は、その焼結体の両面に付着している拘束シート4および、外部配線2B上のマスク13を洗浄により落とし、多層配線基板を得た。
o. 11試料
基本的には、No.10試料と同じ製法により作製しているが、内部、外部配線2A、2BとなるCu箔として、その両面を粗化したものを用いた点と、Cu箔を室温にして内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに圧着した点のみ異なっている。
o. 12試料
基本的には、No.10試料と同じ製法により作製しているが、内部、外部配線2A、2BとなるCu箔として、その両面を粗化したものを用いた点のみ異なっている。
o. 13試料
基本的には、No.10試料と同じ製法により作製しているが、内部、外部配線2A、2BとなるCu箔として、その両面を粗化したものを用いた点と、粗化したCu箔上にドクターブレード成形にて上述した組成のスラリーを用いてシート成形を行って、内層用、外層用グリーンシート10A、10BとCu箔とを一体形成した点が異なっている。
o. 14試料
内部、外部配線2A、2BとなるCu箔として、その両面を粗化したものを用いた点と、Cu箔のパターニング(内部、外部配線2A、2Bの作製)方法として、印刷法ではなく、フォトリソグラフィー法を用いる点が、No.10試料の作製方法と異なっている。なお、フォトリソグラフィー法に用いるレジストとしては、エチレングリコールに溶融する感光樹脂を用いた。
o. 15試料
基本的には、No.10試料と同じ製法により作製しているが、内部、外部配線2A、2BとなるCu箔として、その両面を粗化したものを用いた点と、積層体を焼成したのち、外部配線2Bをパターニングしている点が異なっている。
【0123】
すなわち、内層用グリーンシート10Bに内部配線2Bを形成したうえで、外層用グリーンシート10BにCu箔を積層配置する。そして、これら内層用、外層用グリーンシート10A、10Bと拘束シート4とを積層して熱圧着したのち、No.10試料と同じ条件で焼成した。焼成後、その焼結体の両面に付着している拘束シート4を洗浄により落とし、次に、フォトリソグラフィー法によりCu箔をパターニングすることで、外部配線2Bを形成した。
o. 16試料
本発明の比較例であって、基本的には、No.10試料と同様の方法により多層配線基板を作製しているが、内部、外部配線2A、2Bを、導電ペーストを用いたスクリーン印刷で形成している点で根本的に異なっている。
【0124】
このようにして得られたNo.10〜16試料の外観及び断面を検査し、外部基板層1B内の接続ヴィア3を通じて、外部配線2Bと接続ヴィア3との間の接続性、及び外部配線2Bのシート抵抗値を4端子法を用いて測定した。更に、2mm角の電極につきハンダ濡れ性を確認し、そのハンダ付け後、1mmφのCu線を使用して接着強度を測定した。尚、測定値は、1mm角の面積の場合に換算した値を記している。
【0125】
【表3】
Figure 0003771099
No.10〜15試料全てにおいて、拘束シート4を配置して焼成しているので、基板の面内収縮は0.1%以下であり、外部配線2Bの、断線、撓み、亀裂等は発生しなかった。また、No.10〜13試料においては、拘束シート4を水洗浄にて洗い流す際に、マスク13もきれいに除去されており、工程上、エッチング後のマスク13の除去工程を省けることが実証された。シート抵抗値も、試料No.10〜15ではいずれも低い。
【0126】
一方、No.10試料の接着強度の測定結果とNo.12試料の接着強度の測定結果との比較からみて、Cu箔表面を粗化させることは、外部配線2Bと外部基板層1Aの接着強度を得る上で有効であることがわかる。同様に、No.11試料の接着強度の測定結果と、No.12試料の接着強度の測定結果との比較からみて、外層用グリーンシート10BとCu箔との圧着は、80℃といったバインダーの粘着力を生かせる温度条件で行うことが望ましいことがわかる。更に、工程上の都合にもよるが、No.13試料の接着強度の測定結果からみて、Cu箔上で外層用グリーンシート10Bの成形を行って両者を接着させると更に強度は増すことがわかる。尚、No.14、15試料では、更なるファインラインを想定してフォトリソグラフィー法を用いているが、この方法でも外部基板層1Bと外部配線2Bとの接着性は十分得られていることがわかる。さらには、No.15試料に見られるように、Cu箔状態で同時焼成を行い、しかる後配線加工を行っても有効である。Cu箔と内層用、外層用グリーンシート10A、10Bとの同時焼成による接着性は、比較試料No.16と比較しても、ガラス接着層がないにも関わらず強固であることがわかる。
【0127】
また、いずれの試料でも外部配線2B上でのショートは見られず、配線2A、2Bはファインラインとなっている。焼成後の断面でみた外部配線2Bと外部基板層1Bとの間の密着性は良好であることは確認している。これは、脱バインダー時にペーストのようにガスを出す成分がないためと考えられる。
【0128】
一方、No.16試料(比較例)では、基板との融着性を得るために含まれるガラス成分によりシート抵抗値は、やや高くなる。更に、配線と基板の層間には隙間が生じる傾向があった。
【0129】
このように、グリーンシート上に配線導体を形成して、面内無収縮工法で表層配線と基板を同時焼成する方法を採用することにより、配線基板間の接着強度があり、低抵抗で良好な表層配線を提供することができる。
【0130】
なお、蒸着法等薄膜プロセスで形成された表層電極及びメッキプロセスで形成された外部配線2Bおよび内部配線層2Aにおいても、良好な接着強度及び低電気抵抗が得られることは確認している。
(実施例3)
本実施例において、本発明の方法で作製した多層配線基板、およびその内部配線2Aの特性を測定した結果を表4を参照して説明する。
o. 17試料
本実施例であるNo.17試料では、内部配線2Aとして、Ag導体を用いて以下の方法にて作製した。まず、銀粉末、融着用ガラス粉末にエチルセルロース系樹脂とテルピネオールを3本ロールで十分に混合、混練し、ヴィアペーストを作製した。
【0131】
次に、ガラスーアルミナ混合の内部、外部基板層1A、1B用の粉末材料(焼結温度900℃)と、バインダーとしてブチラール系樹脂と、可塑剤としてベンジルブチルフタレートと、溶剤としてブチルカルビトールとをボールミルで十分に混合、混練した後、脱泡し、得られたスラリーを表面に離型処理を施したベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)上にドクターブレード法で成形し、厚み200μmの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを作製した。
【0132】
次に、これらの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの所定箇所に0.2mmφのヴィア孔をパンチングにより穿孔し、このヴィア孔にヴィアペーストを充填して、接続ヴィア3を形成した。
【0133】
次に、図6に示すシート抵抗測定用配線パターン21に対応した形状を有する蒸着用マスク(図示省略)を用いて、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに対して、その所定表面位置にAg蒸着を行って内部配線2Aを作製した。このとき、形成する内部、外部配線2A、2Bの両端位置と接続ヴィア3との位置が一致するようにした。
【0134】
そして、このようにして形成した内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを、内部、外部配線2A、2Bと接続ヴィア3との位置が一致するように積層した。
【0135】
次に、Al23(アルミナ)を主成分とする拘束シート4を、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bと同じバインダー、可塑剤を用いて作製し、上述した積層体の両面を挟む形で熱圧着した。
【0136】
得られた積層体は、加熱炉内の大気中600℃で脱バインダー処理し、焼成は窒素中900℃、保持時間10分で行った。焼成後は、その焼結体の両面に付着している拘束シート4を洗浄により除去し、多層配線基板を得た。
【0137】
こうして得られた多層配線基板の外観及び断面を検査し、また、多層配線基板上に露出している接続ヴィア3を通じて、内部配線2Aのシート抵抗値を、4端子法を用いて測定した。実験値は、内部配線2Aの導体厚みを15μmとして換算し直したものである。
o. 18試料
基本的には、No.16試料と同様の方法であって、内部配線2Aの形成を、スパッタリング法により行った点のみ異なる。
o. 19試料
No.19試料は配線にCu導体を用いてメッキ法により内部配線2Aを作製した点に特徴がある。
【0138】
すなわち、Cu粉末、融着用ガラス粉末にアクリル系樹脂とテルピネオールを3本ロールで十分に混合、混練し、ヴィアペーストを作製した。
【0139】
次に、ガラスーアルミナ混合の基板層用粉末(焼結温度900℃)とバインダーとしてアクリル系樹脂、可塑剤としてベンジルブチルフタレート、溶剤としてトルエンをボールミルで十分に混合、混練した後、脱泡し、得られたスラリーを、表面に離型処理を施したベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)上においてドクターブレード法で成形し、厚み200μmの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを作製した。
【0140】
次に、これらの内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの所定箇所に0.2mmφのヴィア孔をパンチングにより穿孔し、このヴィア孔にヴィアペースト(Cuガラスペースト)を充填して接続ヴィア3を形成した。
【0141】
次に、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに対して、その表面の所定位置に、図6に示すシート抵抗測定用配線パターン21に応じたメッキレジストパターンを形成し、Cu導体からなる内部、外部配線2A、2Bをパターンメッキ法にて膜形成した。内層用、外層用グリーンシート10A、10Bをメッキ液に浸積させるにあたっては、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの裏面にベースフィルムを張り付けておいた。
【0142】
そして、内部、外部配線2A、2Bの両端位置と接続ヴィア3との位置が一致するように、複数枚(単一でもよい)の内層用グリーンシート10Aを積層した。
【0143】
次に、アルミナからなる拘束シート4を、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bと同じバインダー、可塑剤を用いて作製し、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの積層体の両面を挟む形で熱圧着した。
【0144】
得られた積層体は、加熱炉内の酸素20ppmを含む窒素中650℃で脱バインダー処理し、焼成は窒素中900℃、保持時間10分で行った。
【0145】
焼成後は、その焼結体の両面に付着している拘束シート4を洗浄により落とし、多層配線基板を得た。
o. 20試料
基本的にはNo.19と同様の方法により作製しているが、このNo.20試料では、内層用グリーンシート10A上にメッキ法によりCu層を形成したのち、フォトリソグラフィー法によりパターニングすることで、内部配線2Aを作製している点が異なる。
【0146】
すなわち、内層用グリーンシート10Aに対してメッキ法にてCuメッキ膜を形成した後、フォトリソグラフィー法により、図6に示す抵抗測定用配線パターン21に応じた形状のマスク13を形成した。なお、レジストは、エチレングリコールに溶融する感光樹脂を選択した。
【0147】
しかる後に、エッチング処理を行い、内部配線2Aの回路パターン以外の不要なCu層を除去した後、マスク13をエチレングリコールに浸積させて剥離させることで、Cuからなる内部配線2Aを形成した。なお、エッチング処理において内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを現像液に浸積させるにあたっては、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの裏面にベースフィルムを張り付けておいて、現像液と直接接触させないようにした。
o. 21試料
No.21試料では、No.19試料と同様の内層用、外層用グリーンシート10A、10B上にCu箔を形成したのち、形成したCu箔をフォトリソグラフィー法によりパターニングすることで、内部、外部配線2A、2Bを形成した。
【0148】
すなわち、No.19試料と同様の内層用、外層用グリーンシート10A、10Bに厚み18μmのCu箔を圧着した後、フォトリソグラフィー法によりマスク13を形成した。なお、マスク13としては、エチレングリコールに溶融する感光樹脂を選択した。しかる後に、エッチング処理を行い、内部、外部配線2A、2B以外の不要なCu箔を除去した後、マスク13をエチレングリコールに浸積させて、剥離させて内部、外部配線2A、2Bを形成した。本試料でも同様に、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを現像液に浸積させるにあたっては、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの裏面にベースフィルムを張り付けておいて、現像液と直接接触させないようにした。その他の製法はNo.19試料と同様である。
o. 22試料
No.22試料では、No.19試料と同様の内層用、外層用グリーンシート10A、10B上にCu箔を形成したのち、形成したCu箔上に、アクリル樹脂バインダーを含むガラスペーストからなるマスク13を印刷法により形成した。そして、エッチング処理を行い、内部、外部配線2A、2B以外の不要なCu箔を除去した後、内層用グリーンシート10Aと外層用グリーンシート10Bと、拘束シート4とを積層した。マスク13はその後も除去することなく残存させた。なお、その他の製法は、No.19試料と同様である。
o. 23試料
No.23試料では、No.19試料と同様の内層用、外層用グリーンシート10A、10B上にCu箔を形成したのち、形成したCu箔上に、エチレングリコールに溶融するガラスペーストからなるマスク13を印刷法により形成した。そして、エッチング処理を行い、内部、外部配線2A、2B以外の不要なCu箔を除去した後、エチレングリコールに浸積させて、マスク13を除去することで、内部、外部配線2A、2Bを形成した。なお、その他の製法はNo.19試料と同様である。
o. 24試料
No.24試料では、No.19試料と同様の内層用、外層用グリーンシート10A、10B上にCu箔を形成したのち、形成したCu箔上に、アクリル系樹脂バインダーを含む内層用、外層用グリーンシート10A、10Bと同じアルミナガラスペーストからなるマスク13を印刷法により形成した。そして、エッチング処理を行い、内部、外部配線2A、2B以外の不要なCu箔を除去することで、内部、外部配線2A、2Bを形成した。マスク13はその後も除去することなく残存させた。なお、その他の製法は、No.19試料と同様である。
o. 25試料
No.25試料は本発明の比較例であって、基本的にはNo.22試料の製法と類似する製法ではあるものの、焼成に際して拘束シート4を配置していない点が異なっている。
o. 26試料
No.26試料は本発明の比較例であって、基本的にはNo.17試料の製法に類似した製法ではあるものの、内部配線2Bは、Agペーストをスクリーン印刷法により内層用グリーンシート10A上に形成している点が異なっている。
o. 27試料
No.27試料は本発明の比較例であって、基本的にはNo.19試料の製法に類似した製法ではあるものの、内部配線2Bは、Cuペーストをスクリーン印刷法により内層用グリーンシート10A上に形成している点が異なっている。
【0149】
このようにして得られた各試料17〜27の外観及び断面を検査し、外部基板層1B内の接続ヴィア3を通じて、内部配線2Aと接続ヴィア3との間の接続性、及び外部配線2Bのシート抵抗値を4端子法を用いて測定した。その結果を表2に示す。
【0150】
【表4】
Figure 0003771099
No.25の比較例試料のみ、拘束シート4を用いず内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの積層体単独で焼成しているため、強制的な平面方向の収縮が内部配線2Aに働き、その結果、撓み、一部断線が生じた。一方、その他の試料については、拘束シート4を設けているので、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの面内収縮は、0.1%以下であり、内層用グリーンシート10A上に形成された内部配線2Aの、断線、撓み、亀裂等は発生しなかった。また、焼成後の断面でみると、No.25の比較例以外では、内部配線2Aと内部、外部基板層1A、1Bとの間の密着性は良好であった。これは、脱バインダー時にペーストのようにガスを出す成分がないためと考えられる。No.17〜No.20試料では、薄膜法あるいはメッキ法によって内部配線2Aを形成したが、これら内部配線2Aのシート抵抗値は、低電気抵抗を実現している。一方、Cu箔を用いたNo.21〜24試料では、更に1.5mΩと低抵抗が得られた。また、これらNo.21〜24試料では、接続ヴィア3と内部配線2Aの接着性、及び断面でみた内部配線2Aと内部、外部基板層1A、1Bとの間の層間も問題はない。
【0151】
一方、比較例であるNo.26、27試料に見られるように、内部配線2Aを導電ペーストを用いたスクリーン印刷で形成した場合は、内部配線2Aと内部基板層1Aとを融着させるために含まれるガラス成分によりシート抵抗値は、やや高くなっている。更に、内部配線2Aと内部部基板層1Aとの間の層間には隙間が生じる傾向があった。
【0152】
このように、内層用グリーンシート10A上に内部配線2Aを形成して、面内無収縮工法で内部配線2Aと内層用、外層用グリーンシート10A、10Bとを同時焼成する方法を採用することにより、低抵抗で良好な内部配線2Aを提供することができる。
【0153】
なお、No.19試料では、Cuを導体成分として内部配線2Aを形成していたが、内部配線2Aの導体成分としてAgを用い、それ以外はNo.19試料と同等の製造方法で作成した多層配線基板においてもNo.19試料と同等の特性が得られていることは確認している。
(実施例4)
導体材料中の金属成分及びセラミック基板材料について、実施例1〜3において用いられたものと違うものを用いた場合の効果について確認した結果を以下に述べる。
【0154】
実施例1〜3と同様の方法で、導電ペーストがAg−Pdからなり、基板組成がBa−Nd−Ti−Oからなる内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを作製した。ヴィアペーストにはAg−Pdペーストを用い、蒸着法にてAg−Pdからなる接続ヴィア3を形成した。
【0155】
次に、Ba−Nd−Ti−Oからなる内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの所定箇所に0.2mmφのヴィア孔をパンチングにより穿孔し、このヴィア孔にAg−Pdペーストを充填した後、その表面に必要に応じててランド電極を形成した。ランド電極は配線用のペーストを用いて形成した。
【0156】
次に、図6に示すシート抵抗測定用配線パターン21に対応する蒸着用マスクを用いて、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bの所定の位置にAg−Pd蒸着を行い、内部、外部配線2A、2Bを形成した。内部、外部配線2A、2Bは、その両端位置が接続ヴィア3の位置に一致するように形成した。しかる後に、接続ヴィア3を備えた内層用、外層用グリーンシート10A、10Bを、内部、外部配線2A、2Bの両端位置と各接続ヴィア3の位置とが一致するように積層してグリーンシート積層体を形成した。
【0157】
次に、MgO粉末からなる拘束シート4を、内層用、外層用グリーンシート10A、10Bと同じバインダー、可塑剤を用いて作製し、この拘束シート4を上述したグリーンシート積層体の両面を挟む形で熱圧着した。
【0158】
得られた積層体は、加熱炉内の大気中600℃で脱バインダー処理し、焼成は窒素中1200℃、保持時間1時間で行った。焼成後は、その焼結体の両面に付着している拘束シート4を洗浄により落とし、多層配線基板を得た。
【0159】
こうして得られた多層配線基板の外観及び断面を検査し、また、表面に露出している接続ヴィア3を通じて内部配設層2Aのシート抵抗値を4端子法を用いて測定した。シート抵抗値は、10mΩ/□であり、使用したAg−Pd組成の導体抵抗から換算した値とほぼ等しかった。Ag−Pd箔と基板間の接着性も断面観察から問題ないことが確認された。この結果より、実施例1〜3において用いられたものと違うものを用いた場合も同様の効果が得られることを確認した。
【0160】
【発明の効果】
以上説明したところから明らかなように、本発明によれば、低抵抗で、かつファインラインとなった配線を有する両面配線基板や多層配線基板の製造方法を提供することができた。さらには、転写工法を用いずフォトリソグラフィ法等のエッチングによってグリーンシート上に配線を形成できるため、パターンの不良のないものが得られた。また、マスク材を選択することによってマスク剥離工程を省略して工程を簡略化することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の両面配線基板の構成を示す断面図である。
【図2】本発明の第2、第3の実施形態の多層配線基板の構成を示す断面図である。
【図3】第2、第3の実施形態の多層配線基板の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図4】本発明の第4の実施形態の多層配線基板の構成を示す断面図である。
【図5】第4の実施形態の変形例を示す断面図である。
【図6】シート抵抗測定用配線パターンの構成を記す平面図である。
【符号の説明】
1A 内部基板層 1B 外部基板層 2A 内部配線
2B 外部配線 3 接続ヴィア 4 拘束シート
10A 内層用グリーンシート 10B 外層用グリーンシート
11 導体ペースト 12 金属導体層
13 マスク 20A ガラス接着層

Claims (9)

  1. セラミック原料粉末とバインダーとを含み、前記バインダーは、メタクリル酸系アクリル樹脂を主成分とし、かつ、極性基のないアクリル樹脂を前記バインダーに対して重量比10%以上ないし重量比50%以下含むものであり、シート表面に表面が粗化処理された実質的に空孔を有さない金属箔導体層を設けることを特長とする耐エッチング性を有するグリーンシート。
  2. 前記導体層上に、グリーンシートの焼結温度で実質的に焼結収縮しない無機組成物を主成分とするマスクを設けることを特徴とする請求項記載のグリーンシート。
  3. シート内部に、その厚み方向に沿った層間接続用の接続ヴィアを有することを特徴とする請求項1または2に記載のグリーンシート。
  4. 極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシート上に金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングして配線を形成する工程と、を含むことを特徴とする配線付きグリーンシートの製造方法。
  5. 極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシートにその厚み方向に沿って層間接続用の接続ヴィアを形成する工程と、前記グリーンシートに表面が粗化処理された実質的に空孔を有さない金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングする工程と、前記グリーンシートを複数枚積層する工程と、作製したグリーンシート積層体の両面もしくは片面に、このグリーンシート積層体の焼結温度で実質的に焼結収縮を示さない無機組成物を主成分とする拘束シートを配置した後、焼成処理を行い、その後、前記拘束シートを取り除く工程と、を含むことを特徴とする多層配線基板の製造方法。
  6. 前記ウエットエッチングのエッチング液として、塩化第2鉄水溶液を用いることを特徴とする請求項に記載の多層配線基板の製造方法。
  7. 前記マスクとして、前記拘束シートと実質的に同一の材料のものを用いることを特徴とする請求項5または6に記載の多層配線基板の製造方法。
  8. 前記拘束シートと前記マスクとに含有させる無機組成物として、Al23を用いることを特徴とする請求項に記載の多層配線基板の製造方法。
  9. 極性基のないアクリル樹脂をバインダー中に重量比10%以上ないし重量比50%以下含むバインダーとセラミック原料粉末とを含有するグリーンシートを作製する工程と、前記グリーンシートにその厚み方向に沿って層間接続用の接続ヴィアを形成する工程と、前記グリーンシートに実質的に空孔を有さない金属箔導体層を配置し、さらにこの導体層上にマスクを配置したうえで、前記導体層をウエットエッチングによりパターニングする工程と、前記グリーンシートの両面もしくは片面に、前記グリーンシートの焼結温度で実質的に焼結収縮しない無機組成物を主成分とする拘束シートを配置した後、焼成処理を行い、その後、前記拘束シートを取り除く工程と、を含むことを特徴とする両面配線基板の製造方法。
JP2000009073A 1999-01-27 2000-01-18 グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法 Expired - Fee Related JP3771099B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000009073A JP3771099B2 (ja) 1999-01-27 2000-01-18 グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法
EP00101365A EP1024529A3 (en) 1999-01-27 2000-01-24 Green sheet and manufacturing method thereof, manufacturing method of multi-layer wiring board, and manufacturing method of double-sided wiring board
US09/492,781 US6521069B1 (en) 1999-01-27 2000-01-27 Green sheet and manufacturing method thereof, manufacturing method of multi-layer wiring board, and manufacturing method of double-sided wiring board
US10/330,159 US6696139B2 (en) 1999-01-27 2002-12-30 Green sheet and manufacturing method thereof, manufacturing method of multi-layer wiring board and manufacturing method of double-sided wiring board

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1833399 1999-01-27
JP11-18333 1999-01-27
JP2000009073A JP3771099B2 (ja) 1999-01-27 2000-01-18 グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000281450A JP2000281450A (ja) 2000-10-10
JP3771099B2 true JP3771099B2 (ja) 2006-04-26

Family

ID=26355011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000009073A Expired - Fee Related JP3771099B2 (ja) 1999-01-27 2000-01-18 グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (2) US6521069B1 (ja)
EP (1) EP1024529A3 (ja)
JP (1) JP3771099B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173629A (ja) * 2000-12-04 2002-06-21 Murata Mfg Co Ltd マーキングペースト及び電子部品の製造方法
JP4911829B2 (ja) * 2001-03-23 2012-04-04 京セラ株式会社 セラミック基板の製造方法
JP4552367B2 (ja) * 2001-08-06 2010-09-29 株式会社村田製作所 低温焼成セラミック基板の製造方法
KR100481197B1 (ko) * 2002-05-29 2005-04-13 전자부품연구원 내장형 세라믹 인덕터의 제조방법
JP2005096390A (ja) * 2003-05-29 2005-04-14 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板およびその製造方法ならびにこれを用いるグリーンシート成形用キャリアシート
GB2420909A (en) * 2003-08-21 2006-06-07 C Mac Microcircuits Ltd Method for ltcc zero x-y shrinkage
DE102004043273A1 (de) * 2003-09-09 2005-05-04 Ngk Spark Plug Co Verfahren zur Herstellung eines Keramiksubstrats und Keramiksubstrat
TWI345938B (en) * 2003-10-17 2011-07-21 Hitachi Metals Ltd Multi-layered ceramic substrate and its production method, and electronic device comprising same
CN100556244C (zh) * 2003-10-17 2009-10-28 日立金属株式会社 多层陶瓷基板以及使用了它的电子机器
DE10352325B4 (de) * 2003-11-06 2013-11-07 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Verfahren zum Herstellen einer elektrisch leitenden Verbindung u. Kontaktteil mit einer derart hergestellten elektrischen Verbindung
US7578058B2 (en) 2005-04-19 2009-08-25 Tdk Corporation Production method of a multilayer ceramic substrate
DE102010035488B4 (de) * 2010-08-26 2018-11-15 Snaptrack, Inc. Herstellung von keramischen Grünfolien sowie deren Verwendung zur Herstellung von Keramiken
RU2462011C1 (ru) * 2011-06-16 2012-09-20 Открытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Полет" Способ изготовления многослойных печатных плат
JP6402829B2 (ja) 2015-06-29 2018-10-10 株式会社村田製作所 多層セラミック基板および多層セラミック基板の製造方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3953562A (en) * 1974-07-15 1976-04-27 International Business Machines Corporation Process for the elimination of dimensional changes in ceramic green sheets
KR920000160B1 (ko) * 1984-03-15 1992-01-09 니혼 세끼유 가가꾸 가부시끼가이샤 세라믹용 수용성 공중합체성 결합제의 제조방법
US4712161A (en) * 1985-03-25 1987-12-08 Olin Corporation Hybrid and multi-layer circuitry
US4753694A (en) 1986-05-02 1988-06-28 International Business Machines Corporation Process for forming multilayered ceramic substrate having solid metal conductors
US4997698A (en) * 1987-05-04 1991-03-05 Allied-Signal, Inc. Ceramic coated metal substrates for electronic applications
JPH0754780B2 (ja) * 1987-08-10 1995-06-07 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサの製造方法
KR930011269B1 (ko) * 1987-10-23 1993-11-29 닛뽕쇼꾸바이가가꾸고오교 가부시끼가이샤 세라믹 그린 시이트
JP2556065B2 (ja) * 1987-11-04 1996-11-20 株式会社村田製作所 抵抗内蔵電子部品の製造方法
JPH01169989A (ja) * 1987-12-24 1989-07-05 Ngk Insulators Ltd セラミックグリーンシート
JPH01239994A (ja) * 1988-03-22 1989-09-25 Mitsubishi Electric Corp セラミック多層基板の製造方法
JPH0216795A (ja) * 1988-07-05 1990-01-19 Mitsubishi Electric Corp セラミック多層基板の製造方法
JP2765885B2 (ja) * 1988-11-14 1998-06-18 新光電気工業株式会社 窒化アルミニウム回路基板及びその製造方法
JPH0625030B2 (ja) * 1989-04-07 1994-04-06 日本碍子株式会社 グリーンシートの製造方法
US5085720A (en) * 1990-01-18 1992-02-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for reducing shrinkage during firing of green ceramic bodies
US5254191A (en) * 1990-10-04 1993-10-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for reducing shrinkage during firing of ceramic bodies
JPH04202074A (ja) * 1990-11-30 1992-07-22 Toshiba Corp 薄膜用セラミックス基板
US5248712A (en) * 1990-12-21 1993-09-28 Takeda Chemical Industries, Ltd. Binders for forming a ceramics sheet and applications thereof
JPH0590734A (ja) * 1991-09-27 1993-04-09 Nikko Co セラミツク基板上への導体形成方法および導体回路パターンの形成方法
JP2785544B2 (ja) 1991-10-04 1998-08-13 松下電器産業株式会社 多層セラミック基板の製造方法
JPH05315754A (ja) * 1992-05-07 1993-11-26 Nippon Cement Co Ltd 低温焼成セラミック多層配線基板への回路形成方法
US5370759A (en) * 1992-05-20 1994-12-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing multilayered ceramic substrate
JPH0661647A (ja) * 1992-08-07 1994-03-04 Fujitsu Ltd 薄膜回路基板の製造方法
US5456778A (en) * 1992-08-21 1995-10-10 Sumitomo Metal Ceramics Inc. Method of fabricating ceramic circuit substrate
US5925444A (en) * 1992-12-09 1999-07-20 Hitachi, Ltd. Organic binder for shaping ceramic, its production method and product employing the same
KR0179404B1 (ko) * 1993-02-02 1999-05-15 모리시타 요이찌 세라믹기판과 그 제조방법
US5760105A (en) * 1993-06-04 1998-06-02 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Styrenic resin composition
US5834558A (en) * 1994-05-17 1998-11-10 Cheil Industries, Inc. Weather resistant theromplastic resin composition
US6001761A (en) * 1994-09-27 1999-12-14 Nippon Shokubai Co., Ltd. Ceramics sheet and production method for same
JP3887032B2 (ja) 1995-11-21 2007-02-28 日本特殊陶業株式会社 セラミックグリ−ンシ−ト
US6042667A (en) * 1996-03-13 2000-03-28 Sumotomo Metal Electronics Devices, Inc. Method of fabricating ceramic multilayer substrate
JPH10242644A (ja) 1997-02-26 1998-09-11 Hitachi Ltd 導体回路付グリーンシートおよびその製造法並びにこれを用いた多層配線セラミック基板
US6413620B1 (en) * 1999-06-30 2002-07-02 Kyocera Corporation Ceramic wiring substrate and method of producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP1024529A3 (en) 2003-09-03
US6696139B2 (en) 2004-02-24
US20030141006A1 (en) 2003-07-31
EP1024529A2 (en) 2000-08-02
JP2000281450A (ja) 2000-10-10
US6521069B1 (en) 2003-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4561831B2 (ja) セラミック基板、電子装置およびセラミック基板の製造方法
JP3771099B2 (ja) グリーンシート及びその製造方法、多層配線基板の製造方法、両面配線基板の製造方法
JP3351043B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2007059390A (ja) 基板上のltcc感光性テープの適用例で使用される導体組成物
JP4535098B2 (ja) 積層型セラミック電子部品の製造方法
JP4038602B2 (ja) 導電性ペースト及びセラミック多層基板
JPH06100377A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2000216545A (ja) セラミック多層配線基板の製造方法
JP3955389B2 (ja) コンデンサ内蔵基板およびその製造方法
JP3886791B2 (ja) 多層配線基板の製造方法
JP4029163B2 (ja) 積層型セラミック電子部品およびその製造方法
JP2003174261A (ja) セラミック多層基板
JP3948411B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP3111865B2 (ja) セラミック基板の製造方法
JP4071908B2 (ja) 多層配線基板およびその製造方法
JP2006066626A (ja) 複合体及び複合体の製造方法並びに、複合シートの製造方法、積層体の製造方法、積層部品の製造方法
JPH05167253A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP3791026B2 (ja) ガラスセラミック配線板、その製造方法およびそれに用いる導体ペースト
JP4610185B2 (ja) 配線基板並びにその製造方法
JP3898653B2 (ja) ガラスセラミック多層配線基板の製造方法
JP2002353626A (ja) 多層配線基板およびその製造方法
JP2008112786A (ja) 多層セラミックス基板及びその製造方法
JP2009158668A (ja) セラミック多層配線基板及びその製造方法
JP4214039B2 (ja) コンデンサ内蔵ガラスセラミック多層配線基板
JP4711641B2 (ja) 複合シートの製造方法、積層体の製造方法および積層部品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051111

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060116

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060208

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees