JP3760444B2 - Reflective liquid crystal display element, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device - Google Patents

Reflective liquid crystal display element, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device Download PDF

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Description

本発明は、反射型の画素電極を有する反射型液晶表示素子およびその製造方法、ならびにその反射型液晶表示素子を利用して映像表示を行う反射型液晶プロジェクタ等の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a reflective liquid crystal display element having a reflective pixel electrode, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display device such as a reflective liquid crystal projector that displays an image using the reflective liquid crystal display element.

近年、プロジェクションディスプレイの高精細化、小型化、および高輝度化が進むにつれて、そのディスプレイデバイスとして、小型、高精細が可能で高い光利用効率が期待できる反射型デバイスが注目され実用化されている。反射型デバイスとしては、対向配置された一対の基板間に液晶を注入したアクティブ型の反射型液晶表示素子が知られている。この場合、一対の基板としては、一方が、ガラス基板上に透明電極が積層形成された透明電極基板、もう一方が、例えばＣＭＯＳ（Complementary-Metal Oxide Semiconductor）型の半導体回路からなるシリコン（Ｓｉ）基板を活用した駆動素子基板が用いられている。駆動素子基板の上には、光の反射と液晶への電圧印加を行うための、金属の反射型の画素電極が配置され、これにより全体として画素電極基板を構成している。反射型の画素電極は、一般にはＬＳＩ（Large Scale Integrated）プロセスで用いられている、アルミニウムを主成分とした金属材料で構成されている。   In recent years, as the resolution of projection displays has been increased in size, size, and brightness, reflection-type devices that can be reduced in size and in high definition and can be expected to have high light utilization efficiency have been attracting attention and put into practical use. . As a reflection type device, an active reflection type liquid crystal display element in which liquid crystal is injected between a pair of opposed substrates is known. In this case, as a pair of substrates, one is a transparent electrode substrate in which transparent electrodes are formed on a glass substrate, and the other is silicon (Si) made of, for example, a CMOS (Complementary-Metal Oxide Semiconductor) type semiconductor circuit. A drive element substrate utilizing the substrate is used. On the drive element substrate, a metal reflective pixel electrode for reflecting light and applying a voltage to the liquid crystal is disposed, thereby constituting the pixel electrode substrate as a whole. The reflective pixel electrode is made of a metal material mainly composed of aluminum, which is generally used in an LSI (Large Scale Integrated) process.

このような反射型液晶表示素子では、透明電極基板上に設けられた透明電極と駆動素子基板上に設けられた反射型の画素電極とに電圧を加えることで、液晶に対して電圧が印加される。このとき、液晶はそれらの電極間の電位差に応じて光学的な特性が変化し、入射した光を変調させる。この変調により階調表現が可能となり、映像表示が行われる。   In such a reflective liquid crystal display element, a voltage is applied to the liquid crystal by applying a voltage to the transparent electrode provided on the transparent electrode substrate and the reflective pixel electrode provided on the drive element substrate. The At this time, the optical characteristics of the liquid crystal change according to the potential difference between the electrodes, and the incident light is modulated. This modulation enables gradation expression and video display.

このような反射型液晶表示素子のうち、特に、垂直配向液晶を注入したアクティブ型の反射型液晶表示デバイスは、コントラストが高く、応答速度も速いため、プロジェクションデバイスとして近年注目されている。ここでいう、「垂直配向液晶材料」とは、負の誘電異方性（液晶分子の長軸に平行な誘電率ε（‖）と垂直な誘電率ε（⊥）との差Δε（＝ε（‖）―ε（⊥））が負）を有する液晶材料であり、印加電圧がゼロの時に基板面にほぼ垂直に液晶分子が配向し、ノーマリ・ブラックモードの表示を与えるものである。   Among such reflective liquid crystal display elements, in particular, an active reflective liquid crystal display device in which vertically aligned liquid crystal is injected has attracted attention as a projection device because of its high contrast and fast response speed. As used herein, “vertical alignment liquid crystal material” means negative dielectric anisotropy (difference Δε (= ε between the dielectric constant ε (‖) parallel to the long axis of the liquid crystal molecule) and the perpendicular dielectric constant ε (⊥). (‖) -Ε (⊥)) is negative), and when the applied voltage is zero, the liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicular to the substrate surface to give a normally black mode display.

垂直配向液晶は、その分子長軸が、印加電圧がゼロの時にほぼ各基板面に対して垂直方向に配向し、電圧を印加すると面内に傾くことで透過率が変化するものである。駆動時に液晶分子の傾斜する方向が一様でないと明暗のむらが生じてしまうため、これを避けるために、あらかじめわずかなプレティルト角を一定方向に与えて垂直配向させる必要がある。その方向は画素電極の対角方向（４５°方向）である。プレティルト角があまり大きいと垂直配向性が劣化し、黒レベルが上昇してコントラストを低下させる。従って、一般には基板面の法線方向に対して、画素電極の対角方向に１°〜５°くらいの間でプレティルト角を制御する。   The vertically aligned liquid crystal is such that its molecular long axis is aligned in a direction substantially perpendicular to the surface of each substrate when the applied voltage is zero, and the transmittance changes by tilting in-plane when a voltage is applied. If the direction in which the liquid crystal molecules incline is not uniform during driving, uneven brightness will occur. To avoid this, it is necessary to apply a slight pretilt angle in a certain direction in advance for vertical alignment. The direction is a diagonal direction (45 ° direction) of the pixel electrode. If the pretilt angle is too large, the vertical alignment deteriorates, the black level increases, and the contrast decreases. Therefore, in general, the pretilt angle is controlled between 1 ° and 5 ° in the diagonal direction of the pixel electrode with respect to the normal direction of the substrate surface.

垂直配向液晶材料の配向方法には、ポリイミドに代表される有機配向膜を用い、これをラビングして配向制御する方法と、酸化珪素に代表される無機配向膜を用い斜方蒸着法にて配向制御する方法の２種類がある。昨今では、プロジェクタの高輝度化を実現するため、照明ランプのパワーを上げ表示パネルにかなり高強度の光を照射する傾向にあり、このため前者の有機系の配向膜は光により劣化することが問題になってきている。   For the alignment method of the vertical alignment liquid crystal material, an organic alignment film typified by polyimide is used, and this is rubbed to control the alignment, and an inorganic alignment film typified by silicon oxide is used for alignment by oblique deposition. There are two types of control methods. In recent years, in order to achieve higher brightness of the projector, there is a tendency to increase the power of the illumination lamp and irradiate the display panel with considerably high intensity light. For this reason, the former organic alignment film may be deteriorated by light. It has become a problem.

一方、後者の酸化珪素からなる斜方蒸着膜は無機材料であるためポリイミドのような光による劣化がなく、高い信頼性を実現できることから注目されている。酸化珪素の斜方蒸着膜で配向膜を形成する場合、プレティルト角の制御は、斜方蒸着時の基板への蒸着粒子の入射角度を変えることによりコントロールする。通常、その実用的な角度は基板法線方向に対して、４５°〜６５°くらいである。   On the other hand, the latter obliquely deposited film made of silicon oxide is an inorganic material, and therefore is not attracting attention because it is not deteriorated by light like polyimide and can realize high reliability. When the alignment film is formed of an oblique deposition film of silicon oxide, the pretilt angle is controlled by changing the incident angle of the deposited particles on the substrate during oblique deposition. Usually, the practical angle is about 45 ° to 65 ° with respect to the substrate normal direction.

斜方蒸着法により配向膜を形成する従来技術としては、例えば以下の文献記載のものがある。
特開２００１−５００３号公報 Examples of conventional techniques for forming an alignment film by oblique deposition include those described in the following documents.
JP 2001-5003 A

しかしながら、一般に垂直配向液晶材料は配向制御が難しく、駆動素子基板側において反射型画素電極による段差構造や画素電極間の溝がある場合、その段差形状を起因とした配向欠陥が画素電極周辺に発生する。この配向欠陥は、表示面内における特性均一性の低下、黒レベルの上昇（黒浮き）、およびディスクリネーション欠陥による画質劣化などを誘発する。特にシリコン駆動素子を用いた反射型液晶表示素子においては、一般に画素ピッチが１０μｍ以下と小さいため、数十μｍ以上の画素ピッチの大きな直視型の液晶デバイスに比べ、画素周辺の欠陥領域が画質に影響を与えやすいことと、また透過型の液晶表示素子のようにブラックマトリクスで隠すことができないことから、その配向不良領域を極力低減あるいは皆無にすることが、実用上求められる基本要件である。   However, in general, it is difficult to control the alignment of vertically aligned liquid crystal materials, and if there is a step structure with a reflective pixel electrode or a groove between pixel electrodes on the drive element substrate side, alignment defects due to the step shape occur around the pixel electrode. To do. This alignment defect induces a decrease in the uniformity of characteristics in the display surface, an increase in black level (black floating), and a deterioration in image quality due to a disclination defect. In particular, in a reflective liquid crystal display element using a silicon driving element, since the pixel pitch is generally as small as 10 μm or less, the defect area around the pixel is improved in image quality compared to a direct-view type liquid crystal device having a large pixel pitch of several tens μm or more. Since it is easily affected and cannot be hidden by a black matrix like a transmissive liquid crystal display element, it is a basic requirement that is practically required to reduce or eliminate the poorly aligned region as much as possible.

以下、画素電極構造に起因する従来の反射型液晶表示素子の問題点を具体的に説明する。図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、反射型画素電極１１１は、シリコン駆動素子基板１１０の上にマトリクス状に配置されている。反射型画素電極１１１の大きさおよび形状は、例えば８．４μｍ角の正方形状である。反射型画素電極１１１は、隣接する画素同士が電気的にショートしないよう、所定距離の画素間スペースＷ１が設けられて配置される。この画素間スペースＷ１を、例えば０．６μｍ取ったとすると、画素ピッチＷ２は９μｍとなる。一般に、画素ピッチＷ２は、７μｍ〜１５μｍ、画素間スペースＷ１は、０．３μｍ〜０．７μｍくらいである。また、画素電極の厚さは、１５０ｎｍ〜２５０ｎｍくらいである。   Hereinafter, the problems of the conventional reflective liquid crystal display element due to the pixel electrode structure will be described in detail. As shown in FIGS. 9A and 9B, the reflective pixel electrodes 111 are arranged in a matrix on the silicon driving element substrate 110. The size and shape of the reflective pixel electrode 111 are, for example, a square shape of 8.4 μm square. The reflective pixel electrode 111 is disposed with an inter-pixel space W1 of a predetermined distance so that adjacent pixels are not electrically short-circuited. If the inter-pixel space W1 is 0.6 μm, for example, the pixel pitch W2 is 9 μm. In general, the pixel pitch W2 is 7 μm to 15 μm, and the inter-pixel space W1 is about 0.3 μm to 0.7 μm. Further, the thickness of the pixel electrode is about 150 nm to 250 nm.

反射型画素電極１１１が、このような形状を有しているため、隣り合う画素電極間には、窪みのような形状を有する部分（以下、画素間溝と呼ぶ。）が必ず形成される。この画素間溝は、図９（Ｂ）に示した断面内でみると、例えば、高さ１５０ｎｍ、横６００ｎｍのアスペクト比を持つような大きさの溝となる。   Since the reflective pixel electrode 111 has such a shape, a portion having a shape like a depression (hereinafter referred to as an inter-pixel groove) is necessarily formed between adjacent pixel electrodes. The inter-pixel groove is a groove having such a size as to have an aspect ratio of, for example, 150 nm in height and 600 nm in width when viewed in the cross section shown in FIG. 9B.

図１０および図１１は、図９（Ａ），（Ｂ）に示した画素構造上に従来の方法により斜方蒸着で酸化珪素の配向膜１１２を形成した状態、およびそれによる垂直配向液晶１１３の配向状態を模式的に示している。図１０および図１１において、矢印１３０は、その蒸着方向を示している。配向膜１１２は、反射型画素電極１１１の対角方向側（図１１参照）から、基板面の法線方向に対して例えば５５°の入射角θ（図１０参照）で、斜め方向から基板に蒸着される。   10 and 11 show a state in which the silicon oxide alignment film 112 is formed by oblique deposition on the pixel structure shown in FIGS. 9A and 9B by the conventional method, and the vertical alignment liquid crystal 113 formed thereby. An alignment state is schematically shown. 10 and 11, an arrow 130 indicates the deposition direction. The alignment film 112 is inclined from the diagonal direction to the substrate at an incident angle θ (see FIG. 10) of, for example, 55 ° with respect to the normal direction of the substrate surface from the diagonal side of the reflective pixel electrode 111 (see FIG. 11). Vapor deposited.

このような斜方蒸着を行った場合、図１０に示したように、入射方向に背を向けた反射型画素電極１１１の側面付近（図の領域１２１付近）は、影になるため、配向膜１１２が付着せず膜が形成されない。一方、反対側の側面付近には図１０のようにＬ字模様に配向膜１１２が形成される。このように、画素間溝の底面および反射型画素電極１１１の側面には、配向膜１１２が形成されない領域１２１が存在する。   When such oblique deposition is performed, as shown in FIG. 10, the vicinity of the side surface of the reflective pixel electrode 111 with its back in the incident direction (near the region 121 in the figure) becomes a shadow. 112 does not adhere and a film is not formed. On the other hand, an alignment film 112 is formed in an L-shaped pattern near the opposite side surface as shown in FIG. As described above, the region 121 where the alignment film 112 is not formed exists on the bottom surface of the inter-pixel groove and the side surface of the reflective pixel electrode 111.

プレティルトをつける配向方向は画素の対角方向であるが、図１１では、その場合に、配向膜１１２が形成される部分と形成されない部分１２１とを平面的に模式的に示している。反射型画素電極１１１の厚さが厚くなり、また画素間スペースＷ１がより狭くなると、画素間溝の底面には膜が付かず、片側の側面にのみ形成されるようになる。いずれにしても、従来の配向膜の一般的な形成手法では、画素間溝の両側の側面は、膜構造的に非対称になってしまうことは避けられない。   The alignment direction in which the pretilt is applied is the diagonal direction of the pixel. In FIG. 11, the portion where the alignment film 112 is formed and the portion 121 where the alignment film 112 is not formed are schematically shown in a plan view. When the thickness of the reflective pixel electrode 111 is increased and the inter-pixel space W1 is further reduced, no film is formed on the bottom surface of the inter-pixel groove, and the reflective pixel electrode 111 is formed only on one side surface. In any case, in the conventional method for forming the alignment film, it is inevitable that the side surfaces on both sides of the inter-pixel groove are asymmetric in the film structure.

このように、特に画素間溝の底面に配向膜１１２が形成されない領域があるため、その部分で液晶１１３の配向制御ができなくなり、そのため配向乱れが起こって、配向むら等の画質劣化や信頼性の劣化などを招くという問題が生ずる。すなわち、図１０に示したように、反射型画素電極１１１の表面には、配向膜１１２が形成され、それによってプレティルト方向に液晶分子の長軸がそろうようにおおむね良好に配向している。一方、画素間溝の部分には、特に、底面に配向膜１１２が形成されない領域１２１ができるため、液晶分子を垂直に配向する規制力が働かずに配向の乱れた領域１２０が生じる。これは画素電極周辺にも影響し、結果として画素電極面上は垂直配向しているものの、画素電極周辺から画素間溝にかけては不均一な配向不良の状態になる。これにより、画素電極周辺から画素間溝にかけていわゆる配向むらが発生し、画質の劣化を誘発する。蒸着角度は、通常、基板の法線方向に対して４５°〜６５°の範囲で選ばれるが、一般に画素間溝の深さが深いほど、画素間溝の底辺に配向膜１１２が付かない領域が増すため、影響が大きい。以上の現象は、配向膜１１２として酸化珪素のような無機材料の斜め蒸着膜を用いた場合において、特に発生しやすい。   As described above, since there is a region where the alignment film 112 is not particularly formed on the bottom surface of the inter-pixel groove, the alignment control of the liquid crystal 113 cannot be performed in that region, and thus alignment disturbance occurs, resulting in image quality deterioration such as alignment unevenness and reliability. The problem of incurring deterioration and the like arises. That is, as shown in FIG. 10, an alignment film 112 is formed on the surface of the reflective pixel electrode 111, so that the major axes of the liquid crystal molecules are generally well aligned in the pretilt direction. On the other hand, a region 121 where the alignment film 112 is not formed on the bottom surface is formed particularly in the inter-pixel groove portion. Therefore, a region 120 in which alignment is disturbed is generated without exerting a regulating force for vertically aligning liquid crystal molecules. This also affects the periphery of the pixel electrode. As a result, although the pixel electrode surface is vertically aligned, a non-uniform alignment state occurs from the periphery of the pixel electrode to the inter-pixel groove. As a result, so-called alignment unevenness occurs from the periphery of the pixel electrode to the inter-pixel groove, thereby inducing deterioration in image quality. The deposition angle is usually selected in the range of 45 ° to 65 ° with respect to the normal direction of the substrate. Generally, the deeper the inter-pixel groove, the more the alignment film 112 is not attached to the bottom of the inter-pixel groove. Will increase the impact. The above phenomenon is particularly likely to occur when an oblique deposition film of an inorganic material such as silicon oxide is used as the alignment film 112.

一方、ポリイミドのような有機系配向膜では、上記のような配向膜１１２が付かないことによる問題は発生しない。これは、有機系配向膜では、スピンコート等の手法により、溶媒形状の材料を画素基板面全体に覆う形で作成するため、画素間溝も平均的にオーバコートされるためである。   On the other hand, an organic alignment film such as polyimide does not cause a problem due to the absence of the alignment film 112 as described above. This is because the organic alignment film is formed so as to cover the entire pixel substrate surface with a solvent-shaped material by a technique such as spin coating, so that the inter-pixel grooves are also overcoated on average.

このような斜め蒸着膜における問題点を防ぐための方法として、上記特許文献１には、まず画素電極の一方の辺に沿って基板面の法線から７０°の角度で斜方蒸着して、その辺に沿った画素間溝の底面部（Ａとする）に第１配向膜を形成し、その後、基板を面内で９０°回転し同様な斜方蒸着によってもう一方の辺に沿った画素間溝の底面部（Ｂとする）に第２配向膜を成膜するという提案がなされている。   As a method for preventing such problems in the obliquely deposited film, the above Patent Document 1 firstly obliquely deposits at an angle of 70 ° from the normal of the substrate surface along one side of the pixel electrode. A first alignment film is formed on the bottom portion (referred to as A) of the inter-pixel groove along the side, and then the pixel along the other side is rotated by 90 ° in the plane and the same oblique deposition is performed. A proposal has been made to form a second alignment film on the bottom surface portion (B) of the inter-slot.

特許文献１記載の技術は、基板面内の異なる入射方向から第１配向膜と第２配向膜との２回の斜方蒸着を行う方法、およびそれら面内で蒸着方向を変えるための面内基板回転機構に関する技術である。この技術により、画素間溝の底面部分には確かに配向膜が成膜される。しかしながら、第１配向膜と第２配向膜との成膜は入射面内の角度が異なる（実施例では９０°異なる）ため、上記底面部Ａと底面部Ｂの部分では液晶のプレティルト方向が異なり電圧印加をした際の液晶分子の倒れる方向が異なることになる。   The technique described in Patent Document 1 is a method of performing oblique deposition of the first alignment film and the second alignment film twice from different incident directions in the substrate surface, and in-plane for changing the deposition direction in those surfaces. This is a technique related to a substrate rotation mechanism. With this technique, an alignment film is certainly formed on the bottom surface of the inter-pixel groove. However, since the first alignment film and the second alignment film have different angles within the incident plane (in the embodiment, they differ by 90 °), the liquid crystal pretilt direction differs between the bottom surface portion A and the bottom surface portion B. The direction in which the liquid crystal molecules fall when a voltage is applied is different.

すなわち、画素電極面上には第２配向膜が成膜されるため、大半の液晶は画素溝部Ｂを含め第２配向膜で規定される方向に倒れるが、第１配向膜が形成されている画素溝部Ａは、この方向と異なる方向に倒れるため、この境の部分、画素溝部Ａの付近に局所的に周りとは配向方向が異なる部分ができる。これはわずかではあるが周期的な配向むらのように見える。また、この手法は上記のように、画素電極の辺に沿って蒸着し、かつ面内で９０°回転して２回蒸着を行わないと厳密にはすべての画素間溝に配向膜が形成されない。   That is, since the second alignment film is formed on the pixel electrode surface, most of the liquid crystal falls in the direction defined by the second alignment film including the pixel groove portion B, but the first alignment film is formed. Since the pixel groove portion A is tilted in a direction different from this direction, there is a portion where the orientation direction is locally different from the surrounding portion at the boundary and in the vicinity of the pixel groove portion A. This appears to be a slight but periodic alignment irregularity. In addition, as described above, this method does not form an alignment film in all the inter-pixel grooves unless vapor deposition is performed along the sides of the pixel electrode and rotated twice by 90 ° in the plane. .

一般に反射型液晶表示素子では、偏光分離素子として、ＰＢＳ（Polarization Beam Splitter）が用いられるが、これを用いてクロスニコル配置で偏光分離する際、最も高い透過率が得られる垂直液晶の配向方向は、画素の対角、すなわち４５°方向である。このため、上記特許文献１における画素の辺に沿った配向ではＰＢＳを用いた偏光分離光学系を組むことができず、特にプロジェクション表示装置としての実用性に乏しい。これを逃れるために第２の配向膜を画素の対角方向の条件で成膜すると、原理的に第１配向膜をどの方向から成膜しても、画素間溝を完全に覆うことのできない部分が存在し、効果が発揮されない。従って、上記特許文献１記載の技術は、必ずしも実用的に有効とは言い難い。   In general, a reflective liquid crystal display element uses a PBS (Polarization Beam Splitter) as a polarization separation element. When using this to separate polarized light in a crossed Nicol arrangement, the alignment direction of the vertical liquid crystal that gives the highest transmittance is , The diagonal of the pixel, that is, the 45 ° direction. For this reason, the polarization separation optical system using PBS cannot be assembled in the alignment along the pixel side in the above-mentioned Patent Document 1, and the practicality as a projection display device is particularly poor. In order to avoid this, if the second alignment film is formed under the condition of the diagonal direction of the pixel, the inter-pixel groove cannot be completely covered in principle regardless of which direction the first alignment film is formed. There is a part, the effect is not demonstrated. Therefore, the technique described in Patent Document 1 is not necessarily practically effective.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、斜方蒸着配向膜により垂直配向液晶を配向制御する場合において、画素間溝の構造に起因する配向不良、配向むらを抑制し、良好な画質を実現することができる反射型液晶表示素子およびその製造方法、ならびに液晶表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and its purpose is to suppress alignment defects and alignment unevenness due to the structure of the inter-pixel grooves in the case of controlling the alignment of vertically aligned liquid crystals by an obliquely deposited alignment film. Another object of the present invention is to provide a reflective liquid crystal display element capable of realizing good image quality, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display device.

本発明による反射型液晶表示素子は、画素電極基板と透明電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子であって、画素電極基板の透明電極基板に対向する面側に、少なくとも、溝部を介して配置された複数の反射型の画素電極と、画素電極の上面全体および隣接する画素電極間の溝部の底面全体に、画素電極基板の基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、垂直蒸着膜を介して、画素電極の上面全体および隣接する画素電極間の溝部の一部に、画素電極基板の基板面に対して斜め方向から蒸着形成された斜方蒸着配向膜とが、順に積層形成されているものである。そして、垂直蒸着膜が画素電極の上面に対し溝部の底面が低く蒸着形成された状態において斜方蒸着配向膜が蒸着形成され、垂直配向液晶の液晶分子が、斜方蒸着配向膜が形成された領域に対応して所定のプレティルト角をつけた状態で配向され、画素電極間の溝部の斜方蒸着配向膜が形成されていない領域に対応して垂直方向に配向されているものである。
A reflective liquid crystal display element according to the present invention is a reflective liquid crystal display element in which a pixel electrode substrate and a transparent electrode substrate are arranged to face each other via a vertically aligned liquid crystal, the surface of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate. A plurality of reflective pixel electrodes arranged at least on the side of the groove, and the entire upper surface of the pixel electrode and the entire bottom surface of the groove between adjacent pixel electrodes in a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate Vapor-deposited from the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire upper surface of the pixel electrode and a part of the groove between the adjacent pixel electrodes. In addition, the oblique vapor deposition alignment film is sequentially laminated. Then, in the state where the vertical deposition film is deposited with the bottom surface of the groove portion being lower than the upper surface of the pixel electrode, the oblique deposition film is deposited, and the liquid crystal molecules of the vertically oriented liquid crystal are formed. The film is aligned with a predetermined pretilt angle corresponding to the region, and is aligned in the vertical direction corresponding to the region where the oblique vapor deposition alignment film in the groove between the pixel electrodes is not formed.

本発明による液晶表示装置は、上記した本発明による反射型液晶表示素子によって変調された光を用いて映像表示を行うようにしたものである。   The liquid crystal display device according to the present invention displays images using light modulated by the above-described reflective liquid crystal display element according to the present invention.

本発明による反射型液晶表示素子の製造方法は、複数の反射型の画素電極を有する画素電極基板と透明電極を有する透明電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子を製造する方法であって、基板上に金属膜を成膜した後、金属膜を加工することにより、厚さが１５０ｎｍ〜２５０ｎｍであり、隣接するもの同士の溝部の幅が０．３μｍ〜０．７μｍとなるように複数の反射型の画素電極を画素電極基板にマトリクス状に配置形成する工程と、画素電極基板の透明電極基板に対向する面側において、画素電極の上面および隣接する画素電極間の溝部分の一部に、画素電極基板の基板面に対して垂直方向から垂直蒸着膜を蒸着形成する工程と、垂直蒸着膜を形成した後、垂直蒸着膜を介して、画素電極の上面および隣接する画素電極間の溝部分に、画素電極基板の基板面の法線に対して４５°〜６５°を成す一方向のみから斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程とを含むものである。そして、垂直蒸着膜を蒸着形成する工程において、画素電極の上面に対し溝部の底面が低くなるように垂直蒸着膜を蒸着形成し、斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程において、画素電極の上面に対し溝部の底面が低くなっている状態で斜方蒸着配向膜を蒸着形成するものである。
A method of manufacturing a reflective liquid crystal display device according to the present invention includes a reflective liquid crystal display in which a pixel electrode substrate having a plurality of reflective pixel electrodes and a transparent electrode substrate having transparent electrodes are arranged to face each other via vertically aligned liquid crystal. A method for manufacturing an element, in which after forming a metal film on a substrate, the metal film is processed, the thickness is 150 nm to 250 nm, and the width of the groove between adjacent ones is 0.3 μm to A step of arranging and forming a plurality of reflective pixel electrodes in a matrix on the pixel electrode substrate so as to have a thickness of 0.7 μm, and an upper surface of the pixel electrode and adjacent pixels on the side of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate A process of depositing a vertical deposition film from a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate in a part of a groove portion between the electrodes, and after forming the vertical deposition film, the vertical deposition film is passed through the vertical deposition film. Top and And a step of vapor-depositing an oblique vapor deposition alignment film only in one direction that forms an angle of 45 ° to 65 ° with respect to the normal of the substrate surface of the pixel electrode substrate in a groove portion between adjacent pixel electrodes. In the step of depositing the vertical deposition film, the vertical deposition film is deposited so that the bottom surface of the groove is lower than the upper surface of the pixel electrode, and in the step of depositing the oblique deposition alignment film, the upper surface of the pixel electrode is formed. On the other hand, the oblique deposition film is formed by vapor deposition with the bottom surface of the groove portion being lowered.

本発明による反射型液晶表示素子およびその製造方法、ならびに液晶表示装置において、垂直蒸着膜および斜方蒸着配向膜としては、例えば酸化珪素による蒸着膜が形成される。   In the reflective liquid crystal display element and the manufacturing method thereof and the liquid crystal display device according to the present invention, for example, a vapor deposition film made of silicon oxide is formed as the vertical vapor deposition film and the oblique vapor deposition alignment film.

本発明による反射型液晶表示素子および液晶表示装置では、画素電極の上面において、垂直蒸着膜を介して斜方蒸着配向膜が全体的に形成されていることにより、液晶分子が、電圧印加時にその蒸着方向（一般に画素対角４５°方向）に倒れるように、例えば１°〜５°くらいのわずかなプレティルト角をつけた状態で配向される。画素間溝では、斜方蒸着配向膜が形成されている領域については、同様にプレティルト角をつけた状態で液晶分子が配向される。一方、斜方蒸着配向膜が形成されていない領域については、液晶分子が垂直蒸着膜によって、基板面に対して完全に垂直方向に配向される。   In the reflective liquid crystal display element and the liquid crystal display device according to the present invention, the oblique deposition film is entirely formed on the upper surface of the pixel electrode via the vertical deposition film, so that the liquid crystal molecules are not affected when a voltage is applied. For example, the film is oriented with a slight pretilt angle of about 1 ° to 5 °, for example, so as to fall in the vapor deposition direction (generally, the pixel diagonal direction is 45 °). In the inter-pixel groove, the liquid crystal molecules are similarly aligned with the pretilt angle in the region where the oblique deposition alignment film is formed. On the other hand, in the region where the oblique deposition alignment film is not formed, the liquid crystal molecules are aligned in the direction perpendicular to the substrate surface by the vertical deposition film.

従来では、画素間溝における斜方蒸着配向膜が形成されていない領域については、垂直性を有さない、配向の乱れた状態となっていたため、垂直配向している画素電極上の液晶の配向に悪影響を及ぼすのに対し、本発明では、その領域については、垂直蒸着膜によって液晶が垂直方向に配向されるため、画素電極上の液晶の垂直配向性にほとんど悪影響を及ぼさない。なお、垂直蒸着膜による液晶の配向と斜方蒸着配向膜による液晶の配向とでは、斜方蒸着配向膜による配向の方が、プレティルト角を持つ分、わずかに異なる。しかしながら、通常、プレティルト角は１°〜５°とわずかなので、事実上、それらの配向の違いは表示画質としてまったく認識されない。従って、本発明では、従来のような画素間溝周辺での配向不良が発生せず、表示領域全域に亘って安定的な垂直配向が実現される。これにより、良好な画質が実現される。   Conventionally, the region where the obliquely deposited alignment film in the inter-pixel groove is not formed has a non-perpendicular and disordered state, so the alignment of the liquid crystal on the vertically aligned pixel electrode In the present invention, since the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film, the vertical alignment property of the liquid crystal on the pixel electrode is hardly adversely affected. Note that the orientation of the liquid crystal by the vertical deposition film and the orientation of the liquid crystal by the oblique deposition film are slightly different from each other because of the pretilt angle. However, since the pretilt angle is usually as small as 1 ° to 5 °, the difference in orientation is virtually not recognized as display image quality. Therefore, in the present invention, the conventional alignment failure around the inter-pixel groove does not occur, and stable vertical alignment is realized over the entire display region. Thereby, good image quality is realized.

本発明による反射型液晶表示素子の製造方法では、画素電極基板の透明電極基板に対向する面側において、画素電極の上面および隣接する画素電極間の溝部分（画素間溝）に、画素電極基板の基板面に対して垂直方向から垂直蒸着膜が蒸着形成され、その後、基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜が蒸着形成される。垂直蒸着膜は、基板面に対して垂直方向から蒸着されるので、画素電極の上面全体および画素間溝の底面全体に形成される。斜方蒸着配向膜は、基板面に対して斜め方向から蒸着されるので、垂直蒸着膜を介して画素電極の上面全体と画素間溝の一部分に形成される。   In the manufacturing method of the reflective liquid crystal display element according to the present invention, the pixel electrode substrate is formed on the upper surface of the pixel electrode and the groove portion (inter-pixel groove) between adjacent pixel electrodes on the surface of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate. A vertical vapor deposition film is formed by vapor deposition from a direction perpendicular to the substrate surface, and then an oblique vapor deposition alignment film is formed by vapor deposition from an oblique direction with respect to the substrate surface. Since the vertical deposition film is deposited from a direction perpendicular to the substrate surface, it is formed on the entire top surface of the pixel electrode and the bottom surface of the inter-pixel groove. Since the oblique deposition film is deposited from an oblique direction with respect to the substrate surface, the oblique deposition film is formed on the entire upper surface of the pixel electrode and a part of the inter-pixel groove via the vertical deposition film.

従来の製造方法に対し、本発明により製造された反射型液晶表示素子では、画素間溝における斜方蒸着配向膜が形成されていない領域で、垂直蒸着膜によって液晶が垂直方向に配向されるため、画素電極上の液晶の垂直配向性にほとんど悪影響を及ぼさない。従って、本発明により製造された反射型液晶表示素子では、従来のような画素間溝周辺での配向不良が発生せず、表示領域全域に亘って安定的な垂直配向が実現され、これにより、良好な画質が実現される。   In contrast to the conventional manufacturing method, in the reflective liquid crystal display device manufactured according to the present invention, the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film in the region where the oblique vapor deposition alignment film is not formed in the inter-pixel groove. There is almost no adverse effect on the vertical alignment of the liquid crystal on the pixel electrode. Therefore, in the reflective liquid crystal display device manufactured according to the present invention, the conventional alignment failure around the inter-pixel groove does not occur, and stable vertical alignment is realized over the entire display region. Good image quality is achieved.

なお、本発明による反射型液晶表示素子の製造方法において、垂直蒸着膜と斜方蒸着配向膜との膜形成は、連続的に行うことが好ましい。「連続的」とは真空状態を破らず、連続して成膜するということを意味する。２つの膜を、別々の装置で成膜したり、あるいは一度真空状態を破ってから２つの目の膜を成膜する方法も可能ではあるが、その場合には、それらの膜の界面での水分吸着や不純物付着による特性の劣化や接合強度の低下に注意する必要がある。   In the method for manufacturing a reflective liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the vertical vapor deposition film and the oblique vapor deposition alignment film are formed continuously. “Continuous” means that the film is continuously formed without breaking the vacuum state. It is possible to form two films with different devices or to form a second film after breaking the vacuum once, but in that case, at the interface between these films It is necessary to pay attention to deterioration of properties and bonding strength due to moisture adsorption and impurity adhesion.

従って、例えば、１台の蒸着装置内において、画素電極基板の基板面の法線方向と蒸着源からの蒸着物質の入射方向とを一致させ、真空状態で垂直蒸着膜の形成を行い、その後、真空状態を維持した状態で、基板面の法線方向が蒸着物質の入射方向に対して所定の角度となるように画素電極基板を傾けることで、基板面に対して斜め方向から連続的に斜方蒸着配向膜を蒸着形成することが望ましい。   Therefore, for example, in one vapor deposition apparatus, the normal direction of the substrate surface of the pixel electrode substrate and the incident direction of the vapor deposition material from the vapor deposition source are matched, and a vertical vapor deposition film is formed in a vacuum state. In a state where the vacuum state is maintained, the pixel electrode substrate is tilted so that the normal direction of the substrate surface is a predetermined angle with respect to the incident direction of the vapor deposition material. It is desirable to form a vapor-deposited alignment film by vapor deposition.

本発明の反射型液晶表示素子および液晶表示装置によれば、画素電極の上面全体および隣接する画素電極間の溝部の底面全体に垂直蒸着膜が蒸着形成され、その垂直蒸着膜を介して、画素電極の上面全体および隣接する画素電極間の溝部の一部に、画素電極基板の基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜が蒸着形成されているので、隣接する画素電極間の溝部分における斜方蒸着配向膜が形成されていない領域では、垂直蒸着膜によって液晶が垂直方向に配向される。これにより、斜方蒸着配向膜により垂直配向液晶を配向制御する場合において、画素間溝の構造に起因する配向不良、配向むらを抑制し、良好な画質を実現することができる。   According to the reflective liquid crystal display element and the liquid crystal display device of the present invention, the vertical vapor deposition film is formed on the entire upper surface of the pixel electrode and the entire bottom surface of the groove between the adjacent pixel electrodes, and the pixel is interposed through the vertical vapor deposition film. Since the oblique deposition film is formed from the oblique direction with respect to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire upper surface of the electrode and a part of the groove portion between the adjacent pixel electrodes, the groove portion between the adjacent pixel electrodes is formed. In the region where the oblique deposition alignment film is not formed, the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical deposition film. Thereby, in the case of controlling the alignment of the vertically aligned liquid crystal by the obliquely deposited alignment film, it is possible to suppress the alignment failure and the alignment unevenness due to the structure of the inter-pixel groove, and to realize a good image quality.

特に、本発明の液晶表示装置によれば、本発明の反射型液晶表示素子を用いて映像表示を行うようにしたので、良好な画質の映像表示を実現できる。   In particular, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the video display is performed using the reflective liquid crystal display element of the present invention, it is possible to realize video display with good image quality.

本発明の反射型液晶表示素子の製造方法によれば、画素電極基板の透明電極基板に対向する面側において、画素電極の上面および隣接する画素電極間の溝部分に、画素電極基板の基板面に対して垂直方向から垂直蒸着膜を蒸着形成し、その後、基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜を蒸着形成するようにしたので、垂直蒸着膜を、画素電極の上面全体および画素間溝の底面全体に形成することができると共に、斜方蒸着配向膜を、垂直蒸着膜を介して画素電極の上面全体と画素間溝の一部分に形成することができる。これにより、隣接する画素電極間の溝部分における斜方蒸着配向膜が形成されていない領域では、垂直蒸着膜によって液晶が垂直方向に配向されるような反射型液晶表示素子を製造できる。この製造方法によれば、斜方蒸着配向膜により垂直配向液晶を配向制御する場合において、画素間溝の構造に起因する配向不良、配向むらを抑制し、良好な画質を実現することができる反射型液晶表示素子を製造できる。   According to the reflective liquid crystal display device manufacturing method of the present invention, on the surface side of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate, the upper surface of the pixel electrode and the groove portion between adjacent pixel electrodes are disposed on the substrate surface of the pixel electrode substrate. Since a vertical deposition film is formed by vapor deposition from a direction perpendicular to the substrate, and then an oblique deposition alignment film is formed by deposition from an oblique direction with respect to the substrate surface, the vertical deposition film is formed on the entire upper surface of the pixel electrode and the pixel. It can be formed on the entire bottom surface of the inter-groove, and the oblique deposition film can be formed on the entire top surface of the pixel electrode and a part of the inter-pixel groove via the vertical deposition film. As a result, a reflective liquid crystal display device can be manufactured in which the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film in the region where the oblique vapor deposition alignment film is not formed in the groove portion between the adjacent pixel electrodes. According to this manufacturing method, in the case of controlling the alignment of vertically aligned liquid crystal with an obliquely deposited alignment film, it is possible to suppress alignment failure and alignment unevenness due to the structure of the inter-pixel groove, and to realize a good image quality. Type liquid crystal display element can be manufactured.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

＜反射型液晶表示素子の説明＞
図１は、本発明の一実施の形態に係る反射型液晶表示素子の全体構造を示している。この反射型液晶表示素子は、互いに対向配置された一対の透明電極基板３０および画素電極基板４０と、これらの基板間に注入された垂直配向液晶４５とを備えている。 <Description of reflective liquid crystal display element>
FIG. 1 shows the overall structure of a reflective liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention. This reflective liquid crystal display element includes a pair of transparent electrode substrate 30 and pixel electrode substrate 40 which are arranged to face each other, and a vertical alignment liquid crystal 45 injected between these substrates.

透明電極基板３０は、ガラス基板３１と、このガラス基板３１の垂直配向液晶４５に接する面側（画素電極基板４０に対向する面側）に積層された透明電極３２とを備えている。透明電極３２の垂直配向液晶４５に接する面側にはさらに、斜方蒸着配向膜３３が全面的に積層されている。透明電極３２は、光の透過作用のある電極材料、一般に、酸化すず（ＳｎＯ2）と酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）との固溶体物質であるＩＴＯ(Indium Tin Oxide；インジウムすず酸化膜)が用いられる。透明電極３２には、全画素領域で共通の電位（例えば接地電位）が印加されるようになっている。 The transparent electrode substrate 30 includes a glass substrate 31 and a transparent electrode 32 stacked on the surface side of the glass substrate 31 that is in contact with the vertically aligned liquid crystal 45 (the surface side that faces the pixel electrode substrate 40). An oblique deposition alignment film 33 is further laminated on the entire surface of the transparent electrode 32 in contact with the vertical alignment liquid crystal 45. The transparent electrode 32 is made of an electrode material having a light transmitting action, generally ITO (Indium Tin Oxide) which is a solid solution material of tin oxide (SnO 2 ) and indium oxide (In 2 O 3 ). It is done. A common potential (for example, ground potential) is applied to the transparent electrode 32 in all pixel regions.

斜方蒸着配向膜３３としては、例えば二酸化珪素（ＳｉＯ2）に代表される酸化珪素の斜め蒸着膜が用いられる。この場合、斜め蒸着時の蒸着角度を変えることにより、垂直配向液晶４５のプレティルト角がコントロールされる。通常、蒸着角度θは基板法線方向に対して、４５°〜６５°程度である。 As the oblique deposition film 33, for example, an oblique deposition film of silicon oxide represented by silicon dioxide (SiO 2 ) is used. In this case, the pretilt angle of the vertically aligned liquid crystal 45 is controlled by changing the vapor deposition angle during oblique vapor deposition. Usually, the vapor deposition angle θ is about 45 ° to 65 ° with respect to the normal direction of the substrate.

画素電極基板４０は、例えば単結晶のシリコン基板４１を有し、このシリコン基板４１の垂直配向液晶４５に接する面側（透明電極基板３０に対向する面側）に、反射型画素電極４２と、垂直蒸着膜４３Ａと、斜方蒸着配向膜４３Ｂとが順に積層形成されている。シリコン基板４１には、ＣＭＯＳやＮＭＯＳなどのトランジスタＴ１とキャパシタ（補助容量）Ｃ１とからなるアクティブ型の駆動回路が形成されている。   The pixel electrode substrate 40 includes, for example, a single crystal silicon substrate 41, and a reflective pixel electrode 42 is provided on a surface side of the silicon substrate 41 that is in contact with the vertically aligned liquid crystal 45 (a surface side facing the transparent electrode substrate 30). A vertical vapor deposition film 43A and an oblique vapor deposition alignment film 43B are sequentially stacked. On the silicon substrate 41, an active drive circuit including a transistor T1 such as CMOS or NMOS and a capacitor (auxiliary capacitor) C1 is formed.

反射型画素電極４２は、シリコン基板４１上に複数、マトリクス状に配置形成されている。反射型画素電極４２は、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）に代表される金属膜で構成されている。反射型画素電極４２としてアルミニウム電極等の金属電極を用いた場合は、光の反射膜の機能と液晶に電圧を印加する電極として機能との両方を兼ねているが、さらに反射率を上げるために誘電体ミラーのような多層膜による反射層をアルミニウム電極等の上に形成しても良い。また、アルミニウム電極等の全面を保護する形で、酸化物あるいは窒化物の膜で覆うようにしても良い。   A plurality of reflective pixel electrodes 42 are arranged and formed on the silicon substrate 41 in a matrix. The reflective pixel electrode 42 is composed of a metal film typified by aluminum (Al) or silver (Ag). When a metal electrode such as an aluminum electrode is used as the reflective pixel electrode 42, it functions both as a light reflecting film and as an electrode for applying a voltage to the liquid crystal. A reflective layer made of a multilayer film such as a dielectric mirror may be formed on an aluminum electrode or the like. Further, the entire surface of the aluminum electrode or the like may be protected with an oxide or nitride film.

図３に、画素電極基板４０における画素間溝（隣接する画素電極間の溝部）５０付近の構造および垂直配向液晶４５の配向状態を模式的に示す。図３において、矢印８５は、斜方蒸着配向膜４３Ｂの蒸着方向を示している。垂直蒸着膜４３Ａは、画素電極基板４０の基板面に対して垂直方向から蒸着形成されたものであり、反射型画素電極４２の上面全体および画素間溝５０の底面全体に積層されている。斜方蒸着配向膜４３Ｂは、画素電極基板４０の基板面に対して斜め方向から蒸着形成されたものであり、垂直蒸着膜４３Ａを介して、反射型画素電極４２の上面全体および画素間溝５０の一部の領域５２に積層されている。この斜方蒸着配向膜４３Ｂの下層に垂直蒸着膜４３Ａが形成されている点が、本実施の形態の最大の特徴部分である。   FIG. 3 schematically shows the structure in the vicinity of the inter-pixel groove (groove portion between adjacent pixel electrodes) 50 in the pixel electrode substrate 40 and the alignment state of the vertical alignment liquid crystal 45. In FIG. 3, an arrow 85 indicates the deposition direction of the oblique deposition alignment film 43B. The vertical vapor deposition film 43A is formed by vapor deposition from a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate 40, and is laminated on the entire top surface of the reflective pixel electrode 42 and the entire bottom surface of the inter-pixel groove 50. The oblique vapor deposition alignment film 43B is formed by vapor deposition from an oblique direction with respect to the substrate surface of the pixel electrode substrate 40. Through the vertical vapor deposition film 43A, the entire upper surface of the reflective pixel electrode 42 and the inter-pixel groove 50 are formed. Are stacked in a part of the region 52. The point that the vertical vapor deposition film 43A is formed in the lower layer of the oblique vapor deposition alignment film 43B is the most characteristic part of the present embodiment.

垂直蒸着膜４３Ａおよび斜方蒸着配向膜４３Ｂとしては、透明電極基板３０側の斜方蒸着配向膜３３と同様、例えば二酸化珪素（ＳｉＯ2）に代表される酸化珪素による蒸着膜が用いられる。斜方蒸着配向膜４３Ｂの斜め蒸着時の蒸着角度を変えることにより、垂直配向液晶４５のプレティルト角がコントロールされる。通常、蒸着角度θは基板法線方向に対して、４５°〜６５°程度である。 As the vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B, for example, a vapor deposition film made of silicon oxide typified by silicon dioxide (SiO 2 ) is used similarly to the oblique vapor deposition alignment film 33 on the transparent electrode substrate 30 side. The pretilt angle of the vertically aligned liquid crystal 45 is controlled by changing the deposition angle during oblique deposition of the oblique deposition alignment film 43B. Usually, the vapor deposition angle θ is about 45 ° to 65 ° with respect to the normal direction of the substrate.

この反射型液晶表示素子で用いられる垂直配向液晶４５は、その分子長軸が、印加電圧がゼロの時にほぼ各基板面に対して垂直方向に配向し、電圧を印加すると面内に傾くことで透過率が変化するものである。駆動時に液晶分子の傾斜する方向が一様でないと明暗のむらが生じてしまうため、これを避けるために、あらかじめわずかなプレティルト角を一定方向（一般にはデバイスの対角方向）に与えて垂直配向させる必要がある。プレティルト角があまり大きいと垂直配向性が劣化し、黒レベルが上昇してコントラストを低下させる。従って、斜方蒸着配向膜３３，４３Ｂにより、一般には１°〜５°くらいの間にプレティルト角が制御される。   The vertical alignment liquid crystal 45 used in this reflective liquid crystal display element has its molecular long axis aligned in a direction substantially perpendicular to the surface of each substrate when the applied voltage is zero, and tilted in-plane when a voltage is applied. The transmittance changes. If the tilt direction of the liquid crystal molecules is not uniform during driving, uneven brightness will occur. To avoid this, a slight pretilt angle is applied in advance in a certain direction (generally the diagonal direction of the device) for vertical alignment. There is a need. If the pretilt angle is too large, the vertical alignment deteriorates, the black level increases, and the contrast decreases. Therefore, the pretilt angle is generally controlled between about 1 ° and 5 ° by the oblique deposition alignment films 33 and 43B.

図２は、この反射型液晶表示素子の駆動部の構成を示している。駆動部は、各画素内に形成される画素駆動回路６１と、表示領域６０の周辺に配置される、データドライバ６２および走査ドライバ６３等のロジック部とを備えている。データドライバ６２には、信号線６４を介して外部からの画像信号Ｄが入力される。画素駆動回路６１は、各反射型画素電極４２の下層に形成され、一般にスイッチングトランジスタＴ１と液晶に電圧を供給する補助容量Ｃ１とを有して構成されている。トランジスタＴ１には、垂直配向液晶４５の駆動電圧に対応した耐圧が要求され、一般にロジック部よりも高い耐圧プロセスで作製される。   FIG. 2 shows the configuration of the drive unit of the reflective liquid crystal display element. The drive unit includes a pixel drive circuit 61 formed in each pixel and logic units such as a data driver 62 and a scan driver 63 disposed around the display area 60. An external image signal D is input to the data driver 62 via the signal line 64. The pixel drive circuit 61 is formed below each reflective pixel electrode 42 and generally includes a switching transistor T1 and an auxiliary capacitor C1 that supplies a voltage to the liquid crystal. The transistor T1 is required to have a breakdown voltage corresponding to the driving voltage of the vertical alignment liquid crystal 45, and is generally manufactured by a higher breakdown voltage process than that of the logic portion.

画素駆動回路６１において、列方向にはデータ線７１が複数配置され、行方向には走査線７２が複数位置されている。各データ線７１と各走査線７２との交差点が、１画素に対応している。各トランジスタＴ１のソース電極は、データ線７１に接続され、ゲート電極は、走査線７２に接続されている。各トランジスタＴ１のドレイン電極は、各反射型画素電極４２と補助容量Ｃ１とに接続されている。各データ線７１は、データドライバ６２に接続され、このデータドライバ６２から画像信号が供給される。各走査線７２は、走査ドライバ６３に接続され、走査ドライバ６３から走査信号が順次供給される。   In the pixel driving circuit 61, a plurality of data lines 71 are arranged in the column direction, and a plurality of scanning lines 72 are positioned in the row direction. An intersection between each data line 71 and each scanning line 72 corresponds to one pixel. The source electrode of each transistor T1 is connected to the data line 71, and the gate electrode is connected to the scanning line 72. The drain electrode of each transistor T1 is connected to each reflective pixel electrode 42 and the auxiliary capacitor C1. Each data line 71 is connected to a data driver 62, and an image signal is supplied from the data driver 62. Each scanning line 72 is connected to the scanning driver 63, and scanning signals are sequentially supplied from the scanning driver 63.

次に、この反射型液晶表示素子の製造方法について説明する。なお、この反射型液晶表示素子の特徴部分は、画素電極基板４０における垂直蒸着膜４３Ａおよび斜方蒸着配向膜４３Ｂの構造にあるので、特に、これらの膜形成の方法を詳しく説明する。   Next, a method for manufacturing the reflective liquid crystal display element will be described. The characteristic part of this reflective liquid crystal display element is the structure of the vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B on the pixel electrode substrate 40. In particular, the method of forming these films will be described in detail.

図５（Ａ），（Ｂ）は、これらの膜形成に用いられる真空蒸着装置を示している。なお、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）の真空蒸着装置を図のＸ１方向から見た状態を示している。画素電極基板４０として、シリコン基板４１上に反射型画素電極４２が形成されたものを洗浄後、真空蒸着装置８０に導入する。なお、反射型画素電極４２は、例えば半導体プロセスにおいて、シリコン基板４１上に例えばアルミニウム等の金属膜を成膜した後、フォトリソグラフィ技術を用いて正方状に電極加工することにより形成される。   5A and 5B show a vacuum evaporation apparatus used for forming these films. Note that FIG. 5B shows a state in which the vacuum evaporation apparatus in FIG. 5A is viewed from the X1 direction in the drawing. A pixel electrode substrate 40 having a reflective pixel electrode 42 formed on a silicon substrate 41 is washed and then introduced into a vacuum deposition apparatus 80. The reflective pixel electrode 42 is formed by, for example, forming a metal film such as aluminum on the silicon substrate 41 in a semiconductor process and then processing the electrode into a square shape using a photolithography technique.

真空蒸着装置８０としては、基板の法線に対する蒸着粒子８３の入射方向を変えることができるよう、例えば基板回転機構を有するものを用いる。真空蒸着装置８０の内部は、膜形成時には真空状態に保たれる。このような基板回転機構を有する真空蒸着装置８０内において、まず、画素電極基板４０の基板面の法線方向と蒸着源８１からの蒸着粒子８３の入射方向とを一致させ（第１の蒸着位置）、基板面に対し垂直方向から垂直蒸着膜４３Ａの形成を行う。蒸着粒子８３としては、例えば酸化珪素を用いる。垂直蒸着膜４３Ａは、基板面に対し垂直方向から蒸着されるので、図３に示したように、反射型画素電極４２の上面全体および画素間溝５０の底面全体に形成される。   As the vacuum vapor deposition apparatus 80, for example, an apparatus having a substrate rotation mechanism is used so that the incident direction of the vapor deposition particles 83 with respect to the normal line of the substrate can be changed. The inside of the vacuum deposition apparatus 80 is kept in a vacuum state during film formation. In the vacuum vapor deposition apparatus 80 having such a substrate rotation mechanism, first, the normal direction of the substrate surface of the pixel electrode substrate 40 and the incident direction of the vapor deposition particles 83 from the vapor deposition source 81 are matched (first vapor deposition position). ), The vertical deposition film 43A is formed from the direction perpendicular to the substrate surface. As the vapor deposition particles 83, for example, silicon oxide is used. Since the vertical deposition film 43A is deposited from a direction perpendicular to the substrate surface, the vertical deposition film 43A is formed on the entire upper surface of the reflective pixel electrode 42 and the entire bottom surface of the inter-pixel groove 50 as shown in FIG.

その後、真空状態を維持した状態で、基板面の法線方向が蒸着粒子８３の入射方向に対して所定の角度θとなるように、画素電極基板４０を角度θ回転させて傾けることで（第２の蒸着位置）、基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜４３Ｂを蒸着形成する。蒸着源８１は、垂直蒸着膜４３Ａの形成時と同じものを使用し、蒸着粒子８３として、垂直蒸着膜４３Ａと同様、例えば酸化珪素を用いる。このようにして、基板面の法線方向に対して例えば４５°〜６５°の入射角度θで斜方蒸着配向膜４３Ｂを斜方蒸着する。面内入射方向は、従来と同様（図１１参照）、画素の対角方向とし、液晶分子のプレティルト角度が１°〜５°くらいになるように設計する。斜方蒸着配向膜４３Ｂは、基板面に対して斜め方向から蒸着されるので、図３に示したように、垂直蒸着膜４３Ａを介して反射型画素電極４２の上面全体と画素間溝５０の一部の領域５２に形成される。画素間溝５０において、斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていない領域５１では、垂直蒸着膜４３Ａが液晶に接することとなる。   Thereafter, in a state where the vacuum state is maintained, the pixel electrode substrate 40 is tilted by rotating the pixel electrode substrate 40 by an angle θ so that the normal direction of the substrate surface becomes a predetermined angle θ with respect to the incident direction of the vapor deposition particles 83 (first 2), an oblique deposition alignment film 43B is formed by vapor deposition from an oblique direction with respect to the substrate surface. The vapor deposition source 81 is the same as that used to form the vertical vapor deposition film 43A, and, for example, silicon oxide is used as the vapor deposition particles 83 in the same manner as the vertical vapor deposition film 43A. In this manner, the oblique deposition film 43B is obliquely deposited at an incident angle θ of, for example, 45 ° to 65 ° with respect to the normal direction of the substrate surface. The in-plane incident direction is designed to be the diagonal direction of the pixels as in the conventional case (see FIG. 11), and the pretilt angle of the liquid crystal molecules is about 1 ° to 5 °. Since the oblique deposition film 43B is deposited from an oblique direction with respect to the substrate surface, as shown in FIG. 3, the entire upper surface of the reflective pixel electrode 42 and the inter-pixel groove 50 are formed via the vertical deposition film 43A. A part of the region 52 is formed. In the inter-pixel groove 50, in the region 51 where the oblique deposition alignment film 43B is not formed, the vertical deposition film 43A is in contact with the liquid crystal.

以上のように、垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとの膜形成は、１台の真空蒸着装置８０内で連続的に行うことが好ましい。「連続的」とは真空状態を破らず、連続して成膜するということを意味する。２つの膜を、別々の装置で成膜したり、あるいは垂直蒸着膜４３Ａを形成後、一度真空状態を破ってから斜方蒸着配向膜４３Ｂを成膜する方法も可能ではあるが、その場合には、それらの膜の界面での水分吸着や不純物付着による特性の劣化や接合強度の低下に注意する必要がある。   As described above, the film formation of the vertical vapor deposition film 43 </ b> A and the oblique vapor deposition alignment film 43 </ b> B is preferably performed continuously in one vacuum vapor deposition apparatus 80. “Continuous” means that the film is continuously formed without breaking the vacuum state. Although it is possible to form the two films with different apparatuses, or after forming the vertical vapor deposition film 43A, break the vacuum once and then form the oblique vapor deposition alignment film 43B. Therefore, it is necessary to pay attention to deterioration of characteristics and reduction of bonding strength due to moisture adsorption and impurity adhesion at the interface of these films.

図６に、以上の方法で実際に膜形成した膜構造の断面写真を示す。これは、反射型画素電極４２としてのアルミニウム電極の上に、酸化珪素からなる垂直蒸着膜と斜方蒸着膜とを形成したものである。真空状態を破らずに連続して成膜したため、垂直蒸着膜の表面には水分吸着等の問題が起こらず、膜の連続性が極めて良好な状態で斜方蒸着膜が形成されていることが分かる。   FIG. 6 shows a cross-sectional photograph of the film structure actually formed by the above method. In this example, a vertical vapor deposition film and an oblique vapor deposition film made of silicon oxide are formed on an aluminum electrode as the reflective pixel electrode 42. Since the film was continuously formed without breaking the vacuum state, problems such as moisture adsorption did not occur on the surface of the vertical vapor deposited film, and the oblique vapor deposited film was formed with extremely good film continuity. I understand.

この手法によれば、図６に示すように、垂直蒸着膜から斜方蒸着膜まで一連の構造を持った膜が形成される。いうならば、この配向膜は、垂直下地膜と斜方蒸着膜とが一体になった酸化珪素配向膜といえ、従来の斜方蒸着膜のみの構成とはまったく異なるものである。   According to this method, as shown in FIG. 6, a film having a series of structures from a vertical vapor deposition film to an oblique vapor deposition film is formed. In other words, this alignment film is a silicon oxide alignment film in which a vertical base film and an oblique vapor deposition film are integrated, and is completely different from a conventional oblique vapor deposition film alone.

垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとの膜形成を連続的に行う場合、図５（Ａ），（Ｂ）に示したように蒸着源８１と基板の設置位置との間にシャッタ８２を配置し、このシャッタ８２を図示しない基板回転機構と連動させて開閉させるようにすると良い。すなわち、まずシャッタ８２を開けた状態で垂直蒸着膜４３Ａの形成を行った後、シャッタ８２を閉じて一旦蒸着粒子８３を遮蔽する。その間に基板を基板回転機構によって回転させ、再びシャッタ８２を開け、斜方蒸着配向膜４３Ｂの形成を行う。このように、シャッタ８２などを用いて一旦蒸着粒子８３を遮蔽して斜方蒸着配向膜４３Ｂの形成を行うことが好ましいが、これに限らず、シャッタ８２を設けずに、垂直蒸着しながら途中で基板を回転させて連続的に斜方蒸着へと移行するような方法も可能である。   When the film formation of the vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B is continuously performed, as shown in FIGS. 5A and 5B, the shutter 82 is provided between the vapor deposition source 81 and the substrate installation position. And the shutter 82 is preferably opened and closed in conjunction with a substrate rotation mechanism (not shown). That is, first, the vertical vapor deposition film 43A is formed with the shutter 82 opened, and then the shutter 82 is closed to temporarily shield the vapor deposition particles 83. Meanwhile, the substrate is rotated by the substrate rotating mechanism, the shutter 82 is opened again, and the oblique deposition alignment film 43B is formed. As described above, it is preferable to form the oblique vapor deposition alignment film 43B by shielding the vapor deposition particles 83 once using the shutter 82 or the like. However, the present invention is not limited to this. It is also possible to rotate the substrate and continuously shift to oblique deposition.

以上のような膜の製造方法により、反射型画素電極４２の上面には、垂直蒸着膜４３Ａを介して斜方蒸着配向膜４３Ｂが全体的に形成され、画素間溝５０については、垂直蒸着膜４３Ａを介して部分的に斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成される。この膜構造により得られる作用、効果については後述する。   By the film manufacturing method as described above, the oblique deposition alignment film 43B is formed as a whole on the upper surface of the reflective pixel electrode 42 via the vertical deposition film 43A. An obliquely deposited alignment film 43B is partially formed through 43A. Operations and effects obtained by this film structure will be described later.

画素間溝５０部分に事前に成膜する垂直蒸着膜４３Ａの厚さは、あまりに薄いと良質な膜ができず垂直規制力が発生しないため最低１０ｎｍ以上あることが好ましい。上限に関してはあまりに厚いと成膜時間が長くなり膜質が劣化して実用性に乏しくなるので厚さは５００ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍの厚さが実用上、特に適している。   The thickness of the vertical vapor-deposited film 43A formed in advance in the inter-pixel groove 50 is preferably at least 10 nm because a high-quality film cannot be formed and no vertical regulating force is generated if it is too thin. Regarding the upper limit, if it is too thick, the film formation time becomes long and the film quality deteriorates and becomes impractical, so the thickness is preferably 500 nm or less. More preferably, a thickness of 30 nm to 100 nm is particularly suitable for practical use.

ところで、以上では、反射型画素電極４２の上に直接、垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとが順に積層されている例について説明したが、反射型画素電極４２の上に他の膜が存在し、その膜の上に垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとが順に積層されている構造であっても良い。例えば、反射型画素電極４２としてアルミニウム電極を用いた場合、その表面は化学的に不安定なため、一般に酸化物もしくは窒化物から成るパッシベーション膜と称する保護膜で画素電極全体を覆う場合があるが、この場合にも本実施の形態による配向膜の構造は有効である。   In the above description, the example in which the vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B are sequentially laminated on the reflective pixel electrode 42 has been described. However, another film is formed on the reflective pixel electrode 42. The vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B may be sequentially laminated on the film. For example, when an aluminum electrode is used as the reflective pixel electrode 42, the entire surface of the pixel electrode may be covered with a protective film generally called a passivation film made of oxide or nitride because the surface is chemically unstable. Also in this case, the structure of the alignment film according to the present embodiment is effective.

図４は、このパッシベーション膜が積層された膜構造の例を示している。このパッシベーション膜４４は、例えばＬＳＩプロセスにおいて、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）などの成膜技術で作成され、反射型画素電極４２の上面全体、ならびに画素間溝５０の側面、および底辺に亘って、全体にほぼ均一にオーバコートされる。このパッシベーション膜４４の上に、図３に示した膜構造と同様に、垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとが順に積層されていても良い。   FIG. 4 shows an example of a film structure in which this passivation film is laminated. The passivation film 44 is formed by a film forming technique such as CVD (Chemical Vapor Deposition) in an LSI process, for example, and covers the entire top surface of the reflective pixel electrode 42 and the side surfaces and bottom sides of the inter-pixel grooves 50. Almost uniformly overcoated. On the passivation film 44, similarly to the film structure shown in FIG. 3, a vertical vapor deposition film 43A and an oblique vapor deposition alignment film 43B may be sequentially laminated.

その他にも、反射型画素電極４２の反射率をより向上させるために、酸化膜や窒化膜からなる屈折率の異なる膜の積層膜で誘電体ミラーを電極上に設ける場合があるが、この場合にも本実施の形態による配向膜の構造は有効である。   In addition, in order to further improve the reflectance of the reflective pixel electrode 42, a dielectric mirror may be provided on the electrode with a laminated film of films having different refractive indexes, such as an oxide film or a nitride film. In addition, the structure of the alignment film according to the present embodiment is effective.

次に、以上のように構成された反射型液晶表示素子の作用、動作を説明する。   Next, the operation and operation of the reflective liquid crystal display element configured as described above will be described.

この反射型液晶表示素子では、透明電極基板３０側から入射し、垂直配向液晶４５を通過した入射光Ｌ１を、反射型画素電極４２の反射機能により反射させる。反射型画素電極４２において反射された光Ｌ１は、入射時とは逆方向に、垂直配向液晶４５および透明電極基板３０を通過して出射される。このとき、垂直配向液晶４５は、対向する電極間の電位差に応じて、その光学的な特性が変化し、通過する光Ｌ１を変調させる。この光変調により階調表現が可能となり、その変調された光Ｌ２が映像表示に利用される。   In this reflective liquid crystal display element, incident light L1 incident from the transparent electrode substrate 30 side and passing through the vertical alignment liquid crystal 45 is reflected by the reflective function of the reflective pixel electrode 42. The light L <b> 1 reflected by the reflective pixel electrode 42 is emitted through the vertical alignment liquid crystal 45 and the transparent electrode substrate 30 in the direction opposite to the direction of incidence. At this time, the optical characteristics of the vertically aligned liquid crystal 45 change according to the potential difference between the opposing electrodes, and modulate the passing light L1. This light modulation enables gradation expression, and the modulated light L2 is used for video display.

垂直配向液晶４５への電圧印加は、図２に示した画素駆動回路６１によって行われる。データドライバ６２は、信号線６４を介して入力された外部からの画像信号Ｄに応じて、データ線７１に画像信号を供給する。走査ドライバ６３は、所定のタイミングで各走査線７２に走査信号を順次供給する。これにより、走査線７２からの走査信号によって走査され、かつデータ線７１からの画像信号が印加された部分の画素が選択的に駆動される。   The voltage application to the vertical alignment liquid crystal 45 is performed by the pixel drive circuit 61 shown in FIG. The data driver 62 supplies an image signal to the data line 71 in accordance with an external image signal D input via the signal line 64. The scan driver 63 sequentially supplies a scan signal to each scan line 72 at a predetermined timing. As a result, the pixels in the portion scanned with the scanning signal from the scanning line 72 and applied with the image signal from the data line 71 are selectively driven.

この反射型液晶表示素子では、反射型画素電極４２の上面に、図３に示したように、垂直蒸着膜４３Ａを介して斜方蒸着配向膜４３Ｂが全体的に形成され、画素間溝５０については、垂直蒸着膜４３Ａを介して部分的に斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていることにより、以下の作用、効果が得られる。   In this reflection type liquid crystal display element, as shown in FIG. 3, an oblique deposition film 43B is entirely formed on the upper surface of the reflection pixel electrode 42 via a vertical deposition film 43A. Since the oblique vapor deposition alignment film 43B is partially formed through the vertical vapor deposition film 43A, the following operations and effects can be obtained.

例えば酸化珪素による蒸着膜の場合、その蒸着方向に液晶分子を配向させる性質があるので、垂直蒸着膜４３Ａに接している部分については、液晶分子が基板面に対して垂直に配向され、斜方蒸着配向膜４３Ｂに接している部分については、液晶分子が基板面に対して斜めにプレティルト角をつけた状態で配向される。   For example, a deposited film made of silicon oxide has a property of aligning liquid crystal molecules in the deposition direction, so that the liquid crystal molecules are aligned perpendicularly to the substrate surface in a portion in contact with the vertical deposited film 43A, and obliquely In the portion in contact with the vapor deposition alignment film 43B, the liquid crystal molecules are aligned with a pretilt angle obliquely with respect to the substrate surface.

このため、図３に示したように、反射型画素電極４２の上面では、垂直蒸着膜４３Ａを介して斜方蒸着配向膜が全体的に形成されていることにより、液晶分子が、電圧印加時にその蒸着方向（一般に画素対角４５°方向）に倒れるように、例えば１°〜５°くらいのわずかなプレティルト角をつけた状態で配向される。画素間溝５０では、斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されている領域５２については、同様にプレティルト角をつけた状態で液晶分子が配向される。なお、斜方蒸着配向膜４３Ｂの下層に成膜された垂直蒸着膜４３Ａは、その上層の斜方蒸着配向膜４３Ｂには配向に関して影響せず、液晶に直接接している斜方蒸着配向膜４３Ｂで決まるプレティルト角が実現される。一方、斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていない領域５１については、液晶分子が垂直蒸着膜４３Ａによって、基板面に対して完全に垂直方向に配向される。   For this reason, as shown in FIG. 3, the oblique deposition alignment film is entirely formed on the upper surface of the reflective pixel electrode 42 via the vertical deposition film 43A. The film is oriented with a slight pretilt angle of, for example, about 1 ° to 5 ° so as to tilt in the deposition direction (generally 45 ° diagonal direction of the pixel). In the inter-pixel groove 50, in the region 52 where the oblique deposition alignment film 43B is formed, the liquid crystal molecules are similarly aligned with a pretilt angle. Note that the vertical vapor deposition film 43A formed below the oblique vapor deposition alignment film 43B does not affect the alignment of the upper oblique vapor deposition alignment film 43B, and the oblique vapor deposition alignment film 43B in direct contact with the liquid crystal. The pretilt angle determined by is realized. On the other hand, in the region 51 where the oblique deposition alignment film 43B is not formed, the liquid crystal molecules are aligned in the direction perpendicular to the substrate surface by the vertical deposition film 43A.

従来の膜構造では、画素間溝５０における斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていない領域５１については、図１０に示したように、垂直性を有さない、配向の乱れた状態となっていたため、垂直配向している反射型画素電極４２上の液晶の配向に悪影響を及ぼす。   In the conventional film structure, the region 51 where the obliquely deposited alignment film 43B in the inter-pixel groove 50 is not formed is in a state in which the alignment is not disordered as shown in FIG. Therefore, the alignment of the liquid crystal on the reflective pixel electrode 42 that is vertically aligned is adversely affected.

これに対し、本実施の形態による膜構造では、その領域５１については、垂直蒸着膜４３Ａによって液晶が垂直方向に配向されるため、反射型画素電極４２上の液晶の垂直配向性にほとんど悪影響を及ぼさない。なお、垂直蒸着膜４３Ａによる液晶の配向と斜方蒸着配向膜４３Ｂによる液晶の配向とでは、斜方蒸着配向膜４３Ｂによる配向の方が、プレティルト角を持つ分、わずかに異なる。しかしながら、通常、プレティルト角は１°〜５°とわずかなので、事実上、それらの配向の違いは表示画質としてまったく認識できない。画素間溝５０部分の液晶は基板面に対して完全に垂直方向に配向しており、面内へ傾くことに対してエネルギー的に等価であるため、電圧印加で倒れる場合は画素面上に存在する液晶との相互作用で、垂直蒸着膜４３Ａ上の液晶分子も画素面上の液晶分子と同じ方向に倒れる。このため、結果として従来のデバイスのような配向不良はまったく見いだされない。この結果、本実施の形態では、液晶分子が全体的に均一に垂直配向した状態を安定して実現できる。このため、本実施の形態では、従来のような画素間溝周辺での配向不良が発生せず、表示領域全域に亘って安定的な垂直配向が実現される。これにより、良好な画質が実現される。   On the other hand, in the film structure according to the present embodiment, in the region 51, the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film 43A. Therefore, the vertical alignment property of the liquid crystal on the reflective pixel electrode 42 is almost adversely affected. Does not reach. It should be noted that the orientation of the liquid crystal by the vertical deposition film 43A and the orientation of the liquid crystal by the oblique deposition alignment film 43B are slightly different from each other because of the pretilt angle. However, since the pretilt angle is usually as small as 1 ° to 5 °, the difference in orientation is virtually unrecognizable as display image quality. The liquid crystal in the inter-pixel groove 50 portion is aligned in a completely vertical direction with respect to the substrate surface and is energetically equivalent to tilting in the plane. Due to the interaction with the liquid crystal, the liquid crystal molecules on the vertical deposition film 43A also fall in the same direction as the liquid crystal molecules on the pixel surface. For this reason, as a result, the orientation defect like the conventional device is not found at all. As a result, in the present embodiment, it is possible to stably realize a state where the liquid crystal molecules are uniformly vertically aligned as a whole. For this reason, in this embodiment, the alignment defect around the groove between the pixels as in the conventional case does not occur, and stable vertical alignment is realized over the entire display region. Thereby, good image quality is realized.

以上説明したように、本実施の形態に係る反射型液晶表示素子によれば、反射型画素電極４２の上面全体および画素間溝５０の底面全体に垂直蒸着膜４３Ａが蒸着形成され、その垂直蒸着膜４３Ａを介して、反射型画素電極４２の上面全体および隣接する画素間溝５０の一部の領域５２に、画素電極基板４０の基板面に対して斜め方向から斜方蒸着配向膜４３Ｂが蒸着形成されているので、画素間溝５０における斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていない領域５１では、垂直蒸着膜４３Ａによって液晶が垂直方向に配向される。これにより、画素間溝５０の構造に起因する配向不良、配向むらを抑制し、良好な画質を実現することができる。   As described above, according to the reflective liquid crystal display element according to the present embodiment, the vertical vapor deposition film 43A is formed on the entire upper surface of the reflective pixel electrode 42 and the entire bottom surface of the inter-pixel groove 50, and the vertical vapor deposition is performed. Through the film 43 </ b> A, the oblique deposition alignment film 43 </ b> B is deposited from the oblique direction with respect to the substrate surface of the pixel electrode substrate 40 over the entire upper surface of the reflective pixel electrode 42 and a part of the adjacent inter-pixel groove 50. Since it is formed, in the region 51 where the oblique vapor deposition alignment film 43B is not formed in the inter-pixel groove 50, the liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film 43A. Thereby, it is possible to suppress poor alignment and uneven alignment due to the structure of the inter-pixel groove 50, and to realize a good image quality.

ここで、本実施の形態と上記特許文献１（特開２００１−５００３号公報）記載の技術との差異を説明する。   Here, a difference between the present embodiment and the technique described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-5003) will be described.

上記特許文献１記載の技術は、２回の蒸着によって画素間溝５０に酸化珪素の配向膜を形成する点では本実施の形態と共通点があるものの、基本的にはまったく異なる技術である。上記特許文献１記載の技術は、第１配向膜と第２配向膜とがいずれも斜方蒸着配向膜であること、および面内で基板を回転させて面内の入射角度を変えて成膜することを特徴としている。これに対して、本実施の形態では、第１の配向膜は斜方蒸着ではなく垂直方向から蒸着される垂直蒸着膜４３Ａでなければならない。これにより、配向膜の製造過程において、第１から第２の配向膜への移行は面内での入射方向を変えるのではなく、図５に示したように、基板法線からの入射方向を変える必要がある。このように、本実施の形態では、斜方蒸着配向膜４３Ｂの形成前に垂直蒸着膜４３Ａを形成するため、構造的にも、その製造方法の点でも上記特許文献１記載の技術とは異なる。   The technique described in Patent Document 1 is basically a completely different technique from the point of forming a silicon oxide alignment film in the inter-pixel groove 50 by two depositions, although it is similar to the present embodiment. According to the technique described in Patent Document 1, the first alignment film and the second alignment film are both oblique deposition alignment films, and the substrate is rotated in the plane to change the incident angle in the plane. It is characterized by doing. On the other hand, in the present embodiment, the first alignment film must be the vertical deposition film 43A deposited from the vertical direction instead of oblique deposition. Thereby, in the process of manufacturing the alignment film, the transition from the first alignment film to the second alignment film does not change the incident direction in the plane, but changes the incident direction from the substrate normal as shown in FIG. Need to change. As described above, in this embodiment, since the vertical vapor deposition film 43A is formed before the oblique vapor deposition alignment film 43B is formed, it differs from the technique described in Patent Document 1 in terms of structure and manufacturing method. .

特に、本実施の形態では、第１の蒸着を基板面に斜めに蒸着するのではなく垂直方向に蒸着することにしているが、これは斜方状態で成膜すると、その方向にプレティルトがつき局所的なむらの要因になることと、画素溝部分全域を一度に効果的に成膜するためには垂直方向でなければできないからである。同じ酸化珪素材料であっても、垂直方向の蒸着と斜め方向からの蒸着で形成される膜は、図６に示すように、構造の形態がまったく異なり異質のものである。斜方蒸着膜は、一般に入射方向に傾いた柱状構造を形成する。   In particular, in this embodiment, the first vapor deposition is not performed obliquely on the substrate surface, but is performed in the vertical direction. However, when the film is formed in an oblique state, a pretilt is added in that direction. This is because it causes local unevenness, and the entire region of the pixel trench can be effectively formed at a time only in the vertical direction. Even if the same silicon oxide material is used, films formed by vertical deposition and oblique deposition have different structures and are different from each other as shown in FIG. The oblique vapor deposition film generally forms a columnar structure inclined in the incident direction.

＜液晶表示装置の説明＞
次に、図１に示した構成の反射型液晶表示素子を使用した液晶表示装置の例について説明する。ここでは、図７に示したように、反射型液晶表示素子をライトバルブとして使用した反射型液晶プロジェクタの例について説明する。 <Description of liquid crystal display device>
Next, an example of a liquid crystal display device using the reflective liquid crystal display element having the configuration shown in FIG. 1 will be described. Here, as shown in FIG. 7, an example of a reflective liquid crystal projector using a reflective liquid crystal display element as a light valve will be described.

図７に示した反射型液晶プロジェクタは、赤、緑および青の各色用の液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを３枚用いてカラー画像表示を行う、いわゆる３板方式のものである。この反射型液晶プロジェクタは、光軸１０に沿って、光源１１と、ダイクロイックミラー１２，１３と、全反射ミラー１４とを備えている。この反射型液晶プロジェクタは、また、偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７と、合成プリズム１８と、投射レンズ１９と、スクリーン２０とを備えている。   The reflective liquid crystal projector shown in FIG. 7 is a so-called three-plate system that displays color images using three liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B for red, green, and blue. The reflective liquid crystal projector includes a light source 11, dichroic mirrors 12 and 13, and a total reflection mirror 14 along the optical axis 10. The reflective liquid crystal projector also includes polarization beam splitters 15, 16, 17, a combining prism 18, a projection lens 19, and a screen 20.

光源１１は、カラー画像表示に必要とされる、赤色光（Ｒ）、青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）を含んだ白色光を発するものであり、例えばハロゲンランプ、メタルハライドランプまたはキセノンランプなどにより構成されている。   The light source 11 emits white light including red light (R), blue light (B), and green light (G) required for color image display. For example, a halogen lamp, a metal halide lamp, or a xenon lamp is used. Etc.

ダイクロイックミラー１２は、光源１１からの光を、青色光とその他の色光とに分離する機能を有している。ダイクロイックミラー１３は、ダイクロイックミラー１２を通過した光を、赤色光と緑色光とに分離する機能を有している。全反射ミラー１４は、ダイクロイックミラー１２によって分離された青色光を、偏光ビームスプリッタ１７に向けて反射するようになっている。   The dichroic mirror 12 has a function of separating light from the light source 11 into blue light and other color lights. The dichroic mirror 13 has a function of separating light that has passed through the dichroic mirror 12 into red light and green light. The total reflection mirror 14 reflects the blue light separated by the dichroic mirror 12 toward the polarization beam splitter 17.

偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７は、それぞれ、赤色光、緑色光および青色光の光路に沿って設けられている。これらの偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７は、それぞれ、偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａを有し、この偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａにおいて、入射した各色光を互いに直交する２つの偏光成分に分離する機能を有している。偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａは、一方の偏光成分（例えばＳ偏光成分）を反射し、他方の偏光成分（例えばＰ偏光成分）は透過するようになっている。   The polarization beam splitters 15, 16, and 17 are provided along the optical paths of red light, green light, and blue light, respectively. These polarization beam splitters 15, 16, and 17 have polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A, respectively. In the polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A, incident color lights are converted into two polarization components orthogonal to each other. Has the function of separating. The polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A reflect one polarization component (for example, S polarization component) and transmit the other polarization component (for example, P polarization component).

液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、上述した構成の反射型液晶表示素子（図１）によって構成されている。これらの液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂには、偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７の偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａによって分離された所定の偏光成分（例えばＳ偏光成分）の色光が入射されるようになっている。液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、画像信号に基づいて与えられた駆動電圧に応じて駆動され、入射光を変調させると共に、その変調された光を偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７に向けて反射する機能を有している。   The liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B are configured by the reflective liquid crystal display element (FIG. 1) having the above-described configuration. The liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B receive color light of a predetermined polarization component (for example, S polarization component) separated by the polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A of the polarization beam splitters 15, 16, and 17, respectively. It is like that. The liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B are driven according to a drive voltage applied based on an image signal, modulate incident light, and direct the modulated light toward the polarization beam splitters 15, 16, and 17. It has the function of reflecting.

合成プリズム１８は、液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂから出射され、偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７を通過した所定の偏光成分（例えばＰ偏光成分）の色光を、合成する機能を有している。投射レンズ１９は、合成プリズム１８から出射された合成光を、スクリーン２０に向けて投射する投射手段としての機能を有している。   The synthesizing prism 18 has a function of synthesizing color lights of predetermined polarization components (for example, P-polarization components) emitted from the liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B and passing through the polarization beam splitters 15, 16, and 17. . The projection lens 19 has a function as a projection unit that projects the combined light emitted from the combining prism 18 toward the screen 20.

以上のように構成された反射型液晶プロジェクタにおいて、光源１１から出射された白色光は、まず、ダイクロイックミラー１２の機能によって青色光とその他の色光（赤色光および緑色光）とに分離される。このうち青色光は、全反射ミラー１４の機能によって、偏光ビームスプリッタ１７に向けて反射される。一方、赤色光および緑色光は、ダイクロイックミラー１３の機能によって、さらに、赤色光と緑色光とに分離される。分離された赤色光および緑色光は、それぞれ、偏光ビームスプリッタ１５，１６に入射される。   In the reflection type liquid crystal projector configured as described above, the white light emitted from the light source 11 is first separated into blue light and other color lights (red light and green light) by the function of the dichroic mirror 12. Of these, blue light is reflected toward the polarization beam splitter 17 by the function of the total reflection mirror 14. On the other hand, red light and green light are further separated into red light and green light by the function of the dichroic mirror 13. The separated red light and green light are incident on the polarization beam splitters 15 and 16, respectively.

偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７は、入射した各色光を、偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａにおいて、互いに直交する２つの偏光成分に分離する。このとき、偏光分離面１５Ａ，１６Ａ，１７Ａは、一方の偏光成分（例えばＳ偏光成分）を液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂに向けて反射する。   The polarization beam splitters 15, 16, and 17 separate each incident color light into two polarization components orthogonal to each other on the polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A. At this time, the polarization separation surfaces 15A, 16A, and 17A reflect one polarization component (for example, the S polarization component) toward the liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B.

液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、画像信号に基づいて与えられた駆動電圧に応じて駆動され、入射した所定の偏光成分の色光を画素単位で変調させる。このとき、液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、図１に示した反射型液晶表示素子によって構成されているので、コントラストなどの特性や画質に関して、良好な特性を実現できる。   The liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B are driven according to a drive voltage given based on an image signal, and modulate incident color light of a predetermined polarization component in units of pixels. At this time, since the liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B are configured by the reflective liquid crystal display element shown in FIG. 1, good characteristics can be realized with respect to characteristics such as contrast and image quality.

液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、変調した各色光を偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７に向けて反射する。偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７は、液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂからの反射光（変調光）のうち、所定の偏光成分（例えばＰ偏光成分）のみを通過させ、合成プリズム１８に向けて出射する。合成プリズム１８は、偏光ビームスプリッタ１５，１６，１７を通過した所定の偏光成分の色光を合成し、投射レンズ１９に向けて出射する。投射レンズ１９は、合成プリズム１８から出射された合成光を、スクリーン２０に向けて投射する。これにより、スクリーン２０に、液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂによって変調された光に応じた映像が投影され、所望の映像表示がなされる。   The liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B reflect the modulated color lights toward the polarization beam splitters 15, 16, and 17, respectively. The polarization beam splitters 15, 16, and 17 allow only predetermined polarization components (for example, P-polarization components) out of the reflected light (modulated light) from the liquid crystal light valves 21 R, 21 G, and 21 B to pass toward the combining prism 18. Exit. The synthesizing prism 18 synthesizes the color light of a predetermined polarization component that has passed through the polarization beam splitters 15, 16, and 17 and emits it toward the projection lens 19. The projection lens 19 projects the combined light emitted from the combining prism 18 toward the screen 20. As a result, an image corresponding to the light modulated by the liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B is projected onto the screen 20, and a desired image is displayed.

以上説明したように、本実施の形態に係る反射型液晶プロジェクタによれば、画素電極基板４０として、垂直蒸着膜４３Ａと斜方蒸着配向膜４３Ｂとが積層された構造（図３）を有する反射型液晶表示素子（図１）を、液晶ライトバルブ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂとして用いるようにしたので、高いコントラストと良好な画質で映像表示を実現できる。   As described above, according to the reflective liquid crystal projector according to the present embodiment, the pixel electrode substrate 40 has a structure (FIG. 3) in which the vertical vapor deposition film 43A and the oblique vapor deposition alignment film 43B are stacked. Since the liquid crystal display element (FIG. 1) is used as the liquid crystal light valves 21R, 21G, and 21B, video display can be realized with high contrast and good image quality.

次に、本実施の形態に係る反射型液晶表示素子の具体的な特性を実施例として示す。以下、実施例を説明する前に、まず、従来の反射型液晶表示素子の特性を比較例として示す。   Next, specific characteristics of the reflective liquid crystal display element according to this embodiment are shown as examples. Hereinafter, before describing examples, characteristics of a conventional reflective liquid crystal display element will be described as a comparative example.

［比較例１〜４］
以下、比較例１〜４について、まとめて説明する。比較例となる反射型液晶表示素子の試料を以下のように作製した。まず、透明電極が成膜されたガラス基板と反射型画素電極としてアルミニウム電極が形成されたシリコン駆動基板とを洗浄後、蒸着装置に導入し、配向膜として酸化珪素膜を、基板への蒸着角度５０〜５５°の範囲で斜め蒸着して形成した。配向膜の膜厚は５０ｎｍとした。液晶のプレティルト角は約２．５°になるように配向制御した。その後、配向膜が形成された各基板を対向配置して、その間に２μｍ径のガラスビーズを適当な数だけ散布して、張り合わせ、さらに、メルク社製の誘電異方性Δεが負の垂直液晶材料を注入し、これにより反射型液晶表示素子の試料を作製した。シリコン駆動基板上のアルミニウム電極の画素ピッチＷ２（図９参照）は、９μｍで、画素間の溝幅Ｗ１（図９参照）を、０．６μｍと０．３５μｍとの２種類を用意した（図８の比較例１，２）。また、アルミニウム電極の上に、画素電極を保護するためのＳｉＯ2系のパッシベーション膜を４５ｎｍの厚さでオーバコートしたものに関しても同様な方法で作製した（図８の比較例３，４）。 [Comparative Examples 1-4]
Hereinafter, Comparative Examples 1 to 4 will be described together. A sample of a reflective liquid crystal display element as a comparative example was produced as follows. First, after cleaning a glass substrate on which a transparent electrode is formed and a silicon driving substrate on which an aluminum electrode is formed as a reflective pixel electrode, the glass substrate is introduced into a deposition apparatus, and a silicon oxide film as an alignment film is deposited on the substrate. It was formed by oblique deposition in the range of 50 to 55 °. The thickness of the alignment film was 50 nm. The alignment was controlled so that the pretilt angle of the liquid crystal was about 2.5 °. Thereafter, the substrates on which the alignment films are formed are arranged to face each other, and a suitable number of glass beads having a diameter of 2 μm are dispersed between them, and bonded together. Further, a vertical liquid crystal having a negative dielectric anisotropy Δε manufactured by Merck The material was injected, thereby preparing a sample of a reflective liquid crystal display element. The pixel pitch W2 (see FIG. 9) of the aluminum electrodes on the silicon driving substrate is 9 μm, and the groove width W1 between the pixels (see FIG. 9) is prepared in two types, 0.6 μm and 0.35 μm (see FIG. 9). 8 comparative examples 1, 2). In addition, an overcoat of a SiO 2 passivation film for protecting the pixel electrode on the aluminum electrode with a thickness of 45 nm was produced in the same manner (Comparative Examples 3 and 4 in FIG. 8).

作製後、黒レベルでの液晶配向の状態を顕微鏡で観察した結果を、後述の実施例の結果と共に、図８にまとめて示す。すべての試料（比較例１〜４）で、反射型画素電極のエッジ周辺や画素間溝付近に、黒レベルが画素部分よりも高めで、明らかにその周辺と異なるむらを有する不均一な配向領域が出現した。この部分の液晶分子の配列を偏向顕微鏡の偏光軸を回転させて調べたところ、有効画素内では完全な垂直配向しているのに対して、画素間溝内の液晶は所望の垂直成分がほとんどなく、ランダム的な配向になっていることが分かった。また、各試料に電圧を印加して液晶を駆動したところ、画素上面は通常通り、電圧の大きさに伴って反射率が増加し白レベルになっていくのに対して、画素間溝付近は電圧をかなり掛ければ白レベルに達するものの、明らかに中間調電圧では反応が鈍く、このため中間調表示で、画素周辺が画素内と明るさが異なるようなむらが観測された。この傾向は、画素電極上にパッシベーション膜が有るか否かに関わらず、同様に観測された。   The results of observation of the liquid crystal alignment state at the black level with a microscope after fabrication are shown in FIG. 8 together with the results of Examples described later. In all the samples (Comparative Examples 1 to 4), a non-uniform alignment region having a black level higher than that of the pixel portion and clearly different from the periphery in the vicinity of the edge of the reflective pixel electrode and in the vicinity of the inter-pixel groove. Appeared. When the alignment of the liquid crystal molecules in this part was examined by rotating the polarization axis of the deflection microscope, the liquid crystal in the inter-pixel groove had almost the desired vertical component, whereas the liquid crystal in the inter-pixel groove was almost perfectly aligned in the effective pixel. It was found that the orientation was random. In addition, when the liquid crystal was driven by applying a voltage to each sample, the reflectance of the upper surface of the pixel increased as the voltage increased and became a white level as usual. Although the white level is reached when the voltage is applied considerably, the response is obviously slow at the halftone voltage. Therefore, in the halftone display, unevenness in the brightness around the pixel is observed. This tendency was similarly observed regardless of whether or not a passivation film was present on the pixel electrode.

［実施例１〜４］
以下、実施例１〜４について、まとめて説明する。基本的に、画素電極上の配向膜以外については、上記比較例と同じ方法・仕様で、反射型液晶表示素子の試料を作製した。すなわち、透明電極が成膜されたガラス基板と反射型画素電極としてアルミニウム電極が形成されたシリコン駆動基板とを洗浄後、配向膜を以下に述べる方法で蒸着形成し、その後、それら一対の基板間に、メルク社製の誘電異方性Δεが負の垂直液晶材料を注入した反射型液晶表示素子を作製した。シリコン駆動基板の仕様も上記比較例と同じにし、画素ピッチＷ２は、９μｍで、画素間の溝幅Ｗ１を、０．６μｍと０．３５μｍとの２種類を用意した（図８の実施例１，２）。アルミニウム電極の上に、パッシベーション膜が設けられたものも同様に作製した（図８の実施例３，４）。 [Examples 1 to 4]
Hereinafter, Examples 1 to 4 will be described together. Basically, a sample of a reflective liquid crystal display element was produced by the same method and specifications as in the comparative example except for the alignment film on the pixel electrode. That is, after cleaning a glass substrate on which a transparent electrode is formed and a silicon driving substrate on which an aluminum electrode is formed as a reflective pixel electrode, an alignment film is deposited by the method described below, and then between the pair of substrates. In addition, a reflective liquid crystal display device was manufactured by injecting a vertical liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy Δε manufactured by Merck. The specification of the silicon driving substrate is the same as that of the comparative example, the pixel pitch W2 is 9 μm, and the groove width W1 between the pixels is prepared in two types of 0.6 μm and 0.35 μm (Example 1 in FIG. 8). , 2). An aluminum electrode provided with a passivation film was also produced in the same manner (Examples 3 and 4 in FIG. 8).

ただし、本実施例では、上記比較例とは異なり、画素電極上の配向膜の構造を図３または図４に対応する構造にした。配向膜の形成方法は次のとおりである。図５に示したように、蒸着粒子８３の入射する方向を変えることのできるような、基板回転機構を有する蒸着装置８０を用いて、洗浄したシリコン駆動基板を、蒸着装置８０に入れ、まず蒸着源８１から基板に蒸着粒子８３が垂直に入射するような配置で、酸化珪素膜を５０ｎｍの厚さで成膜した。その後、真空状態を破らず引き続き、基板を法線方向からθ＝５５°の角度となるように傾け、同じ蒸着源８１から同じ酸化珪素膜を斜方蒸着した。膜厚は５０ｎｍとした。   However, in this embodiment, unlike the comparative example, the alignment film on the pixel electrode has a structure corresponding to FIG. 3 or FIG. The method for forming the alignment film is as follows. As shown in FIG. 5, the cleaned silicon driving substrate is put into the vapor deposition apparatus 80 using the vapor deposition apparatus 80 having a substrate rotation mechanism that can change the incident direction of the vapor deposition particles 83. A silicon oxide film having a thickness of 50 nm was formed in such an arrangement that the vapor deposition particles 83 were perpendicularly incident on the substrate from the source 81. Thereafter, without breaking the vacuum state, the substrate was tilted at an angle of θ = 55 ° with respect to the normal direction, and the same silicon oxide film was obliquely deposited from the same deposition source 81. The film thickness was 50 nm.

図６には代表で図８の実施例１の試料の膜構造について、その断面写真を示す。斜方蒸着膜では明らかな柱状構造が認められる。画素間溝には設計通り、酸化珪素の垂直蒸着膜が形成されていることが分かる。また画素電極面上では下地に垂直蒸着膜が存在しその上に引き続き柱状構造を有した斜方蒸着膜が連続的に形成されていることが分かる。   FIG. 6 shows a cross-sectional photograph of the film structure of the sample of Example 1 shown in FIG. 8 as a representative. An obvious columnar structure is observed in the obliquely deposited film. It can be seen that a vertical deposited film of silicon oxide is formed in the inter-pixel groove as designed. It can also be seen that on the pixel electrode surface, a vertical vapor deposition film exists as a base, and an oblique vapor deposition film having a columnar structure is continuously formed thereon.

この画素構造を有する試料を用いて、上記比較例と同様な方法で、黒レベルでの液晶配向の状態を顕微鏡で観察した。図８にその観察結果を示す。本実施例では、すべての試料で画素エッジの周辺や画素間溝付近に、不均一な配向むら領域はまったく観測されなかった。この部分の液晶分子の配列を偏向顕微鏡の偏光軸を回転させて調べたところ、画素間溝内の液晶は完全に垂直配向していることが確認された。また、この試料に電圧を印加して液晶を駆動したところ、画素間溝であるか画素電極面上であるかに関係なく、均一に反応し中間調電圧においても輝度むらのない良好な表示画質が観測された。これは、画素電極上にパッシベーション保護膜が有るか否かに関わらず良好であった。   Using a sample having this pixel structure, the state of liquid crystal alignment at the black level was observed with a microscope in the same manner as in the comparative example. FIG. 8 shows the observation results. In this example, no nonuniform alignment unevenness region was observed in the vicinity of the pixel edge or in the vicinity of the inter-pixel groove in all samples. When the alignment of the liquid crystal molecules in this portion was examined by rotating the polarization axis of the deflection microscope, it was confirmed that the liquid crystal in the inter-pixel groove was perfectly vertically aligned. In addition, when a voltage was applied to this sample and the liquid crystal was driven, it displayed a good display image with uniform brightness and no uneven brightness regardless of whether it was an inter-pixel groove or on the pixel electrode surface. Was observed. This was good regardless of whether or not there is a passivation protective film on the pixel electrode.

これらの実験において、画素間溝の幅を０．６μｍと０．３５μｍの２種類調べたが、これらは８７．１％と９２．４％の開口率に相当する。本実施例によれば、画素間溝の幅が０．３５μｍの場合においても、表示領域全面に渡って良好な垂直配向が得られるようになり、高い開口率、しいては高い反射率を実現できた。   In these experiments, two types of widths of the inter-pixel grooves of 0.6 μm and 0.35 μm were examined, which correspond to aperture ratios of 87.1% and 92.4%. According to this embodiment, even when the width of the inter-pixel groove is 0.35 μm, good vertical alignment can be obtained over the entire display area, and a high aperture ratio and thus a high reflectance can be realized. did it.

なお、本発明は、以上の実施の形態および実施例に限定されず、さらに種々の変形実施が可能である。例えば、上記実施の形態では、プロジェクタとして３枚式のプロジェクタの例について説明したが、本発明は、単板式等、他の方式のプロジェクタにも広く適用可能である。   In addition, this invention is not limited to the above embodiment and Example, Furthermore, various deformation | transformation implementation is possible. For example, in the above embodiment, an example of a three-sheet projector has been described as the projector. However, the present invention can be widely applied to other projectors such as a single-plate projector.

本発明の一実施の形態に係る反射型液晶表示素子の全体構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the whole structure of the reflection type liquid crystal display element which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係る反射型液晶表示素子の駆動回路の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the drive circuit of the reflection type liquid crystal display element which concerns on one embodiment of this invention. 図１に示した反射型液晶表示素子の画素電極基板における画素間溝付近の構造および垂直配向液晶の配向状態を模式的に示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a structure near a groove between pixels in a pixel electrode substrate of the reflective liquid crystal display element shown in FIG. 1 and an alignment state of vertically aligned liquid crystal. 画素電極上にパッシベーション膜を設けた場合の画素電極基板の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the pixel electrode substrate at the time of providing the passivation film on a pixel electrode. 蒸着膜を形成するための装置の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the apparatus for forming a vapor deposition film. 実際に作製した画素電極基板の膜構造の断面写真を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional photograph of the film | membrane structure of the pixel electrode substrate actually produced. 図１に示した反射型液晶表示素子を使用して構成された液晶表示装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the liquid crystal display device comprised using the reflection type liquid crystal display element shown in FIG. 本発明の一実施の形態に係る反射型液晶表示素子と従来の反射型液晶表示素子とにおける配向不良の発生状況を観察した結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having observed the occurrence condition of the orientation defect in the reflective liquid crystal display element which concerns on one embodiment of this invention, and the conventional reflective liquid crystal display element. 従来の反射型液晶表示素子における画素電極基板側の構成を示す平面図（Ａ）および断面図（Ｂ）である。It is the top view (A) and sectional drawing (B) which show the structure by the side of the pixel electrode substrate in the conventional reflection type liquid crystal display element. 従来の反射型液晶表示素子において生ずる配向不良の問題点について説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the problem of the orientation defect which arises in the conventional reflection type liquid crystal display element. 従来の反射型液晶表示素子において生ずる配向不良の問題点について説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the problem of the orientation defect which arises in the conventional reflection type liquid crystal display element.

符号の説明Explanation of symbols

１１…光源、１９…投射レンズ、２０…スクリーン、２１…反射型液晶表示素子、２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ…液晶ライトバルブ、３０…透明電極基板、３２…透明電極層、３３，４３Ｂ…斜方蒸着配向膜、４０…画素電極基板、４１…シリコン基板、４２…反射型画素電極、４３Ａ…垂直蒸着膜、４４…パッシベーション膜、４５…垂直配向液晶、８０…真空蒸着装置、８１…蒸着源、８３…蒸着粒子。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Light source, 19 ... Projection lens, 20 ... Screen, 21 ... Reflection type liquid crystal display element, 21R, 21G, 21B ... Liquid crystal light valve, 30 ... Transparent electrode substrate, 32 ... Transparent electrode layer, 33, 43B ... Oblique deposition Alignment film, 40 ... pixel electrode substrate, 41 ... silicon substrate, 42 ... reflective pixel electrode, 43A ... vertical deposition film, 44 ... passivation film, 45 ... vertical alignment liquid crystal, 80 ... vacuum deposition apparatus, 81 ... deposition source, 83 ... deposited particles.

Claims (15)

画素電極基板と透明電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子であって、
前記画素電極基板の前記透明電極基板に対向する面側に、少なくとも、
溝部を介して配置された複数の反射型の画素電極と、
前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部の底面全体に、前記画素電極基板の基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、
前記垂直蒸着膜を介して、前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部の一部に、前記画素電極基板の基板面に対して斜め方向から蒸着形成された斜方蒸着配向膜と
が順に積層形成され、
前記垂直蒸着膜が前記画素電極の上面に対し前記溝部の底面が低く蒸着形成された状態において前記斜方蒸着配向膜が蒸着形成され、
前記垂直配向液晶の液晶分子が、前記斜方蒸着配向膜が形成された領域に対応して所定のプレティルト角をつけた状態で配向され、前記画素電極間の溝部の前記斜方蒸着配向膜が形成されていない領域に対応して垂直方向に配向されている
ことを特徴とする反射型液晶表示素子。 A reflective liquid crystal display element in which a pixel electrode substrate and a transparent electrode substrate are arranged to face each other via vertically aligned liquid crystal,
At least on the side of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate,
A plurality of reflective pixel electrodes arranged through the groove ,
A vertical deposition film formed by vapor deposition from a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire top surface of the pixel electrode and the entire bottom surface of the groove between the adjacent pixel electrodes;
An oblique vapor deposition alignment film formed by vapor deposition from the oblique direction with respect to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire upper surface of the pixel electrode and a part of the groove between the adjacent pixel electrodes through the vertical vapor deposition film. And are stacked in order,
The oblique vapor deposition alignment film is vapor-deposited in a state where the vertical vapor deposition film is vapor-deposited with the bottom surface of the groove portion lower than the upper surface of the pixel electrode.
The liquid crystal molecules of the vertically aligned liquid crystal are aligned with a predetermined pretilt angle corresponding to the region where the oblique deposition alignment film is formed, and the oblique deposition alignment film in the groove between the pixel electrodes is aligned. A reflective liquid crystal display element characterized by being oriented in a vertical direction corresponding to a region not formed. 前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜は、酸化珪素による蒸着膜である
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein the vertical vapor deposition film and the oblique vapor deposition alignment film are vapor deposition films made of silicon oxide. 前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部分全体に、酸化物もしくは窒化物による膜、またはそれらの積層膜がさらに積層形成され、その上に、前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜が積層形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 A film made of oxide or nitride or a laminated film thereof is further laminated on the entire upper surface of the pixel electrode and the entire groove portion between the adjacent pixel electrodes, and the vertical deposition film and the oblique layer are further formed thereon. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein vapor-deposited alignment films are laminated. 前記所定のプレティルト角は、前記画素電極基板の基板面の法線に対して１°〜５°である
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein the predetermined pretilt angle is 1 ° to 5 ° with respect to a normal line of the substrate surface of the pixel electrode substrate. 前記斜方蒸着配向膜の蒸着角度は基板面の法線に対して４５°〜６５°である
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein a vapor deposition angle of the oblique vapor deposition alignment film is 45 ° to 65 ° with respect to a normal line of the substrate surface. 前記画素電極は、厚さが１５０ｎｍ〜２５０ｎｍであり、隣接する前記画素電極間の溝部の幅が０．３μｍ〜０．７μｍである
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 2. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein the pixel electrode has a thickness of 150 nm to 250 nm, and a width of a groove between adjacent pixel electrodes is 0.3 μm to 0.7 μm. . 前記垂直蒸着膜の膜厚は、前記画素電極の厚みよりも薄く、１０ｎｍ〜１００ｎｍである
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示素子。 2. The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein a thickness of the vertical vapor deposition film is 10 nm to 100 nm, which is thinner than a thickness of the pixel electrode. 反射型液晶表示素子を備え、この反射型液晶表示素子によって変調された光を用いて映像表示を行う液晶表示装置であって、
前記反射型液晶表示素子が、
画素電極基板と、
前記画素電極基板に対向するように配置された透明電極基板と、
前記画素電極基板と前記透明電極基板との間に注入された垂直配向液晶と
を備え、
前記画素電極基板の前記透明電極基板に対向する面側に、少なくとも、
溝部を介して配置された複数の反射型の画素電極と、
前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部の底面全体に、前記画素電極基板の基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、
前記垂直蒸着膜を介して、前記画素電極の上面全体および隣接する前記画素電極間の溝部の一部に、前記画素電極基板の基板面に対して斜め方向から蒸着形成された斜方蒸着配向膜と
が順に積層形成され、
前記垂直蒸着膜が前記画素電極の上面に対し前記溝部の底面が低く蒸着形成された状態において前記斜方蒸着配向膜が蒸着形成され、
前記垂直配向液晶の液晶分子が、前記斜方蒸着配向膜が形成された領域に対応して所定のプレティルト角をつけた状態で配向され、前記画素電極間の溝部の前記斜方蒸着配向膜が形成されていない領域に対応して垂直方向に配向されている
ことを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device that includes a reflective liquid crystal display element and displays an image using light modulated by the reflective liquid crystal display element,
The reflective liquid crystal display element is
A pixel electrode substrate;
A transparent electrode substrate disposed to face the pixel electrode substrate;
Vertical alignment liquid crystal injected between the pixel electrode substrate and the transparent electrode substrate,
At least on the side of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate,
A plurality of reflective pixel electrodes arranged through the groove ,
A vertical deposition film formed by vapor deposition from a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire top surface of the pixel electrode and the entire bottom surface of the groove between the adjacent pixel electrodes;
An oblique vapor deposition alignment film formed by vapor deposition from the oblique direction with respect to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the entire upper surface of the pixel electrode and a part of the groove between the adjacent pixel electrodes through the vertical vapor deposition film. And are stacked in order,
The oblique vapor deposition alignment film is vapor-deposited in a state where the vertical vapor deposition film is vapor-deposited with the bottom surface of the groove portion lower than the upper surface of the pixel electrode.
The liquid crystal molecules of the vertically aligned liquid crystal are aligned with a predetermined pretilt angle corresponding to the region where the oblique deposition alignment film is formed, and the oblique deposition alignment film in the groove between the pixel electrodes is aligned. A liquid crystal display device, characterized in that the liquid crystal display device is oriented in a vertical direction corresponding to a region not formed. 光源と、
前記光源から発せられ、前記反射型液晶表示素子によって変調された光をスクリーンに投射する投射手段と
を備え、
反射型液晶プロジェクタとして構成されている
ことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。 A light source;
Projecting means for projecting light emitted from the light source and modulated by the reflective liquid crystal display element onto a screen;
The liquid crystal display device according to claim 8, wherein the liquid crystal display device is configured as a reflective liquid crystal projector. 複数の反射型の画素電極を有する画素電極基板と透明電極を有する透明電極基板とが垂直配向液晶を介して互いに対向配置された反射型液晶表示素子を製造する方法であって、
基板上に金属膜を成膜した後、前記金属膜を加工することにより、厚さが１５０ｎｍ〜２５０ｎｍであり、隣接するもの同士の溝部の幅が０．３μｍ〜０．７μｍとなるように前記複数の反射型の画素電極を前記画素電極基板にマトリクス状に配置形成する工程と、
前記画素電極基板の前記透明電極基板に対向する面側において、前記画素電極の上面および隣接する前記画素電極間の溝部分に、前記画素電極基板の基板面に対して垂直方向から垂直蒸着膜を蒸着形成する工程と、
前記垂直蒸着膜を形成した後、前記垂直蒸着膜を介して、前記画素電極の上面および隣接する前記画素電極間の溝部分の一部に、前記画素電極基板の基板面の法線に対して４５°〜６５°を成す一方向のみから斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程と
を含み、
前記垂直蒸着膜を蒸着形成する工程において、前記画素電極の上面に対し前記溝部の底面が低くなるように前記垂直蒸着膜を蒸着形成し、
前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する工程において、前記画素電極の上面に対し前記溝部の底面が低くなっている状態で前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する
ことを特徴とする反射型液晶表示素子の製造方法。 A method of manufacturing a reflective liquid crystal display element in which a pixel electrode substrate having a plurality of reflective pixel electrodes and a transparent electrode substrate having a transparent electrode are arranged to face each other via vertically aligned liquid crystal,
After the metal film is formed on the substrate, the metal film is processed so that the thickness is 150 nm to 250 nm, and the width of the groove between adjacent ones is 0.3 μm to 0.7 μm. A step of arranging and forming a plurality of reflective pixel electrodes in a matrix on the pixel electrode substrate;
On the surface of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate, a vertical vapor deposition film is formed in a direction perpendicular to the substrate surface of the pixel electrode substrate on the upper surface of the pixel electrode and a groove portion between the adjacent pixel electrodes. A process of vapor deposition;
After forming the vertical vapor deposition film, the normal surface of the pixel electrode substrate on the upper surface of the pixel electrode and a part of the groove portion between the adjacent pixel electrodes through the vertical vapor deposition film. looking containing from only one direction and depositing forming obliquely evaporated alignment film constituting the 45 ° to 65 °,
In the step of vapor-depositing the vertical vapor deposition film, the vertical vapor deposition film is vapor-deposited so that the bottom surface of the groove is lower than the upper surface of the pixel electrode.
In the step of vapor-depositing the oblique deposition alignment film, the oblique vapor deposition alignment film is vapor-deposited with the bottom surface of the groove portion being lower than the upper surface of the pixel electrode. Device manufacturing method. 前記画素電極基板の基板面の法線方向と蒸着源からの蒸着物質の入射方向とを一致させ、真空状態で前記垂直蒸着膜の形成を行い、その後、真空状態を維持した状態で、前記基板面の法線方向が前記蒸着物質の入射方向に対して所定の角度となるように前記画素電極基板を傾けることで、前記基板面に対して斜め方向から前記斜方蒸着配向膜を蒸着形成する
ことを特徴とする請求項１０に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 The normal direction of the substrate surface of the pixel electrode substrate and the incident direction of the vapor deposition material from the vapor deposition source are matched, the vertical vapor deposition film is formed in a vacuum state, and then the substrate is maintained in a vacuum state. By tilting the pixel electrode substrate so that the normal direction of the surface is a predetermined angle with respect to the incident direction of the deposition material, the oblique deposition alignment film is deposited from an oblique direction with respect to the substrate surface. The method of manufacturing a reflective liquid crystal display element according to claim 10. 前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜は、酸化珪素による蒸着膜である
ことを特徴とする請求項１０に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 The method for manufacturing a reflective liquid crystal display element according to claim 10, wherein the vertical vapor deposition film and the oblique vapor deposition alignment film are vapor deposition films made of silicon oxide. 前記画素電極基板の前記透明電極基板に対向する面側において、前記画素電極の上面および隣接する前記画素電極間の溝部分全体に、酸化物もしくは窒化物による膜、またはそれらの積層膜を積層形成する工程をさらに含み、
それにより形成された膜の上に、前記垂直蒸着膜および前記斜方蒸着配向膜を積層形成する
ことを特徴とする請求項１０に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 On the surface of the pixel electrode substrate facing the transparent electrode substrate, a film made of oxide or nitride, or a laminated film thereof is laminated on the entire upper surface of the pixel electrode and the entire groove portion between the adjacent pixel electrodes. Further comprising the step of:
The method for manufacturing a reflective liquid crystal display element according to claim 10, wherein the vertical vapor deposition film and the oblique vapor deposition alignment film are stacked on the film formed thereby. 前記垂直蒸着膜の膜厚を、前記画素電極の厚みよりも薄く、１０ｎｍ〜１００ｎｍに形成する
ことを特徴とする１０に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。 The method of manufacturing a reflective liquid crystal display element according to 10, wherein the thickness of the vertical vapor deposition film is 10 nm to 100 nm, which is smaller than the thickness of the pixel electrode. 前記画素電極を略正方状に加工し、
前記画素電極基板の基板面内において、前記斜方蒸着配向膜を前記画素電極の対角方向から蒸着形成する
ことを特徴とする１０に記載の反射型液晶表示素子の製造方法。
Processing the pixel electrode into a substantially square shape;
11. The manufacturing method of a reflective liquid crystal display element according to 10, wherein the oblique vapor deposition alignment film is vapor-deposited from the diagonal direction of the pixel electrode in the substrate surface of the pixel electrode substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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