JP3749950B2 - マイクロパターンの形成方法、マイクロパターン、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法、及びマイクロパターン転写形成用モールド - Google Patents
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Description
第1の基板上に有機単分子膜を形成する工程と、
前記有機単分子膜をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターンを形成する工程と、
前記有機単分子膜パターン上に、薄膜を選択成長させる工程と、
前記薄膜を高分子からなる第2の基板上に転写し、前記第2の基板上に前記薄膜よりなるマイクロパターンを形成する工程と、
を具えることを特徴とする、マイクロパターンの形成方法に関する。
所定の基板上に有機単分子膜を形成する工程と、
前記有機単分子膜をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターンを形成する工程とを具え、
高分子からなる追加の基板上に前記有機単分子膜パターン上に選択成長させた薄膜からなるマイクロパターンを転写形成するようにしたことを特徴とする、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法に関する。
所定の基板と、
前記基板上に形成された有機単分子膜パターンとを具え、
高分子からなる追加の基板上に前記有機単分子膜パターン上に選択成長させた薄膜からなるマイクロパターンを転写形成するようにしたことを特徴とする、マイクロパターン転写形成用モールドに関する。
図1から図7は、本発明のマイクロパターンの形成方法の一例を示す工程図である。
最初に、図1に示すように、第1の基板11上に有機単分子膜12を形成する。有機単分子膜12の作製方法は特に限定されるものではないが、好ましくは第1の基板11を有機溶媒中に所定時間浸漬させることによって形成する。これによって、有機単分子膜12を簡易に形成することができる。なお、有機溶媒としては、ウンデカノールなどを好ましく用いることができる。
マイクロパターン17を転写形成することができる。
12 有機単分子膜
13 フォトマスク
14、24 有機単分子膜パターン
15、25 薄膜
16、26 第2の基板
17、27 マイクロパターン
21A 凸部
28 凹部
Claims (23)
- 第1の基板上に有機単分子膜を形成する工程と、
前記有機単分子膜をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターンを形成する工程と、
前記有機単分子膜パターン上に、薄膜を選択成長させる工程と、
前記薄膜を高分子からなる第2の基板上に転写し、前記第2の基板上に前記薄膜よりなるマイクロパターンを形成する工程と、
を具えることを特徴とする、マイクロパターンの形成方法。 - 前記有機単分子膜は、前記第1の基板を有機溶媒中に浸漬させることによって形成することを特徴とする、請求項1に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記有機溶媒は、ウンデカノールであることを特徴とする、請求項2に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記薄膜は金属薄膜であって、前記マイクロパターンは金属マイクロパターンであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記薄膜はニッケル薄膜又は銅薄膜であって、前記マイクロパターンはニッケルマイクロパターン又は銅マイクロパターンであることを特徴とする、請求項4に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記金属薄膜はメッキ法によって形成することを特徴とする、請求項4又は5に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記薄膜の、前記第2の基板上に対する転写は、前記薄膜を有する前記第1の基板を加熱した状態で押圧することによって実行することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記マイクロパターンの少なくとも一部を、前記転写を通じて前記第2の基板内に埋設することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記第1の基板はその表面に凸部を有し、前記押圧を通じて前記薄膜を前記第2の基板上に転写するとともに、前記第2の基板を凹凸状に加工することを特徴とする、請求項7又は8に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記有機単分子膜パターンは、前記第1の基板の前記凸部上に形成することを特徴とする、請求項9に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 前記マイクロパターンのラインスペースが10μm以下であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一に記載のマイクロパターンの形成方法。
- 請求項1〜11のいずれか一に記載の方法で形成されたことを特徴とする、マイクロパターン。
- 所定の基板上に有機単分子膜を形成する工程と、
前記有機単分子膜をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターンを形成する工程とを具え、
高分子からなる追加の基板上に前記有機単分子膜パターン上に選択成長させた薄膜からなるマイクロパターンを転写形成するようにしたことを特徴とする、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。 - 前記有機単分子膜は、前記所定の基板を有機溶媒中に浸漬させることによって形成することを特徴とする、請求項13に記載のマイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。
- 前記有機溶媒は、ウンデカノールであることを特徴とする、請求項14に記載のマイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。
- 前記基板はその表面に凸部を有することを特徴とする、請求項13〜15のいずれか一に記載のマイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。
- 前記有機単分子膜パターンは、前記基板の前記凸部上に形成することを特徴とする、請求項16に記載のマイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。
- 前記有機単分子膜パターンのラインスペースが10μm以下であることを特徴とする、請求項13〜17のいずれか一に記載のマイクロパターン転写形成用モールドの作製方法。
- 請求項13〜18のいずれか一に記載の方法で形成されたことを特徴とする、マイクロパターン転写形成用モールド。
- 所定の基板と、
前記基板上に形成された有機単分子膜パターンとを具え、
高分子からなる追加の基板上に前記有機単分子膜パターン上に選択成長させた薄膜からなるマイクロパターンを転写形成するようにしたことを特徴とする、マイクロパターン転写形成用モールド。 - 前記基板はその表面に凸部を有することを特徴とする、請求項20に記載のマイクロパターン転写形成用モールド。
- 前記有機単分子膜パターンは、前記基板の前記凸部上に形成したことを特徴とする、請求項21に記載のマイクロパターン転写形成用モールド。
- 前記有機単分子膜パターンのラインスペースが10μm以下であることを特徴とする、請求項20〜22のいずれか一に記載のマイクロパターン転写形成用モールド。
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