JP3734085B2 - Pesおよびpsf膜のuv補助グラフト処理方法 - Google Patents
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60/238,209 出願日:2000年10月5日
60/268,098 出願日:2001年2月12日
60/270,233 出願日:2001年2月21日
の特権を権利請求する。
【0002】
(発明の分野および背景)
本発明は概して限外濾過膜、より詳しくは新規で有効なポリエーテルスルホン膜およびUV放射線とフィルターの面前で特定ビニル単量体のグラフト重合化によって高い溶質保持性、高い透過性および低い付着特性を呈する膜を製造する方法に関する。
【0003】
限外濾過膜は食品および生物工学界で広範囲に使用されていることが分かっている。限外濾過(UF)は通常牛乳および遺伝形質転換体牛乳、チーズおよび卵の処理操作、乳漿およびポテト蛋白質の回収、ジュースおよびワインの浄化、動物血液からの蛋白質の回収、および水の浄化に適用されている。UFはまた分離前の細胞ブロス浄化、細胞収穫、蛋白質溶液の濃縮またはダイアフィルタ処理および最終濃縮のようなこの種のステップを介する生物学的製品の回収を行うための生物工学でも使用される。
【0004】
膜処理操作の工学的操作への取り入れにおける主たる支障は、蛋白質のような生物学的製品の限外濾過中の付着のためにフラックス傾斜(flux decline)の問題がある。付着は長い濾過時間による生産性の低減となる透過性が低下するだけでなく、清浄に必要な刺激の強い化学薬品により膜の寿命が短くなる。さらに、付着は膜の選択度を変化させ、本来の性質の変化による相当な生産損失につながることになる。
【0005】
蛋白質の濾過中のフラックス損失の正確なメカニズムが明確でないが、一般的に主たる理由として考えられるものは、濃度分極からの浸透性背圧、表面上または細孔内の蛋白質の吸着または沈着および膜の上流側上の吸着蛋白質層の圧縮固化あるいは硬化である。付着は膜表面および細孔内の蛋白質および蛋白質凝結体の可逆的吸着と不可逆的吸着および沈着である。これが膜の細孔を狭くし、詰まらせ、膜の透過性を低下させる。不可逆性付着がフラックス損失をもたらし、これは刺激の強い洗浄剤および/または化学薬品の使用によってのみ回復される。しかし、可逆性蛋白質付着に起因するフラックス損失は一時的なもので、蛋白質は水で膜をすすぐことによって容易に除去することができる。さらに、ある時間後、正しい操作と溶液条件の下に、さらなるフラックス損失が発生する。これは一層または複数層の吸着蛋白質層がより濃度の濃い、高い耐フラックス層に凝固ないし圧縮されるためである。
【0006】
フラックス損失の低減、除去のために、単量体の膜へのUV補助グラフト処理が実行されてきた。グラフト処理はより小さい化学ユニットを主要分子チェーンに付着させることからなる。過去において、光重合開始剤は膜表面で遊離基重合を開始するのに使用されていた。しかし、付着の方法はプラズマまたは化学的手段によるよりもUV照射による方が好ましく、簡単であり短い反応時間であるという利点がある。UV放射線は100から450nm範囲の波長を有すると一般的に考えられている。UV照射は膜表面上で重合体チェーンを架橋し、重合体結合を開裂し、水酸基、カルボニル基、またはカルボン酸などの官能基を形成することができる。膜重合体内の化学的結合は直接開裂される。遊離基サイトが重合体結合の開裂を介して膜表面上に形成される。ビニル単量体が存在するとき、遊離基グラフト重合化がこれらのサイトで発生し、共有結合される重合体チェーンが表面に形成される。
【0007】
米国特許第5,468,390号およびジャーナル・オブ・メンブレン・サイエンス(Journal of Membrane Science)、105(1955,p.237−247)とジャーナル・オブ・メンブレン・サイエンス(Journal of Membrane Science)、105(1955),p.249−259の記事が、その細孔壁面に化学的にグラフトされた親水性ビニル単量体を有する改質されたアリールポリスルホン膜を開示している。未改質膜を単量体の溶液と接触させ、紫外線に露出させ増感剤または遊離基開始剤なしで光化学作用によるグラフトを行う。利用される単量体はポリスルホン膜の細孔壁面のみを親水性にするよう作用する。膜の残りの部分の固体マトリックスは未改質ポリスルホンからなる。これらの表面改質膜は、これが乾燥された後、再湿潤可能ではなく、もし乾燥されれば透過性が相当失われる。従って、膜表面は使用前に湿気を維持する必要がある。
【0008】
日本特許JP−A−2−59029号、1990年2月28日公開は、単量体溶液中に膜を浸せき(immerse)し、紫外線で溶液を照射することによって重合化可能単量体のみで有孔壁上でポリスルホン多孔性膜を改質するためのプロセスを開示している。前記プロセスはこのプロセス中に使用される溶剤がポリスルホン膜を溶解しないような条件下で実行される。このプロセスの結果、親水性重合化可能単量体がこのプロセス中に利用されたときに、多孔膜の細孔壁面のみが改質され、親水性にされる。米国特許第5,469,390号は、親水性ビニル単量体の紫外線(UV)補助グラフト重合化を使用して蛋白質溶液の濾過中のフラックス損失を低減するポリスルホンUF膜を光化学的に改質する方法を教示している。特に、254nmでの照射が膜に対して単量体の重合化に必要な基サイトを生成するのに使用される。開示された方法は、ポリスルホン膜を親水性ビニル単量体の溶液中に浸せきすること、次に膜を254nmの波長で照射すること、からなる。
【0009】
しかし、最近の試験では、たとえUV補助グラフト重合化が表面に親水性をもたせることによって膜への付着を首尾よく低減する浸せき技術(immersion技術)によって達成されたとしても、高いチェーン密度と長いグラフト・チェーンによってもたらされたグラフト重合体チェーンによる細孔の閉塞のために改質後、膜の透過性は、急速に低下することが分かった。必要なバランスが低付着のための十分な表面親水性と膜の高い透過性との間に求められている。さらに、ポリスルホン膜は大して光活性でない(例えば、結合がそれほど容易に破壊されない)、従って改質がより困難である。故に、改質膜は、高い光活性と、その表面上で短いチェーンの高いグラフト密度を有し、低い蛋白質付着を呈し、また改質後は本来の膜の透過性である高い透過率を維持することが望ましい。
【0010】
さらに、従来技術において使用された浸せき技術は多量の単量体を必要とし、また工業的規模での連続するプロセスにはあまり適用できない。さらに、従来技術において使用された浸せき技術は、単量体の高いUV吸収または単量体溶液によるシールドという結果になっており、また、相当な量のUV光線が膜に到達しない。UV光線がディップ(dip)技術を使用して膜に通されると、細孔の拡大と蛋白質拒絶における損失が観察される。これはUV光線が浸せき技術のようには単量体溶液によって吸収されないからである。254nmの波長のUV光線が細孔を拡大し、損傷を与えることの可能なエネルギを有しており、またこれによって膜を役に立たなくする。従って、特に、高い強度と低いエネルギのUV光線が表面チェーン長さを適切にして、非付着特徴を減じてしまうが、一方で膜の透過性と保持特性を最大にするので、より少ない単量体を使用しかつ高い強度であるが、膜に到達するより低いエネルギのUV光線を使用することが必要とされる。
【0011】
ポリエーテルスルホンが適切な膜材料である。これは生物工学において膜として広範に使用されており、比較的親水性であり、また本質的に光活性だからである。さらに、改質操作が浸せき技術ではなくディップ技術で実行されるときは、280から300nmの範囲の低いエネルギのUV光線が膜の損傷を回避するために望ましい。これは相当量のUV光線がディップ技術で膜に達するからである。高いエネルギのUV光線の遮蔽を助けるためにフィルターが必要であり、よって細孔の拡大を減じている。液体または固定フィルターを使用する別のディップ改質技術によって低い蛋白質付着と細孔拡大が減少された改質膜を生成できる。
【0012】
(発明の概要)
本発明の目的は、その表面上に短いチェーン・ビニル単量体の高密度グラフティングを伴った多孔体を有する限外濾過膜製品を提供することである。従って、この膜は低い蛋白質付着を呈し、また改質後、本来の膜透過性のより大きいフラクションと保持特性を維持する。
【0013】
多数の物質が単量体を限外濾過膜上にグラフトするのに適しているが、重合化ができるだけ急速に、かつ、効果的に発生するように、それらの物質は高い反応性を示すものでなければならない。膜に使用される物質はその高い光活性度によって選択される。特に、膜として好ましい物質はポリエーテルスルホンである。 本発明の別の目的は限外濾過膜を形成するための方法を提供することであってポリエーテルスルホン膜を、一つまたはそれ以上のビニル単量体を含有する溶液中にディップすること、約280nm以上の波長を有する高強度低エネルギUV光線で液体フィルターを介して膜を照射すること、からなる。
【0014】
本発明を特徴付ける新規性の種々の特徴は、本明細書に添付され、また本明細書の一部を形成する請求の範囲に特に指摘されている。本発明をよりよく理解するために、またその動作利点およびその使用によって達成される特定の目的をよりよく理解するために、添付図面と本発明の好ましい実施形態に基づいて説明をする。
【0015】
(好ましい実施形態の説明)
図を参照すると、同様の参照番号は同じまたは機能的に同様の要素を示すのに使用され、図1で実施された発明は限外濾過膜を形成するためのプロセスであって、多孔体と膜の表面上の複数のグラフトされた単量体チェーンからなる。
【0016】
ステップ10はポリエーテルスルホン(「PES」)膜を単量体の溶液中に攪拌を伴って約30分ディップすることからなる。50kDa PES UF膜がニューヨーク州、イースト・ヒルズのポール−フィルトロン・コーポレーションによって提案され、またここから入手できる。尚、ポリスルホンおよびポリアリールスルホンの両者はポリエーテルスルホンの代わりに使用できるが、あまり活性的でない。溶液中の単量体はビニル・モノマーでよい。好ましい単量体には、N−ビニル−2−ピロリジノン(pyrrolidinone)(「NVP」) 、アクリルアミドグリコール酸モノハイドレート(「AAG」)およびアクリルアミド−1− メチル−プロパンスルホン酸(「AAP」)が含まれ、ウイスコンシン州、ミルウォーキーのアルドリッヒ・ケミカル・カンパニから入手できる。使用できる他の単量体は、2−ヒドロキシエチル・アクリレート、2−ヒドロキシプロピル・アクリレート、3−ヒドロキシプロピル・アクリレート、2−ヒドロキシエチル・メタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、アクリルアミド、ビニル・スルホン酸、ビニル・フォスフォン(燐酸)酸、4−スチレンスルホン酸、メタアクリルアミド、グリシジル・アクリレート、グリシジル・メタアクリレート、N−メチロル−アクリルアミド、アクリル酸、メタアクリル酸、メチル・メタクリレートおよびN−ビニル・カルバゾルを含む。単量体溶液にNVPが使用されると、溶液はあらゆる抑制物質を除去するために真空蒸留され、次に脱イオン水に溶解されることによって調製される。
【0017】
ステップ20において、膜はポリプロピレン・ホルダーに固定され、図2の下方に最もよく示したように水晶反応器の容器内に配置される。次に、水晶容器は液体の紫外線(UV)フィルタを含む環状水晶管内に固定される。これは図3に最もよく示されている。
【0018】
ステップ30において、水晶反応器および水晶シリンダ装置が、16個のUVランプを備え、コネチカット州のサザン・ニュー・イングランド・ウルトラバイオレット・カンパニによって製造されたレイオネット・フォトケミカル・チェンバー・リアクタ・システム(Model RPR−100) の中心に配置される。図4に示したように、水晶シリンダは光反応器システムの基部の頂部上に配置される。
【0019】
ステップ40において、窒素ガスのタンクが水晶容器のインレットに固定される。窒素ガス流が窒素タンクから放出され、水晶容器のインレットを通って酸素が除去され、光化学改質中の遊離基の形成を終了させる。窒素流は水の小さいプールをも通過して水晶容器を水蒸気で飽和させなければならない。
【0020】
ステップ50は280から300nm範囲内の波長を有するUV光線で膜を照射することからなる。図4に示したように、水晶容器内の膜を取り巻いている複数のUVランプからなる装置が、液体フィルターを介して膜上にUV光線を照射するのに使用される。
【0021】
ステップ60において、水晶容器が反応器から取り除かれ、新たに改質された膜が洗浄されて未反応の単量体あるいは物理的に吸着した重合体を除去する。洗浄工程は脱イオン水のボトル中で、室温にて2時間膜を振り動かすことを含んでいる。改質膜を洗浄するのに必要とする時間は、FTIR−ATRスペクトロスコピーを使用して1678cm−1でPVPピーク吸収の低下をモニターすることによって決定することができる。これは当業者には可能である。2時間後の吸収ピークに変化がなくなればプロセスの洗浄段階の完了を示す。
【0022】
図2、3および4は本発明を実行するのに使用される具体的な装置を示す。図2はプラスチック・ホルダー7上に取り付けられたPES膜5を含む水晶容器1を示す。水晶容器1は300mlの容量までを収容でき、直径が5.5cm、長さが35cmである。この水晶容器1はインレット13と、酸素を除去するのに必要とする窒素放出用のアウトレット15も有している。PES膜5は塩化メチレン中のPESの5重量%溶液を水晶板上に4000rpmで30秒間スピン・コーティングし、これを室温にて一昼夜乾燥させて用意する。PES膜5はポリエーテルスルホンから作られ、全体に渡って複数の細孔を含んでいる。プラスチック・ホルダー7はポリエチレン、ポリプロピレンまたは同様の重合体からなる。窒素ガスがインレット13を通過し、25から30mlの水のプールに通してPES膜5の表面上の単量体溶液からの水の蒸発を最少にする。アウトレット15の底にあるガラス・フリットがN2の散布と攪拌を助けている。
【0023】
図3は環状の水晶シリンダ17内に収容された水晶容器1を示す。水晶シリンダ17はUV液体フィルター21で充填される。水晶容器1は締付部材で水晶シリンダ17に固定されている。UV液体フィルター21はベンゼンが好ましく、280nmのUV波長で0%の透過率である。280nmから300nmの範囲内のより大きい波長で使用される他の溶剤にはトルエンが含まれ、286nmで0%の透過率であり、またN−メチルプロロジノンは285nmで0%の透過率である。
【0024】
図4は液体UVフィルターを介して膜を照射するために使用される装置の具体的な実施形態を示す。特に、光反応器システム24が基部26を含んで示されており、また表示ライト28を有し電気的に装置の他の要素、例えば装置の電源、ファン、またはUVランプに結線され、表示ライト28はこれらの要素の一つが使用されたときに点灯するようになっている。基部26は、容器の内容物を加熱または磁気的に攪拌するのに使用される第2基部32を支持している。水晶容器1は第2基部32上に載置され、複数の等間隔に配置された垂直方向UVランプ38の収容された湾曲壁35によって取り巻かれている。これらのランプは最大300nm波長のUV光線の放射で約21ワットのエネルギを放出することができる。UVランプ38は直径1cm、長さ28cmであり、PES膜5を包含している水晶容器1の軸と並べて配置され、かつ、PES膜5をUV液体フィルター21を介して照射するのに使用される。PES膜5とUVランプ38間の距離は約6cmである。水晶容器1は、インレット13と窒素タンクのアウトレット45間に固定された配管を介して窒素タンク40に接続されている。窒素ガスはこの配管を通ってインレット13に走行し、水晶容器1を通り、アウトレット15から出る。
【0025】
実施例1
種々の膜が用意され、透過性、溶質フラックスおよびフラックス回収率について比較された。これらの膜は改質されているか、または未改質である。未改質再生セルロース(「RC」)およびPES膜がそれぞれサンプル1および2として用意された。PESは、別の場合では、UV光線の254nmおよび300nmの波長で改質され、それぞれサンプル3と4に指定された。PESは二つの異なるタイプの光フィルター、例えば液体ベンゼンと芳香族ポリエステルのフィルムと組み合わせた300nmUV光線で改質された。これらはそれぞれサンプル5と6に指定された。
【0026】
蛋白質の濾過に十分な6×5cmの膜の見本がまず、膜湿潤剤グリコールを除去するために1分間脱イオン水中で室温で3回超音波処理によってクリーンにされた。NVPの5重量%溶液が脱イオン水中で重量ベースで用意された。次に膜がNVP溶液中に攪拌を伴って30分間ディップされた。更に膜はポリプロピレンの正方形シート片にカットされた切り込みによってこのシート上に固定された。この集合体が、締付部材を使用して光反応器の中心に固定された水晶容器内に配置された。2L/min(2から5psig)の流量で窒素流が容器を10分間浄化するのに使用され、水晶容器の底で約20mlの脱イオン水によって泡立てられ、水晶容器内の湿度レベルが維持された。
【0027】
改質サンプル3が254nmでUVランプによって照射された。改質サンプル4が300nmでUVランプによって照射された。改質サンプル5が液体ベンゼンの充填された水晶シリンダ内で含有され、UVランプによって300nmで照射された。芳香族ポリエステルのフィルムがシールドのために使用された後、調製サンプル6がUVランプによって照射された。照射完了後、水晶容器が反応器から取り除かれ、膜が洗浄されて未反応単量体または物理的に吸収された重合体が、脱イオン水のボトル内で膜を2時間室温で振り動かすことによって除去される。
【0028】
254nmUVランプでより高い平均放射周波数、従ってより高いエネルギによって、300nm光線またはフィルタされた300nm光線よりもむしろ254nmUV光線でより多くのNVPがPES膜上にグラフトされた。従って、フラックスが維持され、またこれよって後の方のサンプル4、5および6の改質膜で溶質保持がされた。これらの改質膜は、透過性、溶質フラックスまたはリテンション(保持)および水洗浄後の清潔度またはフラックス回収率の点でRCまたは未改質膜よりも高い総合性能を呈した。
【0029】
実施例2
ポール・コーポレーション製の50kDa オメガPES膜、ダニッシュ・セパレーションズ・システムズ製の50kDa ポリスルホン(「PSF」)GR51PP膜およびポール・フィルトロン製の50kDa 再生セルロース膜が用意された。これらは5重量%のNVP、AAGおよびAAPの単量体溶液中にディップされた。300nmでその最大周波数を放射するUVランプのみが照射に使用された。グラフト処理の度合いが比較された。グラフト処理の度合い(「DG」)は単量体分子中のアミドIカルボニル・ストレッチの最大高さとベンゼン環カーボン−カーボン二重結合ストレッチの最大高さとの比に等しい。PES膜に対して、三つの異なる単量体につき最適なグラフト処理条件は最も低い照射エネルギの時であった。PESはUV照射に関してPSFよりもずっと敏感であり、好ましいが、両者とも使用可能である。
【0030】
実施例3
50kDa PES膜が用意された。ディップ改質は5重量%のNVPを使用して記載した条件で異なる時間(従って、異なる照射エネルギ)で行った。二つのフィルタ、すなわち、ベンゼン液体および芳香族ポリエステル・フィルムが300nmUV光線と共に使用された。再生セルロース膜が比較対照膜として使用された。pH=7.4および22℃で10mM PBS中0.1 重量%のBSA溶液が、一定容量ダイアフィルタ処理プロトコルに基づいて濾過された。
【0031】
図5は照射エネルギ露出(量)の関数として蛋白質溶液の透過度をプロットしたグラフを示す。黒い棒グラフは純粋なバッファの透過度を表わし、また灰色の棒グラフは蛋白質溶液の透過度を表わしている。透過度はベンゼン・フィルターと300nm波長の照射の時に最良であった。透過度と共に溶質フラックスおよび保持はより低い照射エネルギの時に最も良かった。
【0032】
本発明の特定な実施形態を示すとともに本発明の原理の適用を詳細に説明したが、本発明はこの原理から逸脱しない限りにおいて他の実施形態でも可能なことが理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】 ポリエーテルスルホン膜を形成するプロセスのフローチャートを示す図である。
【図2】 ポリエーテルスルホン膜を含み、そして固定した水晶容器を示す図である。
【図3】 UV液体フィルターを含む水晶シリンダ内の水晶容器を示す図である。
【図4】 光反応器システム内に配置された水晶容器および水晶シリンダを示す図である。
【図5】 照射エネルギ露出量の関数として蛋白質溶液の透過度をプロットしたグラフである。
Claims (24)
- 単量体の溶液に重合体(ポリマー)光活性化スルホン膜をディップすること、
前記単量体の溶液から前記重合体光活性化スルホン膜を取り出すこと、
前記重合体光活性化スルホン膜をフィルターを介してUV放射線に露出すること、
前記重合体光活性化スルホン膜を洗浄すること、
を含む重合体光活性化スルホン膜を改質して、グラフト密度を増大させ、蛋白質の付着を低減し、改質後は本来の膜の透過性と保持特性を維持する方法。 - 前記重合体光活性化スルホン膜は、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリアリールスルホンからなるグループから選択されることをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記単量体の溶液が少なくとも一つのビニル単量体である請求項1に記載の方法。
- 前記単量体の溶液が少なくとも一つのメタクリレートである請求項2に記載の方法。
- 前記膜が露出される前記UV放射線の波長が少なくとも280nmである請求項3に記載の方法。
- 前記膜が露出される前記UV放射線の波長が少なくとも280nmである請求項4に記載の方法。
- 前記フィルターが液体または固体である請求項5に記載の方法。
- 前記フィルターが液体または固体である請求項6に記載の方法。
- 前記液体フィルターがベンゼンである請求項7に記載の方法。
- 前記液体フィルターがベンゼンである請求項8に記載の方法。
- 前記固体フィルターが芳香族ポリエステルである請求項7に記載の方法。
- 前記固体フィルターが芳香族ポリエステルである請求項8に記載の方法。
- 単量体の溶液中に重合体スルホン膜をディップするステップ、
前記単量体の溶液から前記重合体スルホン膜を取り出すステップ、
前記重合体スルホン膜をプラスチック・ホルダーに固定するステップ、
前記重合体スルホン膜と前記プラスチック・ホルダーを水晶容器に固定するステップ、
前記重合体スルホン膜と前記水晶容器を、フィルターを含む水晶シリンダーに載置するステップ、
前記重合体スルホン膜、前記水晶容器および前記水晶シリンダを光反応器システムに載置するステップ、
前記重合体スルホン膜を前記フィルターを介してUV放射線に露出するステップ、
前記重合体スルホン膜を洗浄するステップ、
を含む改良された重合体スルホン膜を製造するプロセス。 - 前記重合体光活性化スルホン膜は、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリアリールスルホンからなるグループから選択されることをさらに含む請求項13に記載のプロセス。
- 前記単量体の溶液が少なくとも一つのビニル単量体である請求項14に記載のプロセス。
- 前記単量体の溶液が少なくとも一つのメタクリレートである請求項14に記載のプロセス。
- 露出される前記UV放射線の波長が約280nmから300nmの間である請求項15に記載のプロセス。
- 露出される前記UV放射線の波長が約280nmから300nmの間である請求項16に記載のプロセス。
- 前記フィルターが液体または固体である請求項17に記載のプロセス。
- 前記フィルターが液体または固体である請求項18に記載のプロセス。
- 前記液体フィルターがベンゼンである請求項19に記載のプロセス。
- 前記液体フィルターがベンゼンである請求項20に記載のプロセス。
- 前記固体フィルターが芳香族ポリエステルである請求項19に記載のプロセス。
- 前記固体フィルターが芳香族ポリエステルである請求項20に記載のプロセス。
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