JP3713933B2 - 光ビーム走査光学装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビーム走査光学装置、詳しくは、レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段として用いられる光ビーム走査光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子写真感光体への画像書込み手段として種々の光ビーム走査光学装置が知られている。それらは、基本的に、光源ユニットから放射された光ビームをポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像している。
【0003】
ところで、近年では、画素密度を高めたり、画像書込み速度を高めることが求められている。そのために、2個の光源を設置して、それぞれの光ビームを副走査方向に近接した状態で偏向走査し、1回の走査で2ラインずつ画像を書き込むマルチビーム方式の光学装置が開発されている。
【0004】
図13(B)に発明者らが試作したマルチビーム走査光学装置の概略構成を示す。光源としてのレーザダイオード2,3から放射された光ビームB1,B2を、二つのプリズムを半透膜4cを介して接合したビームスプリッタ4で同一進行方向(X方向)に結合し、レンズ系を介して感光体(像面)上に結像させる。図面上、光ビームB1,B2は1本の線で表されているが、両者は互いに副走査方向(Z方向)に数10μmオーダーの間隔で近接している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図13(B)に示した光学装置において、ビームスプリッタ4は支持台100上に平面的に載置、接着されており、支持台100上での位置が光軸方向X、主走査方向Y又は副走査方向Zに変動するおそれがある。ビームスプリッタ4が光軸方向Xに変動すると、レーザダイオード3から放射されて半透膜4cで反射された光ビームB2は像面上で副走査方向にΔZ’の位置ずれを生じる。同様に、ビームスプリッタ4がZ軸を中心とする回転変動を生じると、光ビームB2は像面上で主走査方向にΔY’の位置ずれを生じる。
【0006】
そこで、本発明の目的は、複数の光ビームを結合するための光学素子が支持部材上で位置変動を生じても各光ビームの像点の相対的な位置ずれが生じないようにした光ビーム走査光学装置を提供することにある。
【0007】
【発明の要旨及び効果】
以上の目的を達成するため、本発明に係る光ビーム走査光学装置は、複数の光源から放射された複数方向から入射する光ビームを副走査方向に所定の間隔で出射させる、光学薄膜を有する光学素子を、支持部材上にその光学薄膜を含む平面部で位置決めして支持するようにした。
【0008】
前記光学素子は支持部材上では光学薄膜を含む平面部で位置決めされているため、支持部材上で光学素子の位置が変動しても、光学薄膜は同じ平面上に維持される。即ち、複数の方向から入射する光ビームに対する光学薄膜の角度は光学素子の位置変動によっても常時一定であり、像面上での各光ビームの像点は所定の位置関係を保つことができる。
【0010】
さらに、本発明に係る光ビーム走査光学装置において、前記光学素子は長さの異なる二つの二等辺三角柱プリズムを互いの底辺面部を光学薄膜を介して接合してなり、長いプリズムの底辺部が短いプリズムの両端部から突出した構成とされている。このような光学素子に対して、前記支持部材に光学素子の突出底辺面部の片側で1点、他側で2点にて受けるように計3個の球状突部を設けることが好ましい。3点支持は最も安定した支持構造である。さらに、この光学素子を突出底辺面部と直交する方向に弾性的に付勢して支持部材に保持すれば、さらに安定した状態で光学素子を支持部材上に保持することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る光ビーム走査光学装置の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【0012】
(全体構成)
図1〜図3において、光ビーム走査光学装置は、概略、光源ユニット1と、シリンドリカルレンズ11とポリゴンミラー12と3本のfθレンズ13,14,15及びシリンドリカルレンズ16と、平面ミラー17と、これらの光学部材を収納するハウジング20とで構成されている。
【0013】
光源ユニット1は、互いに直交方向に光ビームB1,B2を放射する第1及び第2レーザダイオード2,3と、二つのプリズムを半透膜を介して接合したビームスプリッタ4と、コリメータレンズ5とからなる。第1レーザダイオード2から放射された光ビームB1は、ビームスプリッタ4の半透膜を透過して直進し、コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)とされる。第2レーザダイオード3から放射された光ビームB2は、ビームスプリッタ4の半透膜で90゜に反射され、コリメータレンズ5によって平行光(又は収束光)とされる。
【0014】
光ビームB1,B2はスプリッタ4で同一進行方向に結合されるが、互いに副走査方向に数10μmオーダーの間隔で近接して進行する。例えば、印字密度が400dpiの場合は光ビームB1,B2の像面上での間隔は63.5μm、600dpiの場合は42.3μmである。
【0015】
コリメータレンズ5から出射されさた光ビームB1,B2は、シリンドリカルレンズ11を介してポリゴンミラー12に到達する。シリンドリカルレンズ11は光ビームB1,B2をポリゴンミラー12の反射面近傍に主走査方向に長い線状に集光する。ポリゴンミラー12は矢印a方向に一定角速度で回転駆動される。光ビームB1,B2はポリゴンミラー12の回転に基づいて各反射面で等角速度に偏向走査され、fθレンズ13,14,15及びシリンドリカルレンズ16を透過し、平面ミラー17で下方に反射される。その後、光ビームB1,B2はハウジング20のスリット21を通過して感光体ドラム25上で結像すると共に、矢印b方向に走査する。即ち、この光学系では1回の走査で2ラインを同時に書き込む。
【0016】
fθレンズ13,14,15はポリゴンミラー12で等角速度に偏向された光ビームB1,B2を感光体ドラム25上での主走査速度を等速に補正(歪曲収差補正)機能を有している。シリンドリカルレンズ16は前記シリンドリカルレンズ11と同様に副走査方向にのみパワーを有し、二つのレンズ11,16が協働してポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
【0017】
感光体ドラム25は矢印c方向に一定速度で回転駆動され、ポリゴンミラー12及びfθレンズ13,14,15による矢印b方向への主走査と、感光体ドラム25の矢印c方向への副走査によって感光体ドラム25上に画像(静電潜像)が書き込まれる。
【0018】
(光源ユニットの構成)
次に、光源ユニット1の組立て構造について図4〜図9を参照して説明する。図4〜図7は光源ユニット1を各方向から図示したもの、図8は構造を模式的に示したもの、図9は断面を示したもので、説明の簡略化のために主に図8を参照して説明する。なお、以下の説明でx方向とはビームスプリッタ4から射出される光軸Bに対して平行な方向、y方向とはx方向に対して水平面上で直交する方向、z方向とは、x,y方向に直交する方向をいう。
【0019】
この光源ユニット組立て構造は、基台31,50、第1レーザダイオード2を保持する第1可動保持台32、第2レーザダイオード3を保持する第2可動保持台33、コリメータレンズ5を保持する鏡胴34、スリット板35(但し、図6では図示を省略している)によって構成されている。基台31はねじ41によってハウジング20の水平基準面(床面)22上に固定されている。
【0020】
いまひとつの基台50はビームスプリッタ4を以下に説明するように保持し、基台31の光軸Bに対して平行な面31a上に、x方向に位置調整可能にねじ43によって取り付けられている。鏡胴34はこの基台50の光軸Bに対して平行な面50a上に、x方向に位置調整可能に板ベルト36で締め付けられた状態で取り付けられている。板ベルト36はその両端部でねじ44によって基台50上に固定されている。なお、鏡胴34を保持する面50aは、図示されていないが、光軸Bと平行に延在するV形状の溝である。
【0021】
第1可動保持台32は基台31の光軸Bに対して垂直な面31b上に、y,z方向に位置調整可能にねじ45によって取り付けられている。第2可動保持台33は基台50の光軸Bに対して平行な面50b上に、x,y方向に位置調整可能にねじ46によって取り付けられている。
【0022】
ここで、以上の構成からなる組立て構造の組立て方法及び調整方法について説明する。
ビームスプリッタ4が固定されている基台50に鏡胴34を板ベルト36及びねじ44で仮止めした状態で、基台50を基台31上にねじ43で仮止めする。また、第1及び第2可動保持台32,33をそれぞれ基台31,50にねじ45,46で仮止めする。
【0023】
位置調整は、まず、ねじ43をゆるめて基台50をねじ43とその取付け孔とのクリアランスの範囲でx方向に1次元的に移動させて基台31上に固定する。ここでは、コリメータレンズ5を仮想上の光軸Bに対して位置決めする。次に、ねじ44をゆるめて鏡胴34をx方向に位置調整し、光ビームのピント合わせを行う。さらに、ねじ45をゆるめて第1可動保持台32をねじ45とその取付け孔とのクリアランスの範囲でy,z方向に2次元的に移動させる。ここでは、第1レーザダイオード2の光ビーム放射位置が決められる。
【0024】
以上の調整作業は専用の調整治具上で行われ、光源ユニット1はこの状態で他の光学部材が組み込まれているハウジング20に組み込まれる。即ち、ねじ41によって基台31がハウジング20の水平基準面22上に固定される。その後は、ねじ46をゆるめて第2可動保持台33をねじ46とその取付け孔とのクリアランスの範囲でx,y方向に2次元的に移動させる。ここでは、第2レーザダイオード3の光ビーム放射位置が決められる。
ハウジング20に関しては、以上の調整作業の後、図示しない蓋部材で閉じられる。
【0025】
(ビームスプリッタの構成と支持構造)
ビームスプリッタ4は、図10に示すように、長さの異なる二つの二等辺三角柱プリズム4a,4bを互いの底辺面部を半透膜を介して接合したもので、長いプリズム4aの底辺面部4d,4eが短いプリズム4bの両端部から突出している。
【0026】
基台50は、図11に示すように、ビームスプリッタ4が位置する凹部51と、その両側に設けた位置決め面52とを有している。図11の手前側の位置決め面52には2個の球体53が半分埋め込まれ、奥側の位置決め面52には1個の球体53が半分埋め込まれている。ビームスプリッタ4は板ばね60の2本の腕部61の先端部にて弾性的に押圧されることにより、底辺面部4d,4eが球体53に圧接した状態で基台50に保持される。板ばね60は孔62,63を基台50上の突起54,55に嵌合し、取付け用孔64から図示しないねじをねじ孔56に螺着することで基台50に固定される。孔63は突起55に対して僅かなクリアランスを有し、板ばね60のセット位置を微調整可能となっている。板ばね60の腕部61の先端部はビームスプリッタ4の頂点面部4fを微小突起で押圧し、両者の間にシリコンゴムを介在させ、接着力や弾性力を持たせている。
【0027】
このように、ビームスプリッタ4の底辺面部4d,4eを3個の球体53で3点支持することによって、ビームスプリッタ4を安定して支持することができる。また、板ばね60は腕部61によってビームスプリッタ4に対して底辺面部4d,4eと直交する方向に弾性的に付勢するため、ビームスプリッタ4はさらに安定した状態で基台50上に保持される。また、ビームスプリッタ4の底面部と凹部51の床面には間隙59(図9参照)を有している。この間隙59の存在によって、ビームスプリッタ4が下方へ多少ずれたとしても、基台50に当接して設置角度が変動することはない。
【0028】
なお、前記球体53は金属製のものを位置決め面52に形成した穴に嵌合するようにしたが、材質は任意である。あるいは、位置決め面52に基台50と一体的に突部を形成してもよい。また、3点支持ではなく、位置決め面52自体でビームスプリッタ4を受け止めてもよい。この場合、位置決め面52に底辺面部4d,4eを接着してもよい。従って、必ずしも板ばね60によってビームスプリッタ4を弾性的に付勢する必要はない。
【0029】
一方、ビームスプリッタ4の頂点面部4fを粗面として板ばね60の腕部61との摩擦抵抗を多くしてもよい。衝撃等でビームスプリッタ4が位置ずれを生じたり、脱落することを極力防止できる。
【0030】
(像点の相対的位置ずれ)
図12、図13(A)に本光ビーム走査光学装置における光路の概略を示す。レーザダイオード2から放射された光ビームB1はビームスプリッタ4の半透膜4cを透過して像点で結像する。レーザダイオード3から放射された光ビームB2は半透膜4cで反射され像点で結像する。像点は同じ位置に描かれているが、実際は副走査方向Zに400dpiで63.5μm、600dpiで42.3μmのピッチを有している。この2ビームの像面上での相対的な位置は、半透膜4cの設置角度が変動することによって、専ら反射光ビームB2の像点が移動し、ΔZ’、ΔY’のずれを生じることは前述した(図13(B)参照)。
【0031】
本実施形態において、図13(A)に示すように、ビームスプリッタ4の基台50上での位置は、主走査方向Y、半透膜4cに平行な方向tに移動する可能性、及び、半透膜4cの法線方向nを中心として回転する可能性がある。しかし、ビームスプリッタ4がいずれかの方向に移動したり回転しても、それらの位置変動ΔY、Δt、Δθnは半透膜4cの設置角度に影響を与えることはなく、感光体ドラム25(像面)上での光ビームB1,B2の相対的な位置ずれは発生しない。
【0032】
(基台の取付け構造)
次に、基台31をハウジング20の床面(水平基準面)22へ取り付ける構造について説明する。
基台31に関してはハウジング20に弾性的に取り付けられていることが必要である。基台31と取付けねじ41との間に弾性部材を介在させるか、基台31の一部に弾性を持たせることでこの目的を達成できる。また、基台31を取付けのために押圧する力、即ち、ねじ41で締め付ける力量は基台31に保持台32,33を介して取り付けられたレーザダイオード2,3に位置変動を及ぼさない値である必要がある。さらに、基台31はハウジング20に対して3個の突起によって3点支持されることが好ましい。
【0033】
即ち、光源ユニット1をハウジング20に固定するには、本実施形態にも示すように、ねじ(41)を用いた締結が一般的に行われている。ところで、光源ユニット1は、レーザダイオード2,3とコリメータレンズ5との光軸調整を、ハウジング20とは別にして独立して行い、調整終了後にハウジング20に組み込まれる。この組み込み時には調整時と座面が公差内で一致していないと、ねじ41で締め付けた際に基台31に歪みが生じ、レーザダイオード2,3とコリメータレンズ5との位置関係に微小なずれを生じ、像点の変動を引き起こす。現実問題としては、調整時と組み込み時とで座面を公差内で一致させるのは不可能である。このような像点の変動は、レンズ/ミラー系の誤差許容値に対して十分に小さく、これまではあまり問題とされてこなかった。しかし、複数の光ビームを用いて感光体に画像を書き込むマルチビーム走査対応機では、光ビームの像点での相対位置の変化として現れる。マルチビーム方式では、ビームの間隔を数10μm単位で調整し、かつ、数μm単位で変動を抑えることが要求される。
【0034】
そこで、基台31をハウジング20に締結する際の押圧を弾性的に行うと共に、押圧力を基台31が歪まない範囲に設定することが必要である。これにて、光源ユニット1をハウジング20に取り付ける際の歪みを除去し、光ビームB1,B2の像点の相対的な変動を防止することができる。また、基台31と取付けねじ41との間に弾性部材を介在させるか、基台31の一部に弾性を持たせることで、環境温度が変化したり、光源ユニット1の各部品間の応力解放によって生じる位置ずれを弾性的に吸収し、光ビームB1,B2の像点の相対的なずれを防止することができる。
【0035】
具体的には、図14に示すように、段付きの取付けねじ41を使用し、基台31とねじ頭部との間に圧縮ばね71を介在させればよい。また、図15に示すように、基台31に突片部31cを形成し、この突片部31cをねじ41で締め付ける際、ハウジング20と突片部31cとの間に弾性スペーサ72を介在させてもよい。また、図16に示すように、ねじ41の頭部と基台31の突片部31dとの間に弾性スペーサ73を介在させてもよい。
【0036】
さらには、図17に示すように、基台31に弾性を有する薄肉部31fを介して突片部31eを形成し、この突片部31eをねじ41で締め付けてもよい。また、図18に示すように、板ばね74をハウジング20にねじ止めし、この板ばね74の先端突部74aで基台31の突片部31gを弾性的に押圧する構成であってもよい。
【0037】
さらに、基台31をねじ41にて締め付けてハウジング20に取り付ける際、4点で締め付けるより、図19に示すように、3点で締め付け、かつ、支持する方が取付け状態での安定性において優れている。図19において、23はねじ41の締付け箇所に対応してハウジング20に設けた座面である。
【0038】
図20、図21は他の3点押圧/支持による取付け例を示す。ここでは、基台31を板ばね74の先端突部74aにて3箇所で押圧してハウジング20に取り付ける構造を示す。ハウジング20には座面として半球状の突起24が形成されている。
【0039】
(基台への押圧力と歪み量)
ここで、基台31への押圧力と歪み量について考察する。基台31の単純化したモデルを図22に示す。図22(A)に示すモデルでは、基台31をb×hの断面で長さC3の柱状体とし、その両端で支持すると共に、両端からC1,C2の位置に荷重Wを作用させ、そのときの歪み量Xについて考察する。なお、図22(B)は同じ柱状体を荷重点の真下で支持するようにしたもので、この場合には歪みは発生しない。
【0040】
図22(A)のモデルにおいて、歪み量Xは以下の式で求められる。
X=(W・C1 2・C2 2)/(3・E・I・C3 2)
但し、Wは荷重、Eはヤング率であり、I=b・h3/12である。
光ビームの像点変動量が光源であるレーザダイオード2,3の位置変化量の10倍であるとし、二つの光ビームB1,B2のずれ量の許容幅を6μmとすると、歪み量Xは0.6μm以下に抑える必要がある。
【0041】
b:2、h:0.675、I:0.051258、E:750000、C1:0.8、C2:4、C3:4.8とすると、例えば、100kgfの荷重Wを作用させると、歪み量Xは3.853673μmとなって、許容値0.6μmを大きく上回ってしまう。2.2kgfの荷重Wであれば、歪み量Xは0.084781μmであり、この程度の荷重が最小値となる。15kgfの荷重Wであれば、歪み量Xは0.578051μmであり、この程度の荷重が最大値となる。
【0042】
一方、bの数値のみ0.8とし、他の数値を前記例と同じとした場合、Iは0.020503であり、100kgfの荷重Wを作用させると、歪み量Xは9.634183となって、許容値0.6μmを大きく上回ってしまう。2.2kgfの荷重Wであれば、歪み量Xは0.211952μmであり、この程度の荷重が最小値となる。12.5kgfの荷重Wであれば、歪み量Xは0.58737μmであり、この程度の荷重が最大値となる。
【0043】
(基台と保持台との間の摩擦力)
ところで、本実施形態の如く、レーザダイオード2,3をそれぞれ保持台32,33に取り付け、該保持台32,33を基台31,50上にねじ45,46で締結する構成にあっては、基台31,50と保持台32,33との当接面の摩擦力に対して、保持台32,33とねじ45,46との当接面の摩擦力が十分に小さいことが要求される。
【0044】
即ち、基台31と保持台32との関係を例にして説明すると、保持台32をねじ45を用いて基台31に締結する構成では、締結時に発生する残留応力が解放されると、保持台32が基台31に対して位置ずれを生じる。この位置ずれは保持台32に固定されているレーザダイオード2の位置ずれとなり、像点の変動を招来する。
【0045】
このような不具合を防止する従来技術としては、特開平6−160745号公報に開示されているように、保持部材とフレームとの間のいずれかの面を仕上げ面として両者の摩擦力を小さくするか、いずれかの面を粗面として両者の摩擦力を大きくすることが考えられる。しかし、摩擦力を小さくすると、フレームに対して保持部材が容易に動くために光源の位置を微調整して固定することが困難になる。また、摩擦力を大きくしても応力そのものは小さくできないため、環境温度等の変化による保持部材の位置ずれは避けることができない。
【0046】
即ち、保持台を微調整可能で、かつ、位置ずれを防止するためには、応力自体を抑え、かつ、応力が残存していても位置変動を生じさせないだけの摩擦力に設定する必要がある。なお、締結時に発生する残留応力とは、例えば、ねじで締結する場合には、ねじ頭部(座金を含む)と保持台との間で押圧力とは別に、ねじの回転によってねじり力(回転モーメント)が発生し、その応力が保持台に残留したものをいう。
【0047】
そこで、本実施形態では、図23に示すように、基台31と保持台32との当接面A1の摩擦力を大きく設定し、保持台32とねじ45の頭部との間に座金45a,45bを設け、保持台32と座金45bとの当接面A2の摩擦力を小さく設定した。これらの部材31,32,45,45a,45bはアルミニウムからなる。当接面A1の摩擦力を大きくするには、少なくともいずれかの面を粗面化(ブラスト処理等)すればよい。当接面A2の摩擦力を小さくするには、保持台32の上面を研摩して平滑面としたり、保持台32の上面と座金45bとの間に潤滑剤を塗布すればよい。
【0048】
具体的には、アルミニウムの摩擦係数は、その表面仕上げの状態によって異なるが、1.0〜1.2である。但し、鋳造した場合は表面粗さにかなりのばらつきが出る。面粗さに関しては、切削面で3μm以下、ダイキャスト面で10μm以下、ブラスト面で10〜15μmである。摩擦係数は面粗さに比例すると考えてよく、ブラスト面の摩擦係数は切削面の摩擦係数に対して3〜5倍程度である。従って、当接面A1,A2の摩擦力の比は3〜5:1に設定されることになる。
【0049】
以上の如く、保持台32と締結部材との当接面A2の摩擦力を充分に小さく設定したため、この当接面A2にはねじ45の軸方向(界面直交方向)の押圧力のみが発生し、ねじり力による残留応力をかなり小さく抑えることができる。同時に、基台31と保持台32との当接面A1の摩擦力を相当に大きく設定したため、両者間の相対的な移動を防止でき、両摩擦力の関係によってレーザダイオード2の位置調整を容易かつ正確に行うことが可能となる。さらに、締結時に残留応力が発生したとしても、当接面A1は残留応力に耐え得る摩擦力に設定されているため、界面上で応力が解放されることはない。従って、結果的に温度変化や振動等によるレーザダイオード2の位置ずれを防止することができる。
【0050】
なお、以上の説明は基台31と保持台32との関係において行われたが、基台50と保持台33との関係においても同様である。
【0051】
(基台、保持台及び締結部材の材質)
さらに、基台31,50、保持台32,33及びねじ45,46の材質は同じであることが好ましい。保持台32,33を基台31,50にねじ45,46で締結する際に、保持台32,33とねじ45,46との間に応力歪みが生じ、図24に示すように、保持台32,33が歪む。そして、該応力歪みが部材の熱収縮で解放されるときに、保持台32,33と共にレーザダイオード2,3の位置がずれることになる。
【0052】
例えば、アルミニウムからなる基台32,33を鉄からなるねじ45,46で締結すると、図24に示すように、保持台32,33が歪んだ状態で固定される。レーザダイオード2,3の位置調整はこの状態で行われるため、保持台32,33はこの歪んだ状態を維持することが好ましい。保持台32,33の歪み状態は、保持台32,33とねじ45,46の圧接力と摩擦力とのバランスによって維持される。しかし、温度変化が生じると、鉄とアルミニウムとの熱膨張率の差によってねじ45,46と保持台32,33との間の圧接力に変化(低下)が生じ、保持台32,33が元の歪みのない状態に戻ろうとし、これがレーザダイオード2,3の像点の移動として現われる。
【0053】
このような像点の移動は極めて僅かであるが、本実施形態のような2ビーム方式では、像点ピッチの1/10程度の変化量が光源としてレーザダイオード2,3の変化量の許容値となるので無視できない。
【0054】
そこで、基台31,50、保持台32,33及びねじ45,46の材質を同じもの(例えば、アルミニウム)とすることにより、温度変化が生じても、それぞれの熱膨張率は同じであるため、保持台32,33とねじ45,46間の圧接力が変化(低下)することはない。結果的に、レーザダイオード2,3の像点ピッチの変動を抑えることができる。
【0055】
また、図25に示すように、保持台32,33に座ぐり穴32a,33aを形成し、この座ぐり穴32a,33aにねじ45,46の頭部を位置させれば、保持台32,33の変形を極力避けることができる。
【0056】
(他の実施形態)
なお、本発明に係る光ビーム走査光学装置は前記実施形態に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することができる。
例えば、二つのレーザダイオード2,3の光ビームを結合する素子としては、プリズムを組み合わせたビームスプリッタ4以外に、無偏光ハーフミラー面を有する平板及び偏光特性を有するフィルタミラー面を有する平板を組み合わせたものであってもよい。
【0057】
また、図2に二点鎖線で示すように、いまひとつのマルチビーム方式の光源ユニット1’を設け、その光ビームをビームスプリッタ6によってポリゴンミラー12へ入射させてもよい。この場合は光源ユニット1又は1’を選択的に切り換えて駆動する。例えば、光源ユニット1は画素密度が400dpi、光源ユニット1’は600dpiである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態である光ビーム走査光学装置の概略構成を示す斜視図。
【図2】前記光ビーム走査光学装置の平面図。
【図3】前記光ビーム走査光学装置の垂直方向断面図。
【図4】本発明に係る光源装置の組立て構造の一例を示す平面図。
【図5】図4の正面図。
【図6】図5の右側面図。
【図7】図5の左側面図。
【図8】前記組立て構造の模式図。
【図9】前記組立て構造の断面図。
【図10】ビームスプリッタの斜視図。
【図11】ビームスプリッタの取付け構造を示す分解斜視図。
【図12】本実施形態における光ビームの概略光路図。
【図13】光ビームの像点変動を示す説明図、(A)は本発明例、(B)は従来例である。
【図14】基台のハウジングへの取付け構造の一例を示す断面図。
【図15】基台のハウジングへの取付け構造の他の例を示す断面図。
【図16】基台のハウジングへの取付け構造のさらに他の例を示す断面図。
【図17】基台のハウジングへの取付け構造のさらに他の例を示す断面図。
【図18】基台のハウジングへの取付け構造のさらに他の例を示す断面図。
【図19】基台の3点支持構造の一例を示す斜視図。
【図20】基台の3点支持構造の他の例を示す斜視図。
【図21】図20に示した取付け構造の一部断面図。
【図22】基台への押圧力と歪み量との関係を示す説明図。
【図23】基台に対する保持台の固定構造の一例を示す断面図。
【図24】保持台の歪みを説明するための断面図。
【図25】基台に対する保持台の固定構造の他の例を示す断面図。
【符号の説明】
1…光源ユニット
2,3…レーザダイオード
4…ビームスプリッタ
4a,4b…三角柱状プリズム
4c…半透膜
4d,4e…突出底辺面部
5…コリメータレンズ
12…ポリゴンミラー
13,14,15…fθレンズ
50…基台
53…球体
59…間隙
60…板ばね
Claims (1)
- それぞれ異なる方向に光ビームを放射する複数の光源と、
前記光源から放射された複数方向から入射する光ビームを副走査方向に所定の間隔で出射させる、光学薄膜を有する光学素子と、
前記光学素子をその光学薄膜を含む平面部で位置決めして支持する支持部材と、
前記光学素子から出射された複数の光ビームを平行光又は収束光とするレンズと、
前記レンズから出射された複数の光ビームを同時に偏向する偏向器と、
偏向された複数の光ビームを受光面上に結像する結像レンズと、を備え、
前記光学素子は長さの異なる二つの二等辺三角柱プリズムを互いの底辺面部を前記光学薄膜を介して接合してなり、長いプリズムの底辺面部が短いプリズムの両端部から突出しており、かつ、前記底辺面部と略平行に位置する頂点面部を粗面とし、
前記支持部材は前記光学素子の突出底辺面部の片側を1点で他側を2点で受ける計3個の球状突部を有し、
前記光学素子は前記頂点面部が前記突出底辺面部と直交する方向に弾性的に付勢されて前記支持部材に保持されていること、
を特徴とする光ビーム走査光学装置。
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