JP3711131B2 - 新規のシクロヘキシルスルホン - Google Patents

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Description

本発明は、新規のクラスの化合物、その塩、これらを含む医薬組成物、これらを調製する方法、および人体の治療におけるこれらの使用に関する。特に、本発明は、γ−セクレターゼによるAPPのプロセシングを調節し、したがって、アルツハイマー病の治療または予防に有用な新規のスルホンに関する。
アルツハイマー病(AD)は、最も一般的な形の痴呆である。ADは主に高齢者の疾患であり、65歳を超えた人口の10%までが罹患しているが、遺伝的疾病素因のあるかなりの数の若年層患者もADに罹患している。ADは神経変性障害であり、臨床的には、記憶や認識機能の進行性喪失を特徴とし、かつ、病理学的には、患者の脳の皮質領域および連合領域における細胞外でのタンパク質プラークの沈着を特徴とする。これらのプラークには、主にβ−アミロイドペプチド(Aβ)の原線維性凝集体が含まれている。Aβを形成するアミロイド前駆体タンパク質(APP)のプロセシングにおける、推定上のγ−セクレターゼをはじめとするセクレターゼの役割については文献に詳しく報告されており、例えば、WO01/70677に記載されている。
細胞ベースのアッセイで測定した、γ−セクレターゼに対する阻害活性を有する化合物を報告する文献は比較的少ない。それらの化合物はWO01/70677に記載されている。その関連化合物の多くは、ペプチドまたはペプチド誘導体である。
本発明は、推定上のγ−セクレターゼによるAPPのプロセシングを調節し、それによりAβの産生を阻止することによってADを治療または予防するのに有用な、新規のクラスの非ペプチド化合物を提供する。
本発明は、式I:
Figure 0003711131
[式中、
mは0または1であり、
ZはCN、OR2a、CO2aまたはCON(R2aを表し、
1bはH、C1〜4アルキルまたはOHを表し、
1cはHまたはC1〜4アルキルを表し、
Arはフェニルまたはピリジルを表し、そのどちらもが、ハロゲン、CN、NO、CF、OH、OCF、C1〜4アルコキシまたはC1〜4アルキル(ハロゲン、CN、NO、CF、OHおよびC1〜4アルコキシから選択された置換基を場合によっては有する)から独立して選択された0〜3個の置換基を有し、
Arはハロゲンにより2位および5位で置換されているフェニルを表し、
2aは、H、C1〜6アルキル、C3〜6シクロアルキル、C3〜6シクロアルキルC1〜6アルキル、C2〜6アルケニルを表し、それらのうち任意のものが、ハロゲン、CN、NO、CF、OR2b、CO2b、N(R2b、CON(R2b、ArおよびCOArから選択された置換基を場合によっては有しているか;あるいは、R2aはArを表すか;あるいは、2個のR2a基は、それらが共通して結合している窒素原子と一緒になって、=O、=S、ハロゲン、C1〜4アルキル、CN、NO、CF、OH、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルコキシカルボニル、COH、アミノ、C1〜4アルキルアミノ、ジ(C1〜4アルキル)アミノ、カルバモイル、ArおよびCOArから独立して選択された0〜4個の置換基を有するN−複素環基を完成してもよく、
2bは、H、C1〜6アルキル、C3〜6シクロアルキル、C3〜6シクロアルキルC1〜6アルキル、C2〜6アルケニルを表し、それらのうち任意のものが、ハロゲン、CN、NO、CF、OH、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルコキシカルボニル、COH、アミノ、C1〜4アルキルアミノ、ジ(C1〜4アルキル)アミノ、カルバモイル、ArおよびCOArから選択された置換基を場合によっては有するか;あるいは、R2bはArを表すか;あるいは、2個のR2b基は、それらが共通して結合している窒素原子と一緒になって、=O、=S、ハロゲン、C1〜4アルキル、CN、NO、CF、OH、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルコキシカルボニル、COH、アミノ、C1〜4アルキルアミノ、ジ(C1〜4アルキル)アミノ、カルバモイル、ArおよびCOArから独立して選択された0〜4個の置換基を有するN−複素環基を完成してもよく、
Arは、ハロゲン、C1〜4アルキル、CN、NO、CF、OH、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルコキシカルボニル、アミノ、C1〜4アルキルアミノ、ジ(C1〜4アルキル)アミノ、カルバモイル、C1〜4アルキルカルバモイルおよびジ(C1〜4アルキル)カルバモイルから選択された0〜3個の置換基を有するフェニルまたはヘテロアリールを表す]で表される化合物、またはその製薬上許容される塩を提供する。
式Iまたはその置換基に変数が複数存在する場合、その変数の個々の存在は、別段の定めがない限り、互いに独立している。
本明細書では、「C1〜xアルキル」(式中、xは2以上の整数である)という表現は、構成する炭素原子の数が1個からx個の範囲である、直鎖および分枝鎖のアルキル基を意味する。具体的なアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルおよびt−ブチルが挙げられる。「C2〜6アルケニル」、「ヒドロキシC1〜6アルキル」、「ヘテロアリールC1〜6アルキル」、「C2〜6アルキニル」および「C1〜6アルコキシ」などの派生的表現も、同様に解釈するものとする。
本明細書では、「C3〜6シクロアルキル」という表現は、3〜6個の環原子を含む、非芳香族単環式または融合二環式炭化水素の環系を意味する。例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘキセニルが挙げられる。
本明細書では、「C3〜6シクロアルキルC1〜6アルキル」という表現には、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチルおよびシクロヘキシルメチルが含まれる。
本明細書では、「N−複素環」という表現は、C、N、OおよびSから選択された10個までの環原子の単環系または多環系であって、構成環はいずれも非芳香族であり、かつ、少なくとも1個の環原子は窒素であり、結合は前記の環窒素を介するものである、単環系または多環系を意味する。好ましいN−複素環基は、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、イミダゾリジニル、オキサゾリジニルおよびチアゾリジニルなどの4〜6員の単環系である。
本明細書において「ヘテロアリール」という表現は、C、N、OおよびSから選択された10個までの環原子の単環系または多環系であって、構成環の少なくとも1つは芳香族であり、かつ、炭素以外の環原子を少なくとも1個含むものである単環系または多環系を意味する。好ましいヘテロアリール基は、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピロリル、フリル、チエニル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリルおよびチアジアゾリル基などの5員または6員の単環系である。ヘテロアリール基のさらなる例としては、テトラゾール、1,2,4−トリアジンおよび1,3,5−トリアジンが挙げられる。
本明細書における「ハロゲン」という用語には、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が含まれ、そのうち、フッ素と塩素が好ましい。
医薬品での使用においては、式Iの化合物を製薬上許容される塩の形にするのが有利であるが、他の塩も、式Iの化合物またはその製薬上許容される塩の調製で有用であり得る。本発明の化合物に適した製薬上許容される塩としては、酸付加塩(例えば、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、酢酸、安息香酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、炭酸またはリン酸とともに形成されたもの)が含まれ、本発明の化合物が酸性成分を有する場合、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩またはマグネシウム塩、および適切な有機リガンド(例えば、第四級アンモニウム塩もしくはピリジニウム塩)とともに形成された塩が含まれる。
本発明による化合物が少なくとも1個の不斉中心を有する場合、結果的に前記化合物は鏡像異性体として存在し得る。本発明による化合物が2個以上の不斉中心を有する場合にはさらにジアステレオ異性体として存在し得る。すべてこのような異性体およびあらゆる比率のその混合物が本発明の範囲に包含されることは理解されよう。
不斉中心が存在するか存在しないかにかかわらず、本発明によるある化合物は、分子全体としての非対称によって鏡像異性体として存在し得る。そのような場合、両鏡像異性体と、あらゆる比率のその混合物が本発明の範囲に含まれ、特段の記載がなければ、このタイプの分子を表す構造式を考えられ得る両鏡像異性体の典型的なものとすることが理解されよう。
式Iの化合物において、Arは、場合によっては置換されたフェニルまたはピリジルを表し、特に、場合によっては置換されたフェニルまたは3−ピリジルを表す。Arは、ハロゲン、メチルまたはトリフルオロメチルにより4位で置換されたフェニル基、およびハロゲンにより3位および4位で置換されたフェニル基から選択されるのが好ましい。
Arは、2,5−ジフルオロフェニルが好ましい。
具体的な実施形態においては、Arは4−クロロフェニルまたは4−トリフルオロメチルフェニルであり、Arは、2,5−ジフルオロフェニルである。
1bは、一般には、H、メチルまたはOHを表し、好ましくはHを表す。
1cは、一般には、Hまたはメチルを表し、好ましくはHを表す。
mが1である場合、R1bとR1cが両方ともC1〜4アルキルを表さないのが好ましい。
2aの具体例としては、H、フェニル、ピリジル、C3〜6シクロアルキル(シクロプロピル、シクロブチルおよびシクロペンチルなど)、C3〜6シクロアルキルC1〜6アルキル(シクロプロピルメチルなど)、C2〜6アルケニル(アリルなど)、および、直鎖または分枝鎖C1〜6アルキル(CF、Ar、OR2b、N(R2b、CO2bまたはCON(R2bにより場合によっては置換されている)が挙げられる。
N(R2aによって表されるN−複素環基の例としては、ピペリジン−1−イル(OH、COH、CO1〜4アルキル、MeまたはPhにより場合によっては置換されている)、ピペラジン−1−イル(MeまたはPhにより場合によっては置換されている)、モルホリン−4−イル、チオモルホリン−4−イル、1,1−ジオキソ−チオモルホリン−4−イル、2−オキソ−イミダゾリジン−1−イル、5,5−ジメチル−2,2−ジオキソ−オキサゾリジン−3−イル、2,5−ジオキソ−イミダゾリジン−1−イル、2−オキソ−オキサゾリジン−3−イル、2−オキソ−ピリジン−1−イル、および2−オキソ−ピロリジン−1−イルが挙げられる。
2bは、一般には、HまたはC1〜4アルキルを表す。
ZがOR2aを表す場合、R2aは、H、Ar(特にピリジル)、アルキル(メチル、エチル、プロピルまたはブチルなど)、または置換されたアルキル(特にベンジルまたはピリジルメチルなどのCHAr)を表す傾向がある。
ZがCO2aを表す場合、R2aはHまたはアルキル(メチル、エチル、プロピルまたはブチルなど)表す傾向がある。
ZがCON(R2aを表す場合、R2a基は、それぞれ独立してH、あるいは場合によっては置換されたアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキルもしくはアルケニルを表すか、あるいは一緒になってN−複素環基を完成する。一方のR2aがHを表し、かつ、他方のR2aが、H、アルキル(メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチルもしくは1−エチルプロピルなど)、アルケニル(アリルなど)、シクロアルキル(シクロプロピル、シクロブチルもしくはシクロペンチルなど)、シクロアルキルアルキル(シクロプロピルメチルなど)、あるいは、置換されたアルキル(Arにより置換されたアルキル、特に2−ピリジルエチル、3−(イミダゾール−1−イル)プロピルもしくは2−フェニルエチル;または、CF、CO2bもしくはCON(R2bにより置換されたアルキル、特に、2,2,2−トリフルオロエチル、メトキシカルボニルメチルまたはカルバモイルメチルなど)を表す傾向が強い。あるいは、2個のR2a基は、N−複素環基(モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリン−1,1−ジオキシド、4−メチルピペラジン、4−フェニルピペラジン、ピペリジン、4−ヒドロキシピペリジン、あるいはCO2bおよび/またはC1〜4アルキルにより3位または4位で置換されているピペリジン、特に3−もしくは4−カルボキシピペリジン、3−もしくは4−エトキシカルボニルピペリジン、3−カルボキシ−3−メチルピペリジンおよび3−エトキシカルボニル−3−メチルピペリジンなど)を完成する。
式Iによる各化合物の例は、本明細書に付記されている実施例の節に記載されている。
式Iの化合物は、γ−セクレターゼによるAPPのプロセシングのモジュレーターとしての活性を有している。
また、本発明は、1種または複数種の式Iの化合物またはその製薬上許容される塩、および製薬上許容される担体を含む医薬組成物を提供する。これらの組成物は、経口投与、非経口投与、鼻腔内投与、舌下投与または直腸内投与のための、あるいは吸入投与または注入投与のための、錠剤、丸剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、滅菌非経口液または懸濁液、定量エアロゾルまたは液体スプレー、滴剤、アンプル、経皮貼布剤、自動注射器または坐剤などの剤形単位であるのが好ましい。錠剤などの固体組成物の調製では、主要有効成分を製薬上の担体(当業者に知られている慣用の錠剤用成分、例えば、WO01/70677に記載されている成分など)と混合し、剤形単位を形成する。典型的な剤形単位は、有効成分を0.1〜500mg(例えば、1、2、5、10、25、50、100または200mg)含有する。この新規組成物の錠剤または丸剤は、例えば、WO01/70677に記載されているようにして、コーティングするか、さもなければ調合することによって、徐放作用の効果をもたらす剤形を得ることができる。
本発明の新規組成物を入れることができる、経口投与または注射投与用の液体剤形としては、WO01/70677に記載されているような、水溶液、適切に風味付けしたシロップ剤、水溶性または油性懸濁液、および食用油を含む風味付けしたエマルジョンが挙げられる。
また、本発明は、人体の治療方法で使用するための、式Iの化合物またはその製薬上許容される塩を提供する。好ましくは、その治療はβ−アミロイド沈着に関連した病態に対する治療である。また、好ましくは、その病態は、アルツハイマー病などのβ−アミロイド沈着に関連した神経系疾患である。
さらに、本発明は、アルツハイマー病を治療又は予防するための薬剤の製造における、式Iの化合物またはその製薬上許容される塩の使用を提供する。
また、有効な量の式Iの化合物またはその製薬上許容される塩を被験体に投与することを含む、アルツハイマー病を罹患しているまたは罹患しやすい被験体の治療方法が記載されている。
アルツハイマー病を治療又は予防するための適切な用量レベルは、1日当たり約0.01〜250mg/kg、好ましくは1日当たり約0.05〜100mg/kg、特に好ましくは1日当たり約0.1〜50mg/kg(体重)である。この化合物は、1日当たり1〜4回のレジメンで投与することができる。しかし、一部の事例では、これらの範囲外の用量を使用してもよい。
式I[式中、mは0であり、ZはCO2aまたはCON(R2aである]の化合物は、カルボン酸(1)とR2aOHまたはHN(R2aとをそれぞれ結合させることにより調製することができる。
Figure 0003711131
式中、Ar、Ar、R1cおよびR2aは、前に記載したのと同じ意味を有する。ジメチルアミノピリジン、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等のカップリング剤の使用を含めて、任意の標準カップリング技術を用いることができる。好ましい一方法では、この酸を対応する酸塩化物に変換し(例えば、DMF溶液中での塩化オキサリルとの処理によって変換)、所望の求核試薬と直接反応させる。別の好ましい方法では、この酸をペンタフルオロフェノールエステルなどの活性エステル誘導体に変換し(例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下、フェノールとの結合によって変換)、この中間物を所望の求核試薬と反応させる。
酸(1)は、一般的にアルカリ性条件下で、エステル(2)の加水分解(エタノール溶液中のLiOHによる処理など)によって得られる。
Figure 0003711131
式中、Rはメチルまたはエチルなどのアルキルを表し、Ar、ArおよびR1cは前に記載したのと同じ意味を有する。
このエステル(2)は、アルキリデン誘導体(3)の還元、場合によっては、その後、(C1〜4アルキル)−L(式中、R1cがH以外である場合、Lは脱離基、特に、臭化物またはヨウ化物である)によるアルキル化を行うことによって得られる。
Figure 0003711131
式中、Ar、ArおよびRは、前に記載したのと同じ意味を有する。還元は、エタノール中で水素化ホウ素ナトリウムとニッケル(II)塩化物を用いて実施することができる。一方、任意選択のアルキル化は、低温にて非プロトン性溶媒中、エステル(2,R1c=H)を強塩基(例えば、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド)で処理し、続いて、(C1〜4アルキル)−Lで処理し、室温まで加温することによって達成することができる。
所望する場合は、この不飽和エステル(3)を対応する酸に加水分解し、オレフィン結合の還元前にHN(R2aと反応させることによってアミドに変換してもよい。
不飽和エステル(3)は、PhP=CHCOによるケトン(4)の縮合から得られる。
Figure 0003711131
式中、Ar、ArおよびRは前に記載したのと同じ意味を有する。一方、ケトン(4)はエノール(5)の脱炭酸によって得られる。エノールは、スルホン(6)を少なくとも2当量のアクリル酸塩(7)と反応させることによって形成される。
Figure 0003711131
式中、Ar、ArおよびRは、前に記載したのと同じ意味を有する。脱炭酸は、塩化ナトリウムと水の存在下、DMSO中、150℃で加熱することによって達成することができる。一方、(6)と(7)との反応は、カリウムt−ブトキシドなどの強塩基の存在下、THFなどの不活性溶媒中で周囲温度にて実施することができる。
スルホン(6)は、チオエーテル:Ar−CH−SAr(8)の酸化によって調製する。前記チオエーテルは、チオール:ArSH(9)をベンジル誘導体:ArCH−L(10)と反応させることによって形成される。前記式中、Lは塩化物または臭化物などの脱離基であり、ArとArは前に記載したのと同じ意味を有する。(9)と(10)との間の反応は、トリエチルアミンなどの塩基の存在下、ジクロロメタンなどの不活性溶媒中で起こり、一方、(8)から(6)への酸化もまた、ジクロロメタンなどの不活性溶媒中でm−クロロペルオキシ安息香酸によって都合よく達成される。
式I(式中、mは0であり、ZはCNまたはOR2aである)の化合物は、スルホネートエステル(11)をシアン化物イオンまたはR2aOHとそれぞれ反応させることによって得ることができる。
Figure 0003711131
式中、Lはスルホネート脱離基(メシレート、トシレートまたはトリフレートなど)を表し、Ar、Ar、R1cおよびR2aは前に記載したのと同じ意味を有する。置換反応は、高い温度(例えば、約80℃)で、DMF中で行うことができる。求核試薬がR2aOHである場合、(11)との反応前に、水素化ナトリウムによる処理によって対応する陰イオンを生成するのが有利である。
このスルホネート(11)は、アルコール(12)と適切な塩化スルホニルとの反応によって(例えば、第三級アミンの存在下、低温での無水条件下にて)調製される。
Figure 0003711131
このアルコール(12)はアルケン(13)のヒドロホウ素化から得られる。
Figure 0003711131
式中、Ar、ArおよびR1cは前に記載したのと同じ意味を有する。その方法には、室温におけるTHF中でのボランとの反応、引き続いて、アルカリ性過酸化水素による処理とクロマトグラフィーによる所望のシス異性体の分離が一般に含まれる。このアルケン(13)は、PhP=CHR1c(式中、R1cは前に記載したのと同じ意味を有する)による縮合によってケトン(4)から得られる。
アルコール(12)(式中、R1cはHである)への代替経路には、対応する第二級アルコール(14)へのケトン(4)の還元(例えば、ホウ化水素の利用)、対応するメシレート(あるいは同等の脱離基)への前記アルコール(14)の変換、シアン化物イオンによる求核置換の達成、生じたニトリルの対応するカルボン酸への加水分解、引き続いて、第一級アルコールへの還元が含まれる。加水分解は、酸性条件下(例えば、110℃にて、酢酸および濃HClの混合物中)で一般的に実施され、還元は、THF中、イソブチルクロロホルメートとホウ化水素による連続処理によって都合よく実施される。
式I(式中、mは1であり、R1bはHまたはC1〜4アルキルである)で表される化合物は、対応するアルデヒドまたはケトンへアルコール(12)を酸化させ、ケトン(4)を式I(式中、mは0である)の化合物へ変換することに関して前に記載した方法で、そのカルボニル基を生成することによって得ることができる。例えば、アルコール(12)(式中、R1cはHである)を酸化することによって、対応するシクロヘキサンカルボキサルデヒドが得られ、それをPhP=COEtにより縮合することによって2−シクロヘキシルプロペン酸のエチルエステルを得ることができる。これらは、対応するエチル2−シクロヘキシルプロパン酸に水素化することができる。エチル2−シクロヘキシルプロパン酸は、アルキル化、および/または対応する酸への加水分解に場合によって供され、かつ/または種々のアミドもしくは代替のエステル誘導体に変換させることができる。
上記合成スキームで用いられている出発材料と試薬は、そのものが市販されていない場合は、市販の材料に有機合成の標準技術を用いることによって得ることができる。
上記合成スキームでは多くの場合、立体異性体の混合物が生じ得ることは理解されよう。特に、ある生成物は、特定の環置換基がアリールスルホニル基として環の同じ側か反対側に存在する、シス異性体とトランス異性体の混合物として形成され得る。このような混合物は、分別再結晶および分取クロマトグラフィーなどの慣用の手段によって分離することができる。
本発明によるある化合物は、1種または複数種のキラル中心の存在により、または分子の全体的な不斉性により光学異性体として存在し得る。このような化合物は、ラセミ体の形で調製しても、エナンチオ特異的合成または分割によって個々の鏡像異性体を調製してもよい。この新規化合物は、例えば、分取HPLCなどの標準の技術によって、あるいは、光学的に活性な酸(例えば、(−)−ジ−p−トルオイル−d−酒石酸および/または(+)−ジ−p−トルオイル−l−酒石酸など)との塩を形成させた後、分別結晶化および遊離塩基の再生を行い、ジアステレオマーの対を形成させることによって、それらを構成する鏡像異性体に分離することができる。また、この新規化合物は、ジアステレオマーのエステルまたはアミドを形成した後、クロマトグラフィーによる分離とキラル補助基の除去を行って分離してもよい。
上記のいずれの合成手順の際にも、関係するすべての分子について、感受性または反応性のある基を保護することが必要であり、かつ/または望ましい。これは、「Protective Groups in Organic Chemistry」(J.F.W.McOmie編,Plenum Press,1973)、およびT.W.Greene & P.G.M.Wutsの「Protective Groups in Organic Synthesis」(John Wiley & Sons,1991)に記載されているものなどの慣用の保護基によって達成することができる。保護基は、当分野で知られている方法を用いて、都合のよい後続の段階で除去することができる。
γ−セクレターゼに対する本発明の化合物の活性レベルを分析する適切な方法は、WO01/70677、およびBiochemistry,2000,39 (30),8698−8704に記載されている。
本発明の実施例では、上に引用したアッセイの少なくとも1種類のアッセイで10μM未満、好ましくは1μM未満、最も好ましくは100nM未満のED50をすべて有していた。
以下の実施例により本発明を説明する。
中間体1
Figure 0003711131
ジクロロメタン(100ml)に溶解した4−クロロチオフェノール(3.6g、0.025mol)を2,5−臭化ジフルオロベンジル(5.17g、0.025mol)およびトリエチルアミン(3.9ml、0.028mol)で処理し、反応物を2時間撹拌し、次いで、ジクロロメタン(250ml)で希釈し、水(100ml)およびブライン(100ml)で洗浄した。分離した有機層を乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。生成物は、シリカのプラグを下向きに通過させて、ヘキサン−酢酸エチル混合物を用いて溶出させることにより精製した。5.12g。H NMR CDCl 7.23(4H,s)、6.69〜6.86(3H,m)および4.04(2H,s)。
このチオエテール(5.12g、0.018mol)をジクロロメタン(100ml)に溶解し、m−クロロペルオキシ安息香酸(14.3g、0.042mol(50%w/w))で処理し、2時間撹拌した。次いで、その反応物をNa(5%溶液、100ml)、ブライン(50ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。そのスルホン生成物について、ヘキサン−酢酸エチル混合物で溶出するシリカ精製を行った。3.6g。H NMRCDCl 7.61(2H,d,J=8.6Hz)、7.45(2H,d,J=8.6Hz)、7,13〜7.08(1H,m)、7.05〜7.01(1H,m)、7.05〜7.00(1H,m)、6.99〜6.87(1H,m)および4.36(2h,s)。
中間体2
Figure 0003711131
4−トリフルオロメチルチオフェノールを用いて中間体1と同様に調製し、標題の化合物を固形物として得た。H NMR(360MHz,CDCl)δ7.85〜7.83(2H,m)、7.76〜7.74(2H,m)、7.15〜7.10(1H,m)、7.06〜7.0(1H,m)、6.92〜6.86(1H,m)および4.46(2H,s)。
調製物1
Figure 0003711131
テトラヒドロフラン(30ml)に溶解した中間体1(1g、3.31mmol)とアクリル酸メチル(0.84ml、9.27mmol)にカリウムt−ブトキシド(テトラヒドロフランに溶解した3.64mlの1M溶液、3.64mmol)を滴下して処理した。その反応物を2時間撹拌し、酢酸エチル(100ml)で希釈し、水(50ml)およびブライン(50ml)で洗浄した。有機相を分離し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。ヘキサン−酢酸エチル混合物で溶出するシリカによって生成物を精製した。(1.0g)。H NMR CDCl 12.0(1H,s)、7.41(4H,s)、7.06〜7.0(2H,m)、6.87〜6.81(1H,s)、3.81(3H,s)、3.38(1H,dd,J=3.2,15.8Hz)、3.02〜2.92(2H,m)、2.52(1H,dd,J=5.7,18.5Hz)、2.3〜2.2(1H,m)および2.2〜2.1(1H,m)。
調製物2
Figure 0003711131
ジメチルスルホキシド(10ml)に溶解した調製物1からのエステル(1.0g、2.25mmol)をNaCl(0.3g、4.96mmol)および水(0.9ml、4.96mmol)で処理し、150℃で2時間加熱した。冷却したその反応混合物を酢酸エチル(100ml)で希釈し、飽和NHCl(100ml)で洗浄した。有機相を分離し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。ヘキサン−酢酸エチル混合物で溶出するシリカによって生成物を精製した。0.5g。H NMR CDCl 7.43〜7.37(4H,m)、7.22〜7.1(2H,m)、6.97〜6.9(1H,m)、3.05〜2.98(2H,m)および2.61〜2.53(2H,m)。
調製物3
Figure 0003711131
中間体2を用いて、調製物1および2の方法によって調製し、固形物として標題の生成物を得た。(0.3g)。H NMR(360MHz,CDCl)δ7.71〜7.69(2H,d,J=7.5Hz)、6.62〜6.60(2H,d,J=7.4Hz)、7.22〜7.11(2H,m)、6.95〜6.88(1H,m)、3.02〜2.99(2H,m)、2.63〜2.54(4H,m)および2.25〜2.16(2H,m)。
調製物4
Figure 0003711131
テトラヒドロフラン(60mL)に溶解した水素化ナトリウム(60%の鉱油分散液、988mg、24.7mmol)のスラリーにエチル(ジエトキシホスフィニル)アセテート(5.16mL、26mmol)を滴下して添加し、混合物を室温で1時間撹拌した。テトラヒドロフラン(50mL)に溶解した調製物2からのケトン(5g、13mmol)を20分かけて滴下して添加し、混合物を室温で18時間撹拌した。水を添加し、この混合物を酢酸エチルで抽出した。有機画分を1つに合わせ、水で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、減圧下で溶媒を蒸発させた。残渣をイソヘキサン:EtOAc=85:15で溶出するシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフイーにかけて精製し、白色固形物として標題の生成物を得た(5.2g、88%)。H NMR(400MHz,CDCl)δ7.41〜7.36(4H,m)、7.18〜7.13(1H,m)、7.11〜7.05(1H,m)、6.93〜6.86(1H,m)、5.64(1H,s)、4.14〜4.10(2H,m)、3.99〜3.96(1H,m)、2.91〜2.80(2H,m)、2.42〜2.38(1H,m)、2.31〜2.04(3H,m)、1.89〜1.78(1H,m)、1.28〜1.24(3H,m)。
調製物5
Figure 0003711131
メタノール(2ml)に調製物2からのケトン(0.1g、0.26mmol)を溶解し、NaBH(0.098g、0.26mmol)で処理し、1時間撹拌した。その反応物をHCl(1N、10ml)でクエンチし、酢酸エチル(20ml)で希釈し、次いで、有機相を分離し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。そのシスとトランスの生成物について、ヘキサン−酢酸エチル混合物で溶出するシリカ精製を行った。
(a)(トランス)0.052g。H NMR CDCl 7.39〜7.33(4H,m)、7.11〜7.02(2H,m)、6.88〜6.82(1H,m)、3.80〜3.73(1H,m)、2.80〜2.60(2H,m)、2.22〜2.16(2H,m)、2.08〜2.04(2H,m)、1.53(1H,br)および1.27〜1.13(2H,m)。
(b)(シス)H NMR(CDCl)7.40(4H,s)、7.16〜7.03(2H,m)、6.90〜6.83(1H,m)、3.97〜3.95(1H,m)、3.77〜3.68(1H,m)、3.51〜3.49(1H,m)、2.61〜2.53(2H,m)、1.91〜1.83(2H,m)および1.50〜1.42(2H,m)。
調製物6
Figure 0003711131
ジクロロメタン(50mL)に溶解した調製物5からのトランスシクロヘキサノール(2.7g、6.9mmol)とトリエチルアミン(1.45mL、10.3mmol)を−30℃でメタンスルホニルクロリド(0.645mL、8.9mmol)で処理した。30分後、水(20mL)、10%クエン酸水溶液(20mL)および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(50mL)でこの混合物を洗浄し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。その固形物をエーテルで摩砕してメシレート(2.6g)を得た。H NMR(CDCl)7.40〜7.37(4H,m)、7.12〜7.07(2H,m)、6.92〜6.83(1H,m)、4.78〜4.65(1H,m)、2.96(3H,s)、2.88〜2.52(2H,m)、2.29〜2.21(4H,m)および1.59〜1.47(2H,m)。
調製物7
Figure 0003711131
調製物6からのトランスメシレート(103mg、0.22mmol)をトルエン(20ml)に溶解し、事前に共沸したテトラブチルアンモニウムシアン化物のサンプル(354mg、1.32mmol)に添加した。この混合物を18時間かけて70℃まで加温し、次いで、室温まで冷却した。その溶液を水(10ml)で希釈し、酢酸エチル(2×50ml)で洗浄した。有機相をブライン(10ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、蒸発させた。得られた透明の油状物をヘキサン中10〜20%酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、標題のシアン化物を得た。H NMR(CDCl)7.42〜7.36(4H,s)、7.10〜7.05(2H,m)、6.89〜6.84(1H,m)、2.88〜2.86(1H,m)、2.76〜2.72(2H,m)、2.52〜2.45(1H,m)、2.12〜2.07(1H,m)および1.56〜1.49(1H,m)。
調製物8
Figure 0003711131
調製物7のシアン化物(143mg、0.36mmol)を氷酢酸(10ml)および濃HCl(6ml)の混合物中に溶解/懸濁させ、110℃で15時間加熱した。この混合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、水で洗浄し(×3)、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。この粗製残渣(153mg)を分取tlc(ジクロロメタン中5%メタノール/1%酢酸)によって精製した。H NMR(CDCl)7.38〜7.35(4H,s)、7.08〜7.06(2H,m)、6.90〜6.84(1H,m)、2.65〜2.58(2H,m)、2.38〜2.33(3H,m)、および1.75〜1.49(4H,m)。
調製物9
Figure 0003711131
調製物8のシアン化物(50mg、0.12mmol)をテトラヒドロフラン(4.5ml)と水(0.5ml)の混合物に溶解し、20℃で撹拌した。この混合物を過酸化水素(20ml、0.6mmol)で処理し、次いで、2時間、水酸化リチウム(6mg、0.25mmol)で処理した。過酸化水素(20ml、0.6mmol)、次いで、水酸化リチウム(6mg、0.25mmol)を添加し、混合物を72時間室温で撹拌した。この混合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、水(×2)と飽和重亜硫酸ナトリウムで洗浄し、乾燥(MgSO)させ、蒸発乾固させた。この粗製残渣(51mg)を分取tlc(ヘキサン中20%酢酸エチル)によって精製した。H NMR(CDCl)7.37(4H,s)、7.10〜7.02(2H,m)、6.90〜6.84(1H,m)、5.57(2H,brs)、2.54〜2.48(3H,m)、2.43〜2.39(1H,m)、2.19〜2.15(2H,m)および1.62〜1.50(3H,m)。
(実施例1)
Figure 0003711131
エタノール(100mL)に溶解した調製物4の不飽和エステル(3.74g、8.23mmol)と塩化ニッケル(II)(2.67g、20.6mmol)との混合物に水素化ホウ素ナトリウム(313mg、8.23mmol)を添加した。この混合物を20分間室温で撹拌し、次いで、水(100mL)を添加した。Hyflo(商標)を通してこの混合物をろ過し、エタノールと酢酸エチルで洗浄した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣を酢酸エチルと水との間に分配させた。有機層を回収し、乾燥させ(MgSO)、溶媒を減圧下で蒸発させた。イソヘキサン:EtOAc=85:15で溶出するシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフイーによって残渣を精製し、油状物として、流出の速いシス形異性体を得た(1.36g、36%)。H NMR(400MHz,CDCl)δ7.37〜7.30(4H,m)、7.09〜7.00(2H,m)、6.86〜6.79(1H,m)、4.14(2H,q,J=7.1Hz)、2.47(2H,d,J=7.6Hz)、2.46〜2.38(2H,m)、2.19〜2.14(1H,m)、1.76〜1.71(2H,m)、1.57〜1.48(4H,m)、1.27(3H,t,J 7.1Hz);
また、油状物として、流出の遅いトランス異性体を得た(200mg、5.3%)。
(実施例2)
Figure 0003711131
エタノール(40mL)に溶解した、実施例1のシス形エステル(1.33g、2.91mmol)の溶液に水酸化リチウム(350mg、14.57mmol)を添加した。この混合物を脱気し、5時間、窒素ガス下で室温にて撹拌した。混合物を塩酸水溶液(1M)に投入し、酢酸エチルで抽出した。有機抽出物を乾燥させ(MgSO)、溶媒を減圧下で蒸発させ、白色固形物を得た。次いで、この固形物をIPAから結晶化させ、白色固形物(950mg、76%)として標題の生成物を得た。H NMR(400MHz,CDOD)δ7.51〜7.49(2H,m)、7.40〜7.37(2H,m)、7.19〜7.10(2H,m)、7.00〜6.94(1H,m)、2.51〜2.35(6H,m)、2.13〜2.10(1H,m)、1.78〜1.74(2H,m)、1.57〜1.50(2H,m)。
(実施例3)
Figure 0003711131
10分間、窒素ガス下、室温にて、実施例2の酸(50mg、0.117mmol)、モルホリン(30μL、0.351mmol)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(24mg、0.176mmol)およびトリエチルアミン(65μL、0.468mmol)をテトラヒドロフラン中で撹拌した。1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(45mg、0.234mmol)を前記混合物に添加し、24時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液(1M)にこの混合物を投入し、酢酸エチルで抽出した。有機抽出物を乾燥させ(MgSO)、溶媒を減圧下で蒸発させた。シリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフイーによって、ジクロロメタン中5〜10%メタノールで溶出して残渣を精製し、白色泡状物として標題の生成物を得た(50mg、86%)。H NMR(400MHz,CDOD)δ7.50(2H,d,J 8.6Hz)、7.37(2H,d,J 8.6Hz)、7.19〜7.09(2H,m)、7.00〜6.93(1H,m)、3.69〜3.63(4H,m)、3.59〜3.56(4H,m)、2.55(2H,d,J 7.4Hz)、2.47〜2.39(4H,m)、2.16〜2.07(1H,m)、1.78〜1.74(2H,m)、1.58〜1.51(2H,m)。m/z(ES)(M+1)498+500。
(実施例4〜15)
モルホリンの代わりに適当なアミンを用いて、実施例3の方法に従って以下の化合物を調製した。
Figure 0003711131
Figure 0003711131
(実施例16〜33)
Figure 0003711131
これらの実施例は、先の中和で適当なアミン遊離塩基またはアミン塩を用いて、下記方法によって調製した。
ジクロロメタン(5ml)に溶解したシス4−(4−クロロベンゼンスルホニル)−4−(2,5−ジフルオロフェニルシクロヘキサン酢酸(実施例2、0.15g、0.35mmol)の撹拌懸濁液に、塩化オキサリル(0.05ml、0.57mmol)およびジメチルホルムアミド(1滴)を添加した。30分後、溶液を少量まで蒸発させ、ジクロロメタン(5ml)に溶解した残渣の溶液に所望のアミン(1.75mmol)を添加した。20分間この溶液を撹拌した後、真空内で溶媒を除去し、次々に高い濃度の酢酸エチルのイソヘキサン溶液(25%、50%)で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって残渣を精製した。生成物を含有する画分を蒸発させ、生成物のアミドを得た。クロマトグラフィー精製は、必要に応じて、適当な濃度の酢酸エチルのイソヘキサン溶液、酢酸エチル、またはメタノールの酢酸エチル溶液を用いて、シリカゲルにて行った。
Figure 0003711131
Figure 0003711131
(実施例33)
Figure 0003711131
テトラヒドロフラン(1ml)に溶解した調製物9のシスアミド(46mg)とピリジン(0.053ml)の溶液にトリフルオロ酢酸無水物(0.056ml)を添加した。0.5MのHCl(水溶液)および酢酸エチルを添加した際、2時間室温でこの溶液を撹拌した。有機相を乾燥させ(MgSO)、少量まで蒸発させ、イソヘキサン:酢酸エチル(5:1)で溶出するシリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、無色の固形物として所望の生成物を得た。H NMR(360MHz,CDCl)δ1.61〜1.70(2H,m)、1.86〜1.94(2H,m)、2.03〜2.10(1H,m)、2.42〜2.45(4H,m)、2.51(2H,d J 8.OHz)、6.8(1H,m)、7.02〜7.09(2H,m)、7.30(2H,d J 8.6Hz)、7.36(2H,d J 8.7Hz)。
(実施例34)
Figure 0003711131
調製物8(153mg)の酸を無水THF(10ml)に溶解し、窒素下で0℃まで冷却した。トリエチルアミン(61μL、0.43mmol)およびイソブチルクロロギ酸(57μL、0.43mmol)を添加し、この混合物を1時間0℃にて撹拌した。生じた沈殿物を濾過によって取り出し、さらに5mlの無水THFで洗浄した。THF層をまとめ、0℃まで冷却し、水(2ml)に溶解した溶液として水素化ホウ素ナトリウム(70mg、1.84mmol)を起沸させながら添加した。30分間0℃で撹拌した後、酢酸エチルでこの反応物を希釈し、塩化アンモニウム溶液、重炭酸ナトリウム溶液およびブラインで洗浄し、次いで、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。酢酸エチル:ヘキサン(1:3)の溶出によるカラムクロマトグラフイーによりその残渣を精製し、所望のアルコール(75mg)を得た。H NMR(CDCl)7.39〜7.31(4H,m)、7.10〜7.01(2H,m)、6.88〜6.81(1H,m)、3.71(2H,d,J=7.5Hz)、2.46〜2.32(4H,m)、1.90〜1.85(2H,m)、1.78〜1.74(1H,m)および1.54〜1.44(2H,m)。m/z=423[MNa]
(実施例35)
Figure 0003711131
ステップ(1)
DCM(50ml)および酢酸エチル(30ml)に溶解させた実施例2の酸(1g)の溶液にペンタフルオロフェノール(1.5当量)およびDCC(1.5当量)を添加し、1時間室温で撹拌した。この反応混合物を真空で蒸発させ、酢酸エチルに加え、濾過した。濾液を真空内で蒸発させ、後続の反応で用いるのに十分な精製のペンタフルオロフェノールエステルを得た。
ステップ(2)
窒素下、DMF(3ml)に溶解させたステップ(1)で調製したペンタフルオロフェノールエステル(155mg、0.25 mmol)にグリシンメチルエステル塩酸塩(125mg、1.0mmol)およびトリエチルアミン(0.15ml)を添加した。2時間後、この反応物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し(×3)、水、ブラインで洗浄し、乾燥させ(MgSO)、濾過し、蒸発させた。フラッシュカラムクロマトグラフイー(1:1=ヘキサン/酢酸エチルから9:1=酢酸エチル/メタノール)によって精製し、白色固形物(55mg)を得た。H NMR(CDCl)1.08〜1.16(1H,m)、1.30〜1.37(1H,m)、1.67〜1.71(1H,m)、1.75〜1.79(2H,m)、1.91〜1.95(1H,m)、2.20〜2.26(1H,m)、2.41(4H,d,J=7.8Hz)、3.77(3H,s)、4.05(2H,d,J=5.1Hz)、6.19(1H,br)、6.79〜6.85(1H,m)、7.00〜7.07(2H,m)、7.30〜7.37(4H,m)。
(実施例36)
Figure 0003711131
密閉チューブ中、実施例35(50mg、0.1mmol)で調製したグリシンエステルを2Mアンモニアのメタノール溶液(3ml)に溶解し、3時間、50℃まで加熱した。室温まで冷却後、反応混合物を濃縮し、エーテルを用いた摩砕によって精製し、白色固形物(28mg)を得た。MS(EI+):485(MH+)。
(実施例37)
Figure 0003711131
ジクロロメタン(280ml)に実施例34(4g、10mmol)のアルコールを溶解し、Dess Martinペルヨージナン(4.66g、11mmol)で処理した。45分間この混合物を撹拌し、その後、飽和重亜硫酸ナトリウム水溶液(100ml)を添加し、5分後、この混合物を分離し、有機相を飽和重炭酸ナトリウム水溶液(100ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、蒸発乾固させた。粗製残渣(4g)を無水ジクロロメタン(100ml)に溶解し、トリフェニルホスフィノ酢酸メチル(4.7g、14mmol)で処理し、16時間室温にて撹拌した。溶媒を蒸発させ、残渣をヘキサン中10〜20%酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、標題の生成物を得た。H NMR(CDCl)7.37〜7.36(4H,m)、7.10〜7.02(3H,m)、6.87〜6.83(1H,m)、5.91(1H,d,J=16Hz)、3.77(3H,s)、2.55〜2.45(3H,m)、2.40〜2.38(2H,m)、1.95〜1.90(2H,m)および1.65〜1.52(2H,m)。
(実施例38)
Figure 0003711131
実施例37のアルケン(3.6g、9mmol)を酢酸エチル(350ml)に溶解させた。フラスコを脱気し、次いで、10%パラジウム担持カーボン(400mg)を添加し、45分間、水素雰囲気下でこの混合物を撹拌した。セライト(Celite)(商標)を通して溶液を濾過し、蒸発させた。得られた透明油状物は、ヘキサンに溶解した5%酢酸エチルにより溶出するtlc分取によって精製した。次いで、得られた油状物をヘキサン中5〜10%酢酸エチルで溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフイーによって精製し、標題の生成物を得た。H NMR(CDCl)7.37〜7.34(4H,m)、7.08〜7.00(2H,m)、6.85〜6.81(1H,m)、3.67(3H,s)、2.45〜2.39(4H,m)、2.33(2H,t,J=8.4Hz)、1.81(2H,q,J=8.4Hz)、1.72〜1.68(2H,m)および1.60〜1.43(3H,m)。
(実施例39)
Figure 0003711131
実施例38のエステル(104mg、0.23mmol)をエタノール(10ml)と水(3ml)の混合物に溶解させ、20℃で撹拌した。フラスコを脱気し、次いで、水酸化リチウム(27mg、1.15mmol)を添加した。この混合物を3時間室温にて撹拌した。次いで、1N塩酸を添加し、混合物を酢酸エチルで洗浄した(2×50ml)。有機相をブライン(50ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、蒸発させた。次いで、酢酸エチルで溶出する分取tlcによってこの油状物をさらに精製し、標題の酸を得た。H NMR(CDCl)7.37〜7.30(4H,m)、7.09〜6.99(2H,m)、6.85〜6.79(1H,m)、2.42〜2.36(6H,m)、1.85〜1.79(2H,m)、1.73〜1.69(2H,m)、1.63〜1.58(1H,m)および1.53〜1.45(2H,m)。
(実施例40)
Figure 0003711131
ジクロロメタン(2ml)中の実施例39の酸(52mg、0.118mmol)を塩化オキサリル(88μl、ジクロロメタン中の2M溶液、0.176mmol)で処理した。N,N−ジメチルホルムアミドを滴加し、この溶液を2時間撹拌した。この後、溶媒を真空内で除去し、残渣をジクロロメタン(1ml)に再溶解させた。この溶液をメタノール性アンモニア(2M、2ml)に滴下した。反応物を真空内で蒸発させ、残渣をヘキサン中80%酢酸エチルで溶出するシリカクロマトグラフィにかけた。さらに、100%酢酸エチルで溶出する分取t.l.cにかけた後、加熱ヘキサンから再結晶することによって、得られた試料を精製し、標題の生成物(7.4mg、14%)を得た。H NMR(360MHz,CDCl)、1.45〜1.53(2H,m)、1.57〜1.65(1H,br)、1.70〜1.75(2H,m)、1.78〜1.84(2H,m)、2.32(2H,t,J=15.3Hz)、2.38〜2.44(4H,br)、2.95(3H,s)、3.02(3H,s)、6.79〜6.86(1H,m)、7.00〜7.09(2H,m)、7.31〜7.37(4H,m);ms.(ES)、470(M1)、294(M175)。
(実施例41)
Figure 0003711131
テトラヒドロフラン(14ml)に溶解した実施例1のシス形エステル(669mg、1.467mmol)を−78℃まで冷却し、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(2.20ml、テトラヒドロフラン中1M溶液、2.20mmol)で処理し、2時間かけて室温まで加温しながら撹拌した。次いで、−20℃でこの混合物にヨウ化メチル(457μl、7.36mmol)を添加し、撹拌を続け、再度、2時間、室温まで加温した。反応を氷酢酸(132ml、2.20mmol)によりクエンチし、塩化アンモニウム(50%当量、80ml)で希釈し、酢酸エチルで抽出した(3×100ml)。次いで、有機物をまとめ、ブライン(飽和、200ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO)、真空内で蒸発させ、粗製物(670mg)を得た。ヘキサン中8%酢酸エチルで溶出するシリカクロマトグラフィにこの試料をかけ、標題の生成物を得た(272mg、40%)。H NMR(400MHz,CDCl)、1.16(3H,d,J=6.9Hz)、1.28(3H,t,J=7.1Hz)、1.45〜1.51(2H,m)、1.71〜1.77(2H,m)、1.89〜1.94(1H,m)、2.28〜2.48(3H,br)、2.54〜2.60(1H,br)、2.70〜2.74(1H,m)、4.09〜4.18(2H,m)、6.77〜6.84(1H,m)、6.99〜7.08(2H,m)、7.26〜7.36(4H,m)。
(実施例42)
Figure 0003711131
調製物4、実施例1および2の方法に従って、調製物3のケトンから標題の生成物を調製した。H NMR(360MHz,CDCl)1.52〜1.61(2H,m)、1.76〜1.81(2H,m)、2.20〜2.26(1H,m)、2.39(2H,d,J=7.6Hz)、2.40〜2.50(4H,m)、5.37(1H,br)、5.51(1H,br)、6.75〜6.83(1H,m)、7.01〜7.08(2H,m)、7.51(2H,d,J=8.3Hz)および7.64(2H,d,J=8.3Hz)。
(実施例43)
Figure 0003711131
第2のステップでアンモニアから、実施例35の方法によって、実施例42の酸から標題の生成物を調製した。MS MH+ 462(463)。
(実施例44)
Figure 0003711131
調製物5〜8、ならびに、実施例34、37、38および39の方法に従って、調製物3のケトンから標題の生成物を調製した。H NMR(360MHz,CDCl)δ10.1(1H,m)、7.64(2H,d,J=8.3Hz)、7.53(2H,d,J=8.3Hz)、7.09〜7.00(2H,m)、6.83〜6.76(1H,m)、2.50〜2.37(6H,m)、1.85〜1.81(2H,q,J=7.4Hz)、1.75〜1.70(2H,m)、1.63〜1.59)(1H,m)、1.55〜1.45(2H,m)。
MS(EI)477(MH)。

Claims (7)

  1. 式I:
    Figure 0003711131
    [式中、
    mは0または1であり、
    ZはCO2aを表し、
    1bはHを表し、
    1cはHまたはC1〜4アルキルを表し、
    Arは4−クロロフェニルまたは4−トリフルオロメチルフェニルを表し、
    Arは、2,5−ジフルオロフェニルを表し、
    2aは、HまたはC1〜6アルキルを表す]
    で表される化合物、またはその製薬上許容される塩。
  2. mが1であり、Arが4−クロロフェニルを表し、R1cがHを表し、ZがCOHを表す請求項1に記載の化合物、あるいはその製薬上許容される塩。
  3. mが1であり、Arが4−トリフルオロメチルフェニルを表し、R1cがHを表し、ZがCOHを表す請求項1に記載の化合物、あるいはその製薬上許容される塩。
  4. ナトリウム塩の形態である請求項2または3に記載の化合物。
  5. 請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物、またはその製薬上許容される塩、および製薬上許容される担体を含む医薬組成物。
  6. 人体の治療方法で使用するための請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
  7. アルツハイマー病を治療または予防するための薬剤の製造における請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物、またはその製薬上許容される塩の使用。
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