JP3689937B2 - Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer - Google Patents

Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer Download PDF

Info

Publication number
JP3689937B2
JP3689937B2 JP18295195A JP18295195A JP3689937B2 JP 3689937 B2 JP3689937 B2 JP 3689937B2 JP 18295195 A JP18295195 A JP 18295195A JP 18295195 A JP18295195 A JP 18295195A JP 3689937 B2 JP3689937 B2 JP 3689937B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
dioxolane
naphthoquinonediazide
carbon atoms
less carbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP18295195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0931044A (en
Inventor
淳 富岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP18295195A priority Critical patent/JP3689937B2/en
Publication of JPH0931044A publication Critical patent/JPH0931044A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3689937B2 publication Critical patent/JP3689937B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばポジ型レジスト組成物に用いられるナフトキノンジアジド系感光剤の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
フェノール性水酸基を有する化合物をキノンジアジドスルホン酸エステル化して、半導体微細加工用のポジ型レジスト組成物における感光剤として用いることは公知である。キノンジアジドスルホン酸エステル化にあたっては、通常1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドが用いられ、これを、フェノール性水酸基を有する化合物と縮合させることにより、感光剤が製造されている。この反応は、一般に溶媒中で行われ、反応溶媒としては、1,4−ジオキサン、アセトン、γ−ブチロラクトン、又はそれらの2種以上の混合物が知られているが、特に1,4−ジオキサンが多く使用されている。
【0003】
しかしながら、1,4−ジオキサンは安全性の問題から取扱に注意を要すること、これを用いた場合、感光剤の種類によっては、晶析後の感光剤の粒径が小さくなるために濾過時間が長くなること、などの問題点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的の一つは、安全性に問題のない反応溶媒を用いて、ナフトキノンジアジド系感光剤を製造することにある。
【0005】
本発明の別の目的は、フェノール性水酸基を有する化合物とナフトキノンジアジドスルホニルハライドとの縮合反応において、特定の反応溶媒を用いることにより、反応をスムーズに進行させ、かつその後の処理を容易にすることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、1,3−ジオキソランは安全性に問題がなく、かつこれを、フェノール性水酸基を有する化合物とナフトキノンジアジドスルホニルハライドとの縮合反応における反応溶媒として用いることにより、優れた結果が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち本発明は、フェノール性水酸基を有する化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドとを、1,3−ジオキソランを含む溶媒中で縮合させることにより、ナフトキノンジアジド系感光剤を製造する方法を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明でキノンジアジドスルホン酸エステル化の対象となるフェノール性水酸基を有する化合物は、レジスト分野で感光剤化のために用いられる各種のものであることができる。すなわち、フェノール性水酸基を分子内に少なくとも1個、好ましくは2個以上、さらに好ましくは3〜6個有するフェノール系化合物である。本発明に従ってキノンジアジドスルホン酸エステル化するのに好ましいフェノール系化合物としては、例えば、次の一般式(I)〜(IV)で示される化合物などが挙げられる。
【0009】

Figure 0003689937
【0010】
式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数6以下のアルキル、炭素数6以下のシクロアルキル又は炭素数6以下のアルコキシを表し、R19及びR20は互いに独立に、水素、炭素数6以下のアルキル、炭素数6以下のシクロアルキル、又は、水酸基、炭素数6以下のアルキル、炭素数6以下のシクロアルキル及び炭素数6以下のアルコキシからなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいフェニルを表す;
【0011】
Figure 0003689937
【0012】
式中、R21及びR22は互いに独立に、水素、水酸基又は炭素数6以下のアルキルを表し、R23、R24、R25及びR26は互いに独立に、水素若しくは炭素数6以下のアルキルを表すか、又はR23とR24が一緒になり、そしてR25とR26が一緒になって、それぞれが結合する炭素原子とともに炭素数6以下のシクロアルカン環を形成する;
【0013】
Figure 0003689937
【0014】
式中、R31、R32、R33及びR34は互いに独立に、水素又は炭素数6以下のアルキルを表し、 m及びnは互いに独立に0〜3の整数を表すが、m+n≧2であり、Yは−C(R35)(R36)−又は−C(R37)(R38)−Ar−C(R39)(R40)−を表し、ここにR35、R36、R37、R38、R39及びR40は互いに独立に、水素、炭素数6以下のアルキル、炭素数6以下のシクロアルキル、又は、水酸基、炭素数6以下のアルキル、炭素数6以下のシクロアルキル及び炭素数6以下のアルコキシからなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいフェニルを表し、Arは炭素数6以下のアルキル及び水酸基からなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいフェニレンを表す;
【0015】
Figure 0003689937
【0016】
式中、R41及びR42は互いに独立に、水素、炭素数6以下のアルキル又は炭素数10以下のアリールを表し、 q及びrは互いに独立に0〜3の整数を表すが、q+r≧2である。
【0017】
フェノール性水酸基を有する化合物、例えば上記一般式(I)〜(IV)で示される化合物の、1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホン酸エステルは、かかるフェノール性水酸基を有する化合物を、1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドと縮合させることにより得られる。ここで、スルホニルハライドとしては、特にスルホニルクロライドが好ましく用いられる。
【0018】
この反応は通常、塩基の存在下で行われる。ここで用いる塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ピリジンのようなアミン類、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムのような無機塩基などが挙げられる。塩基は、1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドに対して、通常1〜1.5のモル比、好ましくは1.05〜1.3のモル比で用いられる。
【0019】
本発明では、このエステル化反応の反応溶媒として、1,3−ジオキソランを用いる。反応溶媒は、フェノール性水酸基を有する化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドの合計量を基準に、通常は2〜10重量倍の範囲で、好ましくは3〜6重量倍の範囲で使用される。1,3−ジオキソランを溶媒として用いることにより、1,4−ジオキサンを用いた場合に比べ、反応速度が速くなり、しかも、反応後の晶析で粒径の大きい結晶が得られるため、濾過時間が短縮されるという効果を奏する。
【0020】
したがって本発明においては、通常は1,3−ジオキソラン単独の溶媒を用いるのが好ましいが、本発明の目的を阻害しない範囲で、他の溶媒、例えば、テトラヒドロフランのようなエーテル類、酢酸アミル、γ−ブチロラクトンのようなエステル類、アセトン、2−ヘプタノンのような脂肪族ケトン類などを併用することもできる。他の溶媒を併用する場合でも、全溶媒量を基準に、1,3−ジオキソランが50重量%以上、さらには70重量%以上、あるいは80重量%以上となるようにするのが好ましい。
【0021】
この反応は、常圧下、常温付近で進行し、一般的には10〜40℃程度の範囲の温度が採用される。反応時間は、フェノール性水酸基を有する化合物及びナフトキノンジアジドスルホニルハライドの種類によっても異なるが、通常は0.5〜6時間程度反応が行われる。
【0022】
反応終了後は、必要により酢酸のような酸で中和し、固形物を濾過したあと、濾液を薄い酸水溶液、例えば0.1〜2重量%程度の濃度の酢酸水溶液と混合すれば、目的物であるエステルの結晶が沈澱してくる。これを濾過、水洗及び乾燥して、感光剤を固体として取り出すことができる。
【0023】
【実施例】
次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。例中、部及び%は、特にことわらないかぎり重量基準である。
【0024】
実施例1
1リットルの四つ口フラスコに、2,3,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノンを25.67g、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドを70.03g及び1,3−ジオキソランを574g仕込んで完溶させた。そこへ、20〜30℃でトリエチルアミン27.69gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、30℃で1時間攪拌した。次に反応混合物を濾過し、得られた濾過残を1,3−ジオキソラン140gで洗浄した。濾液及び洗液を酢酸10.71g及びイオン交換水2143gの混合液中に注入し、1時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、得られたケーキをイオン交換水394gで攪拌洗浄し、さらに濾過及びイオン交換水394gでの攪拌洗浄を3回繰り返した。その後濾過し、得られたウェットケーキ133.3gを40℃で乾燥して、81.2gの感光剤Aを得た。
【0025】
比較例1
1,3−ジオキソランに代えて1,4−ジオキサンを同量使用する以外は、実施例1と同様の操作を行って、感光剤Bを合成した。ウェットケーキは228.4g、乾燥ケーキは80.4gであった。
【0026】
実施例2
1リットルの四つ口フラスコに、 2,4,4−トリメチル−2′,3′,4′,7,8−ペンタヒドロキシフラバン(次式の構造を有する)
【0027】
Figure 0003689937
【0028】
を16.62g、 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドを63.14g及び1,3−ジオキソランを398.8g仕込んで完溶させた。そこへ20〜30℃でトリエチルアミン28.54gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、30℃で1時間攪拌した。次に反応混合物を濾過し、得られた濾過残を1,3−ジオキソラン63.1gで洗浄した。濾液及び洗液を、酢酸13.86g及びイオン交換水1386gの混合液中に注入し、1時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、得られたケーキをイオン交換水280gで攪拌洗浄し、さらに濾過及びイオン交換水280gでの攪拌洗浄を3回繰り返した。その後濾過し、得られたウェットケーキ127.7gを40℃で乾燥して、68.2gの感光剤Cを得た。
【0029】
比較例2
1,3−ジオキソランに代えて1,4−ジオキサンを同量使用する以外は、実施例2と同様の操作を行って、感光剤Dを合成した。ウェットケーキは202.4g、乾燥ケーキは67.0gであった。
【0030】
以上の実施例1及び2並びに比較例1及び2の結果を表1に示す。
【0031】
【表1】
Figure 0003689937
*1 DP50は、レーザー回折式粒度分布測定法による50容量%値を表す。
*2 晶析マスの沈降距離は、晶析マスを1リットルのメスシリンダーに入れて攪拌し、静置後6秒経過したときに結晶が沈降した距離(上澄み透明液の高さ)を表す。
【0032】
表1からわかるように、1,3−ジオキソランを用いて合成した感光剤A及びCは、1,4−ジオキサンを用いて合成した感光剤B及びDに比べて、ウェットケーキ中の固形分が多いことから、乾燥速度が速くなり、また粒径が大きいこと及び沈降距離が大きいことから、濾過速度も速くなる。
【0033】
実施例3
500mlの四つ口フラスコに、4,4′−メチレンビス〔2−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−3,6−ジメチルフェノール〕(次式の構造を有する)
【0034】
Figure 0003689937
【0035】
を25.00g、 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドを27.05g及び1,3−ジオキソランを260.2g仕込んで完溶させた。そこへ20〜30℃でトリエチルアミン12.22gを1時間かけて滴下した。滴下終了後1時間以内で1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドの消失が確認され、反応が終了した。
【0036】
なお、4,4′−メチレンビス〔2−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−3,6−ジメチルフェノールは、以下のようにして合成した。三つ口フラスコにパラクレゾール144.16部、トルエン81.57部および36%塩酸0.43部を仕込み、50℃に保ちながら4,4′−メチレンビス(2−ヒドロキシメチル−3,6−ジメチルフェノール)18.98部を1時間で分割投入し、その後さらに同温度で3時間攪拌した。冷却後濾過し、得られた濾過物を酢酸エチル269部に溶解し、蒸留水47部を加えて水洗し、この水洗操作をさらに4回繰り返した。次に酢酸エチル層を濃縮し、トルエン107.5部を仕込んで、析出した結晶を濾過し、さらにこの結晶をトルエン44.54部で洗浄し、このトルエン洗浄をもう1度繰り返した。こうして得られたウェットケーキを60℃にて一昼夜減圧乾燥して、4,4′−メチレンビス〔2−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−3,6−ジメチルフェノール〕を得た。
【0037】
比較例3
1,3−ジオキソランに代えて1,4−ジオキサンを同量使用する以外は、実施例3と同様の操作を行ったところ、トリエチルアミンの滴下終了後3.5時間で反応が終了した。
【0038】
実施例4
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドに代えて1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライドを同量用いる以外は、実施例3と同様の操作を行ったところ、トリエチルアミンの滴下終了後2時間で反応が終了した。
【0039】
比較例4
1,3−ジオキソランに代えて1,4−ジオキサンを同量使用する以外は、実施例4と同様の操作を行ったところ、トリエチルアミンの滴下終了時から反応終了までに20時間を要した。
【0040】
以上の実施例3及び4並びに比較例3及び4における反応終了までの時間を、表2にまとめた。
【0041】
【表2】
Figure 0003689937
【0042】
表2からわかるように、1,3−ジオキソランを使用することにより、1,4−ジオキサンを用いた場合に比べて反応加速効果が認められ、特に1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホニルハライドを縮合させる場合に、その効果が大きい。
【0043】
【発明の効果】
本発明は、フェノール性水酸基を有する化合物を1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホン酸エステル化するにあたり、 安全性に問題のない1,3−ジオキソランを溶媒に用いるものである。しかもそれによって、反応速度が速くなり、また反応後の晶析で粒径の大きい結晶が得られるため、濾過時間が短縮されるという効果を奏する。したがって本発明の方法は、ナフトキノンジアジド系感光剤の製造に極めて有用である。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a naphthoquinone diazide photosensitizer used for, for example, a positive resist composition.
[0002]
[Prior art]
It is known to convert a compound having a phenolic hydroxyl group into a quinonediazide sulfonic acid ester and use it as a photosensitive agent in a positive resist composition for semiconductor microfabrication. In quinonediazide sulfonate esterification, 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide is usually used, and a photosensitizer is produced by condensing it with a compound having a phenolic hydroxyl group. . This reaction is generally carried out in a solvent. As the reaction solvent, 1,4-dioxane, acetone, γ-butyrolactone, or a mixture of two or more thereof is known, and in particular, 1,4-dioxane is used. Many are used.
[0003]
However, 1,4-dioxane must be handled with care because of safety issues, and when this is used, depending on the type of the photosensitizer, the particle size of the photosensitizer after crystallization becomes small, so the filtration time is reduced. There was a problem such as becoming longer.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
One of the objects of the present invention is to produce a naphthoquinonediazide-based photosensitizer using a reaction solvent that does not cause safety problems.
[0005]
Another object of the present invention is to use a specific reaction solvent in the condensation reaction between a compound having a phenolic hydroxyl group and naphthoquinone diazide sulfonyl halide to facilitate the reaction and facilitate subsequent processing. It is in.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to achieve this object, the present inventors have found that 1,3-dioxolane has no safety problem, and this is condensed with a compound having a phenolic hydroxyl group and naphthoquinone diazide sulfonyl halide. It has been found that excellent results can be obtained by using it as a reaction solvent in the reaction, and the present invention has been completed.
[0007]
That is, the present invention relates to a naphthoquinone diazide photosensitizer by condensing a compound having a phenolic hydroxyl group and 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide in a solvent containing 1,3-dioxolane. The method of manufacturing is provided.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the present invention, the compound having a phenolic hydroxyl group which is a target of quinonediazide sulfonic acid esterification can be various compounds used for making a photosensitizer in the resist field. That is, it is a phenolic compound having at least 1, preferably 2 or more, and more preferably 3-6 phenolic hydroxyl groups in the molecule. Preferable phenolic compounds for quinonediazide sulfonic acid esterification according to the present invention include, for example, compounds represented by the following general formulas (I) to (IV).
[0009]
Figure 0003689937
[0010]
In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are independently of each other hydrogen, hydroxyl group, alkyl having 6 or less carbon atoms, cycloalkyl having 6 or less carbon atoms or Represents an alkoxy having 6 or less carbon atoms, and R 19 and R 20 are independently of each other hydrogen, alkyl having 6 or less carbon atoms, cycloalkyl having 6 or less carbon atoms, hydroxyl group, alkyl having 6 or less carbon atoms, carbon number 6 Represents phenyl which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of the following cycloalkyl and alkoxy having 6 or less carbon atoms;
[0011]
Figure 0003689937
[0012]
In the formula, R 21 and R 22 each independently represent hydrogen, hydroxyl group or alkyl having 6 or less carbon atoms, and R 23 , R 24 , R 25 and R 26 independently represent hydrogen or alkyl having 6 or less carbon atoms. Or R 23 and R 24 together, and R 25 and R 26 together form a cycloalkane ring having 6 or less carbon atoms together with the carbon atom to which each is bonded;
[0013]
Figure 0003689937
[0014]
In the formula, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 independently represent hydrogen or alkyl having 6 or less carbon atoms, and m and n each independently represent an integer of 0 to 3, but m + n ≧ 2 Y represents —C (R 35 ) (R 36 ) — or —C (R 37 ) (R 38 ) —Ar—C (R 39 ) (R 40 ) —, wherein R 35 , R 36 , R 37 , R 38 , R 39 and R 40 are independently of each other hydrogen, alkyl having 6 or less carbon atoms, cycloalkyl having 6 or less carbon atoms, hydroxyl group, alkyl having 6 or less carbon atoms, cyclohexane having 6 or less carbon atoms. Represents phenyl optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of alkyl and alkoxy having 6 or less carbon atoms, Ar is substituted with a substituent selected from the group consisting of alkyl having 6 or less carbon atoms and hydroxyl group; Represents good phenylene;
[0015]
Figure 0003689937
[0016]
In the formula, R 41 and R 42 each independently represent hydrogen, alkyl having 6 or less carbon atoms or aryl having 10 or less carbon atoms, and q and r each independently represent an integer of 0 to 3, but q + r ≧ 2 It is.
[0017]
1,2-naphthoquinone diazide-4- or -5-sulfonic acid ester of a compound having a phenolic hydroxyl group, for example, a compound represented by the above general formulas (I) to (IV) is a compound having such a phenolic hydroxyl group. , 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide. Here, as the sulfonyl halide, sulfonyl chloride is particularly preferably used.
[0018]
This reaction is usually performed in the presence of a base. Examples of the base used here include trimethylamine, triethylamine, triethanolamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, amines such as pyridine, and inorganic bases such as sodium carbonate and sodium bicarbonate. It is done. The base is usually used in a molar ratio of 1 to 1.5, preferably 1.05 to 1.3, relative to 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide.
[0019]
In the present invention, 1,3-dioxolane is used as a reaction solvent for this esterification reaction. The reaction solvent is usually in the range of 2 to 10 times by weight, preferably 3 to 6 weights based on the total amount of the compound having a phenolic hydroxyl group and 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide. Used in double range. By using 1,3-dioxolane as a solvent, the reaction rate is faster than when 1,4-dioxane is used, and a crystal having a large particle size is obtained by crystallization after the reaction. Has the effect of shortening.
[0020]
Therefore, in the present invention, it is usually preferable to use a solvent of 1,3-dioxolane alone, but other solvents such as ethers such as tetrahydrofuran, amyl acetate, γ -Esters such as butyrolactone, aliphatic ketones such as acetone and 2-heptanone, and the like can also be used in combination. Even when another solvent is used in combination, it is preferable that 1,3-dioxolane is 50% by weight or more, further 70% by weight or more, or 80% by weight or more based on the total amount of the solvent.
[0021]
This reaction proceeds near normal temperature under normal pressure, and generally a temperature in the range of about 10 to 40 ° C is employed. Although the reaction time varies depending on the type of the compound having a phenolic hydroxyl group and the naphthoquinonediazide sulfonyl halide, the reaction is usually carried out for about 0.5 to 6 hours.
[0022]
After completion of the reaction, neutralize with an acid such as acetic acid if necessary, filter the solid, and mix the filtrate with a thin acid aqueous solution, for example, an acetic acid aqueous solution having a concentration of about 0.1 to 2% by weight. Crystals of the ester are precipitated. This can be filtered, washed with water and dried to remove the photosensitizer as a solid.
[0023]
【Example】
EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited at all by these Examples. In the examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified.
[0024]
Example 1
A 1 liter four-necked flask is charged with 25.67 g of 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 70.03 g of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride and 574 g of 1,3-dioxolane. And completely dissolved. Thereto, 27.69 g of triethylamine was added dropwise at 20 to 30 ° C. over 1 hour. After completion of dropping, the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was then filtered and the resulting filter residue was washed with 140 g of 1,3-dioxolane. The filtrate and washings were poured into a mixed solution of 10.71 g of acetic acid and 2143 g of ion-exchanged water, and stirred for 1 hour. The precipitated crystals were filtered, and the resulting cake was stirred and washed with 394 g of ion-exchanged water. Further, filtration and stirring and washing with 394 g of ion-exchanged water were repeated three times. Thereafter, filtration was performed, and 133.3 g of the obtained wet cake was dried at 40 ° C. to obtain 81.2 g of photosensitive agent A.
[0025]
Comparative Example 1
Photosensitive agent B was synthesized in the same manner as in Example 1 except that the same amount of 1,4-dioxane was used instead of 1,3-dioxolane. The wet cake was 228.4 g and the dry cake was 80.4 g.
[0026]
Example 2
In a 1 liter four-necked flask, 2,4,4-trimethyl-2 ', 3', 4 ', 7,8-pentahydroxyflavan (having the structure of the following formula)
[0027]
Figure 0003689937
[0028]
16.62 g, 63.14 g of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride and 398.8 g of 1,3-dioxolane were charged and completely dissolved. Thereto, 28.54 g of triethylamine was added dropwise at 20 to 30 ° C. over 1 hour. After completion of dropping, the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was then filtered and the resulting filter residue was washed with 63.1 g of 1,3-dioxolane. The filtrate and washings were poured into a mixed solution of 13.86 g of acetic acid and 1386 g of ion-exchanged water and stirred for 1 hour. The precipitated crystals were filtered, and the resulting cake was stirred and washed with 280 g of ion-exchanged water. Further, filtration and stirring and washing with 280 g of ion-exchanged water were repeated three times. Thereafter, filtration was carried out, and 127.7 g of the obtained wet cake was dried at 40 ° C. to obtain 68.2 g of photosensitive agent C.
[0029]
Comparative Example 2
Photosensitive agent D was synthesized in the same manner as in Example 2, except that the same amount of 1,4-dioxane was used instead of 1,3-dioxolane. The wet cake was 202.4 g and the dry cake was 67.0 g.
[0030]
The results of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1.
[0031]
[Table 1]
Figure 0003689937
* 1 DP 50 represents a 50% by volume value measured by a laser diffraction particle size distribution measurement method.
* 2 The sedimentation distance of the crystallization mass indicates the distance (the height of the supernatant transparent liquid) when the crystallization mass settled in a 1 liter measuring cylinder and stirred for 6 seconds after standing.
[0032]
As can be seen from Table 1, the photosensitizers A and C synthesized using 1,3-dioxolane are more solid than the photosensitizers B and D synthesized using 1,4-dioxane. Since the amount is large, the drying rate is high, and because the particle size is large and the settling distance is large, the filtration rate is also high.
[0033]
Example 3
In a 500 ml four-necked flask, 4,4'-methylenebis [2- (2-hydroxy-5-methylbenzyl) -3,6-dimethylphenol] (having the structure of the following formula)
[0034]
Figure 0003689937
[0035]
25.00 g, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride, 27.05 g and 1,3-dioxolane, 260.2 g, were completely dissolved. Thereto, 12.22 g of triethylamine was added dropwise at 20 to 30 ° C. over 1 hour. The disappearance of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride was confirmed within 1 hour after the completion of dropping, and the reaction was completed.
[0036]
In addition, 4,4'-methylenebis [2- (2-hydroxy-5-methylbenzyl) -3,6-dimethylphenol was synthesized as follows. A three-necked flask was charged with 144.16 parts of paracresol, 81.57 parts of toluene and 0.43 parts of 36% hydrochloric acid, and maintained at 50 ° C., while maintaining 4,4′-methylenebis (2-hydroxymethyl-3,6-dimethyl). Phenol) 18.98 parts was added portionwise in 1 hour, and then further stirred at the same temperature for 3 hours. After cooling, the mixture was filtered, and the obtained filtrate was dissolved in 269 parts of ethyl acetate, and 47 parts of distilled water was added and washed with water. Next, the ethyl acetate layer was concentrated, 107.5 parts of toluene was added, the precipitated crystals were filtered, the crystals were further washed with 44.54 parts of toluene, and this toluene washing was repeated once more. The wet cake thus obtained was dried under reduced pressure at 60 ° C. overnight to obtain 4,4′-methylenebis [2- (2-hydroxy-5-methylbenzyl) -3,6-dimethylphenol].
[0037]
Comparative Example 3
The same operation as in Example 3 was performed except that the same amount of 1,4-dioxane was used instead of 1,3-dioxolane, and the reaction was completed in 3.5 hours after completion of the dropwise addition of triethylamine.
[0038]
Example 4
The same operation as in Example 3 was performed except that the same amount of 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride was used instead of 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride. After completion of the dropwise addition of triethylamine, 2 The reaction was complete in time.
[0039]
Comparative Example 4
Except that the same amount of 1,4-dioxane was used instead of 1,3-dioxolane, the same operation as in Example 4 was carried out, and it took 20 hours from the end of the dropwise addition of triethylamine to the end of the reaction.
[0040]
Table 2 summarizes the time until the end of the reaction in Examples 3 and 4 and Comparative Examples 3 and 4 described above.
[0041]
[Table 2]
Figure 0003689937
[0042]
As can be seen from Table 2, by using 1,3-dioxolane, a reaction accelerating effect is recognized as compared with the case of using 1,4-dioxane, and in particular, 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl halide is used. In the case of condensation, the effect is great.
[0043]
【The invention's effect】
The present invention uses 1,3-dioxolane as a solvent, which is safe in terms of converting a compound having a phenolic hydroxyl group into 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonic acid ester. In addition, the reaction rate is increased, and a crystal having a large particle diameter is obtained by crystallization after the reaction, so that the filtration time is shortened. Therefore, the method of the present invention is extremely useful for the production of naphthoquinone diazide photosensitizers.

Claims (3)

フェノール性水酸基を有する化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドとを、1,3−ジオキソランを含む溶媒中で縮合させることを特徴とするナフトキノンジアジド系感光剤の製造方法。A method for producing a naphthoquinone diazide photosensitizer, comprising condensing a compound having a phenolic hydroxyl group and 1,2-naphthoquinone diazide-4- or -5-sulfonyl halide in a solvent containing 1,3-dioxolane. . 1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルハライドが1,2−ナフトキノンジアジド−4−又は−5−スルホニルクロライドである請求項1記載の方法。The method according to claim 1, wherein the 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl halide is 1,2-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonyl chloride. 溶媒が本質的に1,3−ジオキソランからなる請求項1又は2記載の方法。A process according to claim 1 or 2, wherein the solvent consists essentially of 1,3-dioxolane.
JP18295195A 1995-07-19 1995-07-19 Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer Expired - Fee Related JP3689937B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18295195A JP3689937B2 (en) 1995-07-19 1995-07-19 Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18295195A JP3689937B2 (en) 1995-07-19 1995-07-19 Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0931044A JPH0931044A (en) 1997-02-04
JP3689937B2 true JP3689937B2 (en) 2005-08-31

Family

ID=16127210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18295195A Expired - Fee Related JP3689937B2 (en) 1995-07-19 1995-07-19 Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3689937B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6911293B2 (en) 2002-04-11 2005-06-28 Clariant Finance (Bvi) Limited Photoresist compositions comprising acetals and ketals as solvents
US9740097B2 (en) 2015-03-31 2017-08-22 Sumitomo Chemical Company, Limited Resist composition and method for producing resist pattern

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0931044A (en) 1997-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU607780B2 (en) Sulfonium salts having acid-labile groups
JPH11322707A (en) Poly(disulfonyldiazomethane) compound
EP0378067B1 (en) Positively working radiation-sensitive mixture containing a multifunctional alpha-diazo-beta-keto ester, process for its preparation and a radiation-sensitive recording material containing this mixture
JPH06167805A (en) Positive type resist composition
KR100970837B1 (en) Fluorene-based resin polymer and negative photo-sensitive resin composition including the same
KR960014054B1 (en) Positive radiation-sensitive mixture, and radiation-sensitive recording material produced therefrom for high energy radidation
KR900000863B1 (en) Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using thereof
JPH035739B2 (en)
JP3689937B2 (en) Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer
JP3139319B2 (en) Tetraphenolic compounds, their production and use
JP2697039B2 (en) Method for producing positive resist composition
JPH01103611A (en) Organometal-containing polymer and its use for forming image
JP3743030B2 (en) Method for producing naphthoquinone diazide photosensitizer
JPH10204125A (en) Production of polymer compound with crosslinking group
JPH0859667A (en) Bislactone-based compound and its production
JP3355981B2 (en) Method for producing naphthoquinonediazide photosensitive agent
JP4118645B2 (en) Method for producing calix [4] arene derivative mixture
JP2001166466A (en) Method for producing naphthoquinonediazide photoreceptor material
JP2006131852A (en) Resorcinol novolak derivative
TW202214562A (en) Method for preparing arylthio aryl sulfoxide powder, and method for preparing polyarylene sulfide
JPS6352372B2 (en)
JP3713766B2 (en) Method for producing pentanuclear novolak compound
JP3855285B2 (en) Dimethylolated triphenolic compound and process for producing the same
JP3921705B2 (en) Polyhydric phenolic compounds and uses thereof
JPH11228528A (en) Production of quinonediazide-sulfonic acid ester

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050517

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050606

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080624

Year of fee payment: 3

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090624

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees