JP3672594B2

JP3672594B2 - Plasma address liquid crystal display

Info

Publication number: JP3672594B2
Application number: JP16978294A
Authority: JP
Inventors: 敦司関
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-07-21
Filing date: 1994-07-21
Publication date: 2005-07-20
Anticipated expiration: 2020-07-20
Also published as: JPH0836163A; TW325572B

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、プラズマを利用して電気光学材料層を駆動し、画素選択を行う画像表示装置であるプラズマアドレス液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶を駆動する画像表示装置として、放電プラズマを利用したいわゆるプラズマアドレス液晶表示装置が知られている。このプラズマアドレス液晶表示装置の一例の概略的な構成を図３を用いて説明する。
【０００３】
このプラズマアドレス液晶表示装置は、平坦で非導電性があり、光学的に十分に透明な液晶側ガラス６と、複数の放電電極１０が形成された基板ガラス１１との間に、電気光学材料層である液晶層７を間挿すると共に、上記液晶層７と上記基板ガラス１１との間の空間を放電領域１５として成るものである。
【０００４】
上記液晶側ガラス６には、その一主面に帯状の電極１４が形成されると共に、この電極１４に接してネマチック液晶等から成る液晶層７が配置されている。この液晶層７は、薄い誘電体板である薄板ガラス８によって上記液晶側ガラス６との間に挟持されている。これにより、いわゆる液晶セル２０が構成された形になっている。尚、上記薄板ガラス８は液晶セル２０の液晶層７とプラズマセル２１の放電領域１５との絶縁遮断層として機能するものである。
【０００５】
一方、上記基板ガラス１１にも複数の放電電極１０が帯状電極として形成されると共に、周囲をシール剤であるフリット１２によって支持することにより、上記薄板ガラス８から所定の間隔をもって配置される。これにより、上記基板ガラス１１と薄板ガラス８との間の空間が放電プラズマを発生する放電領域１５となっている。上記薄板ガラス８によって液晶セル２０から遮断され、上記基板ガラス１１及び上記薄板ガラス８と基板ガラス１１とによって挟持された領域はプラズマセル２１と呼ばれる。尚、上記フリット１２とは粉末ガラスのことであり、塗布することにより形成される。
【０００６】
上記各放電電極１０は上記基板ガラス１１上に等間隔で配置され、この放電電極１０上には隔壁、いわゆるバリアリブ９が印刷形成されている。放電領域１５は、この複数のバリアリブ９によって仕切られ、それぞれ独立したプラズマ室Ｐ₁，Ｐ₂，・・・に分割されている。各プラズマ室Ｐ₁，Ｐ₂，・・・にはイオン化が可能なガスが封入されている。このイオン化可能なガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、あるいはこれらの混合ガス等が用いられる。
【０００７】
上記バリアリブ９は複数の放電電極１０の各帯状電極上に、各走査単位毎に形成されている。従って、各プラズマ室Ｐ₁，Ｐ₂，・・・が各走査線に対応している。上記バリアリブ９は印刷法、例えばアルミナ等のセラミックを混入したガラスペーストをスクリーン印刷法により複数回積層印刷することによって形成される。ここで、バリアリブ９は、放電領域１５のギャップ間隔、即ち基板ガラス１１と薄板ガラス８との距離を規制する役割も果たす。この放電領域１５のギャップ間隔は、バリアリブ９を形成する際のスクリーン印刷の回数や各印刷時のガラスペーストの量等を調節することにより制御することができる。通常は２００μｍ程度とされる。
【０００８】
上記複数の放電電極１０は、例えば銀粉末等を含有する電極ペーストを複数回積層印刷することにより、基板ガラス１１上に直接形成することができる。また、エッチング工程によって形成してもよい。具体的には、放電電極１０は、例えば図４に示すように放電電極１０₁、１０₂、１０₃と順次印刷される。このとき、最下層の放電電極１０₁は上層の放電電極１０₂、１０₃よりも広がり、幅広い形状になる。これは、基板ガラス１１に直接に印刷される放電電極１０₁の電極ペースト材料のダレが、電極ペースト上に印刷される放電電極１０₂、１０₃の電極ペースト材料のダレよりも大きいためである。
【０００９】
上記液晶側ガラス６の上記基板ガラス１１と対向する主面上に所定の幅をもって形成された複数の電極１４は、例えばインジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）等の透明導電材料により形成されており、光学的に透明である。また、各電極１４は互いに平行に配列され、例えば画面に垂直に配列されている。一方、上記基板ガラス１１の上記液晶側ガラス６と対向する主面上にも複数の放電電極１０が形成されている。これら放電電極１０も平行な帯状電極であるが、その配列方向は先の液晶側ガラス６上に形成された電極１４と直交する方向である。即ち、これら放電電極１０は画面に水平に配列されている。また、これら放電電極１０はアノード電極とカソード電極とから成り、これらを対にして放電用電極が構成されている。上述のように放電電極１０上にバリアリブ９を印刷形成した場合には、これらバリアリブ９で区切られた各プラズマ室Ｐ₁，Ｐ₂，・・・においては、放電電極１０が共用されている。即ち、例えば放電電極１０ａは、プラズマ室Ｐ₁の放電用電極でもあり、プラズマ室Ｐ₂の放電用電極でもある。
【００１０】
ここで、カソード電極の壁面とアノード電極の壁面とはプラズマ室Ｐを介して対向配置されており、これを壁面電極構造又は側面電極構造と呼ぶ。この側面電極構造においては、矢印Ｒで示すように、プラズマ放電経路は一方の放電電極１０の壁面から他方の放電電極１０の壁面に対して直進する。しかし、放電電極１０が比較的薄いと、側面放電に寄与する放電電極１０の面積が小さくなるため、放電電極端への電界の集中による異常放電が生じて正常な放電が行われない。この問題は、上記放電電極１０の高さを１００μｍ以上とすることにより解決される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、一般に、放電電極１０の材料の熱膨張係数と基板ガラス１１の熱膨張係数とは一致しない。従って、放電電極１０の厚みが大きい場合には、放電電極１０の材料の熱膨張係数と基板ガラス１１の熱膨張係数との不一致に起因する応力によって基板ガラス１１が反ってしまう問題が生じる。これにより、薄板ガラス８の割れや液晶セル２０のシールの剥がれが引き起こされる。
【００１２】
この場合、例えば１〜２ｍｍ程度の通常の厚さの基板ガラス１１を用いたときには、放電電極１０の厚さを１００μｍ以下にすることによって上記基板ガラス１１を反らさない程度に上記基板ガラス１１の応力の大きさを止めることができ、上記問題を解決することができる。
【００１３】
しかし、上述のように、放電電極１０の厚さを１００μｍ以下にすると、側面放電に寄与する放電電極１０の面積が小さくなり、上述した異常放電の問題が生じる。
【００１４】
つまり、図４に示すように、積層印刷形成された放電電極１０の内の最下層の放電電極１０₁において、上層の放電電極１０₂よりも広がった部分には電界集中が起こり、異常放電が生じる問題がある。
【００１５】
そこで、本発明は上述の実情に鑑み、基板ガラスが反ったり、異常放電を生じたりすることのないプラズマアドレス液晶表示装置を提供するものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプラズマアドレス液晶表示装置は、一主面上に互いに略平行な複数の第１電極を有する第１の基板と、上記第１の基板上の第１電極と対向する主面上に上記第１電極と略直交し且つ互いに略平行な複数の第２電極を有する第２の基板と、上記複数の第２電極上にそれぞれ形成する隔壁と、上記隔壁上に貼付される誘電体板と、上記第１の基板の第１電極に接触して、上記第１電極と上記誘電体板との間に形成される電気光学材料層とを備え、プラズマ放電によって書き込みを行うプラズマアドレス液晶表示装置において、上記第２の基板と上記第２電極との間に、上記第２電極との幅がほぼ同じになるように、印刷法によって下地層が形成されるとともに、上記下地層上に上記第２の電極が印刷法によって積層形成されてなり、上記下地層を形成するペースト材料の粘度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度をρ１、上記下地層を形成するペースト材料の粘度をρ２とするとき、
ρ２＝１．１ρ１〜２．０ρ１
の関係を持つことを特徴とする。
【００１７】
ここで、上記第２電極の厚さは４０〜１００μｍとすることを特徴とする。
【００１８】
また、上記下地層を形成するペースト材料の粘度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度よりも大きいことを特徴とする。
【００２０】
【作用】
本発明においては、第２の基板である基板ガラスと第２電極である放電電極との間にペースト材料を塗布して下地層を形成した後、この下地層の上層に放電電極を形成する。
【００２１】
【実施例】
以下、本発明の好ましい実施例について、図面を参照しながら説明する。図１には、本発明に係るプラズマアドレス液晶表示装置の概略的な縦断面図を示す。
【００２２】
この実施例に示すプラズマアドレス液晶表示装置は、液晶セル２０及びプラズマセル２１と、これら液晶セル２０とプラズマセル２１とを遮断する薄板ガラス８とから構成される。基板ガラス１１上には、先ず複数の下地層１３が等間隔で形成され、これら下地層１３上に複数の放電電極１０が形成されている。さらに、これらの放電電極１０上にはバリアリブ９がそれぞれ印刷形成されている。また、上記バリアリブ９の周囲にはフリット１２が塗布されている。そして、上記バリアリブ９の上部には薄板ガラス８が張り合わせられており、これによって複数の放電領域１５が形成されている。上記薄板ガラス８上には、上記複数の放電電極１０と直交するように形成された複数の電極１４を備える液晶側ガラス６との間に液晶層７が設けられている。
【００２３】
次に、上記プラズマセル２１内の放電電極１０の具体的な構成を図２に示す。上記基板ガラス１１上には、一層の下地層１３が印刷形成される。この下地層１３のペースト材料としては、上記放電電極１０の電極ペースト材料の粘度よりも大きい粘度をもつ、即ちダレの小さいものを使用する。この下地層１３上には、複数層の放電電極１０が印刷形成される。図２では、３層の放電電極１０₁、１０₂、１０₃が印刷形成された場合を示す。このとき、大きな粘度のペースト材料による下地層１３によって、この下地層１３上に形成される放電電極１０の電極ペースト材料のダレが抑えられるので、上記基板ガラス１１上に直接に形成される下地層１３とこの下地層１３の上層に形成される複数の放電電極１０との幅がほぼ同じになる。
【００２４】
これにより、従来の１層目の放電電極の上層の放電電極よりも広がった部分に起こっていた電界集中が起こらず、異常放電が生じなくなる。また、この結果、放電電極１０の厚さが１００μｍ以下であっても安定した側面放電を行わせることが可能となる。
【００２５】
但し、側面放電に寄与する放電電極１０の面積が小さすぎる場合には放電がちらつく問題が生じるので、放電電極１０の厚さは４０〜１００μｍとすることが好ましい。
【００２６】
さらに、上記下地層１３のペースト材料の粘度をρ₂とし、上記放電電極１０の電極ペースト材料の粘度をρ₁とした場合に、粘度ρ₂の値は以下の（１）式に示す範囲内の値に設定する。
【００２７】
ρ₂＝１．１ρ₁〜２．０ρ₁ ・・・（１）
下地層１３のペースト材料の粘度ρ₂の値が上記（１）式に示した範囲の値よりも小さい場合には、上記下地層１３を形成したときに、この下地層１３の幅が上層に形成される放電電極１０の幅よりも広くなり、電極ペースト材料のダレを抑える役割を果たさなくなる。
【００２８】
尚、上記下地層１３のペースト材料としては上記放電電極１０のダレを抑えることができるものであれば良い。
【００２９】
次に、基板ガラス１１上の下地層１３、放電電極１０、及びバリアリブ９の形成工程の一例について具体的に説明する。この形成工程の印刷においては、幅１７０μｍ、ピッチ４１０μｍのストライプパターンを有した、メッシュ番号３２５、線径２３μｍ、バイアス角３０度、空間率５０％のスクリーンを用いている。
【００３０】
先ず、下地層１３のペースト材料としてガラスペーストＥＬＤ−５１１（奥野製薬社製）を用いて、下地層１３を基板ガラス１１上に２０μｍの厚さで一層印刷し、１５０°Ｃで乾燥させる。
【００３１】
次に、放電電極１０の電極ペースト材料としてニッケルペースト９５３５Ｍ（デュポン社製）を用いて、上記印刷形成された下地層１３上に放電電極１０を厚さ５０μｍになるように積層印刷する。このとき、一層印刷する毎に１５０°Ｃで乾燥させる。
【００３２】
さらに、上記放電電極１０上に、ガラスペーストＥＬＤ−５１１（奥野製薬社製）をバリアリブ９として厚さ２００μｍになるように積層印刷する。このとき、一層印刷する毎に１５０°Ｃで乾燥させる。
【００３３】
この後、上記下地層１３、放電電極１０、及びバリアリブ９が作製された基板ガラス１１を空気雰囲気下において４９０°Ｃで焼成する。さらに、空気を窒素に置換して昇温させ、窒素雰囲気下において５８０°Ｃで焼成する。
【００３４】
上記焼成した基板ガラス１１を放電電極１０の活性化のためにエチレングリコールに５分間浸漬し、さらにその後、濃度３０〜３５％の過酸化水素水（関東化学社製）に３分間浸漬する。この浸漬した基板ガラス１１を水洗し、乾燥した後、薄板ガラス８及び液晶セル２０を取り付けてプラズマアドレス液晶表示装置を作製する。
【００３５】
このように作製されたプラズマアドレス液晶表示装置においては、基板ガラス１１の反りによる液晶セル２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れは発生しない。また、このプラズマアドレス液晶表示装置の放電の安定性及び均一性は良好であり、放電開始電圧は２１０Ｖである。
【００３６】
また、上述の形成工程において、上記放電電極１０の厚さを７０μｍ又は９０μｍとし、他の条件は全て同じにしてプラズマアドレス液晶表示装置を作製した場合にも、上記放電電極１０の厚さを５０μｍとした場合と同様に、基板ガラス１１の反りによる液晶セル２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れは発生せず、また、このプラズマアドレス液晶表示装置の放電の安定性及び均一性は良好である。上述の結果から、放電電極１０の厚さは４０〜１００μｍとすることが好ましい。
【００３７】
尚、上述の形成工程において、上記放電電極１０の厚さを３５μｍとし、他の条件は全て同じにしてプラズマアドレス液晶表示装置を作製した場合には、安定な放電を行わせることができない。また、上記放電電極１０の厚さを１５０μｍとした場合には、液晶セル２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れが発生する。さらに、ガラスペーストの下地層１３を印刷形成せず、他の条件は全て同じにして放電電極１０の厚さが１００μｍ以下のプラズマアドレス液晶表示装置を作製した場合には、アノード・カソード間の電圧を増加させたときに、電極端への電界集中が原因と考えられる異常放電が発生し、安定した放電を行わせることができない。
【００３８】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明に係るプラズマアドレス液晶表示装置は、第２の基板と第２電極との間にペースト材料を塗布して形成された下地層を有し、この下地層を形成するペースト材料の粘度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度よりも大きいことにより、第２電極において電界集中による異常放電を抑えることができる。また、第２の基板におけるバックライト照明のための開口部の面積が広くなるため、バックライト照明の照度を高めることができる。
【００３９】
また、上記第２電極の厚さは４０〜１００μｍとすることにより、基板ガラスが反らず、薄板ガラスの割れや液晶セルのシールの剥がれの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るプラズマアドレス液晶表示装置の概略的な構成を示す図である。
【図２】放電電極の具体的な構成を示す図である。
【図３】従来のプラズマアドレス液晶表示装置の概略的な構成を示す図である。
【図４】従来の放電電極の具体的な構成を示す図である。
【符号の説明】
６液晶側ガラス
７液晶層
８薄板ガラス
９バリアリブ
１０放電電極
１１基板ガラス
１２フリット
１３下地層
１４電極
１５放電領域[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a plasma addressed liquid crystal display device which is an image display device that performs pixel selection by driving an electro-optic material layer using plasma.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a so-called plasma addressed liquid crystal display device using discharge plasma is known as an image display device for driving liquid crystal. A schematic configuration of an example of the plasma address liquid crystal display device will be described with reference to FIG.
[0003]
This plasma addressed liquid crystal display device is an electro-optic material layer between a flat and non-conductive liquid crystal side glass 6 that is optically sufficiently transparent and a substrate glass 11 on which a plurality of discharge electrodes 10 are formed. And the space between the liquid crystal layer 7 and the substrate glass 11 is formed as a discharge region 15.
[0004]
On the liquid crystal side glass 6, a strip-like electrode 14 is formed on one main surface, and a liquid crystal layer 7 made of nematic liquid crystal or the like is disposed in contact with the electrode 14. The liquid crystal layer 7 is sandwiched between the liquid crystal side glass 6 by a thin glass plate 8 which is a thin dielectric plate. Thereby, a so-called liquid crystal cell 20 is formed. The thin glass 8 functions as an insulation barrier layer between the liquid crystal layer 7 of the liquid crystal cell 20 and the discharge region 15 of the plasma cell 21.
[0005]
On the other hand, a plurality of discharge electrodes 10 are also formed on the substrate glass 11 as band-like electrodes, and are arranged at a predetermined interval from the thin glass 8 by supporting the periphery with a frit 12 as a sealant. Thereby, a space between the substrate glass 11 and the thin glass 8 is a discharge region 15 in which discharge plasma is generated. A region that is cut off from the liquid crystal cell 20 by the thin glass 8 and is sandwiched by the substrate glass 11 and the thin glass 8 and the substrate glass 11 is called a plasma cell 21. The frit 12 is powder glass and is formed by coating.
[0006]
The discharge electrodes 10 are arranged on the substrate glass 11 at equal intervals, and partition walls, so-called barrier ribs 9 are printed on the discharge electrodes 10. The discharge region 15 is partitioned by the plurality of barrier ribs 9 and divided into independent plasma chambers P ₁ , P ₂ ,. Each plasma chamber P ₁ , P ₂ ,... Is filled with an ionizable gas. As the ionizable gas, helium, neon, argon, or a mixed gas thereof is used.
[0007]
The barrier rib 9 is formed on each strip electrode of the plurality of discharge electrodes 10 for each scanning unit. Accordingly, each plasma chamber P ₁ , P ₂ ,... Corresponds to each scanning line. The barrier rib 9 is formed by laminating and printing a glass paste mixed with a ceramic such as alumina, for example, a plurality of times by a screen printing method. Here, the barrier rib 9 also serves to regulate the gap interval between the discharge regions 15, that is, the distance between the substrate glass 11 and the thin glass plate 8. The gap interval of the discharge region 15 can be controlled by adjusting the number of screen printings when the barrier ribs 9 are formed, the amount of glass paste during each printing, and the like. Usually, it is about 200 μm.
[0008]
The plurality of discharge electrodes 10 can be directly formed on the substrate glass 11 by laminating and printing an electrode paste containing, for example, silver powder or the like a plurality of times. Moreover, you may form by an etching process. Specifically, the discharge electrodes 10 are sequentially printed as discharge electrodes 10 ₁ , 10 ₂ , 10 ₃ as shown in FIG. 4, for example. At this time, the lowermost discharge electrode 10 ₁ is wider than the upper discharge electrodes 10 ₂ , 10 ₃ and has a wider shape. This sagging of the discharge electrodes 10 ₁ of electrode paste material is printed directly on the substrate glass 11, is greater than the sag of the discharge electrodes 10 _2, 10 ₃ of the electrode paste material is printed on the electrode paste .
[0009]
The plurality of electrodes 14 formed with a predetermined width on the main surface of the liquid crystal side glass 6 facing the substrate glass 11 are made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), and are optically It is transparent. The electrodes 14 are arranged in parallel to each other, for example, perpendicular to the screen. On the other hand, a plurality of discharge electrodes 10 are also formed on the main surface of the substrate glass 11 facing the liquid crystal side glass 6. These discharge electrodes 10 are also parallel strip-shaped electrodes, and the arrangement direction thereof is a direction orthogonal to the electrodes 14 formed on the liquid crystal side glass 6. That is, these discharge electrodes 10 are arranged horizontally on the screen. Moreover, these discharge electrodes 10 are composed of an anode electrode and a cathode electrode, and a discharge electrode is formed by pairing them. When the barrier rib 9 is printed on the discharge electrode 10 as described above, the discharge electrode 10 is shared by the plasma chambers P ₁ , P ₂ ,. In other words, such as the discharge electrodes 10a is also a discharge electrode of the plasma chamber P _1, it is also the discharge electrode of the plasma chamber P _2.
[0010]
Here, the wall surface of the cathode electrode and the wall surface of the anode electrode are arranged to face each other via the plasma chamber P, and this is called a wall surface electrode structure or a side electrode structure. In this side electrode structure, as indicated by an arrow R, the plasma discharge path goes straight from the wall surface of one discharge electrode 10 to the wall surface of the other discharge electrode 10. However, if the discharge electrode 10 is relatively thin, the area of the discharge electrode 10 that contributes to the side discharge becomes small, so that an abnormal discharge occurs due to the concentration of the electric field at the end of the discharge electrode, and normal discharge is not performed. This problem is solved by setting the height of the discharge electrode 10 to 100 μm or more.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, generally, the thermal expansion coefficient of the material of the discharge electrode 10 and the thermal expansion coefficient of the substrate glass 11 do not match. Therefore, when the thickness of the discharge electrode 10 is large, there arises a problem that the substrate glass 11 is warped due to the stress caused by the mismatch between the thermal expansion coefficient of the material of the discharge electrode 10 and the thermal expansion coefficient of the substrate glass 11. Thereby, the thin glass 8 is cracked and the seal of the liquid crystal cell 20 is peeled off.
[0012]
In this case, for example, when the substrate glass 11 having a normal thickness of about 1 to 2 mm is used, the substrate glass 11 is not warped by setting the thickness of the discharge electrode 10 to 100 μm or less. The magnitude of the stress can be stopped, and the above problem can be solved.
[0013]
However, as described above, when the thickness of the discharge electrode 10 is set to 100 μm or less, the area of the discharge electrode 10 contributing to the side discharge is reduced, and the above-described problem of abnormal discharge occurs.
[0014]
That is, as shown in FIG. 4, in the lowermost discharge electrode 10 ₁ of the discharge electrodes 10 formed by lamination printing, electric field concentration occurs in a portion that is wider than the upper discharge electrode 10 ₂ , and abnormal discharge occurs. There are problems that arise.
[0015]
In view of the above circumstances, the present invention provides a plasma addressed liquid crystal display device in which the substrate glass does not warp or cause abnormal discharge.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
A plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate having a plurality of first electrodes substantially parallel to each other on one main surface, and a main surface facing the first electrode on the first substrate. A second substrate having a plurality of second electrodes substantially orthogonal to the first electrode and substantially parallel to each other; a partition formed on each of the plurality of second electrodes; and a dielectric plate affixed on the partition And an electro-optic material layer formed between the first electrode and the dielectric plate in contact with the first electrode of the first substrate, and writing by plasma discharge. In the apparatus, a base layer is formed by a printing method between the second substrate and the second electrode so that the width of the second electrode is substantially the same, and the base layer is formed on the base layer. The second electrode is laminated by a printing method , When the viscosity of the paste material forming the second electrode is ρ1, and the viscosity of the paste material forming the base layer is ρ2,
ρ2 = 1.1ρ1 to 2.0ρ1
It is characterized by having the relationship of
[0017]
Here, the thickness of the second electrode is 40 to 100 μm.
[0018]
Further, the viscosity of the paste material forming the base layer is larger than the viscosity of the paste material forming the second electrode.
[0020]
[Action]
In the present invention, a paste material is applied between a substrate glass as a second substrate and a discharge electrode as a second electrode to form a base layer, and then a discharge electrode is formed over the base layer.
[0021]
【Example】
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of a plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention.
[0022]
The plasma addressed liquid crystal display device shown in this embodiment includes a liquid crystal cell 20 and a plasma cell 21, and a thin glass 8 that blocks the liquid crystal cell 20 and the plasma cell 21. On the substrate glass 11, a plurality of base layers 13 are first formed at equal intervals, and a plurality of discharge electrodes 10 are formed on the base layers 13. Further, barrier ribs 9 are respectively printed on the discharge electrodes 10. A frit 12 is applied around the barrier rib 9. A thin glass plate 8 is bonded to the upper portion of the barrier rib 9, thereby forming a plurality of discharge regions 15. On the thin glass 8, a liquid crystal layer 7 is provided between the thin glass 8 and a liquid crystal side glass 6 including a plurality of electrodes 14 formed so as to be orthogonal to the plurality of discharge electrodes 10.
[0023]
Next, a specific configuration of the discharge electrode 10 in the plasma cell 21 is shown in FIG. A single underlayer 13 is printed on the substrate glass 11. As the paste material for the underlayer 13, a material having a viscosity larger than the viscosity of the electrode paste material for the discharge electrode 10, that is, having a small sag is used. A plurality of layers of discharge electrodes 10 are printed on the base layer 13. FIG. 2 shows a case where three layers of discharge electrodes 10 ₁ , 10 ₂ , and 10 ₃ are formed by printing. At this time, since the sagging of the electrode paste material of the discharge electrode 10 formed on the base layer 13 is suppressed by the base layer 13 made of the paste material having a high viscosity, the base layer directly formed on the substrate glass 11 13 and the plurality of discharge electrodes 10 formed in the upper layer of the base layer 13 have substantially the same width.
[0024]
As a result, the electric field concentration that has occurred in the portion wider than the upper discharge electrode of the conventional first discharge electrode does not occur, and abnormal discharge does not occur. As a result, stable side surface discharge can be performed even if the thickness of the discharge electrode 10 is 100 μm or less.
[0025]
However, when the area of the discharge electrode 10 that contributes to the side discharge is too small, there is a problem that the discharge flickers. Therefore, the thickness of the discharge electrode 10 is preferably 40 to 100 μm.
[0026]
Further, when the viscosity of the paste material of the base layer 13 is ρ ₂ and the viscosity of the electrode paste material of the discharge electrode 10 is ρ ₁ , the value of the viscosity ρ ₂ is within the range represented by the following formula (1). Set to the value of.
[0027]
ρ ₂ = 1.1ρ _{1 to} 2.0ρ ₁ (1)
When the value of the viscosity ρ ₂ of the paste material of the underlayer 13 is smaller than the value in the range shown in the above equation (1), when the underlayer 13 is formed, the width of the underlayer 13 is increased to the upper layer. It becomes wider than the width of the discharge electrode 10 to be formed, and does not play the role of suppressing sagging of the electrode paste material.
[0028]
The paste material for the underlayer 13 may be any material that can suppress the sagging of the discharge electrode 10.
[0029]
Next, an example of a process for forming the base layer 13, the discharge electrode 10, and the barrier rib 9 on the substrate glass 11 will be specifically described. In the printing in this forming process, a screen having a stripe pattern with a width of 170 μm and a pitch of 410 μm and having a mesh number 325, a wire diameter of 23 μm, a bias angle of 30 degrees, and a space ratio of 50% is used.
[0030]
First, using the glass paste ELD-511 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) as the paste material for the base layer 13, the base layer 13 is printed on the substrate glass 11 in a thickness of 20 μm and dried at 150 ° C.
[0031]
Next, using a nickel paste 9535M (manufactured by DuPont) as an electrode paste material for the discharge electrode 10, the discharge electrode 10 is laminated and printed on the printed underlayer 13 to a thickness of 50 μm. At this time, it is dried at 150 ° C. every time one layer is printed.
[0032]
Further, on the discharge electrode 10, glass paste ELD-511 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) is laminated and printed as a barrier rib 9 to a thickness of 200 μm. At this time, it is dried at 150 ° C. every time one layer is printed.
[0033]
Thereafter, the substrate glass 11 on which the base layer 13, the discharge electrode 10, and the barrier rib 9 are produced is baked at 490 ° C. in an air atmosphere. Further, the temperature is increased by substituting air with nitrogen, followed by firing at 580 ° C. in a nitrogen atmosphere.
[0034]
The fired substrate glass 11 is immersed in ethylene glycol for 5 minutes for activation of the discharge electrode 10, and then immersed in hydrogen peroxide solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) having a concentration of 30 to 35% for 3 minutes. The immersed substrate glass 11 is washed with water and dried, and then the thin glass 8 and the liquid crystal cell 20 are attached to produce a plasma addressed liquid crystal display device.
[0035]
In the plasma addressed liquid crystal display device thus manufactured, the peeling of the seal of the liquid crystal cell 20 and the cracking of the thin glass 8 due to the warp of the substrate glass 11 do not occur. Further, the stability and uniformity of discharge of this plasma addressed liquid crystal display device are good, and the discharge start voltage is 210V.
[0036]
Further, in the above-described forming step, the thickness of the discharge electrode 10 is set to 50 μm even when the plasma address liquid crystal display device is manufactured by setting the thickness of the discharge electrode 10 to 70 μm or 90 μm and all other conditions being the same. As in the case of the above, the peeling of the seal of the liquid crystal cell 20 and the crack of the thin glass plate 8 due to the warp of the substrate glass 11 do not occur, and the discharge stability and uniformity of this plasma addressed liquid crystal display device are good. is there. From the above results, the thickness of the discharge electrode 10 is preferably 40 to 100 μm.
[0037]
In the above-described forming process, when the plasma electrode liquid crystal display device is manufactured by setting the thickness of the discharge electrode 10 to 35 μm and making all other conditions the same, stable discharge cannot be performed. Further, when the thickness of the discharge electrode 10 is 150 μm, the seal of the liquid crystal cell 20 is peeled off and the thin glass plate 8 is cracked. Further, when the plasma address liquid crystal display device in which the thickness of the discharge electrode 10 is 100 μm or less is manufactured without forming the base layer 13 of the glass paste and making all other conditions the same, the voltage between the anode and the cathode Is increased, an abnormal discharge is considered to be caused by the concentration of the electric field at the electrode end, and a stable discharge cannot be performed.
[0038]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, the plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention has a base layer formed by applying a paste material between the second substrate and the second electrode. The viscosity of the paste material forming the base layer is larger than the viscosity of the paste material forming the second electrode, so that abnormal discharge due to electric field concentration can be suppressed in the second electrode. In addition, since the area of the opening for backlight illumination in the second substrate is increased, the illuminance of the backlight illumination can be increased.
[0039]
Further, by setting the thickness of the second electrode to 40 to 100 μm, the substrate glass is not warped, and it is possible to prevent occurrence of cracking of the thin plate glass and peeling of the seal of the liquid crystal cell.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of a discharge electrode.
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional plasma addressed liquid crystal display device.
FIG. 4 is a diagram showing a specific configuration of a conventional discharge electrode.
[Explanation of symbols]
6 Liquid crystal side glass 7 Liquid crystal layer 8 Thin glass 9 Barrier rib 10 Discharge electrode 11 Substrate glass 12 Frit 13 Underlayer 14 Electrode 15 Discharge region

Claims

一主面上に互いに略平行な複数の第１電極を有する第１の基板と、上記第１の基板上の第１電極と対向する主面上に上記第１電極と略直交し且つ互いに略平行な複数の第２電極を有する第２の基板と、上記複数の第２電極上にそれぞれ形成する隔壁と、上記隔壁上に貼付される誘電体板と、上記第１の基板の第１電極に接触して、上記第１電極と上記誘電体板との間に形成される電気光学材料層とを備え、プラズマ放電によって書き込みを行うプラズマアドレス液晶表示装置において、
上記第２の基板と上記第２電極との間に、上記第２電極との幅がほぼ同じになるように、印刷法によって下地層が形成されるとともに、上記下地層上に上記第２の電極が印刷法によって積層形成されてなり、
上記下地層を形成するペースト材料の粘度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度をρ１、上記下地層を形成するペースト材料の粘度をρ２とするとき、
ρ２＝１．１ρ１〜２．０ρ１
の関係を持つことを特徴とするプラズマアドレス液晶表示装置。A first substrate having a plurality of first electrodes substantially parallel to each other on one main surface, and a main surface opposite to the first electrode on the first substrate, substantially orthogonal to the first electrode and substantially mutually A second substrate having a plurality of parallel second electrodes; a partition formed on each of the plurality of second electrodes; a dielectric plate affixed on the partition; and the first electrode of the first substrate A plasma addressed liquid crystal display device comprising: an electro-optic material layer formed between the first electrode and the dielectric plate, wherein the writing is performed by plasma discharge;
A foundation layer is formed by a printing method between the second substrate and the second electrode so that the width of the second electrode is substantially the same, and the second layer is formed on the foundation layer . The electrode is laminated by a printing method ,
When the viscosity of the paste material forming the second electrode is ρ1, and the viscosity of the paste material forming the base layer is ρ2,
ρ2 = 1.1ρ1 to 2.0ρ1
A plasma addressed liquid crystal display device characterized by having the following relationship:

上記第２電極の厚さは４０〜１００μｍとすることを特徴とする請求項１記載のプラズマアドレス液晶表示装置。 2. The plasma addressed liquid crystal display device according to claim 1, wherein the thickness of the second electrode is 40 to 100 [mu] m.