JP3665153B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3665153B2 JP3665153B2 JP24804996A JP24804996A JP3665153B2 JP 3665153 B2 JP3665153 B2 JP 3665153B2 JP 24804996 A JP24804996 A JP 24804996A JP 24804996 A JP24804996 A JP 24804996A JP 3665153 B2 JP3665153 B2 JP 3665153B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cleaning
- liquid
- ultrasonic
- indirect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄槽を収容する間接槽を有し、前記間接槽の底部に加えられ間接槽用液を伝わってきた超音波が透過する超音波透過板が前記洗浄槽の底部に設けられている超音波洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3はこの種の超音波洗浄装置の従来例の構造を示す縦断面図である。
【0003】
この従来の超音波洗浄装置は洗浄液2と洗浄槽3と間接槽用液4と洗浄液給排口5と間接槽36と超音波透過板7と給液パイプ8と振動子10と振動板11と高周波電源12とからなる。
【0004】
間接槽36は、間接槽用液4を収容する。洗浄槽3は、間接槽36の中の間接槽用液4に所定の位置まで浸漬され、洗浄液2を収容する。洗浄液2は、超音波により被洗浄物1を洗浄する。洗浄液給排口5は、洗浄槽3に対し洗浄液2の給液・排液を行なう。給液パイプ8は、間接槽36に間接槽用液4を給液する。高周波電源12は、振動子10に電力を供給する。振動子10は、振動板11の下側に密着して設けられていて、高周波電源12から供給された電力により振動する。振動板11は、間接槽36の底部に設けられていて、振動子10からの振動を間接槽用液4に伝える。超音波透過板7は、洗浄槽3の底部に設けられていて、間接槽用液4を伝わってきた超音波を透過させ洗浄液2に伝える。
【0005】
この超音波洗浄装置で被洗浄物1を洗浄する際は、洗浄槽3を間接槽36の中の所定の位置に設置した後、間接槽36の中に給液パイプ8より間接槽用液4を給液し、洗浄槽3の中に洗浄液給排口5より洗浄液2を給液する。このとき間接槽36の容量以上の間接槽用液4は間接槽36の上部より流れ落ちる。そして、被洗浄物1を洗浄液2の中に浸した後、高周波電源12より振動子10に電力を供給し振動子10を振動させることにより振動板11を振動させる。振動板11から発生した超音波は、間接槽用液4を伝わり超音波透過板7を透過し洗浄液2に伝わり被洗浄物1を振動させる。被洗浄物1は、洗浄液2の中で振動することにより洗浄される。
【0006】
この従来の超音波洗浄装置では、超音波洗透過板7には、洗浄液2の水圧が上側から、間接槽用液4の水圧が下側から加わっている。ここで、間接槽36の側壁は洗浄液2の水位より低いため、間接槽用液4の水位は常に洗浄液2の水位より下になり、上側からの水圧の方が強くなり超音波透過板7には下側に押される力が常時加わる。
【0007】
この超音波洗浄装置において、超音波の透過をよくするため、振動板11および超音波透過板7の板厚は、超音波の共振長であるλ/2(λは超音波の波長)となっている。例えば、石英ガラスを用いた場合、λ/2は用いる超音波の周波数が1MHzの場合で3mm、2MHzで1.5mm、3MHzで1.0mmとなる。
【0008】
また、半導体プロセスにおいては、洗浄度を高めるためメガソニック帯域(1MHz以上の周波数帯域)の超音波を用いた洗浄装置が重要になる。そのためには超音波の高周波数化が必要となるが、超音波が高周波数化するにつれ超音波透過板7の板厚は薄くする必要がある。
【0009】
現在使用されている超音波の周波数は1MHz程度であるが、今後は洗浄度を高めるために、2MHz以上の周波数が必要となることが予想される。しかし、超音波透過板7の板厚を薄くすれば強度が低くなり、洗浄液2と間接槽用液4の水位差が大きい場合、2つの液の水圧差に耐えきれなくなり破損してしまう。
【0010】
また、大きな被洗浄物1を洗浄するためには大きな超音波洗浄装置が必要となるが、この場合では洗浄液2の量も大きくなるため超音波透過板7にかかる負荷はますます大きくなる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来の超音波洗浄装置では、洗浄槽と間接槽の深さが異なるため、洗浄液と間接槽用液の水位を同じにできず、超音波透過板には常に水圧差による負荷がかかり、場合によっては超音波透過板が破損してしまうという問題点があり、また、超音波洗浄装置を大きくすると超音波透過板にかかる水圧差による負荷がさらに大きくなるため、超音波洗浄装置を大型化できないという問題があった。
【0012】
本発明の目的は、超音波透過板に水圧差による負荷がかからない超音波洗浄装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の超音波洗浄装置は、洗浄液が給液されると間接槽用液の中を下降する洗浄槽を傾かないように支持するガイドが前記間接槽内に設けられている。
【0014】
本発明は、洗浄槽が傾かないように支持するガイドを間接槽内に設けたことにより、洗浄槽に洗浄液を給液すると、洗浄槽は給液された洗浄液の重量により給液された洗浄液と同じ体積だけ間接槽用液の中に沈むため、間接槽溶液と洗浄液の水位は常にほぼ同じに保たれたる。これにより、超音波透過板には常にほぼ同じ水圧が加えられ、超音波透過板に負荷がかからない。したがって、超音波透過板を薄くすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【0016】
図1(a)、図1(b)はそれぞれ本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液前の縦断面図、上面図、図2は、本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液後の縦断面図である。図3中と同番号は同じ構成要素を示す。
【0017】
本実施形態の超音波洗浄装置は、図3の従来の超音波洗浄装置に対し、洗浄槽3が傾かないように支持するガイド13が間接槽6内に設けられ、洗浄液2と同じ水位の間接槽用液4を収容できるようにしたものである。
【0018】
間接槽6は、洗浄液2と同じ水位の間接槽用液4を収容できるような深さを有し、また、洗浄槽3を支持するためのガイド13をその底部に備えている。
【0019】
実際に被洗浄物1を洗浄する際は、まず、間接槽6内に純水等の間接槽用液4を満たす。次に、空の洗浄槽3をガイド13により支持して間接槽用液4の水面に浮かべる。洗浄槽3は、ガイド13により支えられているので転倒しないようになっている。そして、洗浄槽3に洗浄液給排口5より洗浄液2を徐々に給液する。すると、洗浄槽3は給液された洗浄液2の重量により給液された洗浄液2と同じ体積だけ間接槽用液4の中に沈むため、間接槽溶液4と洗浄液2の水位は常にほぼ同じに保たれたまま洗浄槽3はガイド13に沿いながら下降していく。これにより、超音波透過板7には常にほぼ同じ水圧が加えられることになり負荷をかけることなく洗浄液2を給液できる。
【0020】
また、排液するときは洗浄液給排口5より洗浄液2を排液することにより、間接槽溶液4と洗浄液2の水位が常にほぼ同じに保たれたまま洗浄槽3はガイド13に沿って浮上する。これにより、超音波透過板7には常にほぼ同じ水圧が加えられることになり負荷をかけることなく洗浄液2を排液できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液前の縦断面図(図1(a))と上面図(図1(b))である。
【図2】本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液後の縦断面図である。
【図3】従来の超音波洗浄装置の構造を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1 被洗浄物
2 洗浄液
3 洗浄槽
4 間接槽用液
5 洗浄液給排口
6 間接槽
7 超音波透過板
8 給液パイプ
10 振動子
11 振動板
12 高周波電源
13 ガイド
36 間接槽
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄槽を収容する間接槽を有し、前記間接槽の底部に加えられ間接槽用液を伝わってきた超音波が透過する超音波透過板が前記洗浄槽の底部に設けられている超音波洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3はこの種の超音波洗浄装置の従来例の構造を示す縦断面図である。
【0003】
この従来の超音波洗浄装置は洗浄液2と洗浄槽3と間接槽用液4と洗浄液給排口5と間接槽36と超音波透過板7と給液パイプ8と振動子10と振動板11と高周波電源12とからなる。
【0004】
間接槽36は、間接槽用液4を収容する。洗浄槽3は、間接槽36の中の間接槽用液4に所定の位置まで浸漬され、洗浄液2を収容する。洗浄液2は、超音波により被洗浄物1を洗浄する。洗浄液給排口5は、洗浄槽3に対し洗浄液2の給液・排液を行なう。給液パイプ8は、間接槽36に間接槽用液4を給液する。高周波電源12は、振動子10に電力を供給する。振動子10は、振動板11の下側に密着して設けられていて、高周波電源12から供給された電力により振動する。振動板11は、間接槽36の底部に設けられていて、振動子10からの振動を間接槽用液4に伝える。超音波透過板7は、洗浄槽3の底部に設けられていて、間接槽用液4を伝わってきた超音波を透過させ洗浄液2に伝える。
【0005】
この超音波洗浄装置で被洗浄物1を洗浄する際は、洗浄槽3を間接槽36の中の所定の位置に設置した後、間接槽36の中に給液パイプ8より間接槽用液4を給液し、洗浄槽3の中に洗浄液給排口5より洗浄液2を給液する。このとき間接槽36の容量以上の間接槽用液4は間接槽36の上部より流れ落ちる。そして、被洗浄物1を洗浄液2の中に浸した後、高周波電源12より振動子10に電力を供給し振動子10を振動させることにより振動板11を振動させる。振動板11から発生した超音波は、間接槽用液4を伝わり超音波透過板7を透過し洗浄液2に伝わり被洗浄物1を振動させる。被洗浄物1は、洗浄液2の中で振動することにより洗浄される。
【0006】
この従来の超音波洗浄装置では、超音波洗透過板7には、洗浄液2の水圧が上側から、間接槽用液4の水圧が下側から加わっている。ここで、間接槽36の側壁は洗浄液2の水位より低いため、間接槽用液4の水位は常に洗浄液2の水位より下になり、上側からの水圧の方が強くなり超音波透過板7には下側に押される力が常時加わる。
【0007】
この超音波洗浄装置において、超音波の透過をよくするため、振動板11および超音波透過板7の板厚は、超音波の共振長であるλ/2(λは超音波の波長)となっている。例えば、石英ガラスを用いた場合、λ/2は用いる超音波の周波数が1MHzの場合で3mm、2MHzで1.5mm、3MHzで1.0mmとなる。
【0008】
また、半導体プロセスにおいては、洗浄度を高めるためメガソニック帯域(1MHz以上の周波数帯域)の超音波を用いた洗浄装置が重要になる。そのためには超音波の高周波数化が必要となるが、超音波が高周波数化するにつれ超音波透過板7の板厚は薄くする必要がある。
【0009】
現在使用されている超音波の周波数は1MHz程度であるが、今後は洗浄度を高めるために、2MHz以上の周波数が必要となることが予想される。しかし、超音波透過板7の板厚を薄くすれば強度が低くなり、洗浄液2と間接槽用液4の水位差が大きい場合、2つの液の水圧差に耐えきれなくなり破損してしまう。
【0010】
また、大きな被洗浄物1を洗浄するためには大きな超音波洗浄装置が必要となるが、この場合では洗浄液2の量も大きくなるため超音波透過板7にかかる負荷はますます大きくなる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来の超音波洗浄装置では、洗浄槽と間接槽の深さが異なるため、洗浄液と間接槽用液の水位を同じにできず、超音波透過板には常に水圧差による負荷がかかり、場合によっては超音波透過板が破損してしまうという問題点があり、また、超音波洗浄装置を大きくすると超音波透過板にかかる水圧差による負荷がさらに大きくなるため、超音波洗浄装置を大型化できないという問題があった。
【0012】
本発明の目的は、超音波透過板に水圧差による負荷がかからない超音波洗浄装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の超音波洗浄装置は、洗浄液が給液されると間接槽用液の中を下降する洗浄槽を傾かないように支持するガイドが前記間接槽内に設けられている。
【0014】
本発明は、洗浄槽が傾かないように支持するガイドを間接槽内に設けたことにより、洗浄槽に洗浄液を給液すると、洗浄槽は給液された洗浄液の重量により給液された洗浄液と同じ体積だけ間接槽用液の中に沈むため、間接槽溶液と洗浄液の水位は常にほぼ同じに保たれたる。これにより、超音波透過板には常にほぼ同じ水圧が加えられ、超音波透過板に負荷がかからない。したがって、超音波透過板を薄くすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【0016】
図1(a)、図1(b)はそれぞれ本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液前の縦断面図、上面図、図2は、本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液後の縦断面図である。図3中と同番号は同じ構成要素を示す。
【0017】
本実施形態の超音波洗浄装置は、図3の従来の超音波洗浄装置に対し、洗浄槽3が傾かないように支持するガイド13が間接槽6内に設けられ、洗浄液2と同じ水位の間接槽用液4を収容できるようにしたものである。
【0018】
間接槽6は、洗浄液2と同じ水位の間接槽用液4を収容できるような深さを有し、また、洗浄槽3を支持するためのガイド13をその底部に備えている。
【0019】
実際に被洗浄物1を洗浄する際は、まず、間接槽6内に純水等の間接槽用液4を満たす。次に、空の洗浄槽3をガイド13により支持して間接槽用液4の水面に浮かべる。洗浄槽3は、ガイド13により支えられているので転倒しないようになっている。そして、洗浄槽3に洗浄液給排口5より洗浄液2を徐々に給液する。すると、洗浄槽3は給液された洗浄液2の重量により給液された洗浄液2と同じ体積だけ間接槽用液4の中に沈むため、間接槽溶液4と洗浄液2の水位は常にほぼ同じに保たれたまま洗浄槽3はガイド13に沿いながら下降していく。これにより、超音波透過板7には常にほぼ同じ水圧が加えられることになり負荷をかけることなく洗浄液2を給液できる。
【0020】
また、排液するときは洗浄液給排口5より洗浄液2を排液することにより、間接槽溶液4と洗浄液2の水位が常にほぼ同じに保たれたまま洗浄槽3はガイド13に沿って浮上する。これにより、超音波透過板7には常にほぼ同じ水圧が加えられることになり負荷をかけることなく洗浄液2を排液できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液前の縦断面図(図1(a))と上面図(図1(b))である。
【図2】本発明の一実施形態の超音波洗浄装置の洗浄液給液後の縦断面図である。
【図3】従来の超音波洗浄装置の構造を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1 被洗浄物
2 洗浄液
3 洗浄槽
4 間接槽用液
5 洗浄液給排口
6 間接槽
7 超音波透過板
8 給液パイプ
10 振動子
11 振動板
12 高周波電源
13 ガイド
36 間接槽
Claims (1)
- 洗浄槽を収容する間接槽を有し、前記間接槽の底部に加えられ間接槽用液を伝わってきた超音波が透過する超音波透過板が前記洗浄槽の底部に設けられている超音波洗浄装置において、洗浄液が給液されると前記間接槽用液の中を下降する前記洗浄槽を傾かないように支持するガイドが前記間接槽内に設けられていることを特徴とする超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24804996A JP3665153B2 (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24804996A JP3665153B2 (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 超音波洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1085686A JPH1085686A (ja) | 1998-04-07 |
JP3665153B2 true JP3665153B2 (ja) | 2005-06-29 |
Family
ID=17172443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24804996A Expired - Fee Related JP3665153B2 (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3665153B2 (ja) |
-
1996
- 1996-09-19 JP JP24804996A patent/JP3665153B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1085686A (ja) | 1998-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7108003B2 (en) | Ultrasonic cleaning apparatus | |
KR101369410B1 (ko) | 초음파 세정 장치, 초음파 세정 방법 및 이 초음파 세정 방법을 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램이 기록된 기록 매체 | |
JPH0855827A (ja) | ウェーハカセットおよびこれを使用した洗浄装置 | |
JP2007125516A (ja) | 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 | |
KR20040102588A (ko) | 웨이퍼 세정장치 및 세정방법 | |
JP3665153B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
KR20040060735A (ko) | 전자 부품 세정 방법 및 장치 | |
JP3665163B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP3103774B2 (ja) | 超音波洗浄方法およびその洗浄装置 | |
KR100242942B1 (ko) | 다중 발진 초음파 세정장치 | |
JP3343781B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP3839527B2 (ja) | 超音波処理方法および超音波処理装置 | |
JP3734333B2 (ja) | 超音波励振装置及びこれを具備した超音波洗浄装置 | |
KR100551413B1 (ko) | 양면 메가소닉 세정장치 | |
JP2005085978A (ja) | 枚葉式洗浄方法及び洗浄装置 | |
KR100526214B1 (ko) | 메가소닉을 이용한 웨이퍼 세정장치 | |
CN212168377U (zh) | 一种清洗彻底的陶瓷基板清洗装置 | |
JP3729476B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
KR20070073311A (ko) | 웨이퍼 초음파 세정장치 및 이를 이용한 웨이퍼 세정방법 | |
JP3326310B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
KR20030062144A (ko) | 반도체 기판의 세정 장치 | |
JPH10192801A (ja) | 超音波洗浄装置と超音波振動体 | |
KR100576411B1 (ko) | 웨이퍼 세정장치 및 방법 | |
JPH08281226A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP6181906B2 (ja) | はんだ付け方法、及び、はんだ付け装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050302 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050331 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |