JP3638514B2 - 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 - Google Patents
転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3638514B2 JP3638514B2 JP2000293621A JP2000293621A JP3638514B2 JP 3638514 B2 JP3638514 B2 JP 3638514B2 JP 2000293621 A JP2000293621 A JP 2000293621A JP 2000293621 A JP2000293621 A JP 2000293621A JP 3638514 B2 JP3638514 B2 JP 3638514B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- substrate
- holding
- transfer
- fixing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法に係わり、特にナノメートルレベルの精度で微細構造や磁気情報の転写が可能な転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光の回折限界を越えて、微細なリソグラフィーを実現するいわゆる超解像を利用する方法として近接場光を利用する方法が知られている。これには、微小な開口を有するプローブを用いる方法（特開平７−１０６２２９）や、よりスループットを上げるためにマスクをレジストに極めて近距離に置く方法（特開平８−１７９４９３）や密着させる方法がある。これに対して、光や電子線によるリソグラフィーではなくナノインプリンティングと呼ばれる方法が新しいナノ加工技術として提案されている。これはナノレベルで凹凸のある原盤を基板上のレジストなどに押しつけて加工する方法である。
【０００３】
一方、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）は、ドライブの内部に記録媒体であるディスクが固定されて、このディスクに対してデータの記録再生を実行するための磁気記録装置である。ＨＤＤは、ディスク上に予め記録されたサーボ情報により、磁気ヘッドをディスク上の目標位置（目標トラック）に位置決めする制御を行う。一般にサーボ情報は、ディスク上の円周方向に所定の間隔を持って配置されるサーボ領域（サーボセクタ）に記録される。また、サーボ領域は、ディスク上の全トラックに対して半径方向に設けられている。
【０００４】
このようなＨＤＤを製造する製造工程において、通常ではドライブ本体の筐体の内部にディスクとヘッドとが組み込まれた後に、サーボライタと称するサーボ書き込み装置によりディスク上にサーボ情報が記録される。ここでディスクはスピンドル機構に固定的に取り付けられる。またヘッドはボイスコイルモータにより駆動するヘッドアクチュエータに実装される。
【０００５】
従来のサーボライタを使用してサーボ情報を書き込む方法は、ヘッドを移動制御して、ディスク上に設定される全トラックの各サーボ領域にサーボ情報を順次記録するため、製造工程の中でも長時間を要する工程の一つである．従って、サーボ情報の書き込み工程に要する時間を短縮化することは、HDDの製造工程の効率を向上させるために有効である。
【０００６】
これを解決するための方法として、サーボ情報を予め記録した原盤を用意し、この原盤を使用して、ドライブに組込むための基板にサーボ情報をコピーする磁気転写方式を利用した方法が提案されている（例えば特開平7−78337号公報を参照）。この磁気転写方式では、原盤と基板とを密着させて、外部からバイアス磁界を加えることにより、原盤の磁化情報を基板に転写する方法である。
【０００７】
上記の原盤を用いてナノインプリンティングにより基板を加工する方法の欠点は、原盤と基板のアライメントが困難であり、また一般にプレス機を高温にして加工するため、原盤や基板を加熱したり、冷却するのに時間がかかるという欠点があった。また、原盤と基板の剥離が困難である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前述したように、ナノインプリンティングでは、原盤と基板のアライメントが困難であり、また一般にプレス機を高温にして加工するため、原盤や基板を加熱したり冷却するのに時間がかかるという欠点があった。また、原盤と基板の剥離が困難である。
【０００９】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
（構成）
前述した課題を解決するために、本発明の第１は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段と、前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とは一体となって前記圧力印加手段に対して脱着可能に構成されていることを特徴とする転写装置を提供する。
【００１１】
本発明の第１において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００１２】
（１）一体になった前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを前記圧力印加手段とその外部との間で搬送する搬送手段を備えること。
【００１３】
（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること。
【００１４】
（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置を面内方向で制御する面内位置制御手段を備えること。
【００１５】
また、本発明の第２は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体として搬送可能に構成されていることを特徴とする転写用カートリッジを提供する。
【００１６】
本発明の第２において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００１７】
（１）前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること。
【００１８】
（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手段間に介在しかつ前記原盤及び前記基板の周囲に配置され、前記原盤と前記基板とを引き離す方向に弾性力を生ずる弾性体を備えること。
【００１９】
また、本発明の第３は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特徴とする転写方法を提供する。
【００２０】
本発明の第３において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００２１】
（１）前記第２の搬送行程の後に、前記固定行程により固定された前記原盤と前記基板間を引き離す行程と、前記基板保持手段から前記基板を取り出す行程とを備えること。
【００２２】
（２）前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御行程を備えること。
【００２３】
（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置を面内方向で制御する面内位置制御行程を備えること。
【００２４】
（作用）
本発明によれば、原盤保持手段と基板保持手段と固定手段とは一体となって圧力印加手段に対して脱着可能に構成されているので、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である。
【００２５】
プレスする手段としては一般に油圧を用いる方法が高い圧力をかけられることから好ましいが、原盤と基板のアライメントはその位置の測定を光学的、電気的な手段を用いた場合には、プレス装置と一体化することは困難である。したがって、原盤を保持する手段と、基板を保持する手段と、原盤と基板の平行方向（面内方向）の相対位置を固定する手段と、さらには原盤と基板の平行方向の相対位置を検出して制御する手段とが、プレスする手段とは分離されていれば、原盤と基板の平行方向の相対位置を精度よく決める手段を容易に用いることができる。
【００２６】
また、プレス機のプレス台の熱容量は大きく、一方、一般にプレス時間は１分程度で十分である。したがって、本発明では熱容量の小さい原盤・基板ホルダーを用いることにより短時間で加熱、冷却ができる。また片側だけの急速な加熱や冷却が可能であり、熱膨張率の差を利用して原盤と基板の剥離を容易に行わせることができる。
【００２７】
原盤や基板を保持する手段としては真空チャック方式によるものが好ましい。また、原盤や基板を保持するために、弾性体を介して保持することが好ましい。弾性体を介することにより均一に圧力がディスクに印可され、均一な磁気転写にとってより好ましい。弾性体としてはゴム類が好ましく、印可する圧力によって異なるが、位置合わせなどから透明なシリコンゴム膜が好ましい。ゴム膜にディスクを保持するための吸盤としての作用を持たせることも可能である。また、ゴム膜に適当に微小な穴を開け、真空でディスクを吸着させてもよい。
【００２８】
原盤と基板の相対位置を検出する手段としては、光学顕微鏡、静電容量センサー、光学干渉位置センサーなどが特に好ましい。また基板と原盤の相対位置を自動的に制御するために、原盤もしくは基板の一方に凹部が、片方にそれにちょうどはまる凸部が表面に形成されて立体的に位置制御したり、両方の表面に親水性のパターンが形成され、水などの液体を介して親和エネルギー的に位置制御したりする手段を有することも好ましく、これらを組み合わせてもよい。また上記の凹部や凸部は原盤や基板に形成されてなくても原盤や基板を保持する手段に作製されていてもよい。後者の場合には原盤や基板を該保持手段に正確に位置決めして設置することが必要である。このためには保持ホルダーに凸部や凹部もしくは穴をつけ、それにはまるような穴や凹部や凸部を原盤や基板につけることが好ましい。
【００２９】
原盤と基板の平行方向の相対位置を固定する手段としては、原盤と基板の間を減圧して大気圧を用いて略密着させる方法が最も好ましい。原盤を保持する手段と、基板を保持する手段を外枠で固定したり、クランプで止めることも好ましい。
【００３０】
原盤と基板に圧力を印加する手段としては、油圧ポンプによるものが最も好ましい。油圧ポンプによる方法では原盤と基板の平面のゆがみやたわみを正して、精度良く転写することが可能である。
【００３１】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段と、基板を保持する手段が一体化可能であり、該一体化された手段をプレス手段に搬送する手段を有していることを特徴としてもよい。一体化可能のカートリッジ式とすることにより、別の場所で原盤と基板の相対位置を高精度にアライメントした後、プレス手段に搬送した際にわずかなズレも防止することができる。
【００３２】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段とプレスする手段の間、もしくは基板を保持する手段とプレスする手段の間に弾性体を有することを特徴としてもよい。弾性体を有することにより、均一に加重をかけることが可能となり、均一な転写ができると共に、装置の寿命を長くすることができる。
【００３３】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段、および基板を保持する手段に加熱する手段および冷却する手段を有することを特徴としてもよい。これにより、加熱、冷却を短時間に行えると共に、原盤と基板に温度差を設けて、剥離を容易にすることが可能である。
【００３４】
本発明の転写装置は、原盤の微細情報パターンが凹凸構造もしくは、磁気情報であることを特徴としてもよい。原盤の微細情報パターンが凹凸構造である場合には、原盤の凹凸構造よりも転写される基板に柔らかい材質を選べば、凹凸構造が基板に転写される。この場合には応力集中は比較的緩和されるが、原盤と基板が凹凸構造を介して密着するため剥離が困難となる。したがって、原盤と基板の間にフッ素系樹脂やシリコーン樹脂系の剥離材を介する方が好ましい。
【００３５】
磁気情報の転写の場合には、その目的とするところはサーボ信号の基板（ＨDDディスク）への転写である。ＨＤＤに使用されるディスクは、近年の高紀録密度化に伴って、表面粗さが例えは20nm以下（グライドの高さ）の鏡面加工が要求されている。一般に、高記録密度化の実現には、ヘッドとディスク表面間の間隔（スペーシング）の低減化が必要である。このため、ディスクの表面は高度の鏡面性が要求されている。したがって、転写時や剥離時に基板に傷がつくことは極力さける必要がある。そのため磁気転写においては原盤は、特開平11-273070に示されるように平坦化された方が好ましい。
【００３６】
さらに磁気転写の場合には磁場を印加する手段があることが好ましく、直流磁場および交流磁場の両者を印加できる方が好ましい。印加磁場の方向は転写する磁気信号がトラックの長手方向か垂直方向かによって異なる。
【００３７】
本発明の転写方法は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特徴とする。
【００３８】
このような工程を有することにより、上述したように基板と原盤の相対位置を精密に制御でき、その位置を保ったままプレスすることが可能であり、また加熱や冷却を短時間で行うことができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００４０】
（第１の実施形態）
図１に本実施形態における原盤ホルダー及び基板ホルダー部１の構成を示す。図２に本実施形態で示す転写装置の構成を示した。１０は２．５インチ径のニッケル製原盤１１を真空に引いて保持するための原盤ホルダー、１２は２．５インチ径のガラス製基板１３を真空に引いて保持するための基板ホルダー、１４は基板ホルダーをＸ、Ｙ方向に精密に駆動するためのアクチュエーター、１５は位置決めのためのCCD、１６は原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、１７はシール部、１８は基板を加熱するための電熱線、１９は原盤を加熱するための電熱線、２０は基板を冷却するための水導入路、２１は原盤を冷却するための水導入路、２２は原盤または基板を固定するための減圧導入路、２３は基板ホルダーを抑えるためのバネ、２４はモニター、２５は搬送装置、２６は圧力を印加するための油圧スタンプ台、２７は弾性体である。
【００４１】
ここで、原盤１１と、膜厚50nmのポリメチルメタクリレート膜２８を塗布したガラス基板１３を、原盤ホルダー１０と基板ホルダー１２にそれぞれ設置した。原盤１１には示すように、最小パターンが２０ｎｍで高さが４０ｎｍ凹凸パターンが設置されている。また中心に位置決めするためのマーク２９が設けられている（図示せず）。
【００４２】
位置決め台３０上で、電熱線１８、１９を用いてホルダー１１と１２をそれぞれ１１０℃に設定した。原盤１１と基板１３の水平方向の相対位置はＣＣＤ１５を用いてモニター２４で観察しながら、原盤のマーク２９と基板の中心のマーク３１が合うようにアクチュエータ１４のＸＹ制御機構を用いて合わせた。次に、基板１３と原盤１１間の距離をアクチュエータのＺ制御機構で近づけ接触させた後、導入路２２を用いて基板１３と原盤１１間を減圧にして相対位置を固定した。次に、搬送装置２５を用いて油圧スタンプ台２６に搬送し、全圧１０トンの圧力を３０秒間印可した。
【００４３】
次に、油圧を解放した後、剥離台３２に搬送し、水導入路２０に１分間冷却水を流した。導入路１６を通して３気圧の圧縮空気を導入し、原盤と基板を剥離した。
【００４４】
AFM（Atomic force microscope）で測定したところ、原盤の凹凸パターンに対応した凹凸が基板上に中心からの位置精度１ミクロンで均一に形成されていることがわかった。
【００４５】
（第２の実施形態）
まず、磁気転写について、図３を参照しながら簡単に説明する。一方向に磁化され平坦化された磁気転写原盤４１内にパターニングされた強磁性材料によって発生する記録磁界により、パターン形状に対応した磁化パターンがガラス基板４２上の磁性層４３に記録される。すなわち、原盤４１には、トラッキング用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロック信号等に対応するパターニングされた垂直磁化の強磁性材料が形成され、前もって一方向の残留磁化４４を与えておく。また基板４２上の垂直磁性層４３にも一方向の初期残留磁化４６を与えておく。励磁磁界４５を磁化残留４４とは同方向に、また残留磁化４６とは反対方向に印可し、４４に接した部分の磁化４６が反転し４７になるように励起磁界４５の強さを調整する。これにより原盤の磁気情報が基板に転写されプリフォーマット記録される。図３ではトラックの垂直方向の磁化を示したが、トラックの長手方向の磁気転写も同様である。
【００４６】
以下に、本発明の本実施形態における転写装置について、図４と図５を参照しながら説明する。図４は本実施形態における磁気原盤５０の構成を示す概略断面図である。図５は本実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図である。図６は本実施形態における転写装置の構成を示す概略図である
図４に示すように中心穴５１ａが開いたガラスからなる基板５１の表面には、情報パターンに対応する強磁性体５２のパターンが酸化シリコン膜５３中に形成されている。また表面には硬質膜５４が形成されている。この図において、６１ａは後述する原盤ホルダー６１の一部に設けられるもので、原盤５０をその中心穴５１ａで保持するための中心軸である。
【００４７】
原盤５０は、例えば、特開平11-273070で開示された工程を経て形成される。強磁性体の材料としては、Ni−Fe、Fe−Al−Si等の結晶材料、Co−Zr−Nb等のCo基のアモルファス材料、Fe−Ta−N等のFe系微結晶材料、Fe、Co、Fe−Co Co-Cr、Co-Ni、Baフェライト等が好ましい。磁性薄膜の形成方法としては、真空蒸着法、イオンビームスパッタ法あるいは対向ターゲットスパッタ法がある。
【００４８】
図５に本実施形態で示す転写装置のカートリッジ式の原盤および基板ホルダー部６０の構成を示した。６１は原盤５０を真空に引いて保持するための導入路６４がついた原盤ホルダー、６２は中心に穴６３ａが形成され、表面に磁性層が形成されたガラス基板６３を真空に引いて保持するための導入路６５がついた基板ホルダー、６６はシール部、６７は原盤ホルダー６１と基板ホルダー６２の開閉できる連結部、６８は原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、６９は搬送装置、７０は圧力を印加するための油圧スタンプ系である。７１は油圧コントロール系、７２は圧力計、７３はスタンプ台である。また７４は電磁石である。
【００４９】
原盤５０を原盤ホルダー６１に設置し、基板６３を基板ホルダー６２に設置した。基板６３上の磁性媒体層は一層でもよいし、サーボ信号用の下層磁性層を有する二層媒体であってもよい。サーボ信号用の二層媒体の場合には下層媒体は上層媒体と比較して保磁力が低い媒体であれば何でもよい。原盤ホルダー６１と基板ホルダー６２を向き合わせた。原盤５０と基板６３の水平方向の相対位置は原盤ホルダー６１の凸部７５および基板ホルダー６２に掘られた凹部７６をかみ合わせることで制御した。次に、導入部６８を介して原盤と基板間を減圧にして、相対位置を固定した。次に、搬送装置６９を用いて油圧スタンプ台７３に搬送し、全圧１０トンの圧力を３０秒間印可した。
【００５０】
次に、油圧を解放した後、電磁石７４に搬送し、基板と原盤に対して垂直方向に１分間磁界を印可し磁気転写を行った。導入路６８を通じて３気圧の圧縮空気を導入すると共に、原盤と基板の間にくさびを挿入して剥離した。ＭFM（Magnetic force microscope）で測定したところ、原盤の磁気パターンに対応した磁気パターンが中心からの位置精度２ミクロンで基板上の磁性体層に形成された。
【００５１】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することが可能である。
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第１の実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図。
【図２】 第１の実施形態における転写装置の構成を示す概略図。
【図３】 第２の実施形態における磁気転写の原理を示す概略図。
【図４】 第２の実施形態における原盤の概略断面図。
【図５】 第２の実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図。
【図６】 第２の実施形態における転写装置の構成を示す概略図。
【符号の説明】
１…原盤ホルダー・基板ホルダー部
１０…原盤ホルダー
１１…ニッケル製原盤
１２…基板ホルダー
１３…ガラス基板
１４…ＸＹアクチュエータ
１５…ＣＣＤ
１６…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、
１７…シール部
１８…基板を加熱するための電熱線
１９…原盤を加熱するための電熱線
２０…基板を冷却するための水導入路
２１…原盤を冷却するための水導入路
２２…原盤または基板を固定するための減圧導入路
２３…基板ホルダーを抑えるためのバネ
２４…モニター
２５…搬送装置
２６…圧力を印加するための油圧スタンプ台
２７…弾性体
２８…ポリメチルメタクリレート膜
２９…マーク
３０…位置決め台
３１…マーク
３２…剥離台
４１…磁気転写原盤
４２…ガラス基板
４３…磁性層
４４…残留磁化
４５…励起磁界、
４６…初期残留磁化
４７…転写された磁化
５０…磁気転写原盤
５１…ガラス基板
５２…強磁性体
５３…酸化シリコン膜
５４…硬質膜
６０…原盤および基板ホルダー部
６１…原盤ホルダー
６２…基板ホルダー
６３…基板
６４…原盤５０を真空に引いて保持するための導入路
６５…ガラス基板６３を真空に引いて保持するための導入路
６６…シール部
６７…連結部
６８…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路
６９…搬送装置
７０…油圧スタンプ駆動系
７１…油圧コントロール系
７２…圧力計
７３…スタンプ台
７４…電磁石
７５…凸部
７６…凹部
【発明の属する技術分野】
本発明は転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法に係わり、特にナノメートルレベルの精度で微細構造や磁気情報の転写が可能な転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光の回折限界を越えて、微細なリソグラフィーを実現するいわゆる超解像を利用する方法として近接場光を利用する方法が知られている。これには、微小な開口を有するプローブを用いる方法（特開平７−１０６２２９）や、よりスループットを上げるためにマスクをレジストに極めて近距離に置く方法（特開平８−１７９４９３）や密着させる方法がある。これに対して、光や電子線によるリソグラフィーではなくナノインプリンティングと呼ばれる方法が新しいナノ加工技術として提案されている。これはナノレベルで凹凸のある原盤を基板上のレジストなどに押しつけて加工する方法である。
【０００３】
一方、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）は、ドライブの内部に記録媒体であるディスクが固定されて、このディスクに対してデータの記録再生を実行するための磁気記録装置である。ＨＤＤは、ディスク上に予め記録されたサーボ情報により、磁気ヘッドをディスク上の目標位置（目標トラック）に位置決めする制御を行う。一般にサーボ情報は、ディスク上の円周方向に所定の間隔を持って配置されるサーボ領域（サーボセクタ）に記録される。また、サーボ領域は、ディスク上の全トラックに対して半径方向に設けられている。
【０００４】
このようなＨＤＤを製造する製造工程において、通常ではドライブ本体の筐体の内部にディスクとヘッドとが組み込まれた後に、サーボライタと称するサーボ書き込み装置によりディスク上にサーボ情報が記録される。ここでディスクはスピンドル機構に固定的に取り付けられる。またヘッドはボイスコイルモータにより駆動するヘッドアクチュエータに実装される。
【０００５】
従来のサーボライタを使用してサーボ情報を書き込む方法は、ヘッドを移動制御して、ディスク上に設定される全トラックの各サーボ領域にサーボ情報を順次記録するため、製造工程の中でも長時間を要する工程の一つである．従って、サーボ情報の書き込み工程に要する時間を短縮化することは、HDDの製造工程の効率を向上させるために有効である。
【０００６】
これを解決するための方法として、サーボ情報を予め記録した原盤を用意し、この原盤を使用して、ドライブに組込むための基板にサーボ情報をコピーする磁気転写方式を利用した方法が提案されている（例えば特開平7−78337号公報を参照）。この磁気転写方式では、原盤と基板とを密着させて、外部からバイアス磁界を加えることにより、原盤の磁化情報を基板に転写する方法である。
【０００７】
上記の原盤を用いてナノインプリンティングにより基板を加工する方法の欠点は、原盤と基板のアライメントが困難であり、また一般にプレス機を高温にして加工するため、原盤や基板を加熱したり、冷却するのに時間がかかるという欠点があった。また、原盤と基板の剥離が困難である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前述したように、ナノインプリンティングでは、原盤と基板のアライメントが困難であり、また一般にプレス機を高温にして加工するため、原盤や基板を加熱したり冷却するのに時間がかかるという欠点があった。また、原盤と基板の剥離が困難である。
【０００９】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
（構成）
前述した課題を解決するために、本発明の第１は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段と、前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とは一体となって前記圧力印加手段に対して脱着可能に構成されていることを特徴とする転写装置を提供する。
【００１１】
本発明の第１において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００１２】
（１）一体になった前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを前記圧力印加手段とその外部との間で搬送する搬送手段を備えること。
【００１３】
（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること。
【００１４】
（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置を面内方向で制御する面内位置制御手段を備えること。
【００１５】
また、本発明の第２は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体として搬送可能に構成されていることを特徴とする転写用カートリッジを提供する。
【００１６】
本発明の第２において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００１７】
（１）前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていること。
【００１８】
（２）前記原盤保持手段と前記基板保持手段間に介在しかつ前記原盤及び前記基板の周囲に配置され、前記原盤と前記基板とを引き離す方向に弾性力を生ずる弾性体を備えること。
【００１９】
また、本発明の第３は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特徴とする転写方法を提供する。
【００２０】
本発明の第３において、以下の構成を備えることが好ましい。
【００２１】
（１）前記第２の搬送行程の後に、前記固定行程により固定された前記原盤と前記基板間を引き離す行程と、前記基板保持手段から前記基板を取り出す行程とを備えること。
【００２２】
（２）前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御行程を備えること。
【００２３】
（３）前記原盤及び前記基板間の相対位置を面内方向で制御する面内位置制御行程を備えること。
【００２４】
（作用）
本発明によれば、原盤保持手段と基板保持手段と固定手段とは一体となって圧力印加手段に対して脱着可能に構成されているので、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である。
【００２５】
プレスする手段としては一般に油圧を用いる方法が高い圧力をかけられることから好ましいが、原盤と基板のアライメントはその位置の測定を光学的、電気的な手段を用いた場合には、プレス装置と一体化することは困難である。したがって、原盤を保持する手段と、基板を保持する手段と、原盤と基板の平行方向（面内方向）の相対位置を固定する手段と、さらには原盤と基板の平行方向の相対位置を検出して制御する手段とが、プレスする手段とは分離されていれば、原盤と基板の平行方向の相対位置を精度よく決める手段を容易に用いることができる。
【００２６】
また、プレス機のプレス台の熱容量は大きく、一方、一般にプレス時間は１分程度で十分である。したがって、本発明では熱容量の小さい原盤・基板ホルダーを用いることにより短時間で加熱、冷却ができる。また片側だけの急速な加熱や冷却が可能であり、熱膨張率の差を利用して原盤と基板の剥離を容易に行わせることができる。
【００２７】
原盤や基板を保持する手段としては真空チャック方式によるものが好ましい。また、原盤や基板を保持するために、弾性体を介して保持することが好ましい。弾性体を介することにより均一に圧力がディスクに印可され、均一な磁気転写にとってより好ましい。弾性体としてはゴム類が好ましく、印可する圧力によって異なるが、位置合わせなどから透明なシリコンゴム膜が好ましい。ゴム膜にディスクを保持するための吸盤としての作用を持たせることも可能である。また、ゴム膜に適当に微小な穴を開け、真空でディスクを吸着させてもよい。
【００２８】
原盤と基板の相対位置を検出する手段としては、光学顕微鏡、静電容量センサー、光学干渉位置センサーなどが特に好ましい。また基板と原盤の相対位置を自動的に制御するために、原盤もしくは基板の一方に凹部が、片方にそれにちょうどはまる凸部が表面に形成されて立体的に位置制御したり、両方の表面に親水性のパターンが形成され、水などの液体を介して親和エネルギー的に位置制御したりする手段を有することも好ましく、これらを組み合わせてもよい。また上記の凹部や凸部は原盤や基板に形成されてなくても原盤や基板を保持する手段に作製されていてもよい。後者の場合には原盤や基板を該保持手段に正確に位置決めして設置することが必要である。このためには保持ホルダーに凸部や凹部もしくは穴をつけ、それにはまるような穴や凹部や凸部を原盤や基板につけることが好ましい。
【００２９】
原盤と基板の平行方向の相対位置を固定する手段としては、原盤と基板の間を減圧して大気圧を用いて略密着させる方法が最も好ましい。原盤を保持する手段と、基板を保持する手段を外枠で固定したり、クランプで止めることも好ましい。
【００３０】
原盤と基板に圧力を印加する手段としては、油圧ポンプによるものが最も好ましい。油圧ポンプによる方法では原盤と基板の平面のゆがみやたわみを正して、精度良く転写することが可能である。
【００３１】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段と、基板を保持する手段が一体化可能であり、該一体化された手段をプレス手段に搬送する手段を有していることを特徴としてもよい。一体化可能のカートリッジ式とすることにより、別の場所で原盤と基板の相対位置を高精度にアライメントした後、プレス手段に搬送した際にわずかなズレも防止することができる。
【００３２】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段とプレスする手段の間、もしくは基板を保持する手段とプレスする手段の間に弾性体を有することを特徴としてもよい。弾性体を有することにより、均一に加重をかけることが可能となり、均一な転写ができると共に、装置の寿命を長くすることができる。
【００３３】
本発明の転写装置は、原盤を保持する手段、および基板を保持する手段に加熱する手段および冷却する手段を有することを特徴としてもよい。これにより、加熱、冷却を短時間に行えると共に、原盤と基板に温度差を設けて、剥離を容易にすることが可能である。
【００３４】
本発明の転写装置は、原盤の微細情報パターンが凹凸構造もしくは、磁気情報であることを特徴としてもよい。原盤の微細情報パターンが凹凸構造である場合には、原盤の凹凸構造よりも転写される基板に柔らかい材質を選べば、凹凸構造が基板に転写される。この場合には応力集中は比較的緩和されるが、原盤と基板が凹凸構造を介して密着するため剥離が困難となる。したがって、原盤と基板の間にフッ素系樹脂やシリコーン樹脂系の剥離材を介する方が好ましい。
【００３５】
磁気情報の転写の場合には、その目的とするところはサーボ信号の基板（ＨDDディスク）への転写である。ＨＤＤに使用されるディスクは、近年の高紀録密度化に伴って、表面粗さが例えは20nm以下（グライドの高さ）の鏡面加工が要求されている。一般に、高記録密度化の実現には、ヘッドとディスク表面間の間隔（スペーシング）の低減化が必要である。このため、ディスクの表面は高度の鏡面性が要求されている。したがって、転写時や剥離時に基板に傷がつくことは極力さける必要がある。そのため磁気転写においては原盤は、特開平11-273070に示されるように平坦化された方が好ましい。
【００３６】
さらに磁気転写の場合には磁場を印加する手段があることが好ましく、直流磁場および交流磁場の両者を印加できる方が好ましい。印加磁場の方向は転写する磁気信号がトラックの長手方向か垂直方向かによって異なる。
【００３７】
本発明の転写方法は、情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特徴とする。
【００３８】
このような工程を有することにより、上述したように基板と原盤の相対位置を精密に制御でき、その位置を保ったままプレスすることが可能であり、また加熱や冷却を短時間で行うことができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００４０】
（第１の実施形態）
図１に本実施形態における原盤ホルダー及び基板ホルダー部１の構成を示す。図２に本実施形態で示す転写装置の構成を示した。１０は２．５インチ径のニッケル製原盤１１を真空に引いて保持するための原盤ホルダー、１２は２．５インチ径のガラス製基板１３を真空に引いて保持するための基板ホルダー、１４は基板ホルダーをＸ、Ｙ方向に精密に駆動するためのアクチュエーター、１５は位置決めのためのCCD、１６は原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、１７はシール部、１８は基板を加熱するための電熱線、１９は原盤を加熱するための電熱線、２０は基板を冷却するための水導入路、２１は原盤を冷却するための水導入路、２２は原盤または基板を固定するための減圧導入路、２３は基板ホルダーを抑えるためのバネ、２４はモニター、２５は搬送装置、２６は圧力を印加するための油圧スタンプ台、２７は弾性体である。
【００４１】
ここで、原盤１１と、膜厚50nmのポリメチルメタクリレート膜２８を塗布したガラス基板１３を、原盤ホルダー１０と基板ホルダー１２にそれぞれ設置した。原盤１１には示すように、最小パターンが２０ｎｍで高さが４０ｎｍ凹凸パターンが設置されている。また中心に位置決めするためのマーク２９が設けられている（図示せず）。
【００４２】
位置決め台３０上で、電熱線１８、１９を用いてホルダー１１と１２をそれぞれ１１０℃に設定した。原盤１１と基板１３の水平方向の相対位置はＣＣＤ１５を用いてモニター２４で観察しながら、原盤のマーク２９と基板の中心のマーク３１が合うようにアクチュエータ１４のＸＹ制御機構を用いて合わせた。次に、基板１３と原盤１１間の距離をアクチュエータのＺ制御機構で近づけ接触させた後、導入路２２を用いて基板１３と原盤１１間を減圧にして相対位置を固定した。次に、搬送装置２５を用いて油圧スタンプ台２６に搬送し、全圧１０トンの圧力を３０秒間印可した。
【００４３】
次に、油圧を解放した後、剥離台３２に搬送し、水導入路２０に１分間冷却水を流した。導入路１６を通して３気圧の圧縮空気を導入し、原盤と基板を剥離した。
【００４４】
AFM（Atomic force microscope）で測定したところ、原盤の凹凸パターンに対応した凹凸が基板上に中心からの位置精度１ミクロンで均一に形成されていることがわかった。
【００４５】
（第２の実施形態）
まず、磁気転写について、図３を参照しながら簡単に説明する。一方向に磁化され平坦化された磁気転写原盤４１内にパターニングされた強磁性材料によって発生する記録磁界により、パターン形状に対応した磁化パターンがガラス基板４２上の磁性層４３に記録される。すなわち、原盤４１には、トラッキング用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロック信号等に対応するパターニングされた垂直磁化の強磁性材料が形成され、前もって一方向の残留磁化４４を与えておく。また基板４２上の垂直磁性層４３にも一方向の初期残留磁化４６を与えておく。励磁磁界４５を磁化残留４４とは同方向に、また残留磁化４６とは反対方向に印可し、４４に接した部分の磁化４６が反転し４７になるように励起磁界４５の強さを調整する。これにより原盤の磁気情報が基板に転写されプリフォーマット記録される。図３ではトラックの垂直方向の磁化を示したが、トラックの長手方向の磁気転写も同様である。
【００４６】
以下に、本発明の本実施形態における転写装置について、図４と図５を参照しながら説明する。図４は本実施形態における磁気原盤５０の構成を示す概略断面図である。図５は本実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図である。図６は本実施形態における転写装置の構成を示す概略図である
図４に示すように中心穴５１ａが開いたガラスからなる基板５１の表面には、情報パターンに対応する強磁性体５２のパターンが酸化シリコン膜５３中に形成されている。また表面には硬質膜５４が形成されている。この図において、６１ａは後述する原盤ホルダー６１の一部に設けられるもので、原盤５０をその中心穴５１ａで保持するための中心軸である。
【００４７】
原盤５０は、例えば、特開平11-273070で開示された工程を経て形成される。強磁性体の材料としては、Ni−Fe、Fe−Al−Si等の結晶材料、Co−Zr−Nb等のCo基のアモルファス材料、Fe−Ta−N等のFe系微結晶材料、Fe、Co、Fe−Co Co-Cr、Co-Ni、Baフェライト等が好ましい。磁性薄膜の形成方法としては、真空蒸着法、イオンビームスパッタ法あるいは対向ターゲットスパッタ法がある。
【００４８】
図５に本実施形態で示す転写装置のカートリッジ式の原盤および基板ホルダー部６０の構成を示した。６１は原盤５０を真空に引いて保持するための導入路６４がついた原盤ホルダー、６２は中心に穴６３ａが形成され、表面に磁性層が形成されたガラス基板６３を真空に引いて保持するための導入路６５がついた基板ホルダー、６６はシール部、６７は原盤ホルダー６１と基板ホルダー６２の開閉できる連結部、６８は原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、６９は搬送装置、７０は圧力を印加するための油圧スタンプ系である。７１は油圧コントロール系、７２は圧力計、７３はスタンプ台である。また７４は電磁石である。
【００４９】
原盤５０を原盤ホルダー６１に設置し、基板６３を基板ホルダー６２に設置した。基板６３上の磁性媒体層は一層でもよいし、サーボ信号用の下層磁性層を有する二層媒体であってもよい。サーボ信号用の二層媒体の場合には下層媒体は上層媒体と比較して保磁力が低い媒体であれば何でもよい。原盤ホルダー６１と基板ホルダー６２を向き合わせた。原盤５０と基板６３の水平方向の相対位置は原盤ホルダー６１の凸部７５および基板ホルダー６２に掘られた凹部７６をかみ合わせることで制御した。次に、導入部６８を介して原盤と基板間を減圧にして、相対位置を固定した。次に、搬送装置６９を用いて油圧スタンプ台７３に搬送し、全圧１０トンの圧力を３０秒間印可した。
【００５０】
次に、油圧を解放した後、電磁石７４に搬送し、基板と原盤に対して垂直方向に１分間磁界を印可し磁気転写を行った。導入路６８を通じて３気圧の圧縮空気を導入すると共に、原盤と基板の間にくさびを挿入して剥離した。ＭFM（Magnetic force microscope）で測定したところ、原盤の磁気パターンに対応した磁気パターンが中心からの位置精度２ミクロンで基板上の磁性体層に形成された。
【００５１】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することが可能である。
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、原盤と基板のアライメントが容易であり、原盤や基板を短時間で加熱・冷却ができ、また基板と原盤の剥離が容易である転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第１の実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図。
【図２】 第１の実施形態における転写装置の構成を示す概略図。
【図３】 第２の実施形態における磁気転写の原理を示す概略図。
【図４】 第２の実施形態における原盤の概略断面図。
【図５】 第２の実施形態における転写装置の原盤および基板ホルダー部の構成を示す概略図。
【図６】 第２の実施形態における転写装置の構成を示す概略図。
【符号の説明】
１…原盤ホルダー・基板ホルダー部
１０…原盤ホルダー
１１…ニッケル製原盤
１２…基板ホルダー
１３…ガラス基板
１４…ＸＹアクチュエータ
１５…ＣＣＤ
１６…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路、
１７…シール部
１８…基板を加熱するための電熱線
１９…原盤を加熱するための電熱線
２０…基板を冷却するための水導入路
２１…原盤を冷却するための水導入路
２２…原盤または基板を固定するための減圧導入路
２３…基板ホルダーを抑えるためのバネ
２４…モニター
２５…搬送装置
２６…圧力を印加するための油圧スタンプ台
２７…弾性体
２８…ポリメチルメタクリレート膜
２９…マーク
３０…位置決め台
３１…マーク
３２…剥離台
４１…磁気転写原盤
４２…ガラス基板
４３…磁性層
４４…残留磁化
４５…励起磁界、
４６…初期残留磁化
４７…転写された磁化
５０…磁気転写原盤
５１…ガラス基板
５２…強磁性体
５３…酸化シリコン膜
５４…硬質膜
６０…原盤および基板ホルダー部
６１…原盤ホルダー
６２…基板ホルダー
６３…基板
６４…原盤５０を真空に引いて保持するための導入路
６５…ガラス基板６３を真空に引いて保持するための導入路
６６…シール部
６７…連結部
６８…原盤と基板の間を減圧にしたり、高圧気体を入れたりするための導入路
６９…搬送装置
７０…油圧スタンプ駆動系
７１…油圧コントロール系
７２…圧力計
７３…スタンプ台
７４…電磁石
７５…凸部
７６…凹部
Claims (8)
- 情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段と、前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とは一体となって前記圧力印加手段に対して脱着可能に構成されていることを特徴とする転写装置。
- 一体になった前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを前記圧力印加手段とその外部との間で搬送する搬送手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の転写装置。
- 前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の転写装置。
- 前記原盤及び前記基板間の相対位置を面内方向で制御する面内位置制御手段を備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の転写装置。
- 情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持手段と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持手段と、前記原盤と前記基板間を固定する固定手段とを備え、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体として搬送可能に構成されていることを特徴とする転写用カートリッジ。
- 前記原盤保持手段と前記基板保持手段の少なくとも一方に、前記原盤と前記基板の少なくとも一方の温度制御を行う温度制御手段が設けられていることを特徴とする請求項５記載の転写用カートリッジ。
- 前記原盤保持手段と前記基板保持手段間に介在しかつ前記原盤及び前記基板の周囲に配置され、前記原盤と前記基板とを引き離す方向に弾性力を生ずる弾性体を備えたことを特徴とする請求項５又は６記載の転写用カートリッジ。
- 情報に相当するパターンを有する原盤を保持する原盤保持行程と、前記原盤の前記パターンが転写される基板を保持する基板保持行程と、前記原盤と前記基板間を固定する固定行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして圧力印加部へ搬送する第１の搬送行程と、前記圧力印加部において前記原盤と前記基板間に圧力を印加する圧力印加行程と、前記原盤保持手段と前記基板保持手段と前記固定手段とを一体にして前記圧力印加部から外部へ搬送する第２の搬送行程とを具備することを特徴とする転写方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000293621A JP3638514B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000293621A JP3638514B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002100038A JP2002100038A (ja) | 2002-04-05 |
| JP3638514B2 true JP3638514B2 (ja) | 2005-04-13 |
Family
ID=18776381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000293621A Expired - Fee Related JP3638514B2 (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3638514B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4266328B2 (ja) * | 2002-06-17 | 2009-05-20 | 株式会社ナガセインテグレックス | 転写装置 |
| JP2005045168A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Tokyo Electron Ltd | インプリント方法およびインプリント装置 |
| JP4190371B2 (ja) | 2003-08-26 | 2008-12-03 | Ｔｄｋ株式会社 | 凹凸パターン形成用スタンパー、凹凸パターン形成方法および磁気記録媒体 |
| JP2005153091A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | 転写方法及び転写装置 |
| WO2005093737A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Pioneer Corporation | パターン転写装置及びパターン転写方法 |
| EP1731290A1 (en) * | 2004-03-30 | 2006-12-13 | Pioneer Corporation | Pattern transfer device and pattern transfer method |
| JP4718946B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2011-07-06 | 株式会社東芝 | 板状構造体の製造装置 |
| CN100395121C (zh) * | 2004-11-19 | 2008-06-18 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 热压印方法 |
| JP2007180315A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置 |
| US7500431B2 (en) | 2006-01-12 | 2009-03-10 | Tsai-Wei Wu | System, method, and apparatus for membrane, pad, and stamper architecture for uniform base layer and nanoimprinting pressure |
| JP2007234153A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Toppan Printing Co Ltd | 光インプリントモールドおよび光インプリント方法 |
| JP4830170B2 (ja) * | 2006-05-15 | 2011-12-07 | 学校法人早稲田大学 | 転写装置 |
| JP4799630B2 (ja) * | 2009-02-25 | 2011-10-26 | 株式会社日本製鋼所 | 剥離治具、微細構造転写成形装置及び被成形体の剥離方法 |
| JP5247777B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2013-07-24 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびデバイス製造方法 |
-
2000
- 2000-09-27 JP JP2000293621A patent/JP3638514B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002100038A (ja) | 2002-04-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3638513B2 (ja) | 転写装置及び転写方法 | |
| US6469848B1 (en) | Method and apparatus for manufacturing a magnetic recording medium with pre-format recording signals transferred and recorded by using a master information carrier | |
| US6748865B2 (en) | Nano-imprinting method, magnetic printing method and recording medium | |
| JP3343326B2 (ja) | マスター情報担体 | |
| JP3638514B2 (ja) | 転写装置、転写用カートリッジ、及び転写方法 | |
| EP1482485A1 (en) | Magnetic transfer device having separation means for the media being involved | |
| EP1187109B1 (en) | Magnetic transfer apparatus | |
| EP1187106A2 (en) | Magnetic transfer method | |
| KR20020035776A (ko) | 자기전사방법 및 장치 및 자기기록매체 | |
| KR100665001B1 (ko) | 자기전사방법 | |
| US20100078858A1 (en) | Mold structure, and imprint method and magnetic transfer method using the same | |
| EP1258866A2 (en) | Magnetic transfer master medium | |
| JP3648449B2 (ja) | 磁気転写媒体及び磁気転写方法 | |
| US20040033389A1 (en) | Master information carrier for magnetic transfer | |
| US6909634B2 (en) | Magnetic transfer method and magnetic transfer device | |
| US20040233559A1 (en) | Master carrier for magnetic transfer and magnetic transfer method | |
| US20060139785A1 (en) | Magnetic transfer method and apparatus | |
| US7532420B2 (en) | Master disk for magnetic transfer, magnetic recording medium and magnetic recording apparatus | |
| JP4044065B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体、磁気転写方法 | |
| JP3999709B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体および磁気転写方法 | |
| JP3587464B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2004171673A (ja) | 磁気転写装置 | |
| JP3587461B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| KR20030053045A (ko) | 자기전사용 마스터 담체 | |
| JP3587463B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040928 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050107 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100121 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110121 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120121 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130121 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130121 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |