JP3610044B2 - 現像液製造装置及び現像液製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現像液製造装置及び現像液製造方法に関し、詳しくは、微細加工の施された電子回路が形成される加工設備に管路を介して接続されており、且つ、該加工設備においてフォトレジスト等を現像する際に用いられるアルカリ系現像液が製造される装置、及び、そのアルカリ系現像液の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子デバイス等の微細加工が施された電子回路を有する装置の製造におけるフォトリソグラフィ工程で使用されるレジスト材料には、露光によって可溶化するポジ型と、露光によって不溶化するネガ型とがある。一例として、半導体デバイス、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）基板等の製造においては、かかるフォトエッチングが繰り返されるため、主としてポジ型レジストが多用される。
【０００３】
ポジ型レジストの現像液材料としては、リン酸ソーダ、力性ソーダ、ケイ酸ソーダ、又は、これらと他の無機アルカリ等との混合物から成る無機アルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリメタルの汚染が心配される場合には、メタルを含まないアミン系の有機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）水溶液等が用いられている。後者のなかでは、２．３８％濃度のＴＭＡＨ水溶液が多く用いられている。また、これらの材料から調製された現像液は、スプレー方式、スピンコーター方式あるいはディップ方式等の現像装置で大量に使用されている。
【０００４】
フォトレジスト用の現像液は、現像工程に合わせて最高の解像力、パターニングの切れ（鋭敏さ）、安定性及び高い歩留まりを得るために、その組成及び濃度は厳密に管理されなければならない。特に、近年のパターニングの高密度化に伴って、パターニング幅の微細化が要求されている。例えば、半導体基板では０．１μｍレベル、フラットパネルディスプレイ基板では１μｍレベル、多層プリント基板では１０μｍレベルの線幅が要求されるようになってきた。また、低温多結晶シリコンＴＦＴ技術により、フラットパネルディスプレイ基板上に半導体回路を組み込むため１μｍ以下の線幅が要求されるようにもなってきた。
【０００５】
これに伴い、フォトレジストの実効感度のばらつきを小さくするため、現像液濃度の精度向上が強く望まれている。例えば、現像液濃度の管理範囲としては、所定濃度の±１／１０００以内が要求される。殊に、ＴＭＡＨ水溶液の場合、所定濃度の±１／２０００以内（例えば、２．３８０±０．００１重量％）が要求される。
【０００６】
さらに、各現像液は、パターニング欠陥を無くすため、現像液１ｍｌ中に０．１μｍ以上のパーティクル（微粒子）が１０個以下といったパーティクルの非常に少ないものが要求される。またさらに、近年、現像液の使用量は、基板の大型化、大量生産化により更に膨大になってきた。
【０００７】
このように、現像液濃度の精度向上、及びパーティクルレスが切望されると共に、大量製造及び低コスト化に対応することが強く望まれている。しかし、従来においては、半導体デバイス等の製造工場で現像液の組成及び濃度を調整した上で用いることは、設備及び運転コストの面のみならず、組成及び濃度を十分に管理する観点から、極めて困難であった。よって、半導体デバイス等の製造工場（以下、「使用側」という。）では、専ら現像液メーカ（以下、「供給側」という。）で組成及び濃度を調整した現像液を使用せざるを得なかった。
【０００８】
この場合、供給側において、所定の組成に調合した現像原液を純水で希釈し、所望の濃度に調整した現像液を容器に充填し、かかる調製済みの現像液を使用側に供給する方法が採られる。このとき、現像原液の希釈倍率は、液組成及び原液濃度、現像対象であるポジ型レジスト等の種類、使用目的等によって種々異なり、通常は８〜４０倍程度である。よって、供給側で調製した現像液の量は希釈倍率に応じて大幅に増大し、この現像液を使用側へ運搬するための容器の準備、容器への充填作業並びに運搬コストが膨大となってしまう。その結果、これらの費用が現像液コストのうち相当な割合を占めてしまうといった問題があった。
【０００９】
また、供給側で調製した現像液が使用側で使用されるまでには運搬及び保管に相応の期間を要し、この間に現像液が劣化するという問題点もあった。さらに、現像液が空気中の炭酸ガスを吸収し易いため、使用側に希釈装置を設置しても、希釈操作中や希釈された現像液の貯留中に炭酸ガスの吸収による濃度変化が生じてしまうといった問題もあった。このことも、現像液の希釈が半導体デバイス製造工場等の使用側で行われなかった理由の一つに挙げられる。
【００１０】
ところで、これら問題の解決を図るべく、日本国特許第２７５１８４９号公報には、フォトレジスト用アルカリ系現像原液と純水とを受け入れて所定時間強制攪拌する攪拌槽と、その攪拌槽内の混合液の一部を抜き出しその導電率を測定したのち攪拌槽内に戻す導電率測定手段と、導電率測定手段からの出力信号に基づいて攪拌槽に供給されるフォトレジスト用アルカリ系現像原液又は純水のいずれか一方の流量を制御する制御手段と、攪拌槽からの混合液を受け入れて貯留する貯留槽と、攪拌槽及び貯留槽を窒素ガスでシールする窒素ガスシール手段とを備える現像液の希釈装置が開示されている。
【００１１】
この装置は、使用側において現像原液と純水とを混合し、現像液を調製することを可能にするものであり、これにより、現像液の組成及び濃度の管理上の問題、現像液の運搬コスト増大といった従来の諸問題をほぼ解決するに至った。
【００１２】
【発明が解決しょうとする課題】
しかし、近年では、市場の要求に伴い、多品種小ロットでの基板等の製造が必要となってきた。そのため、使用側においては、それら多品種小ロットでの基板の製造に対応すべく、複数の基板製造装置を備え、それらを同時に稼動させざるを得ない状況となってきた。さらに、それらの各々の装置で使用される現像液の濃度が、例えば０．１％から２．５％と広範にわたって異なる場合もあり、種々の濃度の現像液を使用の都度準備する必要が生じている。
【００１３】
そこで、本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、使用側において、現像原液から所望濃度の現像液を精度よく且つ迅速に製造することができ、多品種小ロットでの基板の製造に十分に対応し得ると共に、製造された現像液の組成及び濃度を精度よく管理することが可能な現像液製造装置及び現像液製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明による現像液製造装置は、微細加工が施された電子回路が形成される加工設備に管路を介して接続されており、その加工設備で用いられるアルカリ系現像液が製造される装置であって、現像原液と純水とが供給され且つ攪拌されてアルカリ系現像液が調製される調製槽と、調製槽内のアルカリ系現像液の液量を測定する第一液量測定手段と、調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第一アルカリ濃度測定手段と、第一液量測定手段による測定値及び第一アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、調製槽内のアルカリ系現像液の液量の減少量を算出し、減少量の算出値に基づいて調製槽内の前記アルカリ系現像液の液量を減少させる第一液量制御手段と、第一液量測定手段による測定値及び第一アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、第一液量制御手段によって液量が減少した調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、現像原液及び純水のうちの少なくともいずれか一方の供給量を算出し、供給量の算出値に基づいて調製槽へ現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方を供給する液供給制御手段と、を備えるものである。
【００１５】
このように構成された現像液製造装置においては、調製槽内で現像原液が純水で希釈され現像液が調製される。このとき、調製槽内の液量及び現像液成分であるアルカリの濃度が実測され、これらに基づいて、第一液量制御手段及び液供給制御手段によって現像液が所望の濃度となるように液性が調整される。よって、簡易且つ迅速な濃度調製が行われると共に、濃度管理を精度よく実施できる。
【００１６】
そして、このように所望濃度に調製された現像液が、管路を介して加工設備に供給され得るので、別途の保管・輸送コストが不要となる。さらに、加工設備に接続した管路を含めて、現像液調製装置を実質的な大気封止系とすれば、現像液が大気中の炭酸ガス等を吸収することに起因する現像液の劣化が抑止され得る。
【００１７】
また、調製槽と前記加工設備との間に配置されており、アルカリ系現像液のアルカリ濃度を平準化する平準化槽を備えると好ましい。こうすれば、不可避的に生じ得る僅かな誤差を有する現像液中のアルカリ濃度を平準化することが可能となり、現像液濃度の精度が一層高められる。
【００１８】
具体的には、平準化槽が、その平準化槽内のアルカリ系現像液の量を測定する第二液量測定手段を備えるものである。
【００１９】
さらに、平準化槽が、その平準化槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第二アルカリ濃度測定手段を備えるものであると好ましい。
【００２０】
またさらに、平準化槽が、第二液量測定手段による測定値及び第二アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、その平準化槽内のアルカリ系現像液の量を調整する第二液量制御手段を備えるものであると好適である。
【００２１】
さらにまた、平準化槽内のアルカリ系現像液を調製槽に還流送給する還流送給用管路を備えることが望ましい。
【００２２】
より具体的には、平準化槽が、その平準化槽内のアルカリ系現像液を攪拌する攪拌機構を備えるものである。
【００２３】
更に具体的には、平準化槽が、その平準化槽内のアルカリ系現像液を濾過する濾過機構を備えるものである。
【００２４】
一層具体的には、アルカリ系現像液を調製槽から前記平準化槽へ送給し、調製槽におけるアルカリ系現像液の液面レベル、及び平準化槽におけるアルカリ系現像液の液面レベルを調整する液送給・液面レベル制御手段を備えると有用である。これらの液面レベルは、任意のレベルに調整されるが、両者が略同じレベルとなるように調整されると好ましい。
【００２５】
この場合、液送給・液面レベル制御手段は、アルカリ系現像液が調製槽から平準化槽へ自然送液され、且つ、調製槽及び平準化槽に接続された連通管を有するものであるとより好ましい。
【００２６】
また、平準化槽と加工設備との間に設置されており、アルカリ系現像液が貯留される貯留槽を備えても好ましい。
【００２７】
さらに、調製槽及び平準化槽を湿り窒素ガスでシールする湿り窒素ガスシール手段を備えるとより好ましい。
【００２８】
またさらに、調製槽を複数有するものであっても有用である。
【００２９】
或いは、調製槽と平準化槽とが一体に構成されていても構わない。
【００３０】
さらにまた、加工設備に供給される前の状態におけるアルカリ系現像液に含まれる微粒子数を測定する微粒子数測定手段を備えると更に有用である。
【００３１】
より好ましくは、アルカリ系現像液に含まれる溶存ガスを除去する溶存ガス除去手段を備えるものである。
【００３２】
特に好ましくは、第一液量測定手段が、アルカリ系現像液の容積又は重量のうち少なくともいずれか一方を測定するものである。
【００３３】
或いは、第一アルカリ濃度測定手段が、導電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置のうち少なくともいずれか一種であることが望ましい。
【００３４】
同様に、第二アルカリ濃度測定手段が、導電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置のうち少なくともいずれか一種であることが望ましい。
【００３５】
より具体的には、現像原液は、所定範囲のアルカリ濃度から選択された任意のアルカリ濃度を有するものである。
【００３６】
また、本発明による現像液製造方法は、微細加工の施された電子回路を形成する加工工程に管路を介して供給されるアルカリ系現像液を製造する方法であって、調製槽内のアルカリ系現像液の液量及びアルカリ濃度を測定する第一測定工程と、第一測定工程で得られた液量測定値及びアルカリ濃度測定値に基づいて、調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、調製槽内のアルカリ系現像液の液量の減少量を算出し、減少量の算出値に基づいて該アルカリ系現像液の液量を減少させる液量減少工程と、液量減少工程後に調製槽内のアルカリ系現像液の液量及びアルカリ濃度を測定する第二測定工程と、第二測定工程で得られた液量測定値及びアルカリ濃度測定値に基づいて、液量減少工程によって液量が減少した調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、現像原液及び純水のうちの少なくともいずれか一方の供給量を算出し、供給量の算出値に基づいて調製槽へ現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方を供給する供給工程と、を備えることを特徴とする。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は、図示の比率に限られるものではない。
【００３８】
図１は、本発明による現像液製造装置の第１実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液製造装置１００は、現像原液が貯留される現像原液タンク１０１及び純水供給系が接続された調製槽１０５を備えるものである。現像原液タンク１０１には、現像原液が貯留されており、図示しない液面計の指示値に基づいて、流量調節弁を有する管路１１０を通して現像原液タンク１０１内に現像原液が補給されるようになっている。
【００３９】
また、現像原液タンク１０１には、流量調節弁３０３及びポンプ１１２を有する管路１１１が接続されており、この管路１１１は、ラインミキサ１０４を有し且つ純水供給系に連結された純水供給配管１０２におけるラインミキサ１０４よりも上流側に接続されている。現像原液タンク１０１内の現像原液は、管路１１１からポンプ１１２の運転により、流量調節弁３０２及びポンプ１１３を有する純水供給配管１０２内で、ポンプ１１３の運転によって供給される純水と合流し、ラインミキサ１０４によって更に混合されたのち、調製槽１０５に送給される。
【００４０】
さらに、純水供給配管１０２からは、流量調節弁３０１及びポンプを有し且つ調製槽１０５に接続された純水供給配管１０３が分岐しており、純水を単独で調製槽１０５内へ供給できるようにされている。
【００４１】
ここで、本発明で用いられる現像原液としては、例えば、リン酸ソーダ、力性ソーダ、ケイ酸ソーダ、又は、これらと他の無機アルカリ等との混合物から成る無機アルカリ水溶液が挙げられる。また、アルカリメタルの汚染が心配される場合には、メタルを含まないアミン系の有権アルカリ水溶液、ＴＭＡＨ水溶液、コリン水溶液等が有用である。
【００４２】
また、本発明において用いられる純水は、アルカリ系現像液を必要とする電子回路基板の製造工場等において使用される純水であればよい。かかる製造工場等においては、多量の純水を必要とすることから純水製造装置は必置とされる傾向にある。従って、本発明において必要なアルカリ系現像液の製造用の純水は、供給側において比較的容易に入手し得る。また、アルカリ系現像液には、必要に応じて添加剤を適宜添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、界面活性剤等が挙げられる。さらに、添加剤を添加する場合には、添加剤タンクを設けてもよい。
【００４３】
一方、調製槽１０５は、攪拌手段１１６（攪拌機構）を備えると共に、液量制御手段１０８（第一液量制御手段）及び液供給制御手段１０９を有する制御系に接続された液量測定手段１０６（第一液量測定手段）及びアルカリ濃度測定手段１０７（第一アルカリ濃度測定手段）を有している。
【００４４】
攪拌手段１１６は、ラインミキサ１０４から送られてきた現像原液及び純水の混合液を強制的に攪拌するためのものである。ここで、混合液の攪拌方法としては、例えば、攪拌翼による攪拌、調製槽１０５内の混合液を循環させる循環攪拌が挙げられる。更には、循環攪拌の際に、循環液を再び調製槽１０５内に吐出するためのノズルの吐出方向を、混合液が調製槽１０５の内周方向に回転するように配置すれば、噴流回転攪拌を行うことができる。攪拌手段１１６は、このようないずれかの攪拌方法を実現できるものである。
【００４５】
また、液量測定手段１０６は、調製槽１０５内のアルカリ系現像液の液量を実測・管理するためのものである。液量の測定は、例えば、アルカリ系現像液の容積及び重量の少なくともいずれか一方によって行うことができる。なお、ここでの「液量の管理」とは、調製槽１０５内のアルカリ系現像液が使用されて減少する場合の減少量の管理と、アルカリ系現像液を強制的に所定量まで減少させる場合の強制減少量の管理を行うことを指す（後述する平準化槽２０２における「液量の管理」も同様である。）。
【００４６】
また、アルカリ濃度測定手段１０７は、調製槽１０５内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を実測・管理するためのものである。アルカリ濃度測定手段１０７としては、例えば、導電率計、超音波濃度計、液体密度計、又は自動滴定装置等が挙げられる。これらは、いずれが採用されてもよいが、なかでも、導電率計を用いることが好ましい。この場合、予め設定された基準温度におけるアルカリ系現像液の導電率とアルカリ系現像液の濃度との関係及び基準温度付近におけるアルカリ系現像液の導電率の温度係数を求めておけば、所望濃度の現像液を精度よく且つ簡便に製造することが可能となる。
【００４７】
なお、アルカリ濃度測定手段１０７は、図１に示す如く調製槽１０５の外部に設けられてもよく、調製槽１０５内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を直接測定することができるように、その電極部が調製槽１０５内に配置されるように設けられても好ましい。
【００４８】
一方、液量制御手段１０８は、液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７とからの測定信号に基づいて所定の演算を行うものであり、更にその演算結果に基づいて調製槽１０５内のアルカリ系現像液を一定量に制御するものである。
【００４９】
具体的には、例えば、電子回路基板の現像工程において使用されているアルカリ系現像液と異なる濃度のアルカリ系現像液を必要に応じて調製（製造）する際に、液量測定手段１０６からの出力信号とアルカリ濃度測定手段１０７からの出力信号とから、アルカリ系現像液を所望の濃度とするために必要な調製槽１０５内のアルカリ系現像液の減少量を算出する。それから、その算出値に基づいて調製槽１０５内のアルカリ系現像液を減少させる。
【００５０】
この際、調製槽１０５から排出されたアルカリ系現像液は、調製槽１０５と加工設備に接続された管路１１４を通して、その濃度のアルカリ系現像液を使用する電子回路基板の現像工程に送給してもよいし、流量調節弁３０５を有し且つ調製槽１０５に接続されたドレン用の管路１１５を通して装置外へ排出してもよい。なお、環境への影響を考慮すると、加工設備における現像工程へ送給することが好ましい。
【００５１】
他方、液供給制御手段１０９は、液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７からの実測信号に基づいて調製槽１０５に供給される現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方の供給量を制御するものである。具体的には、最初のアルカリ系現像液の調製時、アルカリ系現像液が使用されて減少した際のアルカリ系現像液の再調製時、又は、液量制御手段１０８によって強制的にアルカリ系現像液が減少させられた後の異なるアルカリ濃度のアルカリ系現像液の調製時において、調製槽１０５に供給すべき現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方の供給量を制御するものである。
【００５２】
このように構成された現像液製造装置１００を用いた本発明の現像液製造方法の一例について以下に説明する。まず、調製槽１０５が空の建浴時においては、液量測定手段１０６が‘空’であることを検出する。その後、液量測定手段１０６から出力される指示信号によりポンプ１１２及びポンプ１１３を稼動させ、調製槽１０５に現像原液及び純水から成る混合液を送給する。次いで、この混合液を攪拌手段１１６により攪拌し、その状態でのアルカリ濃度を略均一化させる。その間、液量測定手段１０６によって調製槽１０５内の混合液の液量を測定する。それと共に、混合液のアルカリ濃度をアルカリ濃度測定手段１０７によって測定する。
【００５３】
これらの測定値信号は、それぞれ液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から出力され、液供給制御手段１０９へ入力される。液供給制御手段１０９は、これらの測定信号に基づいて、所望濃度のアルカリ系現像液を調製するために調製槽１０５に供給すべき現像原液及び／又は純水の供給量を算出する演算を行う。
【００５４】
次いで、この算出結果を示す信号が、液供給制御手段１０９から流量調節弁３０１，３０２，３０３の少なくともいずれか一つに送信され、その指示に応じて所定の流量調節弁が所定の開度で一定時間開放される。これにより、現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方の所定量が調製槽１０５に供給され、所望濃度のアルカリ系現像液が調製される。
【００５５】
また、他の例として、既存のアルカリ系現像液と異なる濃度のアルカリ系現像液を調製する方法について以下に説明する。この場合、例えば、予め液供給制御手段１０９に所望のアルカリ濃度をインプットしておく。それから、まず、液量測定手段１０６による調製槽１０５内にある既存のアルカリ系現像液の液量測定と、アルカリ濃度測定手段１０７による既存のアルカリ系現像液の濃度測定とが行われる。
【００５６】
これらの測定値信号は、それぞれ液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から出力され、液量制御手段１０８へ入力される。液量制御手段１０８は、これらの測定信号に基づいて、所望濃度のアルカリ系現像液を調製するために減少させるべき既存のアルカリ系現像液の液量（つまり、調製槽１０５から排出すべき液量）を算出する演算を行う。
【００５７】
次いで、この算出結果を示す信号が、液量制御手段１０８から流量調節弁３０４及び／又は流量調節弁３０５に送信され、その指示に応じて所定の流量調節弁が所定の開度で一定時間開放される。これにより、所定量の既存のアルカリ系現像液が調製槽１０５から排出され、調製槽１０５内の液量が減少する。
【００５８】
それから、予め入力設定しておいた所望濃度のアルカリ系現像液を調製すべく、液供給制御手段１０９からの出力信号によって流量調節弁３０１，３０２，３０３のうち少なくともいずれか一つを所定の開度で一定時間開放し、現像原液及び／又は純水を調製槽１０５内へ供給する。こうして、既存のアルカリ系現像液とは異なる所望濃度のアルカリ系現像液を得る。
【００５９】
さらに、液量制御手段１０８及び液供給制御手段１０９を用いたより具体的な制御機構について、上記後者の場合、すなわち既存のアルカリ系現像液と異なる濃度のアルカリ系現像液を調製する場合を例にとり、以下に説明する。ここでは、既存のアルカリ系現像液のアルカリ濃度が３％であり、これをアルカリ濃度が２％のアルカリ系現像液に調製する場合について例示する。
【００６０】
まず、液量測定手段１０６により、調製槽１０５内にある濃度３％のアルカリ系現像液の液量が測定される。それと共に、アルカリ濃度測定手段１０７により、アルカリ系現像液のアルカリ濃度（つまり‘３％’）が測定される。
【００６１】
この測定値信号は、それぞれ液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７から液量制御手段１０８へ送出される。液量制御手段１０８は、これらの測定値に基づいて濃度２％のアルカリ系現像液を調製するために必要な濃度３％のアルカリ系現像液の減少量を算出する。次いで、演算結果すなわち算出された減少量に応じた指示信号が液量制御手段１０８から出力される。これにより、調製槽１０５内の濃度３％のアルカリ系現像液の所定量（この場合、既存量の１／３）が調製槽１０５から排出される。
【００６２】
次に、調製槽１０５内に残存する濃度３％のアルカリ系現像液の液量（減少後の液量）が液量測定手段１０６により測定される。それと共に、アルカリ濃度測定手段１０７により、アルカリ系現像液のアルカリ濃度（つまり‘３％’）が再測定される。
【００６３】
これらの各測定信号は、液供給制御手段１０９に入力され、濃度２％のアルカリ系現像液を調製するために必要な現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方の調製槽１０５への供給量が算出される。この算出量に基づいて、液供給制御手段１０９からの指示信号により現像原液及び／又は純水が調製槽１０５に供給され、所望濃度つまり濃度２％のアルカリ系現像液が得られる。なお、本例では、少なくとも先述した濃度３％のアルカリ系現像液の減少量と同量の純水が調製槽１０５に供給される。また、この際、液量測定手段１０６及びアルカリ濃度測定手段１０７がアルカリ系現像液の液量及びアルカリ濃度を実質的に連続測定することが好ましい。
【００６４】
このように調製されたアルカリ系現像液は、ポンプ２１２及び流量調節弁３０４を有し且つ調製槽１０５と加工設備とを接続する管路１１４を通して調製槽１０５から加工設備における加工工程へ送給される。
【００６５】
アルカリ系現像液の濃度の管理範囲としては、例えば、所定濃度の±１／１０００以内が要求される。特に、先述のＴＭＡＨ水溶液の場合には、所定濃度の±１／２０００以内（２．３８０±０．００１重量％）が要求される傾向にある。本発明の現像液製造装置１００では、上記の濃度調製を実施することにより、このような厳しい濃度管理を十分に実現することができる。また、以上の演算／制御は、制御系による自動制御によって行われるため、時間的なロスが少なく、アルカリ系現像液の迅速な濃度調整が可能となる。
【００６６】
さらに、上述した濃度調整を実施できるので、要求される種々の濃度のアルカリ系現像液を加工設備が設けられた使用側において簡便に製造することが可能となる。よって、多品種小ロットの半導体デバイス等の電子回路基板の製造に機動的且つ弾力的に対応することができる。
【００６７】
また、管路１１４におけるポンプ２１２の後段には、濾過機構としてのフィルタ２１３が設けられている。調製槽１０５から送給されるアルカリ系現像液には、ポンプ２１２の駆動や配管系に起因する微粒子、現像原液に由来する微粒子、装置系外からのダスト（無機物質又は有機物質）に起因する微粒子等が混入する可能性がある。フィルタ２１３は、アルカリ系現像液に混入したかかる微粒子（パーティクル）成分を除去するためのものである。
【００６８】
アルカリ系現像液中の微粒子は、加工設備における電子回路基板等の現像時に現像不具合の原因となり得る。こうなると、パターニング欠陥等が生じるおそれがある。よって、電子回路基板の現像工程に用いられるようなアルカリ系現像液に対しては、通常、アルカリ系現像液１ｍｌ中に０．１μｍ以上のパーティクルが１０個以下という制限（管理値）が要求される。したがって、フィルタ２１３の濾材としては、かかる基準を担保し得る濾過能を有するものが適宜選択され、例えば、織布・不織布及び濾過膜が挙げられる。
【００６９】
さらに、管路１１４におけるフィルタ２１３の後段には、アルカリ系現像液に含まれる微粒子数を測定するための微粒子数測定手段２１１が設置されている。上述の如く、調製槽１０５から送給されるアルカリ系現像液に含まれる微粒子の大部分は、フィルタ２１３によって除去され得る。微粒子数測定手段２１１は、濾過されたアルカリ系現像液中の微粒子濃度が管理値を満たすか否かを判断するためのものである。
【００７０】
フィルタ２１３を通過しても所定の管理値を上回る微粒子を含むアルカリ系現像液は、別の管路を通して調製槽１０５に返送され、管路１１４を経てフィルタ２１３によって再び濾過される。これにより、アルカリ系現像液中の微粒子濃度を確実に一定値以下に抑えることができる。
【００７１】
加えて、管路１１４における後段には、溶存ガス除去手段２１４が設けられている。アルカリ系現像液には、一般に酸素ガス、窒素ガス等の気体が溶存し得る。これらの気体がアルカリ系現像液に溶存していると、アルカリ系現像液を電子回路基板の製造工程で使用する際に気泡を発生し、現像液の現像機能が低下してしまう傾向にある。これに対し、現像液製造装置１００では、溶存ガス除去手段２１４によって、かかる溶存気体（ガス）が除去される。
【００７２】
ここで、溶存ガス除去手段２１４としては、アルカリ系現像液に溶存する気体を除去することができるものであれば、特に制限されず、例えば、減圧効果により液中の溶存ガスを気化させて除去する装置、気液分離膜を用いた脱ガス装置等が挙げられる。
【００７３】
さらに、調製槽１０５には、窒素ガス及び純水が供給される湿り窒素ガスシール手段２０９が管路２１０を介して接続されている。また、現像原液タンク１０１も、管路２１０からの分岐管により湿り窒素ガスシール手段２０９に接続されている。
【００７４】
前述したようにアルカリ系現像液が外気（大気）と接触すると、空気中の酸素ガス、炭酸ガス等を吸収し又はそれらと反応し、その性質（液性）が劣化し得る。他方、乾燥窒素ガスは、アルカリ系現像液とは実質的に反応しない。しかし、乾燥窒素ガスとアルカリ系現像液が接触すると、アルカリ系現像液中の水分が蒸発し、液中アルカリ濃度の上昇を招いてしまう。
【００７５】
これに対し、湿潤な窒素ガスが得られる湿り窒素ガスシール手段２０９に接続された調製槽１０５の内部は、管路２１０を介して湿り窒素ガスによって封止（シール）されるので、上述したようなアルカリ系現像液の液性劣化やアルカリ濃度上昇が有効に防止される。また、現像原液タンク１０１も同様に湿り窒素ガスによって封止されるので、現像原液の液性劣化やアルカリ濃度上昇が有効に防止される。ここで、湿り窒素ガスの具体的な条件としては、例えば、その圧力を１００〜２００ｍｍＡｑ程度に維持することが挙げられる。
【００７６】
このように、現像原液及び調製時のアルカリ系現像液の液性劣化やアルカリ濃度変動が防止され、調製後のアルカリ系現像液が管路１１４を通して大気から封止された状態で加工設備に送給されるので、極めて良好な管理状態にあるアルカリ系現像液を必要なときに必要量供給することが可能となる。
【００７７】
図２は、本発明による現像液製造装置の第２実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液製造装置２００は、調製槽１０５の後段、つまり電子回路の加工設備と調製槽１０５との間に、アルカリ系現像液のアルカリ濃度を平準化するための平準化槽２０２を備えること以外は、図１に示す現像液製造装置１００と略同様に構成されたものである。
【００７８】
平準化槽２０２は、流量調節弁３０７が設けられた管路２０１、及び管路１１４に接続された管路２０５（還流送給用管路）を介して調製槽１０５に接続されると共に、管路１１４によって加工設備に接続されている。また、平準化槽２０２は、先述の管路２１０を介して湿り窒素ガスシール手段２０９に接続されている。さらに、平準化槽２０２は、流量調節弁３０６が設けられたドレン用の管路１１５に接続されている。
【００７９】
またさらに、平準化槽２０２には、液量測定手段１０６と同等の液量測定手段２０３（第二液量測定手段）及びアルカリ濃度測定手段１０７と同等のアルカリ濃度測定手段２０４（第二アルカリ濃度測定手段）が設置されている。これらの液量測定手段２０３及びアルカリ濃度測定手段２０４は、液量制御手段１０８と同等の制御機能を有する液量制御手段２０７（第二液量制御手段）に接続されている。この液量制御手段２０７は、液量制御手段１０８及び液供給制御手段１０９と接続されている。
【００８０】
さらにまた、平準化槽２０２は、管路１１１及び純水供給配管１０２から分岐し且つ流量調節弁及びポンプを有する管路を介して、それぞれ現像原液タンク１０１及び純水供給系に接続されている。
【００８１】
このように構成された現像液製造装置２００においては、アルカリ系現像液が、まず調製槽１０５で連続方式或いはバッチ方式によって調製される。調製されたアルカリ系現像液は、アルカリ濃度測定手段１０７によってそのアルカリ濃度が管理されているが、調製時毎に不可避的に所望濃度に対する多少の誤差を生じ得る。平準化槽２０２は、この誤差を可能な限り最小化するためのものである。
【００８２】
具体的には、アルカリ系現像液が調製槽１０５から平準化槽２０２に送られ、液量測定手段２０３によって平準化槽２０２内のアルカリ系現像液の液量が測定・管理される。液量管理は、例えば、アルカリ系現像液の液容積及び液重量のうち少なくともいずれか一方によって行い得る。
【００８３】
また、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度は、調製槽１０５におけるアルカリ濃度測定手段によって測定・管理することができるが、より一層精確な濃度管理の実現を図るべく、平準化槽２０２内においてアルカリ濃度測定手段２０４によって行っても好ましい。
【００８４】
このようなアルカリ濃度測定手段２０４による測定の結果、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度が所望濃度と許容量を超えて異なる場合、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液は、管路２０５を通して調製槽１０５に還流送給される。こうして調製槽１０５に還流送給されたアルカリ系現像液は、調製槽１０５において、再度、アルカリ濃度が所望値に調整され、管路２０１を通して平準化槽２０２に再送給される。
【００８５】
また、平準化槽２０２においては、液量測定手段２０３とアルカリ濃度測定手段２０４からの実測信号に基づいて液量制御手段２０７によるアルカリ系現像液の液量制御が行われる。なお、この場合の平準化槽２０２におけるアルカリ系現像液の液量制御は、前述した調製槽１０５におけるのと実質的に同等であるので、重複説明を避けるため、ここでの詳細説明は省略する。
【００８６】
液量制御に伴って平準化槽２０２から排出されるアルカリ系現像液は、図１に示す現像液製造装置１００におけるのと同様に管路１１４を通して加工設備の現像工程に送給してもよいし、管路１１５を通して装置外に排出してもよく、或いは、管路２０５を通して調製槽１０５に還流送給しても構わない。環境への影響を考慮すれば、加工設備又は調製槽１０５に送給することが望ましい。調製槽１０５に還流送給されたアルカリ系現像液は、上述と同様にして調製槽１０５内で濃度調整が行われた後、平準化槽２０２に再送給される。
【００８７】
また、液量測定手段２０３及びアルカリ濃度測定手段２０４からの測定信号は、液量制御手段１０８及び液供給制御手段１０９にも送出され得る。これにより、調製槽１０５の機能が何らかのトラブルに見舞われて喪失するような事態が生じても、平準化槽２０２において調製槽１０５と同等の濃度調整を行うことができる。なお、その場合の平準化槽２０２におけるアルカリ系現像液の濃度調整は、前述した調製槽１０５における測定・管理と実質的に同等であるので、重複説明を避けるため、ここでの詳細説明は省略する。
【００８８】
なお、平準化槽２０２には、攪拌手段１１６と同様な攪拌手段（第二攪拌手段）を設けても好ましい。こうすれば、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度をより速やかに平準化することができる。アルカリ系現像液の攪拌方法としては、前述した調製槽１０５内における混合液に対するのと同様な手法を採用でき、アルカリ系現像液の発泡等を考慮すれば、循環攪拌又は噴流回転攪拌を用いることが好ましい。
【００８９】
また、平準化槽２０２でアルカリ濃度が平準化され、加工設備に送出されるアルカリ系現像液は、フィルタ２１３により微粒子成分が十分に除去されるが、現像液製造装置２００においては、平準化槽２０２におけるアルカリ濃度の平準化を考慮すると、循環濾過が好ましい。さらに、現像液製造装置２００は、調製槽１０５から平準化槽２０２にアルカリ系現像液を送給し且つ調製槽１０５及び平準化槽２０２の液面レベルを略一定に保つための液送給・液面レベル制御手段を備えると好ましい。
【００９０】
平準化槽２０２でアルカリ濃度が平準化されたアルカリ系現像液は、管路１１４を通して加工設備へ送給され、これにより、平準化槽２０２内の液量は減少する。そのアルカリ系現像液の減少量を補い、平準化槽２０２内の液量を略一定に保つために、調製槽１０５から新たにアルカリ濃度の調製されたアルカリ系現像液が送給される。
【００９１】
この液送給・液面レベル制御手段としては、アルカリ系現像液が調製槽１０５においてバッチ式で調製される場合には、例えば、調製槽１０５から平準化槽２０２へアルカリ系現像液を送給する管路２０１に図示しないポンプのような液を強制的に送給する手段を設けたものが挙げられる。
【００９２】
一方、アルカリ系現像液が調製槽１０５において連続式で調製される場合には、上記バッチ式の場合と同様にポンプ等の液を強制的に送給する手段を有する管路、又は、調製槽１０５から平準化槽２０２にアルカリ系現像液を自然送液する連通管等を挙げることができる。ここで、「連通管」とは、調製槽１０５と平準化槽２０２との間を、ポンプ等の機械的手段を備えることなく単に連通する管路である。この意味において、管路２０１が液送給・液面レベル制御手段として機能し得る。
【００９３】
このような連通管を用いると、平準化槽２０２内のアルカリ系現像液が減少すれば、調製槽１０５と平準化槽２０２との水頭圧力差によって調製槽１０５内のアルカリ系現像液が自然に平準化槽２０２に送給され、調製槽１０５と平準化槽２０２との液面が略一定に保たれる。
【００９４】
また、ポンプ等を用いて調製槽１０５からアルカリ系現像液を強制的に平準化槽２０２へ送給する際に液流の乱れによる発泡及びポンプ駆動により発生するダスト等の異物混入といった問題が生じることが予想される場合には、連通管を用いることが好ましい。
【００９５】
またさらに、現像液製造装置２００が、平準化槽２０２と加工設備との間に配置された図示しない貯留槽を備えても好適である。かかる貯留槽は、平準化槽２０２から送給されるアルカリ系現像液を貯留するためのものであり、ポンプ等の送液手段を有する管路又は上述したような連通管を介して平準化槽２０２に接続される。
【００９６】
このような貯留槽を備えると、平準化槽２０２において平準化されたアルカリ系現像液のアルカリ濃度を、より一層均一化することが可能となる。よって、加工設備へ送給されるアルカリ系現像液のアルカリ濃度の調整精度をより一層向上できる。また、調製済みのアルカリ系現像液の貯留量を増大できるので、電子回路等の加工設備におけるアルカリ系現像液の使用量の大幅な増加に即時に対応することができる。また、それのみならず、調製槽１０５及び／又は平準化槽２０２の保守（メンテナンス）時において、加工設備を停止することなく稼動させることが可能となる。
【００９７】
また、調製槽１０５を複数備えてもよい。調製槽１０５において調製されるアルカリ系現像液は、アルカリ濃度測定手段１０７によってそのアルカリ濃度が適正範囲に管理されるが、先述の如く、調製毎に所望濃度に対して多少の誤差が生じ得る。
【００９８】
これに対し、複数の調製槽１０５で調製されたアルカリ系現像液を一度に平準化槽２０２に送給すれば、各々の調製槽１０５で生じたアルカリ濃度の誤差によるばらつきが、平準化槽２０２内で打ち消され、アルカリ濃度を速やかに平均化することができる。また、多重化により、例えば、複数の調製槽１０５のうちのいずれかが、故障、点検等のために稼動できなくなった場合にも、他の調製槽１０５が稼動することでアルカリ系現像液の製造を中断することなく継続できる利点がある。
【００９９】
図３は、本発明による現像液製造装置の第３実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液製造装置３００は、調製槽１０５及び平準化槽２０２が一体に構成されていること以外は、図２に示す現像液製造装置２００と同等の機能を奏するように構成されたものである。さらに、図４は、かかる一体化された調製槽１０５及び平準化槽２０２の外形を模式的に示す斜視図である。同図に示すように、両者は共に円筒状を成しており、調製槽１０５が平準化槽２０２の内部に同軸状に配置されたいわゆる二重円筒構造が構成されている。
【０１００】
かかる一体構成により、アルカリ系現像液の高度な製造・管理機能を阻害することなく、加工設備の付帯設備たる現像液製造装置３００の小型化が可能となり、近年、殊に要求が高まっている加工設備全体の小型化に対応することができる。
【０１０１】
図５は、本発明による現像液製造装置の第４実施形態の構成を模式的に示す系統図である。現像液製造装置４００は、調製槽１０５及び平準化槽２０２に、流量調節弁及びポンプを有する独立した管路を介して接続された現像原液タンク４０１を更に備えること以外は、図２に示す現像液製造装置２００と同様に構成されたものである。現像原液タンク４０１は、現像原液タンク１０１に供給される現像原液１と濃度が異なる現像原液２が供給されるものである。
【０１０２】
一般に、通常用いられる現像原液は、アルカリ濃度が１５％〜３０％程度の範囲にある一方で、電子回路基板等の加工設備で使用されるアルカリ系現像液のアルカリ濃度は０．０５％〜２．５％である。例えば、アルカリ系現像液のアルカリ成分としてＴＭＡＨが用いられる場合には、主としてアルカリ濃度２．３８％の現像液が使用されている。
【０１０３】
この場合、上記構成を有する現像液製造装置４００において、例えば、現像原液タンク４０１の現像原液２として、加工設備で使用されるアルカリ系現像液のアルカリ濃度（例えば、ＴＭＡＨ溶液の場合は、２．３８％）付近に調整されたものを用いれば、所望濃度のアルカリ系現像液をより精度よく且つ一層迅速に調製することが可能となる。なお、現像原液１及び現像原液２のうちいずれを用いるかは、廃液量の削減等を考慮して適宜選択することが可能である。
【０１０４】
また、加工設備の製造ロット等により、アルカリ濃度が極端に異なるアルカリ系現像液を調製する際には、それぞれのアルカリ系現像液に要求されるアルカリ濃度付近の現像原液を現像原液タンク１０１，４０１に貯留し、その都度切り替えて使用することができる。すなわち、本発明による現像液製造装置及び方法において用いる現像原液１，２は、所定範囲のアルカリ濃度から選択された任意のアルカリ濃度を有するものである。
【０１０５】
なお、上述した現像液製造装置１００，２００，３００，４００は、多品種小ロットでの電子回路基板等の製造に一層迅速に対応すべく、種々のアルカリ濃度のアルカリ系現像液が使用される複数の加工設備の各々に隣接するように又は一体に設置されてもよい。また、現像液製造装置１００，２００，３００，４００の前段に前述の特許第２７５１８４９号公報に記載の現像液の希釈装置といった他の装置を設置してもよい。かかる希釈装置を備えることにより、現像原液タンク４０１に供給する現像原液２を簡便に調製し得る。さらに、液量制御手段１０８，２０７及び液供給制御手段１０９は、必ずしも独立に設ける必要はなく、これらの複数の機能を備える制御機器を用いてもよい。
【０１０６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の現像液製造装置及び現像液製造方法によれば、電子回路基板等の加工設備のような使用側において、現像原液から所望濃度の現像液を精度よく且つ迅速に製造することができ、多品種小ロットでの基板の製造に十分に対応できると共に、製造された現像液の組成及び濃度を精度よく管理することが可能となる。
【０１０７】
また、これらにより、現像原液の希釈装置や供給側で予め調製した濃度が異なる種々のアルカリ系現像液を使用側で保管するためのタンク等の設備が不要となる。さらに、近年の市場の要求に伴う多品種小ロットでの電子回路基板等の製造に使用される高精度に管理された種々のアルカリ系現像液を、その加工設備及び製造工程に迅速に供給することが可能となる。
【０１０８】
またさらに、加工設備の付帯設備たる現像液製造装置の小型化を達成し得る。さらにまた、アルカリ系現像液のアルカリ濃度のレンジ（ダイナミックレンジ）を広く設定することが可能となる。加えて、アルカリ系現像液の廃液量を低減でき、これにより、環境に対する負荷を軽減しつつ更なるコストの削減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による現像液製造装置の第１実施形態の構成を模式的に示す系統図である。
【図２】本発明による現像液製造装置の第２実施形態の構成を模式的に示す系統図である。
【図３】本発明による現像液製造装置の第３実施形態の構成を模式的に示す系統図である。
【図４】図３に示す一体化された調製槽及び平準化槽の外形を模式的に示す斜視図である。
【図５】本発明による現像液製造装置の第４実施形態の構成を模式的に示す系統図である。
【符号の説明】
１，２…現像原液、１００，２００，３００，４００…現像液製造装置、１０１，４０１…現像原液タンク、１０５…調製槽、１０６…液量測定手段（第一液量測定手段）、１０７…アルカリ濃度測定手段（第一アルカリ濃度測定手段）、１０８…液量制御手段（第一液量制御手段）、１０９…液供給制御手段、１１４…管路、１１６…攪拌手段（攪拌機構）、２０２…平準化槽、２０３…液量測定手段（第二液量測定手段）、２０４…アルカリ濃度測定手段（第二アルカリ濃度測定手段）、２０７…液量制御手段（第二液量制御手段）、２０９…窒素ガスシール手段、２１１…微粒子数測定手段、２１３…フィルタ（濾過機構）、２１４…溶存ガス除去手段。

Claims (21)

1. 微細加工が施された電子回路が形成される加工設備に管路を介して接続されており、該加工設備で用いられるアルカリ系現像液が製造される装置であって、
   現像原液と純水とが供給され且つ攪拌されて前記アルカリ系現像液が調製される調製槽と、
   前記調製槽内の前記アルカリ系現像液の液量を測定する第一液量測定手段と、
   前記調製槽内の前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第一アルカリ濃度測定手段と、
   前記第一液量測定手段による測定値及び前記第一アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、前記調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、前記調製槽内のアルカリ系現像液の液量の減少量を算出し、前記減少量の算出値に基づいて前記調製槽内の前記アルカリ系現像液の液量を減少させる第一液量制御手段と、
   前記第一液量測定手段による測定値及び前記第一アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、前記第一液量制御手段によって液量が減少した前記調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を前記所定の濃度に変更するために必要な、現像原液及び純水のうちの少なくともいずれか一方の供給量を算出し、前記供給量の算出値に基づいて前記調製槽へ現像原液及び純水のうち少なくともいずれか一方を供給する液供給制御手段と、
   を備える現像液製造装置。
2. 前記調製槽と前記加工設備との間に配置されており、前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を平準化する平準化槽を備える、請求項１記載の現像液製造装置。
3. 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記アルカリ系現像液の量を測定する第二液量測定手段を備えるものである、請求項２記載の現像液製造装置。
4. 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記アルカリ系現像液のアルカリ濃度を測定する第二アルカリ濃度測定手段を備えるものである、請求項２又は３に記載の現像液製造装置。
5. 前記平準化槽が、前記第二液量測定手段による測定値及び前記第二アルカリ濃度測定手段による測定値に基づいて、該平準化槽内の前記アルカリ系現像液の量を調整する第二液量制御手段を備えるものである、請求項２〜４のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
6. 前記平準化槽内の前記アルカリ系現像液を前記調製槽に還流送給する還流送給用管路を備える、請求項２〜５のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
7. 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記アルカリ系現像液を攪拌する攪拌機構を備えるものである、請求項２〜６のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
8. 前記平準化槽が、該平準化槽内の前記アルカリ系現像液を濾過する濾過機構を備えるものである、請求項２〜７のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
9. 前記アルカリ系現像液を前記調製槽から前記平準化槽へ送給し、該調製槽における該アルカリ系現像液の液面レベル、及び該平準化槽における該アルカリ系現像液の液面レベルを調整する液送給・液面レベル制御手段を備える、請求項２〜８のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
10. 前記液送給・液面レベル制御手段は、前記アルカリ系現像液が前記調製槽から前記平準化槽へ自然送液され、且つ、該調製槽及び該平準化槽に接続された連通管を有するものである、請求項９記載の現像液製造装置。
11. 前記平準化槽と前記加工設備との間に設置されており、前記アルカリ系現像液が貯留される貯留槽を備える、請求項２〜１０のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
12. 前記調製槽及び前記平準化槽を湿り窒素ガスでシールする湿り窒素ガスシール手段を備える、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
13. 前記調製槽を複数有するものである請求項１〜１２のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
14. 前記調製槽と前記平準化槽とが一体に構成されたものである、請求項２〜１３のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
15. 前記加工設備に供給される前の状態における前記アルカリ系現像液に含まれる微粒子数を測定する、微粒子数測定手段を備える、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
16. 前記アルカリ系現像液に含まれる溶存ガスを除去する溶存ガス除去手段を備える、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
17. 前記第一液量測定手段が、前記アルカリ系現像液の容積又は重量のうち少なくともいずれか一方を測定するものである、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
18. 前記第一アルカリ濃度測定手段が、導電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置のうち少なくともいずれか一種である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
19. 前記第二アルカリ濃度測定手段が、導電率計、超音波濃度計、液体密度計及び自動滴定装置のうち少なくともいずれか一種である、請求項４〜１８のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
20. 前記現像原液は、所定範囲のアルカリ濃度から選択された任意のアルカリ濃度を有するものである、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の現像液製造装置。
21. 微細加工の施された電子回路を形成する加工工程に管路を介して供給されるアルカリ系現像液を製造する方法であって、
    調製槽内のアルカリ系現像液の液量及びアルカリ濃度を測定する第一測定工程と、
    前記第一測定工程で得られた液量測定値及びアルカリ濃度測定値に基づいて、前記調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を所定の濃度に変更するために必要な、前記調製槽内のアルカリ系現像液の液量の減少量を算出し、前記減少量の算出値に基づいて該アルカリ系現像液の液量を減少させる液量減少工程と、
    前記液量減少工程後に前記調製槽内のアルカリ系現像液の液量及びアルカリ濃度を測定する第二測定工程と、
    前記第二測定工程で得られた液量測定値及びアルカリ濃度測定値に基づいて、前記液量減少工程によって液量が減少した前記調製槽内のアルカリ系現像液のアルカリ濃度を前記所定の濃度に変更するために必要な、現像原液及び純水のうちの少なくともいずれか一方の供給量を算出し、前記供給量の算出値に基づいて前記調製槽へ前記現像原液及び前記純水のうち少なくともいずれか一方を供給する供給工程と、
    を備える現像液製造方法。

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