JP3582017B2 - 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
この発明はプラスチック製品や金属材料等を迅速に研磨する従来品より改良された研磨用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に使用されるプラスチック製品や金属材料の研磨用組成物は、研磨材、例えば酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化クロムを水でスラリー状にしたものである。この従来の研磨用組成物をプラスチック製品や金属材料に適用して研磨パッドなどで研磨することが行われている。
しかし、これら従来の研磨用組成物は研磨に手間がかかり、研磨表面を滑らかにし、かつ光沢を良くするためには相当の研磨時間を要する。また、研磨能率を良くするために研磨剤の粒子径を大きくすると深いスクラッチ及びオレンジピール等の表面欠陥を生成する傾向があり、滑らかでそれらの欠点のない高品質な表面を得ることは一層困難であった。
【0003】
上記の従来の研磨用組成物の欠点を解消するために、本出願人は、特公昭53−3518号公報にて次のような合成樹脂成形品の研磨用組成物を開示した。即ち
「 水と、酸化アルミニウム、酸化セリウム等の研磨用剤及びポリ塩化アルミニウム、硝酸セリウム、硝酸アルミニウム、臭化アルミニウム等の酸性化合物からなる合成樹脂成形品の研磨用組成物。」である。
更に、本出願人は特公平2−23589号公報にて、メモリーハードディスク等の金属材料を研磨する際も硝酸アルミニウム等が研磨促進効果を奏することを開示した。
これらの研磨用組成物は合成樹脂成形品やメモリーハードディスクの研磨用として優れたものであるが、更にこれらの研磨用組成物より優れたものの開発が要望されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、プラスチック製品や金属材料の研磨用として優れた研磨用組成物を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、さらに前述の研磨用組成物を改良すべく鋭意研究した結果、開発されたものであり、本発明は、水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤が、硝酸アルミニウムとグリコール類及びアルミナゾルのうち、2種以上を混合して用いることを特徴とする研磨用組成物であり、前記研磨促進剤が硝酸アルミニウム5〜100g/l,グリコール類50〜400g/l及びアルミナゾルが5〜50g/lの割合で添加されているものであり、さらに上述の研磨用組成物に、シリコーン消泡剤1〜10g/lが添加されていることを特徴とする研磨用組成物である。
【0006】
【作用】
本発明は、前述の如く、水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨促進剤からなるので、研磨速度は著しく増加し、さらに良好な研磨表面を生成し、スクラッチ及びオレンジピール等が生じない。
【0007】
本発明において、研磨用組成物の各構成要素を限定した理由について、次に述べる。
(1)酸化アルミニウムの研磨剤
研磨剤としての酸化アルミニウムは通常水性スラリーとして使用するので通常微粒子であることが好ましくその粒子の大きさは平均粒子径で0.1〜10μm,好ましくは0.1〜3μmである。
そのスラリー濃度は通常1〜50重量%好ましくは5〜30重量%の研磨剤を含有することが望ましい。
(2)研磨促進剤
a.硝酸アルミニウム:5〜100g/l
硝酸アルミニウムは上述の研磨剤の研磨速度を増進するのに効果があり、5g/l未満では多少効果はあるが実用的でなく、100g/lを越えて含有させてもその効果は横ばいであり、経済的でないからその量を5〜100g/lとした。
【0008】
b.グリコール類:50〜400g/l
グリコール類としては、プロピレングリコール重合物、エチレングリコール重合物が挙げられ、具体的には、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられ、特にプロピレングリコール、エチレングリコールが好ましい。
グリコール類は研磨能率の向上と研磨面の良質化のために有効な作用をなすものであり、50g/l未満ではその効果が少なく、400g/lを越えた場合、粘度が高すぎて、研磨中に被研磨物に滑りを生じ、効果が少なくなるのでその量を50〜400g/lとした。
c.アルミナゾル:5〜50g/l
アルミナゾルは化学式Al2 O3 ・nH2 O(n=1〜2)にて一般的に表されるが、これはスラリーの粘度をあげて、研磨剤を浮遊させる役目や研磨能率の向上を果たすものであり、そのための添加量は5〜50g/lが望ましい結果を得ている。
【0009】
(3)シリコーン消泡剤:1〜10g/l
また、本研磨用組成物においては、グリコール類やアルミナゾルを使用するために泡が生ずるのでシリコーン消泡剤を添加し消泡することが望ましく、その量は1〜10g/lが有効であることが判った。
本発明の研磨用組成物が適用できるプラスチック製品としてはプラスチックレンズ、プラスチック製ディスク基板、風防ガラス、医療用品、食器、ラジオ部品、機械部品(小型歯車、ベアリング)、ボタン、キャップ、キャビネット、化粧板、眼鏡枠、プラスチック製安全ガラスなどの各種がある。
また、金属材料として代表的なものとして、メモリーハードディスクに使用されるアルミニウム、ニッケル・リンメッキ基板、半導体部品、機械部品等の各種があり、これらの精密研磨加工に適用できる。
【0010】
【実施例】
次に本発明の一実施例について述べる。
平均粒子径1.3μmの酸化アルミニウムを190g/lの割合に水と配合し、硝酸アルミニウム,プロピレングリコール及びアルミナゾルを添加し表1に示すような組成の研磨用組成物,試料N0.1〜9を調製した。
なお、本発明である試料N0.5〜N0.9にはシリコーン消泡剤を夫々5g/lを添加した。
【0011】
次に、これらの研磨用組成物を用いて研磨有効度を次のような研磨テストにより評価した。
アリルジグリルコールカーボネート樹脂(CR−39)70mmφのレンズ試料をコバーン505型非球面レンズ研磨機を用いて、研磨パッドとして、プラスチックレンズ用植毛布にて、研磨圧力240g/cm2 ,研磨時間5分,研磨温度13±1℃,スラリー供給量2リットル/分の割合で循環する研磨条件にて研磨した。
その結果の研磨能率(g/5分)並びに表面粗度Ra(nm)を組成と共に表1に示す。
【0012】
【表1】
【0013】
表1に示すように、試料N0.1の酸化アルミニウム単独の場合や試料N0.2〜4の硝酸アルミニウム、プロピレングリコール、アルミナゾルを夫々単独で添加した場合に比して、試料N0.5〜9の組合わせの研磨用組成物は研磨能率及び表面粗度共に良好である。
特に試料N0.8と試料N0.9は従来品と比して、研磨能率が非常に高く、なおかつ表面粗度等の研磨面品質に優れている。
本発明は、その要旨を超えない限り以上の実施例に限定されるものではない。
【0014】
【発明の効果】
この研磨用組成物によれば、優れた研磨成績を示し研磨加工面に表面欠陥を発生させることなく著しく研磨能率を向上せしめことができる。
Claims (9)
- 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤が、硝酸アルミニウムとグリコール類及びアルミナゾルからなることを特徴とする研磨用組成物。
- 前記研磨促進剤のうち、硝酸アルミニウムについては5〜100g/l、グリコール類については50〜400g/l及びアルミナゾルについては5〜50g/lの添加割合であることを特徴とする請求項1に記載の研磨用組成物。
- シリコーン消泡剤1〜10g/lが、さらに添加されていることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨用組成物。
- 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤が、硝酸アルミニウムとグリコール類及びアルミナゾルのうち、2種以上を混合して用いることを特徴とするプラスチック研磨用組成物。
- 前記研磨促進剤のうち、硝酸アルミニウムについては5〜100g/l、グリコール類については50〜400g/l及びアルミナゾルについては5〜50g/lの添加割合であることを特徴とする請求項4に記載のプラスチック研磨用組成物。
- シリコーン消泡剤1〜10g/lが、さらに添加されていることを特徴とする請求項4または5に記載のプラスチック研磨用組成物。
- 前記研磨促進剤が、硝酸アルミニウム及びグリコール類からなることを特徴とする請求項4に記載のプラスチック研磨用組成物。
- 前記研磨促進剤が、硝酸アルミニウム及びアルミナゾルからなることを特徴とする請求項4に記載のプラスチック研磨用組成物。
- 前記研磨促進剤が、グリコール類及びアルミナゾルからなることを特徴とする請求項4に記載のプラスチック研磨用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15489493A JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15489493A JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0711239A JPH0711239A (ja) | 1995-01-13 |
JP3582017B2 true JP3582017B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=15594286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15489493A Expired - Lifetime JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3582017B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100761649B1 (ko) * | 1999-05-19 | 2007-09-27 | 제일모직주식회사 | 연마용 조성물 |
KR100466422B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2005-01-13 | 제일모직주식회사 | Cmp용 조성물 |
WO2002002712A1 (en) * | 2000-07-05 | 2002-01-10 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and magnetic recording disk substrate polished with the polishing composition |
JP4219722B2 (ja) | 2003-03-31 | 2009-02-04 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
WO2004104122A2 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Showa Denko K.K. | Polishing composition for magnetic disks comprising a surface cleaning agent and polishing method |
JP2006036864A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fujimi Inc | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 |
TW200712187A (en) | 2005-08-31 | 2007-04-01 | Fujimi Inc | Polishing composition and polishing method |
WO2013153880A1 (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-17 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
JP7413277B2 (ja) | 2018-12-14 | 2024-01-15 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物及び合成樹脂研磨方法 |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP15489493A patent/JP3582017B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0711239A (ja) | 1995-01-13 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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