JP3565570B2 - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールaの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3565570B2 JP3565570B2 JP21073293A JP21073293A JP3565570B2 JP 3565570 B2 JP3565570 B2 JP 3565570B2 JP 21073293 A JP21073293 A JP 21073293A JP 21073293 A JP21073293 A JP 21073293A JP 3565570 B2 JP3565570 B2 JP 3565570B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bisphenol
- phenol
- separating
- acetone
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、ビスフェノ−ルAの製造方法に関する。詳しくは、ビスフェノ−ルAの製造に使用される蒸留装置の応力腐食割れを防止して、長期間安定的にビスフェノ−ルAを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ビスフェノ−ルAは、すなわち2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンは、アセトンとその2倍モル以上過剰量のフェノ−ルを酸性イオン交換樹脂等の酸性触媒の存在下に反応させることにより得られる。反応混合物は精製工程へ送られ、アセトン、水等の低沸点物を除去したのち、これを冷却してビスフェノ−ルAとフェノ−ルとのアダクツの結晶を析出させ、この結晶を母液と分離し、次いで脱フェノ−ル処理して精製されたビスフェノ−ルAを回収する方法が一般的である。
【0003】
酸性イオン交換樹脂を用いる反応においては、塩酸等の強酸が反応混合物中に含まれることはないので、触媒回収の心配や装置の腐食の心配がないという利点がある。酸性イオン交換樹脂を用いるビスフェノ−ルAの製造方法においては、特公昭62−54779号公報に示されるように、未反応アセトン、水及び一部のフェノ−ルを含む低沸点物とビスフェノ−ルAやフェノ−ルを含む高沸点物とに分離し、この高沸点物からビスフェノ−ルAが回収されている。そして、酸性イオン交換樹脂はスルホン酸基を含んでおり、しかもメルカプタン基を含むようなイオウ化合物で改良(変性)されたり、アルキルメルカプタンのようなイオウ化合物が共存されたりした状態で使用される。
【0004】
そして、低沸点物の分離は蒸留で行うが、主としてアセトンを分離するアセトン塔と水を分離する水分離塔に分けて行うこともあるし、1塔で行うこともある。このような蒸留塔は反応混合物中に強酸が含まれていないとはいえ、やや酸性であるので、耐酸性の材料で作られている。しかしながら、このような装置において応力腐食割れが生ずることが見出された。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ビスフェノ−ルAを含む反応混合物から、低沸点物を分離する工程の蒸留装置の腐食を防止することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため、腐食状況を調べた所、溶接部付近に集中して粒界型応力腐食割れや粒内型応力腐食割れがあることを見出した。そして、この原因を究明すると共に、この環境において最も適した材料を見出し、本発明を完成した。
【0007】
本発明は、アセトンと過剰量のフェノ−ルを、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応させてビスフェノ−ルAを含む反応混合物を得る工程、これからアセトン及び水を主とする低沸点物を分離する工程、フェノ−ルとビスフェノ−ルAを主とする流れからビスフェノ−ルAを回収する工程とを含むビスフェノ−ルAの製造方法において、アセトン及び水を主とする低沸点物を分離する工程に使用される蒸留塔及びコンデンサ−の少なくとも一部の材質を、クロム含有率18〜25%、ニッケル含有率20〜30%、モリブデン含有率3〜6%、カーボン含有率0.03%以下のSUS317(JIS G4304)系オ−ステナイトステンレス鋼とすることを特徴とするビスフェノ−ルAの製造方法である。
【0008】
反応工程は、アセトンと過剰量のフェノ−ルを、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応させる工程である。この原料の一部は、循環される母液である。本発明では、触媒として酸性陽イオン交換樹脂を使用する。酸性陽イオン交換樹脂は、スルホン酸系、硝酸系、カルボン酸系等各種のものが使用できるが、好ましくはスルホン酸系である。また、酸性陽イオン交換樹脂母体となる樹脂としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体系、パ−フルオロエチレン重合体系、フェノ−ル−ホルムアルデヒド重合体系と各種のものを使用できるが、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体系が好ましい。
【0009】
触媒は反応器に固定床として充填してもよいし、けんだく床として充填してもよい。このイオン交換樹脂は前記のようにイオウ化合物で変性されているか、イオウ化合物の共存下で使用される。反応温度は、通常60〜100℃であり、滞留時間は通常0.1〜3時間である。
反応工程で生成する反応混合物は、未反応アセトン、水等の低沸点物とフェノ−ルとビスフェノ−ルAを主とする高沸点物を含んでいる。そこで、次の分離工程に送られる。
【0010】
分離工程は大きく分けると低沸点物を分離する工程と低沸点物が分離されたフェノ−ルとビスフェノ−ルAを主とする流れからフェノ−ルを分離し、ビスフェノ−ルAを回収する工程からなる。そして、低沸点物を分離する工程以降は公知の方法等の任意の方法で行うことができる。
【0011】
低沸点物を分離する蒸留装置は1又は2以上の蒸留塔、コンデンサ−及び配管等からなっている。アセトン、水等の低沸点物の他に、少量のフェノ−ルも共沸して留出する。
ここで蒸留される低沸点物には強酸は含まれていないとはいえ、酸性陽イオン交換樹脂に起因する酸が微量流出する等してやや酸性であるので、この蒸留装置は多少耐酸性のある材料で作られている。しかしながら、SUS304等の通常の材料で蒸留装置に腐食が生ずることが見出された。
【0012】
この腐食の状況を調べると応力腐食割れであって、部位によって異なるが粒界型のものと粒内型のものがあると認められた。しかも、この腐食部位の多くは溶接部又はその熱影響部に集中していることが認められた。
そして、この部位の環境を調べると水が存在し、微量の硫黄イオン、亜硫酸イオン等の硫黄酸化物イオン、酢酸イオン等が存在する所であることが認められた。したがって、本発明において材質をSUS317系オ−ステナイトステンレス鋼とする部位は、溶接部又はその熱影響部であって、このような環境となる部位又はその周辺を含むことが好ましいといえる。
【0013】
SUS317系オ−ステナイトステンレス鋼は、JIS G304に規定されてあり、これにはSUS317J1、SUS317J5L、SUS317J4L等いくつかの種類があるが、本発明で使用するものはクロム含有率18〜25%、ニッケル含有率20〜30%、モリブデン含有率3〜6%、カーボン含有率0.03%以下のものである。カ−ボン含有率が高いと溶接部又はその近辺の耐蝕性が低下する。
【0014】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。
実施例1
アセトンと過剰のフェノ−ルをスルフォン酸型イオン交換樹脂触媒の存在下に反応させて得られた反応混合物から低沸点成分を蒸留するための蒸留塔塔頂から液を抜き出した。この水相の分析値は硫黄イオン1〜57mg/l、亜硫酸イオン11〜396mg/l、硫酸イオン1〜4mg/l、チオ硫酸イオン2mg/l以下、チオシアンイオン2〜9.3mg/l、塩素イオン1mg/l以下、ぎ酸1mg/l以下、酢酸6〜288mg/lであり、その他フェノ−ル、アセトンを含み、水分98.6%のものであった。
また、油相はエチルベンゼンを主とし、メルカプタン類1〜2重量%含有するものであった。
【0015】
この平均的な水相(pH3.4)と油相の1:2混合物に、各種材質のテストピ−スを浸漬してSSRT(Slow Strain Rate Technique)試験を行った。また、比較のためにブランクとして、シリコンオイルに浸漬して、同様な試験を行った。
引張り速度は0.001mm/min(歪み速度0.8×10−6 sec−1)、試験温度は200℃、テストピ−ス形状は板型とした。
テストピ−ス材質は、SUS304、SUS316L、YUS190(C:0,007,Si:0.19,Cr:18.66,Mo:1.82,Ti:0.21,Nb:0.30,N:0.008)、NAS126(C:0,038,Si:3.40,Cr:18.12,Ni:12.62,Cu:1.50,Nb:0.23)、NAS254N(SUS317J4L,(C:0,010,Si:0.46,Cr:22.98,Ni:24.94,Mo:5.74,N:0.183)の5種類とした。また、溶接の影響を調べるため、これらについて650X2hr熱処理して鋭敏化処理したテストピ−スについても試験を行った。
結果を表1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】
表1中の語句の説明は次の通りである。
B1〜B4:ブランク試験
断面収縮率(%)={(最初の断面積−腐食環境での断面積)/(最初の断面積)}×100
割れ感受性指数=(応力腐食割れ破面)/(機械的延性破面−応力腐食割れ破面)
SCC破面率(%)={(応力腐食割れ破面の面積)/(全破面の面積)}×100
そして、NAS254Nが本発明の実施例に該当し、この材質の場合、応力腐食割れが実質的に生じないことが、表1から明らかであり、ビスフェノ−ルAの製造にこれを採用すれば、長期間安定した操業ができることが分かる。
【0018】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、蒸留装置の応力腐食割れが防止できるので、長期間安定して運転することができる。
Claims (1)
- アセトンと過剰量のフェノ−ルを、酸性陽イオン交換樹脂を存在させた反応器へ装入して反応させてビスフェノ−ルAを含む反応混合物を得る反応工程、これからアセトン及び水を主とする低沸点物を分離する工程、フェノ−ルとビスフェノ−ルAを主とする流れからビスフェノ−ルAを回収する工程とを含むビスフェノ−ルAの製造方法において、アセトン及び水を主とする低沸点物を分離する工程に使用される蒸留塔及びコンデンサ−の少なくとも一部の材質を、クロム含有率18〜25%、ニッケル含有率20〜30%、モリブデン含有率3〜6%、カーボン含有率0.03%以下のSUS317(JIS G4304)系オ−ステナイトステンレス鋼とすることを特徴とするビスフェノ−ルAの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21073293A JP3565570B2 (ja) | 1993-08-25 | 1993-08-25 | ビスフェノールaの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21073293A JP3565570B2 (ja) | 1993-08-25 | 1993-08-25 | ビスフェノールaの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0761947A JPH0761947A (ja) | 1995-03-07 |
JP3565570B2 true JP3565570B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=16594197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21073293A Expired - Fee Related JP3565570B2 (ja) | 1993-08-25 | 1993-08-25 | ビスフェノールaの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3565570B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4161470B2 (ja) * | 1999-05-25 | 2008-10-08 | 宇部興産株式会社 | 高純度二価フェノール及びその製造法 |
JP2001335521A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-12-04 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ビスフェノ−ルaの製造方法 |
JP2007112763A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 色相の良好なビスフェノールaの製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5926620B2 (ja) * | 1977-02-02 | 1984-06-29 | 住友化学工業株式会社 | ナフタレン−1,3,6−トリスルホン酸の濃縮分離方法 |
JPH0655929B2 (ja) * | 1985-09-04 | 1994-07-27 | バンドー化学株式会社 | 感圧接着性シート |
JPH0635671B2 (ja) * | 1986-01-20 | 1994-05-11 | 日本鉱業株式会社 | オ−ステナイト系ステンレス鋼製機器の応力腐食割れ防止方法 |
JPS62297440A (ja) * | 1986-06-17 | 1987-12-24 | Kawasaki Steel Corp | 耐孔食性の優れたオ−ステナイト系ステンレス鋼 |
JPH04139139A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素化組成物の蒸留方法 |
JP3041547B2 (ja) * | 1991-08-05 | 2000-05-15 | 千代田化工建設株式会社 | 高純度ビスフェノールaの分離方法 |
JP2913123B2 (ja) * | 1991-08-20 | 1999-06-28 | 千代田化工建設株式会社 | 変色のないビスフェノールaの分離方法 |
JP3574903B2 (ja) * | 1993-03-30 | 2004-10-06 | 日新製鋼株式会社 | 熱間加工性に優れた高合金オーステナイト系ステンレス鋼 |
JP2854502B2 (ja) * | 1993-04-21 | 1999-02-03 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 耐孔食性に優れたステンレス鋼 |
JPH0760002A (ja) * | 1993-08-23 | 1995-03-07 | Mitsubishi Chem Corp | 蒸留装置及びそれを用いた有機溶媒の精製方法 |
-
1993
- 1993-08-25 JP JP21073293A patent/JP3565570B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0761947A (ja) | 1995-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69705161T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Bisphenol | |
EP0310925B1 (en) | Process for stabilizing a liquid crude bisphenol a product stream | |
CA1282797C (en) | Process for preparing bisphenol a | |
EP0343382B1 (en) | Method for the production of bis-phenols | |
JP3962836B2 (ja) | ビスフェノールaの生産 | |
JP3565570B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
EP0552518A1 (en) | Method of recovering bisphenol-A from preparative process efluent streams | |
EP0358992B1 (en) | Process for the manufacture of bis-phenols | |
DE69708707T2 (de) | Verfahren zur Wiedergewinnung von Bisphenolen | |
KR910003865B1 (ko) | 비스페놀 a의 제조방법 | |
EP0001971B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Hydroxylammoniumsalzen in Reaktionsgefässen aus Edelstahl | |
JP2001335521A (ja) | ビスフェノ−ルaの製造方法 | |
JP2002255881A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
US4935553A (en) | Process for preparing bisphenol A | |
JP2016516574A (ja) | ニトロベンゼン製造から出る廃水の再処理方法 | |
US5030415A (en) | Structural part made of ferritic chromium-molybdenum steel which is resistant to concentrated sulfuric acid | |
JP3101326B2 (ja) | トリオキサンの精製方法 | |
US1300451A (en) | Method of preparing paracetaldehyde. | |
US4188497A (en) | Purification of 3,5-xylenol | |
JPS6341514A (ja) | 2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ−トの製造法 | |
JP5463839B2 (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法 | |
EP0484040A2 (en) | Process of preparing a phenolic polymer | |
JPH0455429B2 (ja) | ||
US4491567A (en) | Manufacture of hydroxylammonium salts | |
US2904595A (en) | Purification of aryl disulfides |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040525 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090618 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100618 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120618 Year of fee payment: 8 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120618 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 9 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 9 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 9 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 9 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |