JP3556358B2 - 均一化された面露光式光硬化造形装置 - Google Patents

均一化された面露光式光硬化造形装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3556358B2
JP3556358B2 JP30279395A JP30279395A JP3556358B2 JP 3556358 B2 JP3556358 B2 JP 3556358B2 JP 30279395 A JP30279395 A JP 30279395A JP 30279395 A JP30279395 A JP 30279395A JP 3556358 B2 JP3556358 B2 JP 3556358B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
intensity distribution
liquid
ultraviolet lamp
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP30279395A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09141747A (ja
Inventor
威雄 中川
誠治 早野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CMET Inc
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
CMET Inc
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CMET Inc, RIKEN Institute of Physical and Chemical Research filed Critical CMET Inc
Priority to JP30279395A priority Critical patent/JP3556358B2/ja
Priority to EP96308436A priority patent/EP0775570A3/en
Publication of JPH09141747A publication Critical patent/JPH09141747A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3556358B2 publication Critical patent/JP3556358B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、光硬化造形装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
光硬化造形装置では、液面の任意領域を露光する処理を繰返し実行する。このとき、光ビームの照射位置をX−Y方向に制御して露光領域を制御する方式が多用されているが、それでは露光時間が長くなるために、特開平1−263031号公報の技術が提案されている。
この技術では、液面の上方に液晶パネルを設置し、この液晶パネルの透明・不透明領域をコントロールすることで露光領域を制御する。この方式によると、面的露光が行なわれるために、液面の露光に要する時間が短縮化される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
面露光方式の場合、露光時間の短縮化が可能である反面、露光強度が面内で一様とならない。前記した特開平1−263031号公報の技術では、液晶パネルの上方に多数の光源を並べることによって、面内の露光強度分布を一様化する工夫を示しているものの、それでも光源の直下位置と、光源間位置とでは露光強度が同一とならない。
光硬化造形装置の場合、面内の露光強度分布が均一化されていないと、硬化厚みがばらついたり、あるいは硬化物が歪むといった現象が生じるために、面内の露光強度分布がよく均一化されていることが求められる。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明に係る光硬化造形装置では、光硬化性液の液面の任意領域を露光する手段を、紫外線ランプと、その紫外線ランプが発生する光の強度分布を均一化する手段と、その紫外線ランプが発生する光によって前記液面に像を投影する手段とで構成する。その均一化手段は、周面で内部反射することによって光ビームの強度分布を均一化するロッドホモジナイザであることを特徴とする。
【0005】
【作用】
この構成によると、紫外線ランプが発生する光の強度分布が均一化された状態で液面が露光されるために、硬化厚が不均一となったり、硬化物が歪むといったことを抑制することができる。また、周面で内部反射することによってビーム強度の弱い周辺部のビーム強度を増大することによって光ビームの強度分布を均一化するロッドホモジナイザを利用するために、良好に均一化される。
【0006】
【実施例】
第1実施例
図1は本発明を具現化した第1実施例を示す。図中7は光硬化性液10のためのタンクで上面が開放されている。このタンク7内でZテーブル8が上下動可能となっている。
図中1はレーザ発振器であり、2はミラーであり、3はビームホモジナイザである。レーザ発振器1から放射されるレーザ光は(1) に示すようなガウス分布を有している。なお(1) において縦軸はビーム強度であり、横軸はA−B断面内での距離を示している。ビームホモジナイザ3はレーザ光の光強度分布を均一化するものであり、例えばシグマ光機株式会社製のロッドホモジナイザが好適に用いられる。このホモジナイザはガラスロッドを用い、ロッドの周面での内部反射を利用して、ビーム強度の弱い周辺部のビーム強度を増大する。この結果、レーザ光の強度分布が良好に均一化される。
【0007】
強度分布の均一化されたレーザ光はビームエキスパンダ4で拡げられる。拡げられたあとのレーザ光の横断面内の強度分布は、(2) に示すように均一化されている。このようにして拡げられ、かつ強度分布が均一化されたビームがD.M.D.(Digital Micromirror Device)5に入射される。D.M.D.はCMOSのRAMの表面を各セルに対応するマイクロミラーで覆った構造であり、例えば2.3cmの表面に768×576のマイクロミラーを覆ったものが利用可能とされている。各ミラーは、CMOSのRAMへの書き込み信号によって角度を変えることから、各セルへ与える信号によって反射像を形成することができる。
【0008】
図中6は凸レンズであり、これによってD.M.D.5で形成された反射像が液面に鮮明に投影される。この結果、面に対する一斉露光が可能となる。なお光硬化造形法で周知なように、露光とZテーブルの移動が1セットとされて、この動作が繰返し実行される。この結果タンク7内に立体造形物9が作成される。
【0009】
この場合、ビームホモジナイザ3によって、液面での強度分布が一定とされているため、部位によって硬化厚さが分布したり、あるいは硬化程度が不均一となって硬化物9が歪むといった問題が抑制される。なおD.M.D.は像を投影するものであって、強度分布に直接影響するものでない。
【0010】
第2実施例
この実施例ではレーザ発振器1に代えて紫外線ランプ11を用いる。そしてビームホモジナイザ3が紫外線ランプ11からの紫外光の強度分布を均一化する。
またこの場合、D.M.D.でなく、液晶パネル12によって像を形成する。このために、D.M.D.に代えてミラー15が用いられ、液面の上方に液晶パネル12が設けられている。この場合も、液晶パネル12に入射される光の強度分布がビームホモジナイザ3で均一化されているために、実施例1と同等の作用・効果が得られる。
【0011】
なお照射する液面は、液の上面に限られるものでなく、透明タンク7を用いることによって、底面ないし側面で照射することができる。底面から照射する方式ではZテーブル8を上方に移動させ、側面で照射する方式ではテーブルを側方に移動させる。またZテーブル8を上下動させるかわりに、液面を変化させてもよい。この場合、膜厚の薄い液膜を重ねてゆく方式がとりえる。このようにしても、硬化層と液面の関係を移動させることができ、硬化層を次々に積層してゆくことができる。
本発明は上記の方式のいずれのものにも適用することができる。
【0012】
【発明の効果】
本発明によると、面内を一斉に露光する長所を活かしながら一斉に露光する方式の欠点を解消することができるために、精度のよい立体造形物を短時間に造形することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例を示す図
【図2】第2実施例を示す図
【符号の説明】
3 ビームホモジナイザ
4 ビームエキスパンダ
5 D.M.D.
12 液晶パネル

Claims (1)

  1. 光硬化性液の液面の任意領域を露光する手段と、前記露光手段で露光されて硬化した硬化層を液面から移動させる手段と、前記露光手段による露光と前記移動手段による移動を繰り返し実行させる手段とを備えた光硬化造形装置において、
    前記露光手段を、紫外線ランプと、その紫外線ランプが発生する光の強度分布を均一化する手段と、その紫外線ランプが発生する光によって前記液面に像を投影する手段とで構成し、前記均一化手段は、周面で内部反射することによって光ビームの強度分布を均一化するロッドホモジナイザであることを特徴とする均一化された面露光式光硬化造形装置。
JP30279395A 1995-11-21 1995-11-21 均一化された面露光式光硬化造形装置 Expired - Fee Related JP3556358B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30279395A JP3556358B2 (ja) 1995-11-21 1995-11-21 均一化された面露光式光硬化造形装置
EP96308436A EP0775570A3 (en) 1995-11-21 1996-11-21 Photosolidification modeling device with homogeneous intensity exposure on the exposed surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30279395A JP3556358B2 (ja) 1995-11-21 1995-11-21 均一化された面露光式光硬化造形装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09141747A JPH09141747A (ja) 1997-06-03
JP3556358B2 true JP3556358B2 (ja) 2004-08-18

Family

ID=17913192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30279395A Expired - Fee Related JP3556358B2 (ja) 1995-11-21 1995-11-21 均一化された面露光式光硬化造形装置

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0775570A3 (ja)
JP (1) JP3556358B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3803735B2 (ja) * 1996-02-14 2006-08-02 独立行政法人理化学研究所 リコートと同時に光走査する光固化造形装置
WO1998006560A1 (en) * 1996-08-08 1998-02-19 Sri International Apparatus for automated fabrication of three-dimensional objects, and associated methods of use
WO2001005575A1 (fr) * 1999-07-15 2001-01-25 Edward Jefferson Horne Procede et dispositif de production pour matiere formee polymerisable
JP4969058B2 (ja) * 2005-05-25 2012-07-04 シーメット株式会社 光学的立体造形装置
DE102014215218A1 (de) 2014-08-01 2016-02-04 BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. KG Stereolithografieeinheit mit homogenisiertem Strahlengang
DE102014215213A1 (de) 2014-08-01 2015-04-16 BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. KG Stereolithografievorrichtung mit Behälterbaueinheit
EP3613560B1 (de) * 2018-08-24 2020-07-22 Ivoclar Vivadent AG Verfahren zum schichtweisen aufbau eines formkörpers durch stereolithographisches aushärten von photopolymerisierbarem material

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216216A (ja) * 1986-03-18 1987-09-22 Fujitsu Ltd 三日月ビ−ムホモジナイザ−
US4794503A (en) * 1987-09-23 1988-12-27 Fusion Systems Corporation Lamp having improved image resolution
JP2536045B2 (ja) * 1988-04-15 1996-09-18 日本電気株式会社 3次元モデル成形機
US5026146A (en) * 1989-04-03 1991-06-25 Hug William F System for rapidly producing plastic parts
US5133987A (en) * 1989-10-27 1992-07-28 3D Systems, Inc. Stereolithographic apparatus and method
JP3584942B2 (ja) * 1994-11-15 2004-11-04 Jsr株式会社 光造形装置
JPH08192469A (ja) * 1995-01-20 1996-07-30 Ushio Inc 光硬化性樹脂の硬化装置
JPH08313842A (ja) * 1995-05-15 1996-11-29 Nikon Corp 照明光学系および該光学系を備えた露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0775570A3 (en) 1997-08-20
EP0775570A2 (en) 1997-05-28
JPH09141747A (ja) 1997-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5293993B2 (ja) 光造形装置および光造形方法
US7088432B2 (en) Dynamic mask projection stereo micro lithography
EP1935620B1 (en) Optical modeling apparatus and optical modeling method
EP0549993B1 (en) Stereolithographic apparatus and method of forming a model
KR102386069B1 (ko) 공간적으로 비균일한 조명을 사용하는 임프린트 시스템 및 임프린팅 프로세스
JP5024001B2 (ja) 光造形装置および光造形方法
JP2010510089A (ja) ポリマーオブジェクトオプティカル製造工程
JPH08192469A (ja) 光硬化性樹脂の硬化装置
JP4669843B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
JP3556358B2 (ja) 均一化された面露光式光硬化造形装置
JPH06246839A (ja) 光造形装置
JP4828028B2 (ja) 立体造形装置および立体造形方法
JP3805749B2 (ja) 薄膜硬化型光造形装置
JPS63141725A (ja) 立体形状形成装置
JPH04301431A (ja) 光学的造形物成形装置
JPS61217219A (ja) 立体形状形成装置
JP4519274B2 (ja) 光造形装置および光造形方法
JPS63145016A (ja) 立体形状形成装置
JP3165411B2 (ja) 感光性物質を利用したレンチキュラー板の製作方法及び装置
JPS6299753A (ja) 立体形状の形成方法
JP3282291B2 (ja) スクリーン印刷版製造方法
KR20000018892A (ko) 액정 패널을 이용한 3차원 광조형물 제조 방법 및 제조 장치
JPH03275337A (ja) 光学的立体造形方法
JPH05269864A (ja) 三次元光造形装置
JPH05169550A (ja) 光学的造形方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20031210

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20031201

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040413

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040512

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090521

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100521

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100521

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110521

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120521

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120521

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees