JP3516097B2 - マイクロ波プラズマ装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子基板のエッ
チング、薄膜形成等に使用するマイクロ波プラズマ装置
に関する。
チング、薄膜形成等に使用するマイクロ波プラズマ装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の製造において、減圧下にあ
る真空容器内にマイクロ波を導入することによりプラズ
マを生成させ、このプラズマを試料の表面に照射してエ
ッチング、薄膜形成等の処理を行うマイクロ波プラズマ
装置が用いられている。
る真空容器内にマイクロ波を導入することによりプラズ
マを生成させ、このプラズマを試料の表面に照射してエ
ッチング、薄膜形成等の処理を行うマイクロ波プラズマ
装置が用いられている。
【０００３】図９は、マイクロ波プラズマ装置の１種で
ある電子サイクロトロン共鳴励起を利用するマイクロ波
プラズマ装置を示す模式的縦断面図である。図中３はプ
ラズマ生成室であり、このプラズマ生成室３の上部中央
にはマイクロ波導入口５が開口され、石英等のマイクロ
波導入窓２にて真空封止されている。このマイクロ波導
入口５には、図示しないマイクロ波発振器にその他端側
が接続された導波管１が取り付けられている。プラズマ
生成室壁４は２重構造であり、冷却水を通流させるため
の通流室６を備えている。
ある電子サイクロトロン共鳴励起を利用するマイクロ波
プラズマ装置を示す模式的縦断面図である。図中３はプ
ラズマ生成室であり、このプラズマ生成室３の上部中央
にはマイクロ波導入口５が開口され、石英等のマイクロ
波導入窓２にて真空封止されている。このマイクロ波導
入口５には、図示しないマイクロ波発振器にその他端側
が接続された導波管１が取り付けられている。プラズマ
生成室壁４は２重構造であり、冷却水を通流させるため
の通流室６を備えている。
【０００４】プラズマ生成室３の下側には試料室１０が
連設されており、この試料室１０内には、試料台１４が
配設されており、この試料台１４上にはウエハ等の試料
Ｓが、静電吸着等の手段にて着脱可能に載置されてい
る。また、試料室壁１１にはガス導入管１２が連結さ
れ、また排気装置（図示せず）に連結される排気口１３
が設けられている。
連設されており、この試料室１０内には、試料台１４が
配設されており、この試料台１４上にはウエハ等の試料
Ｓが、静電吸着等の手段にて着脱可能に載置されてい
る。また、試料室壁１１にはガス導入管１２が連結さ
れ、また排気装置（図示せず）に連結される排気口１３
が設けられている。
【０００５】プラズマ生成室３の外側には、励磁コイル
９が周設されている。そして、プラズマ生成室３の内部
には、プラズマ生成室３の各壁が、生成されたプラズマ
の直接照射を受けないように、上部壁、側壁を覆う防着
筒７がプラズマ生成室の下部壁に防着筒保持手段８で取
り付けられている。この点について後述する。
９が周設されている。そして、プラズマ生成室３の内部
には、プラズマ生成室３の各壁が、生成されたプラズマ
の直接照射を受けないように、上部壁、側壁を覆う防着
筒７がプラズマ生成室の下部壁に防着筒保持手段８で取
り付けられている。この点について後述する。
【０００６】図１０はプラズマ生成室３部分の拡大図で
ある。防着筒７はマイクロ波導入窓２と対向しプラズマ
生成室３の上部壁を覆う上面部７ａとプラズマ生成室３
の側壁部を覆う筒部７ｂとからなっており、上面部７ａ
はマイクロ波の透過材料である石英、アルミナ等によ
り、筒部７ｂは、石英、アルミナ、アルミニウム等によ
って通常形成されている。上面部７ａと筒部７ｂは一体
的に形成される場合もある。防着筒７は、防着筒保持リ
ング８ａ上に載置された状態で、防着筒保持リング８ａ
に開けられた孔８ｂを介してボルト８ｃによってプラズ
マ生成室壁４に固定保持されている。
ある。防着筒７はマイクロ波導入窓２と対向しプラズマ
生成室３の上部壁を覆う上面部７ａとプラズマ生成室３
の側壁部を覆う筒部７ｂとからなっており、上面部７ａ
はマイクロ波の透過材料である石英、アルミナ等によ
り、筒部７ｂは、石英、アルミナ、アルミニウム等によ
って通常形成されている。上面部７ａと筒部７ｂは一体
的に形成される場合もある。防着筒７は、防着筒保持リ
ング８ａ上に載置された状態で、防着筒保持リング８ａ
に開けられた孔８ｂを介してボルト８ｃによってプラズ
マ生成室壁４に固定保持されている。
【０００７】以上のような構成のマイクロ波プラズマ装
置を使用してエッチングを行う方法について説明する
（図９参照）。
置を使用してエッチングを行う方法について説明する
（図９参照）。
【０００８】先ずプラズマ生成室３内を所定の圧力まで
排気した後、ガス導入管１２よりエッチング用のガスを
導入し所定の圧力とする。そして励磁コイル９にて磁界
を形成しつつマイクロ波導入窓２を介してプラズマ生成
室３内へマイクロ波を導入する。すると、プラズマ生成
室内で電子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマが生
成する。生成したプラズマは、励磁コイル９にて形成さ
れ、試料室１０へ向かうに従い磁界が低下する発散磁界
によって、試料室１０内の試料Ｓに投射され、試料Ｓが
エッチングされる。
排気した後、ガス導入管１２よりエッチング用のガスを
導入し所定の圧力とする。そして励磁コイル９にて磁界
を形成しつつマイクロ波導入窓２を介してプラズマ生成
室３内へマイクロ波を導入する。すると、プラズマ生成
室内で電子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマが生
成する。生成したプラズマは、励磁コイル９にて形成さ
れ、試料室１０へ向かうに従い磁界が低下する発散磁界
によって、試料室１０内の試料Ｓに投射され、試料Ｓが
エッチングされる。
【０００９】しかしながら、上記構成のマイクロ波プラ
ズマ装置においては、マイクロ波を導入しプラズマを長
時間生成すると、防着筒７がプラズマによって加熱され
熱膨張により寸法変化が起こり、防着筒の上面部７ａと
マイクロ波導入窓２との間隙が変化し、これによりプラ
ズマの生成状態が変化し、プラズマ処理の再現性を悪化
させるという問題があった。
ズマ装置においては、マイクロ波を導入しプラズマを長
時間生成すると、防着筒７がプラズマによって加熱され
熱膨張により寸法変化が起こり、防着筒の上面部７ａと
マイクロ波導入窓２との間隙が変化し、これによりプラ
ズマの生成状態が変化し、プラズマ処理の再現性を悪化
させるという問題があった。
【００１０】これに対し、本出願人は図１１に示すよう
に防着筒の上面部７ａとプラズマ生成室３の上部壁との
間に間隙保持部材２１を設けることにより、防着筒の上
面部７ａとマイクロ波導入窓２との間隙を所定の値に保
持する装置を提案している（特開平６−２５２１００号
公報参照）。
に防着筒の上面部７ａとプラズマ生成室３の上部壁との
間に間隙保持部材２１を設けることにより、防着筒の上
面部７ａとマイクロ波導入窓２との間隙を所定の値に保
持する装置を提案している（特開平６−２５２１００号
公報参照）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
防着筒の上面部７ａとプラズマ生成室３の上部壁との間
隙に間隙保持部材２１を備える特開平６−２５２１００
号公報記載の装置においては、防着筒７の保持を防着筒
の筒部７ｂの下端を防着筒保持リング８ａ上に載置し、
防着筒保持リング８ａをボルト８ｃによってプラズマ生
成室壁４の下部壁に固定することにより行っていたた
め、プラズマの生成を長時間行うと、プラズマ加熱によ
り防着筒７が熱膨張して変形し甚だしい場合には割れた
り、また、防着筒７の熱膨張に伴い、防着筒保持リング
８ａが変形し、防着筒７の交換の際、取り外しが困難に
なるという問題があった。
防着筒の上面部７ａとプラズマ生成室３の上部壁との間
隙に間隙保持部材２１を備える特開平６−２５２１００
号公報記載の装置においては、防着筒７の保持を防着筒
の筒部７ｂの下端を防着筒保持リング８ａ上に載置し、
防着筒保持リング８ａをボルト８ｃによってプラズマ生
成室壁４の下部壁に固定することにより行っていたた
め、プラズマの生成を長時間行うと、プラズマ加熱によ
り防着筒７が熱膨張して変形し甚だしい場合には割れた
り、また、防着筒７の熱膨張に伴い、防着筒保持リング
８ａが変形し、防着筒７の交換の際、取り外しが困難に
なるという問題があった。
【００１２】本発明は、プラズマ処理の再現性を良好と
するとともに防着筒の熱膨張による変形や割れ破損ある
いは防着筒の取り外しに困難のないマイクロ波プラズマ
装置を提供することを目的としている。
するとともに防着筒の熱膨張による変形や割れ破損ある
いは防着筒の取り外しに困難のないマイクロ波プラズマ
装置を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラズマ生成
室と、前記プラズマ生成室の上部壁に形成された開口に
取り付けてあるマイクロ波導入窓と、前記プラズマ生成
室の内部にプラズマ生成室の内壁を覆う防着筒とを備え
るマイクロ波プラズマ装置であって、前記防着筒は、筒
部の上端が前記プラズマ生成室の上部壁に接しており、
筒部の下端が下方向へ弾性変形することが可能な防着筒
保持手段により保持してあることを特徴とする。また、
本発明は、前記防着筒保持手段は、板バネ又はコイル状
のバネを備えることを特徴とする。さらに、本発明は、
プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室の上部壁に形成
された開口に取り付けてあるマイクロ波導入窓と、前記
プラズマ生成室の内部にプラズマ生成室の内壁を覆う防
着筒とを備えるマイクロ波プラズマ装置であって、前記
内壁の前記上壁部から下方へ間隙を隔てた箇所より前記
プラズマ生成室の内側へ突設してある第１張り出し部分
と、前記防着筒の筒部の上端部分から外側へ突設してあ
る第２張り出し部分とを備え、前記第２張り出し部分を
前記第１張り出し部分に載置する構成にしてあることを
特徴とする。
室と、前記プラズマ生成室の上部壁に形成された開口に
取り付けてあるマイクロ波導入窓と、前記プラズマ生成
室の内部にプラズマ生成室の内壁を覆う防着筒とを備え
るマイクロ波プラズマ装置であって、前記防着筒は、筒
部の上端が前記プラズマ生成室の上部壁に接しており、
筒部の下端が下方向へ弾性変形することが可能な防着筒
保持手段により保持してあることを特徴とする。また、
本発明は、前記防着筒保持手段は、板バネ又はコイル状
のバネを備えることを特徴とする。さらに、本発明は、
プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室の上部壁に形成
された開口に取り付けてあるマイクロ波導入窓と、前記
プラズマ生成室の内部にプラズマ生成室の内壁を覆う防
着筒とを備えるマイクロ波プラズマ装置であって、前記
内壁の前記上壁部から下方へ間隙を隔てた箇所より前記
プラズマ生成室の内側へ突設してある第１張り出し部分
と、前記防着筒の筒部の上端部分から外側へ突設してあ
る第２張り出し部分とを備え、前記第２張り出し部分を
前記第１張り出し部分に載置する構成にしてあることを
特徴とする。
【００１４】
【作用】本発明装置は、防着筒がその下端で弾性のある
防着筒保持手段により保持されるので、防着筒の上端を
固定したまま、プラズマ生成時の防着筒の熱膨張を弾性
部分の伸縮により吸収することができる。これにより、
防着筒とマイクロ波導入窓との間隙を一定の値に保持す
ることができ、プラズマ生成の再現性を良好とするとと
もに、防着筒の変形や割れ破損あるいは防着筒保持リン
グの変形に起因して防着筒の取り外しが困難になること
を防止することができる。
防着筒保持手段により保持されるので、防着筒の上端を
固定したまま、プラズマ生成時の防着筒の熱膨張を弾性
部分の伸縮により吸収することができる。これにより、
防着筒とマイクロ波導入窓との間隙を一定の値に保持す
ることができ、プラズマ生成の再現性を良好とするとと
もに、防着筒の変形や割れ破損あるいは防着筒保持リン
グの変形に起因して防着筒の取り外しが困難になること
を防止することができる。
【００１５】また、防着筒がその上端近傍でプラズマ生
成室に第２張り出し部分を第１張り出し部分に載置する
ことにより保持されているので、防着筒の熱膨張による
伸びは防着筒の下端に現れ、防着筒とマイクロ波導入窓
との間隙に対する伸びの影響はほとんどない。また、防
着筒の下端は固定されておらず、防着筒保持リングを使
用していないので、これの変形に起因して防着筒の取り
外しが困難になることもない。
成室に第２張り出し部分を第１張り出し部分に載置する
ことにより保持されているので、防着筒の熱膨張による
伸びは防着筒の下端に現れ、防着筒とマイクロ波導入窓
との間隙に対する伸びの影響はほとんどない。また、防
着筒の下端は固定されておらず、防着筒保持リングを使
用していないので、これの変形に起因して防着筒の取り
外しが困難になることもない。
【００１６】
【実施例】以下、本発明のマイクロ波プラズマ装置の実
施例を図面に基づいて説明する。
施例を図面に基づいて説明する。
【００１７】図１は第１の実施例のマイクロ波プラズマ
装置のプラズマ生成室３部分の模式的断面図である。防
着筒７は、アルミニウム製の筒部７ｂとアルミナ製の上
面部７ａとから構成され、筒部７ｂの上端部は外周が突
出する段差を有するように形成され、上面部７ａをこの
段差上に保持する構成になっている。防着筒７は、筒部
７ｂの上端がプラズマ生成室３の上部壁に接するよう
に、筒部７ｂの下端を防着筒保持手段８によって、プラ
ズマ生成室壁４の下部壁に固定されている。
装置のプラズマ生成室３部分の模式的断面図である。防
着筒７は、アルミニウム製の筒部７ｂとアルミナ製の上
面部７ａとから構成され、筒部７ｂの上端部は外周が突
出する段差を有するように形成され、上面部７ａをこの
段差上に保持する構成になっている。防着筒７は、筒部
７ｂの上端がプラズマ生成室３の上部壁に接するよう
に、筒部７ｂの下端を防着筒保持手段８によって、プラ
ズマ生成室壁４の下部壁に固定されている。
【００１８】防着筒保持手段８及び防着筒の保持の方法
について詳述する。図２は図１の中の防着筒保持部分Ａ
の拡大図であり、図４はＢ−Ｂ’断面を矢印の方向から
見た模式的断面図であり、図３はボルト８ｃによりプラ
ズマ生成室壁４の下部壁に取り付けられる前の防着筒保
持手段８の模式図である。
について詳述する。図２は図１の中の防着筒保持部分Ａ
の拡大図であり、図４はＢ−Ｂ’断面を矢印の方向から
見た模式的断面図であり、図３はボルト８ｃによりプラ
ズマ生成室壁４の下部壁に取り付けられる前の防着筒保
持手段８の模式図である。
【００１９】図３に示すように、ボルト孔８ｅを有する
板バネ８ｄが４ケ所配置されたアルミニウム製の防着筒
保持リング８ａで、防着筒保持手段８は主に構成されて
いる。この板バネ８ｄはそれぞれボルト８ｆにより両端
を防着筒保持リング８ａに固定されている。孔８ｂは、
ボルト８ｃにより防着筒保持リング８ａをプラズマ生成
室壁４の下部壁に取り付ける際、防着筒保持リング８ａ
の下側からボルト８ｃを取り付けるためのものである。
板バネ８ｄが４ケ所配置されたアルミニウム製の防着筒
保持リング８ａで、防着筒保持手段８は主に構成されて
いる。この板バネ８ｄはそれぞれボルト８ｆにより両端
を防着筒保持リング８ａに固定されている。孔８ｂは、
ボルト８ｃにより防着筒保持リング８ａをプラズマ生成
室壁４の下部壁に取り付ける際、防着筒保持リング８ａ
の下側からボルト８ｃを取り付けるためのものである。
【００２０】図２に示すように、防着筒の筒部７ｂが防
着筒保持リング８ａの内周部に載置されており、また、
防着筒保持リング８ａは、ボルト８ｃによって板バネ８
ｄに開けられたボルト孔８ｅを介してプラズマ生成室壁
４の下部壁に固定されている。この固定は、防着筒の筒
部７ｂの上端がプラズマ生成室３の上部壁に接するよう
に行われる。
着筒保持リング８ａの内周部に載置されており、また、
防着筒保持リング８ａは、ボルト８ｃによって板バネ８
ｄに開けられたボルト孔８ｅを介してプラズマ生成室壁
４の下部壁に固定されている。この固定は、防着筒の筒
部７ｂの上端がプラズマ生成室３の上部壁に接するよう
に行われる。
【００２１】図４に示すように、防着筒が載置されてい
る防着筒保持リング８ａは、プラズマ生成室壁４の下部
壁に固定されたボルト８ｃによって、板バネ８ｄを介し
て吊り上げるように保持された状態となっている。した
がって、防着筒の筒部７ｂが膨張し伸長した場合、防着
筒保持リング８ａに下方向に力が加わるが、板バネ８ｄ
のたわみにより吸収することができる。
る防着筒保持リング８ａは、プラズマ生成室壁４の下部
壁に固定されたボルト８ｃによって、板バネ８ｄを介し
て吊り上げるように保持された状態となっている。した
がって、防着筒の筒部７ｂが膨張し伸長した場合、防着
筒保持リング８ａに下方向に力が加わるが、板バネ８ｄ
のたわみにより吸収することができる。
【００２２】すなわち、以上の構成により、プラズマを
長時間生成した場合でも、防着筒７は筒部７ｂの上端が
プラズマ生成室３の上部壁に接するように防着筒保持手
段８によって保持されているので、防着筒の上面部７ａ
とマイクロ波導入窓２との間隙は、この筒部７ｂの突出
長さによって規定された長さで一定に保持され、変化し
ない。また、防着筒の筒部７ｂのプラズマ加熱による膨
張により筒部７ｂの下端が下方向に伸びた場合、板バネ
８ｄのたわみによって防着筒保持リング８ａが下方向に
移動するので、防着筒及び防着筒保持リングには大きな
力は加わらず、この結果防着筒の変形及び防着筒保持リ
ングの変形が防止されることになる。
長時間生成した場合でも、防着筒７は筒部７ｂの上端が
プラズマ生成室３の上部壁に接するように防着筒保持手
段８によって保持されているので、防着筒の上面部７ａ
とマイクロ波導入窓２との間隙は、この筒部７ｂの突出
長さによって規定された長さで一定に保持され、変化し
ない。また、防着筒の筒部７ｂのプラズマ加熱による膨
張により筒部７ｂの下端が下方向に伸びた場合、板バネ
８ｄのたわみによって防着筒保持リング８ａが下方向に
移動するので、防着筒及び防着筒保持リングには大きな
力は加わらず、この結果防着筒の変形及び防着筒保持リ
ングの変形が防止されることになる。
【００２３】本実施例の装置により、プラズマ処理の再
現性及び防着筒の変形及び防着筒保持リングの変形がな
いことが、Ａｒガスプラズマによる長時間のプラズマ生
成によって確認できた。
現性及び防着筒の変形及び防着筒保持リングの変形がな
いことが、Ａｒガスプラズマによる長時間のプラズマ生
成によって確認できた。
【００２４】また、弾性的に押し上げる力を供給するも
のとして、板バネの代わりに、コイル状のバネを用いて
も良い。図５はこの一例であり、防着筒保持リング８ａ
と支持板８ｈとの間にはコイル状のバネ８ｇがそのバネ
の両端部が固定されて設けられており、支持板８ｈに開
けられたボルト孔８ｉを介してボルト８ｃによって、プ
ラズマ生成室壁４の下部壁に固定される。この場合、防
着筒保持リング８ａは、支持板８ｈ、コイル状のバネ８
ｇを介して、吊り上げるように保持された状態となる。
先の実施例と同様、防着筒の筒部が膨張し伸長した場
合、防着筒保持リング８ａに下方向に力が加わるが、コ
イル状のバネ８ｇの伸長により吸収することができる。
のとして、板バネの代わりに、コイル状のバネを用いて
も良い。図５はこの一例であり、防着筒保持リング８ａ
と支持板８ｈとの間にはコイル状のバネ８ｇがそのバネ
の両端部が固定されて設けられており、支持板８ｈに開
けられたボルト孔８ｉを介してボルト８ｃによって、プ
ラズマ生成室壁４の下部壁に固定される。この場合、防
着筒保持リング８ａは、支持板８ｈ、コイル状のバネ８
ｇを介して、吊り上げるように保持された状態となる。
先の実施例と同様、防着筒の筒部が膨張し伸長した場
合、防着筒保持リング８ａに下方向に力が加わるが、コ
イル状のバネ８ｇの伸長により吸収することができる。
【００２５】図６は第２の実施例のマイクロ波プラズマ
装置のプラズマ生成室３部分の模式的断面図である。防
着筒７は、石英製の筒部７ｂと石英製の上面部７ａとか
ら構成され、筒部７ｂの上端部は外周が突出する段差を
有するように形成され、上面部７ａをこの段差上に保持
する構成になっている。本実施例では、防着筒の筒部７
ｂの下端で保持する代わりに、上端の近傍でプラズマ生
成室壁４に固定し防着筒７を吊り下げて保持する構成と
した。吊り下げるために、プラズマ生成室壁４に内側に
向かって保持用の張り出し部分４ｃを４ケ所設けるとと
もに、それに対応して図７にも示すように防着筒の筒部
７ｂの上端部分にも外側に向かって保持用の張り出し部
分７ｃを４ケ所設けた。取り付け方としては、図８に示
すように、防着筒７を下側から押し上げて、プラズマ生
成室３内に挿入し、これを回転させて、防着筒の張り出
し部分７ｃがプラズマ生成室壁４の張り出し部分４ｃに
載せて取り付ける。本実施例では、防着筒７の下端から
試料台１４までは防着筒７の筒部７ｂの熱膨張を妨げる
ものは何もない。
装置のプラズマ生成室３部分の模式的断面図である。防
着筒７は、石英製の筒部７ｂと石英製の上面部７ａとか
ら構成され、筒部７ｂの上端部は外周が突出する段差を
有するように形成され、上面部７ａをこの段差上に保持
する構成になっている。本実施例では、防着筒の筒部７
ｂの下端で保持する代わりに、上端の近傍でプラズマ生
成室壁４に固定し防着筒７を吊り下げて保持する構成と
した。吊り下げるために、プラズマ生成室壁４に内側に
向かって保持用の張り出し部分４ｃを４ケ所設けるとと
もに、それに対応して図７にも示すように防着筒の筒部
７ｂの上端部分にも外側に向かって保持用の張り出し部
分７ｃを４ケ所設けた。取り付け方としては、図８に示
すように、防着筒７を下側から押し上げて、プラズマ生
成室３内に挿入し、これを回転させて、防着筒の張り出
し部分７ｃがプラズマ生成室壁４の張り出し部分４ｃに
載せて取り付ける。本実施例では、防着筒７の下端から
試料台１４までは防着筒７の筒部７ｂの熱膨張を妨げる
ものは何もない。
【００２６】以上の構成により、プラズマを長時間生成
した場合でも、防着筒７のプラズマ生成室との固定点が
筒部７ｂの上端近傍にあるので、プラズマ加熱による防
着筒の筒部７ｂの伸びは、主に防着筒の筒部７ｂの下端
の伸びとして現れるので、防着筒の上面部７ａとマイク
ロ波導入窓２との間隙に対する防着筒の筒部７ｂの伸び
の影響はほとんどない。また、防着筒７が吊り下げられ
た構造であり、防着筒７の下端から試料台１４までは何
もないので、防着筒の筒部７ｂの下端が熱膨張によって
伸長したとしても、防着筒７の変形や割れ破損のおそれ
がない。
した場合でも、防着筒７のプラズマ生成室との固定点が
筒部７ｂの上端近傍にあるので、プラズマ加熱による防
着筒の筒部７ｂの伸びは、主に防着筒の筒部７ｂの下端
の伸びとして現れるので、防着筒の上面部７ａとマイク
ロ波導入窓２との間隙に対する防着筒の筒部７ｂの伸び
の影響はほとんどない。また、防着筒７が吊り下げられ
た構造であり、防着筒７の下端から試料台１４までは何
もないので、防着筒の筒部７ｂの下端が熱膨張によって
伸長したとしても、防着筒７の変形や割れ破損のおそれ
がない。
【００２７】本実施例の装置においても、プラズマ処理
の再現性及び防着筒の変形や割れ破損がないことが、Ａ
ｒガスプラズマによる長時間のプラズマ生成によって確
認できた。
の再現性及び防着筒の変形や割れ破損がないことが、Ａ
ｒガスプラズマによる長時間のプラズマ生成によって確
認できた。
【００２８】
【発明の効果】以上詳述したように本発明のマイクロ波
プラズマ装置においては、プラズマ処理の再現性を良好
とするとともに防着筒の熱膨張による変形や割れ破損あ
るいは防着筒の取り外しが困難になることをなくすこと
ができる。
プラズマ装置においては、プラズマ処理の再現性を良好
とするとともに防着筒の熱膨張による変形や割れ破損あ
るいは防着筒の取り外しが困難になることをなくすこと
ができる。
【図１】第１の実施例のマイクロ波プラズマ装置のプラ
ズマ生成室部分を示した模式的断面図である。
ズマ生成室部分を示した模式的断面図である。
【図２】第１の実施例の図１の中の防着筒保持部分Ａの
拡大図である。
拡大図である。
【図３】第１の実施例の防着筒保持手段８を示した模式
図である。
図である。
【図４】第１の実施例の図２におけるＢ−Ｂ’断面を矢
印方向から見た防着筒保持部分の模式的断面図である。
印方向から見た防着筒保持部分の模式的断面図である。
【図５】第１の実施例のコイル状のバネを用いた場合の
防着筒保持部分の模式的断面図である。
防着筒保持部分の模式的断面図である。
【図６】第２の実施例のマイクロ波プラズマ装置のプラ
ズマ生成室部分を示した模式的断面図である。
ズマ生成室部分を示した模式的断面図である。
【図７】第２の実施例の防着筒の模式図である。
【図８】第２の実施例の防着筒の取り付け方を説明する
模式図である。
模式図である。
【図９】従来のマイクロ波プラズマ装置の模式的断面図
である。
である。
【図１０】従来のマイクロ波プラズマ装置のプラズマ生
成室部分を示した模式的断面図である。
成室部分を示した模式的断面図である。
【図１１】別の従来のマイクロ波プラズマ装置のプラズ
マ生成室部分を示した模式的断面図である。
マ生成室部分を示した模式的断面図である。
２ マイクロ波導入窓
７ 防着筒
７ａ 防着筒の上面部
７ｂ 防着筒の筒部
８ 防着筒保持手段
８ａ 防着筒保持リング
８ｂ 孔
８ｃ ボルト
８ｄ 板バネ
８ｅ ボルト孔
８ｆ ボルト
８ｇ コイル状のバネ
８ｈ 支持板
８ｉ ボルト孔
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−252100（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−128750（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−29890（ＪＰ，Ａ)
実開 平６−86334（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H05H 1/00
C23F 4/00
H01L 21/205
H01L 21/3065
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室
の上部壁に形成された開口に取り付けてあるマイクロ波
導入窓と、前記プラズマ生成室の内部にプラズマ生成室
の内壁を覆う防着筒とを備えるマイクロ波プラズマ装置
であって、前記防着筒は、筒部の上端が前記プラズマ生成室の上部
壁に接しており、筒部の下端が下方向へ弾性変形するこ
とが可能な 防着筒保持手段により保持してあることを特
徴とするマイクロ波プラズマ装置。 - 【請求項２】 前記防着筒保持手段は、板バネ又はコイ
ル状のバネを備える請求項１に記載のマイクロ波プラズ
マ装置。 - 【請求項３】 プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室
の上部壁に形成された開口に取り付けてあるマイクロ波
導入窓と、前記プラズマ生成室の内部にプラズマ生成室
の内壁を覆う防着筒とを備えるマイクロ波プラズマ装置
であって、 前記内壁の前記上壁部から下方へ間隙を隔てた箇所より
前記プラズマ生成室の内側へ突設してある第１張り出し
部分と、 前記防着筒の筒部の上端部分から外側へ突設してある第
２張り出し部分とを備え、 前記第２張り出し部分を前記第１張り出し部分に載置す
る構成にしてあることを特徴とするマイクロ波プラズマ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32703194A JP3516097B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | マイクロ波プラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32703194A JP3516097B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | マイクロ波プラズマ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08185997A JPH08185997A (ja) | 1996-07-16 |
| JP3516097B2 true JP3516097B2 (ja) | 2004-04-05 |
Family
ID=18194542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32703194A Expired - Fee Related JP3516097B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | マイクロ波プラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3516097B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6357385B1 (en) * | 1997-01-29 | 2002-03-19 | Tadahiro Ohmi | Plasma device |
| JP3962722B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2007-08-22 | 三菱重工業株式会社 | プラズマ処理装置 |
| WO2011075573A1 (en) | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Scion Neurostim, Llc | Devices and methods for vestibular and/or cranial nerve stimulation |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP32703194A patent/JP3516097B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08185997A (ja) | 1996-07-16 |
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