JP3508199B2 - ブラックマトリックス用レジスト組成物、当該組成物により得られるブラックマトリックス - Google Patents
ブラックマトリックス用レジスト組成物、当該組成物により得られるブラックマトリックスInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルター（画
素）を区切るための遮光膜であるブラックマトリックス
に用いられるレジスト組成物、当該組成物を用いてブラ
ックマトリックスを製造する方法、及び該方法により得
られるブラックマトリックスに関する。
素）を区切るための遮光膜であるブラックマトリックス
に用いられるレジスト組成物、当該組成物を用いてブラ
ックマトリックスを製造する方法、及び該方法により得
られるブラックマトリックスに関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターは電荷結合素子(CCD)
もしくは液晶表示素子(LCD) 等に用いられている。そし
て、コントラストの良好な画像を得るために、カラーフ
ィルター（画素）間に遮光膜であるブラックマトリック
スを形成する必要がある。従来、ブラックマトリックス
の形成については、主に可染性樹脂をパターニング後、
染色する方法が採用されていた。しかしながら、この方
法は複雑な工程を要し、各々の材料の管理についても困
難であった。しかも、十分な黒色濃度が得られにくく、
微細度も十分でないという問題点があった。そこで、例
えば特開平４−190362号公報には、黒色有機顔料及び／
又は赤、青、緑、紫、黄、シアン、マゼンタから選ばれ
る少なくとも２種以上の有機顔料を混合し擬似黒色化し
た混色有機顔料からなる有機系顔料と、カーボンブラッ
ク、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブ
ラックから選ばれる少なくとも１種以上の遮光剤と、感
光性樹脂とを、溶剤中に含有してなることを特徴とする
遮光膜形成用レジスト、並びに、該レジストを用いてパ
ターンを形成した遮光膜が記載されている。しかしなが
ら、上記レジストについても、微細度等の性能は満足な
ものではない。
もしくは液晶表示素子(LCD) 等に用いられている。そし
て、コントラストの良好な画像を得るために、カラーフ
ィルター（画素）間に遮光膜であるブラックマトリック
スを形成する必要がある。従来、ブラックマトリックス
の形成については、主に可染性樹脂をパターニング後、
染色する方法が採用されていた。しかしながら、この方
法は複雑な工程を要し、各々の材料の管理についても困
難であった。しかも、十分な黒色濃度が得られにくく、
微細度も十分でないという問題点があった。そこで、例
えば特開平４−190362号公報には、黒色有機顔料及び／
又は赤、青、緑、紫、黄、シアン、マゼンタから選ばれ
る少なくとも２種以上の有機顔料を混合し擬似黒色化し
た混色有機顔料からなる有機系顔料と、カーボンブラッ
ク、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブ
ラックから選ばれる少なくとも１種以上の遮光剤と、感
光性樹脂とを、溶剤中に含有してなることを特徴とする
遮光膜形成用レジスト、並びに、該レジストを用いてパ
ターンを形成した遮光膜が記載されている。しかしなが
ら、上記レジストについても、微細度等の性能は満足な
ものではない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は充分な遮光効
果が得られ、微細度及び耐熱性等の諸性能に優れ且つ充
分な色濃度が得られる、色素を含むレジスト組成物、当
該組成物を用いてブラックマトリックスを製造する方
法、及び該方法により得られるブラックマトリックスを
提供する。
果が得られ、微細度及び耐熱性等の諸性能に優れ且つ充
分な色濃度が得られる、色素を含むレジスト組成物、当
該組成物を用いてブラックマトリックスを製造する方
法、及び該方法により得られるブラックマトリックスを
提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、（１）
アルカリ性現像液及び有機溶剤の双方に可溶であ
り、色素の色の異なる２種以上、アルカリ可溶性樹脂、
キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含み、当該色素の
１種が一般式（１）で表されるビスもしくはトリスアゾ
系色素である、ブラックマトリックス用黒色ポジ型レジ
スト組成物。 Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−（−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−） k −Ｎ＝Ｎ−Ｅ （Ｉ） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは各々独立して置換されてい
てもよいベンゼン環もしくはナフタレン環を表わし、ｋ
は０又は１を表わすが、上記Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥの中少な
くとも１つは、−ＳＯ 2 ＮＨ−Ｒ（式中、Ｒはアルキ
ル、シクロアルキル 、アルキルカルボニルアミノアルキ
ル、アルキルカルボニルアミノ、シクロヘキシルアルキ
ル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、アラ
ルキルもしくはアルキルカルボニルオキシ基を表わ
す。）基で置換されたベンゼン環もしくはナフタレン環
を表わす。〕、 （２）支持体上に黒色皮膜を設けたブラックマトリック
スであって、該黒色皮膜は上記（１）に記載のブラック
マトリックス用黒色ポジ型レジスト組成物を紫外線又は
遠紫外線リソグラフィーすることにより得られるもので
あることを特徴とするブラックマトリックス、 である。
り、色素の色の異なる２種以上、アルカリ可溶性樹脂、
キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含み、当該色素の
１種が一般式（１）で表されるビスもしくはトリスアゾ
系色素である、ブラックマトリックス用黒色ポジ型レジ
スト組成物。 Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−（−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−） k −Ｎ＝Ｎ−Ｅ （Ｉ） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは各々独立して置換されてい
てもよいベンゼン環もしくはナフタレン環を表わし、ｋ
は０又は１を表わすが、上記Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥの中少な
くとも１つは、−ＳＯ 2 ＮＨ−Ｒ（式中、Ｒはアルキ
ル、シクロアルキル 、アルキルカルボニルアミノアルキ
ル、アルキルカルボニルアミノ、シクロヘキシルアルキ
ル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、アラ
ルキルもしくはアルキルカルボニルオキシ基を表わ
す。）基で置換されたベンゼン環もしくはナフタレン環
を表わす。〕、 （２）支持体上に黒色皮膜を設けたブラックマトリック
スであって、該黒色皮膜は上記（１）に記載のブラック
マトリックス用黒色ポジ型レジスト組成物を紫外線又は
遠紫外線リソグラフィーすることにより得られるもので
あることを特徴とするブラックマトリックス、 である。
【０００５】前記（１）のブラックマトリックス用黒色
ポジ型レジスト組成物に用いられる色素として、アゾ系
色素としては、一般式（Ｉ） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−（−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−）k −Ｎ＝Ｎ−Ｅ （Ｉ） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは各々独立して置換されてい
てもよいベンゼン環もしくはナフタレン環を表わし、ｋ
は０又は１を表わすが、上記Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥの中少な
くとも１つは、−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは上記と同じ意味
を表わす）基で置換されたベンゼン環もしくはナフタレ
ン環を表わす。〕で示されるビスもしくはトリスアゾ系
色素等が挙げられる。一般式（Ｉ）においてＡ、Ｂ、Ｄ
及びＥで表わされるベンゼン環もしくはナフタレン環の
置換基としては、例えばカルボキシル基、カルボン酸
塩、スルホン酸基、スルホン酸塩、水酸基、アミノ基、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルカル
ボニルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン原
子、フェニルアミノ基（フェニルはさらに適当な置換基
を有していてもよい）、−ＣＯＮＨ−Ｒ（Ｒは上記と同
じ意味を表わす）及び上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ等が挙げら
れる。好ましい置換基としては、例えば水酸基、アミノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
カルボニルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン
原子、フェニルアミノ基及び−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ等が挙げ
られる。一般式（Ｉ）で示されるビスもしくはトリスア
ゾ系色素としては、例えば一般式（ＩＩＩ）
ポジ型レジスト組成物に用いられる色素として、アゾ系
色素としては、一般式（Ｉ） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−（−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−）k −Ｎ＝Ｎ−Ｅ （Ｉ） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは各々独立して置換されてい
てもよいベンゼン環もしくはナフタレン環を表わし、ｋ
は０又は１を表わすが、上記Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥの中少な
くとも１つは、−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは上記と同じ意味
を表わす）基で置換されたベンゼン環もしくはナフタレ
ン環を表わす。〕で示されるビスもしくはトリスアゾ系
色素等が挙げられる。一般式（Ｉ）においてＡ、Ｂ、Ｄ
及びＥで表わされるベンゼン環もしくはナフタレン環の
置換基としては、例えばカルボキシル基、カルボン酸
塩、スルホン酸基、スルホン酸塩、水酸基、アミノ基、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルカル
ボニルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン原
子、フェニルアミノ基（フェニルはさらに適当な置換基
を有していてもよい）、−ＣＯＮＨ−Ｒ（Ｒは上記と同
じ意味を表わす）及び上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ等が挙げら
れる。好ましい置換基としては、例えば水酸基、アミノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
カルボニルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ハロゲン
原子、フェニルアミノ基及び−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ等が挙げ
られる。一般式（Ｉ）で示されるビスもしくはトリスア
ゾ系色素としては、例えば一般式（ＩＩＩ）
【０００６】
【化１】
【０００７】〔式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表わし、Ａ、Ｂ、Ｄ
及びｋは上記と同じ意味を表わすが、−ＯＨ及び−ＮＨ
Ｒ1 で置換されているナフタレン環、Ａ、Ｂ及びＤで表
わされるベンゼンもしくはナフタレン環並びにＲ1 で表
わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−ＳＯ2
ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示される基を
置換基として有するものとする。〕で示される色素及び
一般式（ＩＶ）
置換されていてもよいフェニル基を表わし、Ａ、Ｂ、Ｄ
及びｋは上記と同じ意味を表わすが、−ＯＨ及び−ＮＨ
Ｒ1 で置換されているナフタレン環、Ａ、Ｂ及びＤで表
わされるベンゼンもしくはナフタレン環並びにＲ1 で表
わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−ＳＯ2
ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示される基を
置換基として有するものとする。〕で示される色素及び
一般式（ＩＶ）
【０００８】
【化２】
【０００９】（式中、Ａ及びＢは前記と同じ意味を表わ
すが、水酸基で置換されているナフタレン環、アミノ基
で置換されているベンゼン環、並びにＡ及びＢで表わさ
れるベンゼンもしくはナフタレン環の中少なくとも１つ
は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒで示される基を置換基として有
するものとする）で示される色素等が挙げられる。一般
式（ＩＩＩ）で示される色素としては、例えば一般式
（Ｖ）
すが、水酸基で置換されているナフタレン環、アミノ基
で置換されているベンゼン環、並びにＡ及びＢで表わさ
れるベンゼンもしくはナフタレン環の中少なくとも１つ
は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒで示される基を置換基として有
するものとする）で示される色素等が挙げられる。一般
式（ＩＩＩ）で示される色素としては、例えば一般式
（Ｖ）
【００１０】
【化３】
【００１１】〔式中、Ｄ及びＲ1 は上記と同じ意味を表
わすが、アゾ基が結合している２個のベンゼン環、−Ｏ
Ｈ及び−ＮＨＲ1 で置換されているナフタレン環、Ｄで
表わされるベンゼンもしくはナフタレン環、並びに、Ｒ
1 で表わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−
ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示され
る基を置換基として有するものとする。〕で示される色
素、一般式（ＶＩ）
わすが、アゾ基が結合している２個のベンゼン環、−Ｏ
Ｈ及び−ＮＨＲ1 で置換されているナフタレン環、Ｄで
表わされるベンゼンもしくはナフタレン環、並びに、Ｒ
1 で表わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−
ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示され
る基を置換基として有するものとする。〕で示される色
素、一般式（ＶＩ）
【００１２】
【化４】
【００１３】〔式中、Ａ及びＲ1 は上記と同じ意味を表
わすが、アゾ基が結合しているナフタレン環、−ＯＨ及
び−ＮＨＲ1 で置換されているナフタレン環、Ａで表わ
されるベンゼンもしくはナフタレン環、並びに、Ｒ1 で
表わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−ＳＯ
2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示される基
を置換基として有するものとする。〕で示される色素及
び一般式（ＶＩＩ）
わすが、アゾ基が結合しているナフタレン環、−ＯＨ及
び−ＮＨＲ1 で置換されているナフタレン環、Ａで表わ
されるベンゼンもしくはナフタレン環、並びに、Ｒ1 で
表わされるフェニル基の中少なくとも１つは上記−ＳＯ
2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示される基
を置換基として有するものとする。〕で示される色素及
び一般式（ＶＩＩ）
【００１４】
【化５】
【００１５】〔式中、Ｒ2 は置換フェニル基を表わす
が、当該置換基、−ＯＨ及び−ＮＨＲ2で置換されてい
るナフタレン環、並びに、アゾ基が各々結合しているナ
フタレン環及びベンゼン環の中少なくとも１つは上記−
ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示され
る基である。〕で示される色素等が挙げられる。一般式
（ＩＶ）で示される色素としては、例えば一般式（VII
I）
が、当該置換基、−ＯＨ及び−ＮＨＲ2で置換されてい
るナフタレン環、並びに、アゾ基が各々結合しているナ
フタレン環及びベンゼン環の中少なくとも１つは上記−
ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同じ意味である）で示され
る基である。〕で示される色素等が挙げられる。一般式
（ＩＶ）で示される色素としては、例えば一般式（VII
I）
【００１６】
【化６】
【００１７】〔式中、Ｂ’は置換ベンゼンもしくはナフ
タレン環を表わすが、当該置換基、アゾ基が各々結合し
ているナフタレン環、−ＯＨで置換されているナフタレ
ン環、並びにアミノ基で置換されているベンゼン環の中
少なくとも１つは上記−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同
じ意味である）で示される基である。〕で示される色素
等が挙げられる。
タレン環を表わすが、当該置換基、アゾ基が各々結合し
ているナフタレン環、−ＯＨで置換されているナフタレ
ン環、並びにアミノ基で置換されているベンゼン環の中
少なくとも１つは上記−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ（Ｒは前記と同
じ意味である）で示される基である。〕で示される色素
等が挙げられる。
【００１８】一般式（Ｉ）以外のアゾ系色素としては、
例えば一般式（ＩＸ） Ｇ−Ｊ−Ｍ’ （ＩＸ） 〔式中、Ｍ’は下式
例えば一般式（ＩＸ） Ｇ−Ｊ−Ｍ’ （ＩＸ） 〔式中、Ｍ’は下式
【００１９】
【化７】
【００２０】（式中、Ｒ3 〜Ｒ5 は各々独立して水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子、スルホン酸基、スルホ
ン酸塩又は前記の−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わすが、Ｒ3 〜
Ｒ5 の少なくとも１つは−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす。）
で示される基を、Ｊは下式
子、アルキル基、ハロゲン原子、スルホン酸基、スルホ
ン酸塩又は前記の−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わすが、Ｒ3 〜
Ｒ5 の少なくとも１つは−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす。）
で示される基を、Ｊは下式
【００２１】
【化８】
【００２２】（式中、Ｒ6 〜Ｒ14は各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、メチル基、スルホン酸基、スルホン
酸塩又は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす。）で示される
架橋基を、Ｇは上記のＭ’、水素原子、或いは置換され
ていてもよいフェニルアゾフェニル、ナフチルアゾフェ
ニルもしくはフェニルアゾナフチル基を、それぞれ表わ
す。〕で示されるイエロー色素等が挙げられる。キサン
テニウム系色素としては、例えば一般式（Ｘ）
子、ハロゲン原子、メチル基、スルホン酸基、スルホン
酸塩又は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす。）で示される
架橋基を、Ｇは上記のＭ’、水素原子、或いは置換され
ていてもよいフェニルアゾフェニル、ナフチルアゾフェ
ニルもしくはフェニルアゾナフチル基を、それぞれ表わ
す。〕で示されるイエロー色素等が挙げられる。キサン
テニウム系色素としては、例えば一般式（Ｘ）
【００２３】
【化９】
【００２４】（式中、Ｒ15〜Ｒ18は各々独立して水素原
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わし、Ｒ19〜Ｒ21は各々独立して水素原子、置換さ
れていてもよいアルキルもしくはアリール基、スルホン
酸基、スルホン酸塩又は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす
が、Ｒ15〜Ｒ18で表わされるアリール基の置換基、並び
に、Ｒ19〜Ｒ21の中少なくとも１つは−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ
を表わす。）で示されるマゼンタ色素等が挙げられる。
フタロシアニン系色素としては、例えば一般式（ＸＩ） (SO3M)h −〔Pc〕−(SO2-NH-R)i （ＸＩ） （式中、Pcはフタロシアニン核を表わし、ｈ及びｉは各
々SO3M及びSO2-NH-Rの平均置換数を表わし、Ｒは上記と
同じ意味を表わし、SO3Mはスルホン酸基又はスルホン酸
塩を表わすが、ｈ及びｉは各々ｈ＋ｉ≦４であり、ｈ≦
３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとする。）で
示されるシアン色素等が挙げられる。アントラキノン系
色素としては、例えば一般式（ＸＩＩ）
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わし、Ｒ19〜Ｒ21は各々独立して水素原子、置換さ
れていてもよいアルキルもしくはアリール基、スルホン
酸基、スルホン酸塩又は上記−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒを表わす
が、Ｒ15〜Ｒ18で表わされるアリール基の置換基、並び
に、Ｒ19〜Ｒ21の中少なくとも１つは−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ
を表わす。）で示されるマゼンタ色素等が挙げられる。
フタロシアニン系色素としては、例えば一般式（ＸＩ） (SO3M)h −〔Pc〕−(SO2-NH-R)i （ＸＩ） （式中、Pcはフタロシアニン核を表わし、ｈ及びｉは各
々SO3M及びSO2-NH-Rの平均置換数を表わし、Ｒは上記と
同じ意味を表わし、SO3Mはスルホン酸基又はスルホン酸
塩を表わすが、ｈ及びｉは各々ｈ＋ｉ≦４であり、ｈ≦
３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとする。）で
示されるシアン色素等が挙げられる。アントラキノン系
色素としては、例えば一般式（ＸＩＩ）
【００２５】
【化１０】
【００２６】（式中、Ｖ及びＷは各々独立して水素原子
又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わすが、Ｖ及びＷが同時に水素原子であることはな
い。Ｒは前記と同じ意味を表わし、SO3Mはスルホン酸基
又はスルホン酸塩を表わし、ｐ及びｑは各々ＳＯ2 ＮＨ
Ｒ及びSO3Mの置換数を表わすが、これらの置換基はＶ及
びＷの一方又は双方のアリール基の置換基であってもよ
く、或いはアントラキノン核の置換基であってもよい。
ｑ及びｐは各々０〜２及び１〜３の整数を表わすが、ｐ
＋ｑ≦３を満足するものとする。）で示される青〜緑色
色素及び一般式(II)
又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わすが、Ｖ及びＷが同時に水素原子であることはな
い。Ｒは前記と同じ意味を表わし、SO3Mはスルホン酸基
又はスルホン酸塩を表わし、ｐ及びｑは各々ＳＯ2 ＮＨ
Ｒ及びSO3Mの置換数を表わすが、これらの置換基はＶ及
びＷの一方又は双方のアリール基の置換基であってもよ
く、或いはアントラキノン核の置換基であってもよい。
ｑ及びｐは各々０〜２及び１〜３の整数を表わすが、ｐ
＋ｑ≦３を満足するものとする。）で示される青〜緑色
色素及び一般式(II)
【００２７】
【化１１】
【００２８】〔式中、Ｒは上記と同じ意味を表わし、ｎ
及びｍは各々−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ及び−ＳＯ3 Ｍ（上記と
同じ意味を表わす）の置換数を表わすが、これらの置換
基はアントラキノン核の置換基であり、ｍ及びｎは各々
０〜４及び１〜６の整数であり、且つｍ＋ｎ≦６を満足
するものとする。〕で示される色素等が挙げられる。
及びｍは各々−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ及び−ＳＯ3 Ｍ（上記と
同じ意味を表わす）の置換数を表わすが、これらの置換
基はアントラキノン核の置換基であり、ｍ及びｎは各々
０〜４及び１〜６の整数であり、且つｍ＋ｎ≦６を満足
するものとする。〕で示される色素等が挙げられる。
【００２９】前記一般式(I) 、(II)、(IX)、（Ｘ）、(X
I)及び(XII) で示される色素は各々、例えば、C.I.Acid
Colour 及び C.I.Direct Colour等に記載の染料から選
ばれる色素をジメチルホルムアミド中で塩化チオニルと
反応させて相当するスルホニルクロリドを得、次いで、
当該スルホニルクロリドを式 ＲＮＨ2 で示される１級
アミンと反応させることにより、容易に製造することが
できる。
I)及び(XII) で示される色素は各々、例えば、C.I.Acid
Colour 及び C.I.Direct Colour等に記載の染料から選
ばれる色素をジメチルホルムアミド中で塩化チオニルと
反応させて相当するスルホニルクロリドを得、次いで、
当該スルホニルクロリドを式 ＲＮＨ2 で示される１級
アミンと反応させることにより、容易に製造することが
できる。
【００３０】本発明に記載のブラックマトリックス用色
素を用いてブラックマトリックスを製造する方法として
は、例えば特開平４−14001 号公報に記載されているよ
うに、上記色素をアクリル又はポリイミド等の樹脂中に
含有させて得られる薄膜の上にポジ型レジストパターン
を形成させ、次いで当該パターンをマスクとして上記薄
膜をエッチングすることによりブラックマトリックスパ
ターンを形成させる方法、或いは、アクリル系樹脂を含
むポジ型、又はビニル重合体、ポリイミド前駆体及びノ
ボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂を含むポジ型レジ
スト組成物中に、上記色素を含有させてフォトリソグラ
フィーによりブラックマトリックスパターンを形成させ
る方法等が挙げられる。好ましくは後者の方法が挙げら
れ、より好ましくはアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト
組成物中に色素を含有させてフォトリソグラフィーによ
りブラックマトリックスを製造する方法が挙げられる。
素を用いてブラックマトリックスを製造する方法として
は、例えば特開平４−14001 号公報に記載されているよ
うに、上記色素をアクリル又はポリイミド等の樹脂中に
含有させて得られる薄膜の上にポジ型レジストパターン
を形成させ、次いで当該パターンをマスクとして上記薄
膜をエッチングすることによりブラックマトリックスパ
ターンを形成させる方法、或いは、アクリル系樹脂を含
むポジ型、又はビニル重合体、ポリイミド前駆体及びノ
ボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂を含むポジ型レジ
スト組成物中に、上記色素を含有させてフォトリソグラ
フィーによりブラックマトリックスパターンを形成させ
る方法等が挙げられる。好ましくは後者の方法が挙げら
れ、より好ましくはアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト
組成物中に色素を含有させてフォトリソグラフィーによ
りブラックマトリックスを製造する方法が挙げられる。
【００３１】アルカリ可溶性樹脂としては、例えばポリ
ビニルフェノール、ポリイミド前駆体、ビニルフェノー
ル共重合体等のビニル重合体、スチレン−マレイン酸共
重合体、当該スチレン−マレイン酸共重合体の部分エス
テル体、無水マレイン酸−メチルメタクリレート共重合
体、当該無水マレイン酸−メチルメタクリレート共重合
体のエステル体、及びノボラック樹脂等が挙げられる。
ノボラック樹脂としては、例えばフェノール類とアルデ
ヒド類とを縮合させて得られる樹脂が挙げられ、好まし
いフェノール類としては例えばｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノー
ル、及び下式
ビニルフェノール、ポリイミド前駆体、ビニルフェノー
ル共重合体等のビニル重合体、スチレン−マレイン酸共
重合体、当該スチレン−マレイン酸共重合体の部分エス
テル体、無水マレイン酸−メチルメタクリレート共重合
体、当該無水マレイン酸−メチルメタクリレート共重合
体のエステル体、及びノボラック樹脂等が挙げられる。
ノボラック樹脂としては、例えばフェノール類とアルデ
ヒド類とを縮合させて得られる樹脂が挙げられ、好まし
いフェノール類としては例えばｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノー
ル、及び下式
【００３２】
【化１２】
【００３３】で示される化合物等が挙げられる。好まし
いアルデヒド類としては例えばホルムアルデヒド等が挙
げられる。好ましいビニル重合体としては例えば下式
いアルデヒド類としては例えばホルムアルデヒド等が挙
げられる。好ましいビニル重合体としては例えば下式
【００３４】
【化１３】
【００３５】（式中、Ｑ1 及びＱ2 は各々独立して水素
原子又はアルキル基を表わし、Ｑ3 はアルキル、アリー
ル、アルコキシ、ヒドロキシアルキルもしくはアルキル
カルボニルオキシ基を表わし、Ｘ1 〜Ｘ5 は各々独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
又は水酸基を表わすが、Ｘ1 〜Ｘ5 の中少なくとも１つ
は水酸基である。）で示される構造を含む重合体等が挙
げられる。アルカリ可溶性樹脂は単独で、又は２種以上
混合して用いられる。
原子又はアルキル基を表わし、Ｑ3 はアルキル、アリー
ル、アルコキシ、ヒドロキシアルキルもしくはアルキル
カルボニルオキシ基を表わし、Ｘ1 〜Ｘ5 は各々独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
又は水酸基を表わすが、Ｘ1 〜Ｘ5 の中少なくとも１つ
は水酸基である。）で示される構造を含む重合体等が挙
げられる。アルカリ可溶性樹脂は単独で、又は２種以上
混合して用いられる。
【００３６】好ましいキノンジアジド化合物としては、
例えばｏ−ナフトキノンジアジド−５−又は−４−スル
ホン酸エステル等が挙げられる。これらのエステルは半
導体用ポジ型レジスト組成物に感光剤として添加されて
いるものであり、その製造方法は公知である。本発明の
ブラックマトリックス用ポジ型レジスト組成物は前記色
素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び後
述する有機溶剤に加えて、さらに架橋剤を含んでいても
よい。架橋剤としては上記アルカリ可溶性樹脂を熱又は
酸により硬化させるものであればよく、特に制限されな
い。好ましい架橋剤としては、例えば下式 −（ＣＨ2 ）u ＯＹ （式中、Ｙは水素原子又は低級アルキル基を表わし、ｕ
は１〜４の整数を表わす。）で示される基を有する化合
物等が挙げられる。上式で示される基を有する化合物と
しては、例えば一般式(XIII)
例えばｏ−ナフトキノンジアジド−５−又は−４−スル
ホン酸エステル等が挙げられる。これらのエステルは半
導体用ポジ型レジスト組成物に感光剤として添加されて
いるものであり、その製造方法は公知である。本発明の
ブラックマトリックス用ポジ型レジスト組成物は前記色
素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び後
述する有機溶剤に加えて、さらに架橋剤を含んでいても
よい。架橋剤としては上記アルカリ可溶性樹脂を熱又は
酸により硬化させるものであればよく、特に制限されな
い。好ましい架橋剤としては、例えば下式 −（ＣＨ2 ）u ＯＹ （式中、Ｙは水素原子又は低級アルキル基を表わし、ｕ
は１〜４の整数を表わす。）で示される基を有する化合
物等が挙げられる。上式で示される基を有する化合物と
しては、例えば一般式(XIII)
【００３７】
【化１４】
【００３８】〔式中、Ｚは−Ｎ（Ｒ26）（Ｒ27）又は置
換されていてもよいアリール基を表わし、Ｒ22〜Ｒ27は
各々独立して水素原子又は上記−（ＣＨ2 ）u ＯＹを表
わす。〕で示される化合物、及び下式
換されていてもよいアリール基を表わし、Ｒ22〜Ｒ27は
各々独立して水素原子又は上記−（ＣＨ2 ）u ＯＹを表
わす。〕で示される化合物、及び下式
【００３９】
【化１５】
【００４０】で示される化合物等が挙げられる。これら
の架橋剤は例えば特開平１−293339号公報等に記載され
た公知化合物である。架橋剤は単独で、又は２種以上混
合して用いられる。又、ブラックマトリックス用ポジ型
レジスト組成物は後述する光酸発生剤を含んでいてもよ
い。
の架橋剤は例えば特開平１−293339号公報等に記載され
た公知化合物である。架橋剤は単独で、又は２種以上混
合して用いられる。又、ブラックマトリックス用ポジ型
レジスト組成物は後述する光酸発生剤を含んでいてもよ
い。
【００４１】光酸発生剤としては光により直接もしくは
間接的に酸を発生するものであればよく、特に制限され
ないが、例えば、特開平４−163552号公報に記載されて
いるトリハロメチルトリアジン系化合物、特開平１−57
777 号公報に記載されているジスルホン化合物、下式 Ｑ4 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｑ5 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｑ6 （式中、Ｑ4 及びＱ6 は各々独立して置換されていても
よいアリール、アラルキル、アルキル、シクロアルキル
又は複素環基を表わし、Ｑ5 は置換されていてもよいア
リール基を表わす。）で示される化合物、特開平１−29
3339号公報に記載されているスルホン酸エステル基を含
む光酸発生剤、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−（ＣＨ2 ）d −Ｙ0 （式中、Ｙ0 は置換されていてもよいアリール基を表わ
し、ｄは０又は１を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−〔Ｃ（Ｙ1 ）（Ｙ2 ）〕e −Ｃ
（Ｏ）−Ｙ3 （式中、Ｙ1 及びＹ2 は各々独立して置換されていても
よいアリール、アルキル又はアルコキシ基を表わし、Ｙ
3 は置換されていてもよいアリール基を表わし、ｅは１
又は２を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ（Ｙ4 ）−Ｃ（Ｏ）−Ｙ5 （式中、Ｙ4 は置換されていてもよいアルキル基を表わ
し、Ｙ5 は置換されていてもよいアリール基を表わ
す。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｙ6 ）（Ｙ7 ） （式中、Ｙ6 は水素原子又は置換されていてもよいアリ
ールもしくはアルキル基を表わし、Ｙ7 は置換されてい
てもよいアリール基を表わす。）で示される化合物、下
式
間接的に酸を発生するものであればよく、特に制限され
ないが、例えば、特開平４−163552号公報に記載されて
いるトリハロメチルトリアジン系化合物、特開平１−57
777 号公報に記載されているジスルホン化合物、下式 Ｑ4 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｑ5 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｑ6 （式中、Ｑ4 及びＱ6 は各々独立して置換されていても
よいアリール、アラルキル、アルキル、シクロアルキル
又は複素環基を表わし、Ｑ5 は置換されていてもよいア
リール基を表わす。）で示される化合物、特開平１−29
3339号公報に記載されているスルホン酸エステル基を含
む光酸発生剤、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−（ＣＨ2 ）d −Ｙ0 （式中、Ｙ0 は置換されていてもよいアリール基を表わ
し、ｄは０又は１を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−〔Ｃ（Ｙ1 ）（Ｙ2 ）〕e −Ｃ
（Ｏ）−Ｙ3 （式中、Ｙ1 及びＹ2 は各々独立して置換されていても
よいアリール、アルキル又はアルコキシ基を表わし、Ｙ
3 は置換されていてもよいアリール基を表わし、ｅは１
又は２を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ（Ｙ4 ）−Ｃ（Ｏ）−Ｙ5 （式中、Ｙ4 は置換されていてもよいアルキル基を表わ
し、Ｙ5 は置換されていてもよいアリール基を表わ
す。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｙ6 ）（Ｙ7 ） （式中、Ｙ6 は水素原子又は置換されていてもよいアリ
ールもしくはアルキル基を表わし、Ｙ7 は置換されてい
てもよいアリール基を表わす。）で示される化合物、下
式
【００４２】
【化１６】
【００４３】で示されるオニウム塩類等が挙げられる。
有機溶剤としては、例えばジオキサン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル及びエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル等のエーテル類、
メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロ
ペンタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、乳酸メチル及び乳酸エチル等
のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、Ｎ−メチルピ
ロリドン等のピロリドン類、γ−ブチロラクトン等のラ
クトン類並びにジメチルスルホキシド等のスルホキシド
類等が挙げられる。これらの有機溶剤は単独で、又は２
種以上混合して用いられる。ポジ型レジスト組成物中の
有機溶剤量は適宜設定される。ポジ型レジスト組成物中
の前記色素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合
物、架橋剤及び光酸発生剤の好ましい使用量は有機溶剤
中に、各々、１〜50、１〜50、１〜50、０〜30及び０〜
30重量％である。露光に用いられる好ましい照射線とし
ては、例えば紫外線及び遠紫外線等が挙げられる。
有機溶剤としては、例えばジオキサン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル及びエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル等のエーテル類、
メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロ
ペンタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、乳酸メチル及び乳酸エチル等
のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、Ｎ−メチルピ
ロリドン等のピロリドン類、γ−ブチロラクトン等のラ
クトン類並びにジメチルスルホキシド等のスルホキシド
類等が挙げられる。これらの有機溶剤は単独で、又は２
種以上混合して用いられる。ポジ型レジスト組成物中の
有機溶剤量は適宜設定される。ポジ型レジスト組成物中
の前記色素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合
物、架橋剤及び光酸発生剤の好ましい使用量は有機溶剤
中に、各々、１〜50、１〜50、１〜50、０〜30及び０〜
30重量％である。露光に用いられる好ましい照射線とし
ては、例えば紫外線及び遠紫外線等が挙げられる。
【００４４】
【発明の効果】本発明のブラックマトリックス用ポジ型
黒色レジスト組成物において用いられる色素は有機溶剤
及びアルカリ性現像液の双方に可溶であるから、有機溶
剤及びアルカリ可溶性樹脂を必須成分として含むアルカ
リ現像可能なブラックマトリックス用ポジ型レジスト組
成物中に高濃度で含有させることができる。従って、上
記レジスト組成物を紫外線又は遠紫外線リソグラフィー
することにより得られるブラックマトリックスは可視光
線（400 〜700nm ）の遮光に適しており、上記波長領域
における光線の透過率を40％以下にすることが可能であ
る。又、本発明のブラックマトリックスは微細度及び耐
熱性等の諸性能にも優れている。
黒色レジスト組成物において用いられる色素は有機溶剤
及びアルカリ性現像液の双方に可溶であるから、有機溶
剤及びアルカリ可溶性樹脂を必須成分として含むアルカ
リ現像可能なブラックマトリックス用ポジ型レジスト組
成物中に高濃度で含有させることができる。従って、上
記レジスト組成物を紫外線又は遠紫外線リソグラフィー
することにより得られるブラックマトリックスは可視光
線（400 〜700nm ）の遮光に適しており、上記波長領域
における光線の透過率を40％以下にすることが可能であ
る。又、本発明のブラックマトリックスは微細度及び耐
熱性等の諸性能にも優れている。
【００４５】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。例中、部は重量部を示す。尚、実施例におけ
る共通の条件は以下のとおりである。ブラックマトリッ
クスを製造する際、アクリル樹脂をコーテイングしたCC
D （支持体）にブラックマトリックス用色素、アルカリ
可溶性樹脂及び有機溶剤等を含むレジスト組成物をスピ
ンコートし、加熱により溶剤を蒸発させた後、マスクを
通して露光を行い現像してパターンを得た〔露光はニコ
ン社製ｉ線露光ステッパーNIKON NSR （NA＝0.50）によ
り行った。又、現像液は住友化学工業（株）製SOPD又は
３％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶
液を用いた〕。さらに、パターンを全面露光後、加熱
（180 ℃、20分）してブラックマトリックスを得た。
説明する。例中、部は重量部を示す。尚、実施例におけ
る共通の条件は以下のとおりである。ブラックマトリッ
クスを製造する際、アクリル樹脂をコーテイングしたCC
D （支持体）にブラックマトリックス用色素、アルカリ
可溶性樹脂及び有機溶剤等を含むレジスト組成物をスピ
ンコートし、加熱により溶剤を蒸発させた後、マスクを
通して露光を行い現像してパターンを得た〔露光はニコ
ン社製ｉ線露光ステッパーNIKON NSR （NA＝0.50）によ
り行った。又、現像液は住友化学工業（株）製SOPD又は
３％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶
液を用いた〕。さらに、パターンを全面露光後、加熱
（180 ℃、20分）してブラックマトリックスを得た。
【００４６】実施例１
下式
【００４７】
【化１７】
【００４８】で示される酸性染料〔住友化学工業（株）
製スミノール ミリング イエローMR〕20g 、塩化チオ
ニル100ml 及びジメチルホルムアミド15g の混合物を還
流条件で30分反応させた後、得られた反応混合物を氷水
中に注いだ。析出したスルホニルクロリドを濾過、洗浄
及び乾燥後、１，５−ジメチルヘプチルアミンとテトラ
ヒドロフラン中で反応（モル比１：２）させてイエロー
色素を得た。
製スミノール ミリング イエローMR〕20g 、塩化チオ
ニル100ml 及びジメチルホルムアミド15g の混合物を還
流条件で30分反応させた後、得られた反応混合物を氷水
中に注いだ。析出したスルホニルクロリドを濾過、洗浄
及び乾燥後、１，５−ジメチルヘプチルアミンとテトラ
ヒドロフラン中で反応（モル比１：２）させてイエロー
色素を得た。
【００４９】実施例２
スミノール ミリング イエローMRに代えて下式
【００５０】
【化１８】
【００５１】で示される酸性染料を用い、且つ反応モル
比を１：１にする以外は、実施例１と同様にしてマゼン
タ色素を得た。
比を１：１にする以外は、実施例１と同様にしてマゼン
タ色素を得た。
【００５２】実施例３
ヘキサメトキシメチロール化メラミン（架橋剤）0.3
部、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルマリン（モ
ル比50／50／75）混合物から得られたクレゾールノボラ
ック樹脂１部、下式
部、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルマリン（モ
ル比50／50／75）混合物から得られたクレゾールノボラ
ック樹脂１部、下式
【００５３】
【化１９】
【００５４】で示されるフェノール化合物のｏ−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の
水酸基がエステル化されている）0.8 部、実施例１及び
２で得た色素の各0.8 部、オレオゾール ファスト ブ
ルーRL〔田岡化学（株）製シアン色素〕0.8 部並びに乳
酸エチル12部の混合物を0.2 μｍのメンブランフィルタ
ーを用いて加圧濾過して黒色ポジ型レジスト組成物を得
た。前記支持体上に上記レジスト組成物をパターニング
して耐熱性に優れ、且つ、400 〜700nm の波長領域にお
ける光線の透過率が40％以下であるブラックマトリック
スを得た。このブラックマトリックスを用いたCCD は微
細度、色再現性及びコントラスト等の諸性能に優れてい
た。
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の
水酸基がエステル化されている）0.8 部、実施例１及び
２で得た色素の各0.8 部、オレオゾール ファスト ブ
ルーRL〔田岡化学（株）製シアン色素〕0.8 部並びに乳
酸エチル12部の混合物を0.2 μｍのメンブランフィルタ
ーを用いて加圧濾過して黒色ポジ型レジスト組成物を得
た。前記支持体上に上記レジスト組成物をパターニング
して耐熱性に優れ、且つ、400 〜700nm の波長領域にお
ける光線の透過率が40％以下であるブラックマトリック
スを得た。このブラックマトリックスを用いたCCD は微
細度、色再現性及びコントラスト等の諸性能に優れてい
た。
【００５５】実施例４
スミノール ミリング イエローMRに代えて下式
【００５６】
【化２０】
【００５７】で示される酸性染料〔住友化学工業（株）
製スミノール ミリング ブラック8BX 〕を用いる以外
は、実施例１と同様にして黒色の色素を得た。
製スミノール ミリング ブラック8BX 〕を用いる以外
は、実施例１と同様にして黒色の色素を得た。
【００５８】実施例５
実施例２で得たマゼンタ色素及びオレオゾール ファス
ト ブルーRLに代えて実施例４で得た黒色の色素を用い
る以外は、実施例３と同様にして黒色ポジ型レジスト組
成物を得た。前記支持体上に上記レジスト組成物をパタ
ーニングしてブラックマトリックスを得た。このブラッ
クマトリックスを用いたCCD は微細度、色再現性及びコ
ントラスト等の諸性能に優れていた。
ト ブルーRLに代えて実施例４で得た黒色の色素を用い
る以外は、実施例３と同様にして黒色ポジ型レジスト組
成物を得た。前記支持体上に上記レジスト組成物をパタ
ーニングしてブラックマトリックスを得た。このブラッ
クマトリックスを用いたCCD は微細度、色再現性及びコ
ントラスト等の諸性能に優れていた。
【００５９】実施例６
実施例４で得た黒色の色素に代えて下記の色素を各々用
いる以外は、実施例５と同様にして黒色ポジ型レジスト
組成物を得た。
いる以外は、実施例５と同様にして黒色ポジ型レジスト
組成物を得た。
【００６０】
【化２１】
【００６１】
【化２２】
【００６２】これらのブラックマトリックスを用いたCC
D は微細度、色再現性及びコントラスト等の諸性能に優
れていた。
D は微細度、色再現性及びコントラスト等の諸性能に優
れていた。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/20 101
C09B 69/00
G03F 7/022
Claims (4)
- 【請求項１】アルカリ性現像液及び有機溶剤の双方に可
溶であり、色素の色の異なる２種以上、アルカリ可溶性
樹脂、キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含み、当該
色素の１種が一般式（１）で表されるビスもしくはトリ
スアゾ系色素である、ブラックマトリックス用黒色ポジ
型レジスト組成物。 Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ−（−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−） k −Ｎ＝Ｎ−Ｅ （Ｉ） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥは各々独立して置換されてい
てもよいベンゼン環もしくはナフタレン環を表わし、ｋ
は０又は１を表わすが、上記Ａ、Ｂ、Ｄ及びＥの中少な
くとも１つは、−ＳＯ 2 ＮＨ−Ｒ（式中、Ｒはアルキ
ル、シクロアルキル、アルキルカルボニルアミノアルキ
ル、アルキルカルボニルアミノ、シクロヘキシルアルキ
ル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、アラ
ルキルもしくはアルキルカルボニルオキシ基を表わ
す。）基で置換されたベンゼン環もしくはナフタレン環
を表わす。〕 - 【請求項２】ビスもしくはトリスアゾ系色素が下記一般
式（ＩＩＩ）〜（ＩＶ）で示される色素である、請求項
１に記載のブラックマトリックス用黒色ポジ型レジスト
組成物。 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｄ及びｋは上記と同じ意味を表し、Ｒ
1 は水素原子、アルキル基、又は置換されていてもよい
フェニル基を表わすが、−ＯＨ及び−ＮＨＲ 1 で置換さ
れているナフタレン環、Ａ、Ｂ及びＤで表わされるベン
ゼンもしくはナフタレン環、並びに、Ｒ 1 で表わされる
フェニル基の中少なくとも１つは上記−ＳＯ 2 ＮＨ−Ｒ
（Ｒは前記と同じ意味である）で示される基を置換基と
して有する ものとする。〕 （式中、Ａ及びＢは前記と同じ意味を表わすが、水酸基
で置換されているナフタレン環、アミノ基で置換されて
いるベンゼン環、並びにＡ及びＢで表わされるベンゼン
もしくはナフタレン環の中少なくとも１つは上記−ＳＯ
2 ＮＨ−Ｒで示される基を置換基として有するものとす
る） - 【請求項３】さらに架橋剤を含み、且つキノンジアジド
化合物がｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
である、請求項１又は２のいずれかに記載のブラックマ
トリックス用黒色ポジ型レジスト組成物。 - 【請求項４】支持体上に黒色皮膜を設けたブラックマト
リックスであって、該黒色皮膜は請求項１〜３のいずれ
かに記載のブラックマトリックス用黒色ポジ型レジスト
組成物を紫外線又は遠紫外線リソグラフィーすることに
より得られるものであることを特徴とするブラックマト
リックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05579294A JP3508199B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ブラックマトリックス用レジスト組成物、当該組成物により得られるブラックマトリックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05579294A JP3508199B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ブラックマトリックス用レジスト組成物、当該組成物により得られるブラックマトリックス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07261015A JPH07261015A (ja) | 1995-10-13 |
| JP3508199B2 true JP3508199B2 (ja) | 2004-03-22 |
Family
ID=13008770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05579294A Expired - Fee Related JP3508199B2 (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | ブラックマトリックス用レジスト組成物、当該組成物により得られるブラックマトリックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3508199B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08137098A (ja) * | 1994-11-14 | 1996-05-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | ブラックマトリックス用フォトレジスト |
| KR100252073B1 (ko) * | 1996-01-24 | 2000-04-15 | 손욱 | 칼라촬상관의 블랙 매트릭스 및 그 제조방법 |
| JP4360168B2 (ja) * | 2002-10-01 | 2009-11-11 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JP4569759B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2010-10-27 | 日産化学工業株式会社 | 染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター |
| JP5442960B2 (ja) * | 2008-05-21 | 2014-03-19 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用着色組成物 |
| JP2011215597A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-10-27 | Jsr Corp | 感放射線性組成物、絶縁膜の形成方法、絶縁膜及び固体撮像素子 |
| KR20140010398A (ko) | 2011-02-23 | 2014-01-24 | 바스프 에스이 | 술포늄 술페이트, 그의 제조법 및 용도 |
| JP6038284B2 (ja) | 2012-04-19 | 2016-12-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | スルホニウム化合物、それらの製造および使用 |
| KR102232969B1 (ko) | 2015-04-01 | 2021-03-29 | 도레이 카부시키가이샤 | 감광성 착색 수지 조성물 |
| KR20230051765A (ko) | 2020-08-18 | 2023-04-18 | 도레이 카부시키가이샤 | 착색 감광성 수지 조성물, 경화물, 표시 장치 및 경화물의 제조 방법 |
| JPWO2023013550A1 (ja) | 2021-08-04 | 2023-02-09 | ||
| WO2023120352A1 (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-29 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物、硬化物の製造方法、有機ｅｌ表示装置および表示装置 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP05579294A patent/JP3508199B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07261015A (ja) | 1995-10-13 |
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