JP3498255B2 - 枚葉式減圧cvd装置 - Google Patents
枚葉式減圧cvd装置Info
- Publication number
- JP3498255B2 JP3498255B2 JP17709096A JP17709096A JP3498255B2 JP 3498255 B2 JP3498255 B2 JP 3498255B2 JP 17709096 A JP17709096 A JP 17709096A JP 17709096 A JP17709096 A JP 17709096A JP 3498255 B2 JP3498255 B2 JP 3498255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- gas ejection
- nozzle
- ejection member
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
を形成する枚葉式減圧CVD装置に係り、特に反応ガス
を噴出させるノズルの改良に関する。
ウエハをセットし、このウエハの側方に配置されたスリ
ット状のノズルから反応ガスをウエハの表面とほぼ平行
に噴出させてウエハ表面に薄膜を形成する枚葉式減圧C
VD装置がある。このようにウエハ表面に沿ってほぼ平
行にその一側から他側へ反応ガスを流して薄膜を形成す
る方式の枚葉式減圧CVD装置は、比較的均一な厚さの
薄膜を形成することができる。
り高い膜厚分布の均一性が求められ、さらに、生産性を
高めるため、薄膜の成長速度の向上が望まれている。膜
厚分布と成長速度の両方を満足させるためには、ウエハ
表面に対する反応ガスの流れが微妙に影響する。
な厚さの薄膜を容易に得ることのできる枚葉式減圧CV
D装置を提供することを目的としている。
の本発明による枚葉式減圧CVD装置は、所定の減圧状
態に制御された反応室内にウエハをセットし、前記反応
室内であってかつウエハの側方かつ上方に配置されたス
リット状のノズルから反応ガスを前記ウエハの表面にほ
ぼ沿うように噴出させてウエハ表面に薄膜を形成する枚
葉式減圧CVD装置において、前記ノズルのウエハに対
する対向角度を調整可能にしたものである。この装置に
よれば、ウエハ表面に対する反応ガスの流れを最適状態
に定めて膜厚分布と成長速度が共に優れた薄膜形成を行
わせることができる。
表面と平行な平面に沿って伸びるように設けられた丸棒
状のガス噴出部材と、このガス噴出部材の両端部を除い
て該ガス噴出部材の長手方向に伸び反応ガスを周面から
層状に噴出するように形成されたスリット状のガス噴出
口とからなり、前記ガス噴出部材がその軸心回りに回転
可能に取り付けられたものであることが望ましい。
1ないし図4を参照して説明する。図1において、1は
ケーシングで、上下に石英製の透明な窓板2、3が気密
に取り付けられ、反応室Rを形成している。反応室R内
にはカーボン製のリング状のサセプタ4が設置され、そ
の上にウエハ5が載置されるようになっている。サセプ
タ4は、下方の窓板3を貫通して反応室R内に伸びる回
転軸6の上端に複数のアーム7によって支持されてい
る。サセプタ4及びウエハ5は、窓板2、3の外側に設
けられた赤外線ランプのような加熱装置8、9により、
上下から加熱されるようになっている。反応室Rの図1
において左端寄りにはノズル10が設けられ、右端寄り
には排気口11が設けられている。
方かつ上方に配置され、図2(a)、(b)に示すよう
に、円柱状の導入部101と、その上端に取り付けられ
た平板状のノズル本体102とを有し、ノズル本体10
2はウエハ5の表面(上面)と平行に配置されている。
導入部101には反応ガスの導入路103が設けられ、
ノズル本体102にはそれぞれ導入路103に接続され
た複数の流路104が幅方向(図2(b)において上下
方向)に適宜な間隔を置いて設けられている。
沿って伸びる丸棒状のガス噴出部材105が取り付けら
れている。このガス噴出部材105は、その軸心回りに
回転可能に取り付けられており、ノズル本体102の先
端の両サイドに設けられた締め付けネジ106、106
(図3参照)により所望の角度位置に固定されるように
なっている。
分には、図2(b)及び図3に示すように、複数の流路
104に接続される溝107が設けられている。さら
に、このガス噴出部材105には、溝107からガス噴
出部材105の溝107とは反対側の外周面に開口する
スリット状のガス噴出口108が設けられている。この
ガス噴出口108は、図1に示されているウエハ5の表
面と平行となるように形成されている。
転軸6によりサセプタ4及びウエハ5を回転させつつ、
これらを加熱装置8、9により所定の温度に加熱し、ノ
ズル10のガス噴出口108から反応ガスGを噴出さ
せ、ウエハ5の表面に薄膜を形成する。このときノズル
10のガス噴出口108から噴出される反応ガスGのウ
エハ5の表面に対する対向角度θによって膜厚分布及び
成長速度は大きく変化する。
度との関係の一例を示すものであり、同図(A)(B)
(C)(D)はそれぞれ異なる対向角度θを示し、同図
(a)(b)(c)(d)はそれぞれの対向角度θにお
ける膜厚分布及び成長速度を示している。すなわち図4
(A)に示すように、対向角度θを零として平行に噴出
させたときには、同図(a)に示すように、膜厚分布は
ほぼ均一であるが、成長速度は低い。同図(B)に示す
ように、対向角度θを大きくして、ノズル10の厚さ方
向の中心をウエハ5の手前側に向けると、同図(b)に
示すように、成長速度は高くなるが、膜厚分布が悪くな
る。また、同図(C)に示すように、ノズル10をウエ
ハ5の遠方側に向けると、同図(c)に示すように、膜
厚分布と成長速度が共に悪化する。これらに対しノズル
10を、同図(D)に示すように、ウエハ5の中央に向
けると、同図(d)に示すように、膜厚分布と成長速度
が共に良くなる。
緩めてガス噴出部材105を回転させ、ガス噴出口10
8が、例えば図4(D)に示すような最も良好な膜厚分
布及び成長速度が得られる対向角度θとなるように設定
することにより、膜厚分布及び成長速度の向上を図るこ
とができる。なお、この角度調整は、反応室外から可能
にすることが好ましいことは言うまでもない。
VD装置によれば、より高い成長速度で、かつ均一な厚
さの薄膜を得ることができる。
図、(b)は(a)のAーA線断面図。
布及び成長速度とを示す図であり、(A)〜(D)は対
向角度を、(a)〜(d)は膜厚分布及び成長速度を示
す図。
Claims (2)
- 【請求項1】 所定の減圧状態に制御された反応室内に
ウエハをセットし、前記反応室内であってかつウエハの
側方かつ上方に配置されたスリット状のノズルから反応
ガスを前記ウエハの表面にほぼ沿うように噴出させてウ
エハ表面に薄膜を形成する枚葉式減圧CVD装置におい
て、前記ノズルのウエハに対する対向角度が調整可能に
構成されていることを特徴とする枚葉式減圧CVD装
置。 - 【請求項2】 前記ノズルは、その先端にウエハの表面
と平行な平面に沿って伸びるように設けられた丸棒状の
ガス噴出部材と、このガス噴出部材の両端部を除いて該
ガス噴出部材の長手方向に伸び反応ガスを周面から層状
に噴出するように形成されたスリット状のガス噴出口と
からなり、前記ガス噴出部材がその軸心回りに回転可能
に取り付けられていることを特徴とする請求項1記載の
枚葉式減圧CVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17709096A JP3498255B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 枚葉式減圧cvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17709096A JP3498255B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 枚葉式減圧cvd装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH104064A JPH104064A (ja) | 1998-01-06 |
JP3498255B2 true JP3498255B2 (ja) | 2004-02-16 |
Family
ID=16024962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17709096A Expired - Fee Related JP3498255B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 枚葉式減圧cvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3498255B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100519963B1 (ko) * | 1998-04-08 | 2005-12-20 | 삼성전자주식회사 | 엘씨디 패널 건조용 에어 나이프 장치 및 에어 나이프 장치조정 방법 |
JP3516654B2 (ja) * | 2000-12-27 | 2004-04-05 | 信越半導体株式会社 | 気相成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
KR101110633B1 (ko) | 2009-08-05 | 2012-03-13 | (주)솔라세라믹 | 불소 함유 산화주석 박막 제조장치 |
JP2013151720A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Ulvac Japan Ltd | 真空成膜装置 |
JP6170340B2 (ja) * | 2013-05-21 | 2017-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス供給ヘッド、ガス供給機構及び基板処理装置 |
KR101694750B1 (ko) * | 2014-05-12 | 2017-01-10 | (주)솔라세라믹 | 스프레이 열 분해용 노즐 및 이를 포함하는 박막 형성 장치 |
JP6845058B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2021-03-17 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6179771A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-23 | Applied Material Japan Kk | 気相成長装置 |
JP3224238B2 (ja) * | 1991-04-16 | 2001-10-29 | 株式会社アルバック | 薄膜形成装置 |
JPH05166744A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-07-02 | Nippon Steel Corp | 熱処理炉 |
EP0967633A1 (en) * | 1993-07-30 | 1999-12-29 | Applied Materials, Inc. | Gas inlets for wafer processing chamber |
JP2947018B2 (ja) * | 1993-09-27 | 1999-09-13 | 凸版印刷株式会社 | パターン露光方法及び露光装置 |
-
1996
- 1996-06-17 JP JP17709096A patent/JP3498255B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH104064A (ja) | 1998-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6368450B2 (en) | Processing apparatus | |
KR940009945B1 (ko) | 화학기상 성장장치 | |
KR20070093820A (ko) | 회전 서셉터를 지닌 반도체가공장치 | |
JP3498255B2 (ja) | 枚葉式減圧cvd装置 | |
JP7238350B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JPS61208222A (ja) | プラズマ処理方法及び装置 | |
JPH0845910A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH0878338A (ja) | 半導体の製造装置 | |
JPH05320891A (ja) | スパッタリング装置 | |
JPH05144746A (ja) | 減圧cvd装置 | |
JPH03142823A (ja) | 気相成長装置 | |
JPH03264667A (ja) | カルーセル型スパッタリング装置 | |
JPS6117151A (ja) | プラズマcvd装置 | |
JP2830585B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH08316153A (ja) | 気相成長装置 | |
JP2600791B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JP3184550B2 (ja) | 気相成長方法及びその装置 | |
KR100407508B1 (ko) | 비회전형 박막 형성 장치 | |
JPH104065A (ja) | 枚葉式減圧cvd装置 | |
JPH08330237A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP3060468B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS63257232A (ja) | 処理装置 | |
KR101700273B1 (ko) | 화학 기상 증착 장치 | |
JPH0565590B2 (ja) | ||
JP2002151416A (ja) | エピタキシャル成長装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101205 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205 Year of fee payment: 10 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |