JP3496256B2 - Curable composition - Google Patents

Curable composition

Info

Publication number
JP3496256B2
JP3496256B2 JP29737593A JP29737593A JP3496256B2 JP 3496256 B2 JP3496256 B2 JP 3496256B2 JP 29737593 A JP29737593 A JP 29737593A JP 29737593 A JP29737593 A JP 29737593A JP 3496256 B2 JP3496256 B2 JP 3496256B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
component
aliphatic
compound
cured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP29737593A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07126313A (en
Inventor
栄治 高橋
博雄 村本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to JP29737593A priority Critical patent/JP3496256B2/en
Publication of JPH07126313A publication Critical patent/JPH07126313A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3496256B2 publication Critical patent/JP3496256B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、硬化性組成物に関し、
更に詳しくは、光,電子線,X線等の活性エネルギー線
照射又は加熱により、極めて薄い膜から厚手の膜まで短
時間で硬化するカチオン硬化性組成物に関する。該組成
物の硬化物は、良好な透明性及び優れた物性を有するた
め、クリアーコート等の透明性が要求される塗料、接着
剤、カラー液晶ディスプレー用カラーフィルター製造時
のフォトレジストの材料として好適に用いられる。 【0002】 【従来の技術】光、X線、電子線等の放射線によりエポ
キシ化合物等のカチオン重合性化合物を硬化させる触媒
及びその組成物には、特開昭50−151997号、特
開昭50−158680号、特開平2−178303
号、特開昭2−196812号等に記載されているもの
が知られている。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】エポキシ化合物等のカ
チオン重合性化合物の光カチオン硬化反応では、酸素に
よる重合反応の阻害が起こらないため、アクリル化合物
等のラジカル重合性化合物の光ラジカル硬化反応とは異
なり、極めて薄い膜でも短時間で光及び熱硬化すること
ができる。例えば、特開昭50−151997号や特開
平2−178303号等に記載されているような触媒
は、光硬化には有効である。しかし、触媒は芳香族化合
物であるため、クリアーコート等に使用すると太陽光等
により、経時的に着色が生じたり、高温状態に曝される
ような場合においても着色を示すことがある。また、芳
香族化合物を光触媒とする限りは、有効波長領域での吸
収が大きくなるため、光照射による厚膜硬化は困難であ
る。従って、脂肪族の光触媒が望ましいが、脂肪の化合
物が光触媒として作用し、かつ実用に耐えられるような
光活性を示す旨の報告はない。 【0004】本発明は、これらの事情からみてなされた
もので、光,電子線,X線等の活性エネルギー線照射又
は加熱により、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で
硬化することが可能であり、その硬化物は、良好な透明
性及び優れた物性を有するカチオン硬化性組成物を提供
することを目的としている。 【0005】 【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意検討したところ、特定の熱潜在性
カチオン重合触媒、増感剤および脂肪族系のカチオン重
合性化合物を使用することで、光,電子線,X線等の活
性エネルギー線照射又は加熱により、極めて薄い膜から
厚手の膜まで短時間で硬化し、その硬化物は、光や熱に
対して安定な透明性及び物性を示す光硬化性組成物を見
出し、本発明を完成するに至った。 【0006】本発明は下記のA、B及びC成分を含有し
てなる硬化性組成物である。 A成分:一般式化2で表されるスルホニウム塩化合物 【0007】 【化2】 【0008】〔式中、R1 は、硫黄原子のα位に置換さ
れていてもよいフェニル基又はエステル基を有するアル
キル基を表し、R2 ,R3 は、それぞれ置換基を有して
いてもよいアルキル基を表し、Xは、SbF6 ,AsF
6 ,PF6 またはBF4 を表す〕 B成分:増感剤 C成分:脂肪族系のカチオン重合性化合物 【0009】以下、本発明を詳細に説明する。 (A成分)本発明のA成分は、上記一般式化2で表され
るスルホニウム塩化合物の脂肪族系熱潜在性カチオン重
合触媒である。 【0010】上記一般式化2において、R1 は、硫黄原
子のα位にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、t−ブチル等のアルキル基、F,Cl,Br,
I等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアル
コキシ基やフェノキシ基等で置換されていてもよいフェ
ニル基を有するアルキル基、又は硫黄原子のα位にエス
テル基を有するアルキル基からなる群からより選ばれた
一種であり、具体的には、ベンジル基、2−メチルベン
ジル基、4−クロロベンジル基、4−メトキシベンジル
基、α−フェネチル基、2−フェニル−2−プロピル
基、エトキシカルボニルメチル基、ドデシルオキシカル
ボニルメチル基、1−(エトキシカルボニル)エチル
基、1−(エトキシカルボニル)プロピル基、2−(エ
トキシカルボニル)−2−プロピル基、1−(ドデシル
オキシカルボニル)エチル基、1−(ドデシルオキシカ
ルボニル)プロピル基、2−(ドデシルオキシカルボニ
ル)−2−プロピル基等を例示することができる。 【0011】R2 ,R3 は、それぞれメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル等のアル
キル基、F,Cl,Br,I等のハロゲン原子、メトキ
シ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、CO2 1 基、OCO
2 基等で置換されていてもよいアルキル基の群からよ
り選ばれた基であるが、好ましくは、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル等のアルキル基、メト
キシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、カルボ
キシル基、COOR1 基、OCOR2 基等で置換されて
いてもよいアルキル基の群からより選ばれた基である。
は、SbF6 ,AsF6 ,PF6 またはBF4 であり、
この内、SbF6 が好んで使用される。 【0012】上記のCO2 1 基、OCOR2 基におい
て、R1 ,R2 は、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、シクロヘキシル、ドデシル等のアルキル基、F,C
l,Br,I等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ
等のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル
基等で置換されていてもよいアルキル基の群からより選
ばれた基であるが、好ましくは、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、シクロヘキシル、ドデシル等のアルキル
基、メトキシ基、エトキシ等のアルコキシ基、カルボキ
シル基等で置換されていてもよいアルキル基の群からよ
り選ばれた基である。 【0013】(B成分)B成分である増感剤とは、上記
スルホニウム塩化合物の光反応を促進する化合物をい
う。例えば、水素ラジカルを容易に放出する化合物、ラ
ジカル重合禁止剤、スルホニウム塩化合物の光反応過程
で、スルホニウム塩化合物と反応して結果的にプロトン
を放出する化合物である。 【0014】具体的には、チオール類、炭化水素化合物
等の水素ラジカルを容易に放出する化合物、4−メトキ
シフェノール、ハイドロキノン、フェノチアジン等のラ
ジカル重合禁止剤、N,N−ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン等のアニリン化合物、および下記一般式化
3、化4で示される化合物などが例示されるが、好まし
くは、4−メトキシフェノール等のフェノール誘導体で
ある。 【0015】 【化3】 【0016】〔式中、R4 ,R5 は、同一又は異なる直
鎖又は分枝のアルキル基を表し、R4とR5 は一体とな
って結合してもよく、R6 は、水素原子、アルキル基又
はハロゲン原子をを表し、R7 は、水素原子、水酸基、
置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよ
いフェニル基、置換されていてもよいベンジルル基、置
換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよ
いフェノキシ基、置換されていてもよいベンジルルオキ
シ基を表す〕 【0017】上記一般式化3の化合物としては、例え
ば、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジメチルアミノ
ベンズアルデヒド、p−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、p−ジメチルアミノ安息香酸(2−n−ブトキシエ
チル)、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、p−
ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジエチルアミノ安
息香酸、p−ジエチルアミノベンズアルデヒドなどが挙
げることができる。 【0018】(C成分)C成分である脂肪族系のカチオ
ン重合性化合物としては、例えば、下記の化5〜化8に
示す化合物が挙げることができる。この内、脂環型エポ
キシやビニルエーテルなどが好ましく使用される。 【0019】 【化4】【0020】 【化5】【0021】 【化6】【0022】 【化7】【0023】 【化8】【0024】また、コーティングやフォトレジスト等に
好適に使用される肪族系の反応性ポリマーとしては、下
記一般式化9のモノマーを単独もしくは共重合したもの
が挙げられる。但し、コモノマーは、メチルメタクリレ
ートやエチルアクリレートのような脂肪族のモノマー
で、かつカチオン重合を阻害しないものが好ましい。 【0025】 【化9】 【0026】〔式中、R8 〜R17は、水素原子又はメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基を表し、
18は、CH2 又はCH2 CH2 OCOを表す〕 【0027】本発明において、前記脂肪族系熱潜在性カ
チオン重合触媒と脂肪族系のカチオン重合性化合物との
配合割合は、脂肪族系のカチオン重合性化合物100部
に対し、脂肪族系熱潜在性カチオン重合触媒0.01〜
20部、好ましくは0.1〜10部の割合で配合する。
この脂肪族系熱潜在性カチオン重合触媒量が少ないと、
脂肪族系のカチオン重合性化合物の光硬化性が低下し、
過剰であると硬化物の特性が低下する。 【0028】一方、前記増感剤と脂肪族系のカチオン重
合性化合物との配合割合は、脂肪族系のカチオン重合性
化合物100部に対し、増感剤0.001〜10部、好
ましくは0.01〜5部の割合で配合する。この増感剤
量が少ないと、脂肪族系熱潜在性カチオン重合触媒の光
反応性が低下し、過剰であると組成物の特性が低下す
る。 【0029】本発明の硬化性組成物は、光により容易に
硬化することができる。光による硬化は、波長500n
m以下の光、特に紫外線が好適に使用されるため、光源
としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高
圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノンランプ、カ
ーボンアーク灯等が用いられる。また、レーザー光を用
いることもできる。 【0030】本発明の硬化性組成物は、α線、β線、γ
線、中性子線X線、加速電子線のような電離性放射線に
よっても容易に硬化することができる。電離性放射線に
よる硬化の場合は、通常0.5〜60Mradの線量の
範囲が使用でき、1〜50Mradの範囲が好ましい。 【0031】本発明の硬化性組成物は、加熱により容易
に硬化することができる。加熱は、50℃〜200℃、
好ましくは、80℃〜180℃の範囲で使用される。な
お、光、電離性放射線及び熱を併用して硬化させること
も可能である。 【0032】本発明の脂肪族系熱潜在性カチオン重合触
媒と一般式増感剤の組み合わせから成る組成物は、ラジ
カル重合性化合物を光硬化することができる。 【0033】(作 用)脂肪族系熱潜在性カチオン重合
触媒は、脂肪族系のカチオン重合性化合物を加熱により
硬化させることはできるが、光硬化させることはできな
い。しかし、増感剤は、脂肪族系熱潜在性カチオン重合
触媒の光反応を著しく加速するため、脂肪族系のカチオ
ン重合性化合物を光硬化することができるようになる。
また、熱潜在性カチオン重合触媒およびカチオン重合性
化合物は、脂肪族のものを使用するため、光の透過性が
向上し、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化す
ることができるとともに、その硬化物は、光や熱に対し
て安定な透明性を示すようになる。 【0034】 【実施例】 (光硬化テスト)ERL−4221(UCC社製脂環型
エポキシ)に、表1〜表3に示すようにスルホニウム塩
化合物及び増感剤をプロピオンカーボネートに溶解さ
せ、スルホニウム塩化合物は純分として1部になるよう
に添加して、配合物を調製した。この配合物をブリキ板
に厚さ3μmになるように塗布し、下記の条件で光硬化
させた。この時、硬化したものには○印、硬化しなかっ
たものには×印で表し、その結果を表4に示した。 【0035】UV照射器 :ベルトコンベア型UV照射
器 ランプ :2kw(80w/cm)平行光型高圧水
銀灯、距離10cm コンベア速度:2m/分 【0036】 【表1】 【0037】 【表2】【0038】 【表3】【0039】 【表4】【0040】(熱硬化テスト)ERL−4221(UC
C社製脂環型エポキシ)に、表1〜表3に示すようにス
ルホニウム塩化合物及び増感剤をプロピオンカーボネー
トに溶解させ、スルホスルホニウム塩化合物は純分とし
て1部になるように添加して、配合物を調製した。これ
らの配合物をサンプル瓶に0.5gとり、130℃のオ
ーブンに入れ、硬化するまでの時間を測定した。この
時、硬化物が着色しなかったものには○印、着色が見ら
れたものには×印で表し、その結果を表5に示した。 【0041】 【表5】【0042】 【発明の効果】以上説明したように、本発明の硬化性組
成物は、従来の芳香族化合物を硬化触媒とする系の場合
に問題であった、クリアーコート等に使用すると太陽光
等により、経時的に着色が生じたり、高温状態に曝され
るような場合においても着色を示すことがある問題点、
及び、有効波長領域での吸収が大きくなるため、光照射
による厚膜硬化は困難であった点を解決するものであ
る。 【0043】すなわち、本発明の硬化性組成物は、光,
電子線,X線等の活性エネルギー線照射又は加熱によ
り、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化するこ
とが可能であり、また、その硬化物は、良好な透明性及
び優れた物性を有するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a curable composition,
More specifically, the present invention relates to a cationically curable composition which cures from an extremely thin film to a thick film in a short time by irradiation with active energy rays such as light, electron beams, X-rays or the like or heating. Since the cured product of the composition has good transparency and excellent physical properties, it is suitable as a material for a photoresist when a color filter for a color filter for color liquid crystal display is manufactured, such as a paint, an adhesive, or the like, which requires transparency such as a clear coat. Used for 2. Description of the Related Art Catalysts and compositions for curing cationically polymerizable compounds such as epoxy compounds by radiation such as light, X-rays and electron beams are disclosed in JP-A-50-151997 and JP-A-50-151997. 158680, JP-A-2-178303
And Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-196812 are known. [0003] In the photocationic curing reaction of a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound, the polymerization reaction is not inhibited by oxygen. Unlike the reaction, even a very thin film can be cured with light and heat in a short time. For example, catalysts such as those described in JP-A-50-151997 and JP-A-2-178303 are effective for photocuring. However, since the catalyst is an aromatic compound, when used in a clear coat or the like, coloring may occur over time due to sunlight or the like, or coloring may occur even when exposed to a high temperature state. In addition, as long as the aromatic compound is used as the photocatalyst, the absorption in the effective wavelength region increases, so that it is difficult to cure the thick film by light irradiation. Therefore, an aliphatic photocatalyst is desirable, but there is no report that a fatty compound acts as a photocatalyst and exhibits photoactivity that can be used practically. The present invention has been made in view of these circumstances, and it is possible to cure an extremely thin film to a thick film in a short time by irradiating or heating active energy rays such as light, electron beams, and X-rays. The purpose of the cured product is to provide a cationically curable composition having good transparency and excellent physical properties. Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to achieve the above object, and found that a specific heat-latent cationic polymerization catalyst, a sensitizer, and an aliphatic cationic polymerizable By using a compound, it is possible to cure from an extremely thin film to a thick film in a short time by irradiating active energy rays such as light, electron beam, X-ray or heating, and the cured product is stable against light and heat. The present inventors have found a photocurable composition exhibiting excellent transparency and physical properties, and have completed the present invention. The present invention is a curable composition containing the following components A, B and C. A component: a sulfonium salt compound represented by the general formula (2) [In the formula, R 1 represents an alkyl group having a phenyl group or an ester group which may be substituted at the α-position of the sulfur atom, and R 2 and R 3 each have a substituent. X represents SbF 6 , AsF
6 , PF 6 or BF 4 ] Component B: Sensitizer Component C: Aliphatic Cationic Polymerizable Compound The present invention will be described in detail below. (Component A) The component A of the present invention is an aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst for a sulfonium salt compound represented by the above general formula (2). In the above general formula 2, R 1 is methyl, ethyl, propyl, isopropyl,
Alkyl groups such as butyl and t-butyl, F, Cl, Br,
From an alkyl group having a phenyl group which may be substituted with a halogen atom such as I, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, or a phenoxy group, or an alkyl group having an ester group at the α-position of a sulfur atom. A benzyl group, a 2-methylbenzyl group, a 4-chlorobenzyl group, a 4-methoxybenzyl group, an α-phenethyl group, a 2-phenyl-2-propyl group, an ethoxycarbonyl group. Methyl group, dodecyloxycarbonylmethyl group, 1- (ethoxycarbonyl) ethyl group, 1- (ethoxycarbonyl) propyl group, 2- (ethoxycarbonyl) -2-propyl group, 1- (dodecyloxycarbonyl) ethyl group, -(Dodecyloxycarbonyl) propyl group, 2- (dodecyloxycarbonyl) -2-propyl group, etc. Can be exemplified. R 2 and R 3 are each methyl, ethyl,
Alkyl groups such as propyl, isopropyl, butyl and t-butyl; halogen atoms such as F, Cl, Br and I; alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups; hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, carboxyl groups, CO 2 R One , OCO
R 2 is a group selected from the group of alkyl groups which may be substituted with a group or the like, preferably methyl, ethyl,
A group selected from the group of alkyl groups which may be substituted with an alkyl group such as propyl, isopropyl and butyl, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a COOR 1 group and an OCOR 2 group; It is.
Is SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or BF 4 ,
Among them, SbF 6 is preferably used. In the above CO 2 R 1 group and OCOR 2 group, R 1 and R 2 are alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, cyclohexyl, dodecyl, F, C
It is preferably a group selected from the group consisting of a halogen atom such as l, Br and I, an alkoxy group such as methoxy group and ethoxy, an alkyl group which may be substituted with a cyano group, a nitro group, a carboxyl group and the like, Is a group selected from the group consisting of an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, cyclohexyl and dodecyl, an alkoxy group such as methoxy group and ethoxy, and an alkyl group which may be substituted with a carboxyl group. (Component B) The sensitizer that is the component B is a compound that promotes the photoreaction of the sulfonium salt compound. For example, a compound that easily releases hydrogen radicals, a radical polymerization inhibitor, and a compound that reacts with a sulfonium salt compound in the photoreaction process of the sulfonium salt compound to release a proton as a result. Specifically, compounds which easily release hydrogen radicals such as thiols and hydrocarbon compounds, radical polymerization inhibitors such as 4-methoxyphenol, hydroquinone and phenothiazine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine Examples thereof include compounds represented by the following general formulas (3) and (4), and phenol derivatives such as 4-methoxyphenol are preferred. Embedded image [Wherein R 4 and R 5 represent the same or different linear or branched alkyl groups, R 4 and R 5 may be bonded together, and R 6 is a hydrogen atom Represents an alkyl group or a halogen atom, and R 7 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group,
Optionally substituted alkyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted benzyl group, optionally substituted alkoxy group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted Examples of the compound represented by formula 3 include, for example, p-dimethylaminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzaldehyde, ethyl p-dimethylaminobenzoate, and p-dimethylaminobenzoic acid. (2-n-butoxyethyl), isoamyl p-dimethylaminobenzoate, p-
Dimethylaminoacetophenone, p-diethylaminobenzoic acid, p-diethylaminobenzaldehyde and the like can be mentioned. (Component C) Examples of the aliphatic cationic polymerizable compound as the component C include compounds represented by the following chemical formulas (5) to (8). Of these, alicyclic epoxy and vinyl ether are preferably used. Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image As the aliphatic reactive polymer suitably used for coating, photoresist, and the like, a polymer obtained by homopolymerizing or copolymerizing a monomer represented by the following general formula 9 can be mentioned. However, the comonomer is preferably an aliphatic monomer such as methyl methacrylate or ethyl acrylate and does not inhibit cationic polymerization. Embedded image Wherein R 8 -R 17 represent a hydrogen atom or an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.
R 18 represents CH 2 or CH 2 CH 2 OCO.] In the present invention, the mixing ratio of the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst and the aliphatic cationic polymerizable compound is Relative to 100 parts of the cationic polymerizable compound, the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst 0.01 to
20 parts, preferably 0.1 to 10 parts.
When the amount of the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst is small,
The photocurability of the aliphatic cationic polymerizable compound is reduced,
If the amount is excessive, the properties of the cured product deteriorate. On the other hand, the mixing ratio of the sensitizer to the aliphatic cationic polymerizable compound is 0.001 to 10 parts, preferably 0 to 10 parts, to 100 parts of the aliphatic cationic polymerizable compound. 0.01 to 5 parts. If the amount of the sensitizer is small, the photoreactivity of the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst is reduced, and if it is excessive, the properties of the composition are deteriorated. The curable composition of the present invention can be easily cured by light. Curing by light is 500n
m or less, particularly ultraviolet rays, are preferably used, and as the light source, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like is used. Alternatively, laser light can be used. The curable composition of the present invention comprises α ray, β ray, γ
It can be easily cured by ionizing radiation such as X-rays, neutron beams, and accelerating electron beams. In the case of curing with ionizing radiation, a dose range of usually 0.5 to 60 Mrad can be used, and a range of 1 to 50 Mrad is preferable. The curable composition of the present invention can be easily cured by heating. Heating is 50 ° C to 200 ° C,
Preferably, it is used in the range of 80C to 180C. In addition, it is also possible to cure using light, ionizing radiation and heat in combination. The composition comprising the combination of the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst of the present invention and a general sensitizer can photo-cur a radical polymerizable compound. (Operation) The aliphatic thermal latent cationic polymerization catalyst can cure an aliphatic cationic polymerizable compound by heating, but cannot photocur it. However, the sensitizer remarkably accelerates the photoreaction of the aliphatic heat latent cationic polymerization catalyst, so that the aliphatic cationic polymerizable compound can be photocured.
In addition, since the heat latent cationic polymerization catalyst and the cationic polymerizable compound are aliphatic, light transmittance is improved, and from a very thin film to a thick film can be cured in a short time, The cured product exhibits stable transparency to light and heat. Example (Photocuring Test) A sulfonium salt compound and a sensitizer were dissolved in ERL-4221 (alicyclic epoxy manufactured by UCC) as shown in Tables 1 to 3 in propion carbonate. The compound was prepared by adding the salt compound so as to become 1 part as a pure component. This composition was applied to a tin plate so as to have a thickness of 3 μm, and photocured under the following conditions. At this time, those that were cured were marked with a circle, and those that were not cured were marked with a cross, and the results are shown in Table 4. UV irradiator: belt conveyor type UV irradiator lamp: 2 kW (80 w / cm) parallel light type high-pressure mercury lamp, distance 10 cm, conveyor speed: 2 m / min. [Table 2] [Table 3] [Table 4] (Thermal curing test) ERL-4221 (UC
As shown in Tables 1 to 3, a sulfonium salt compound and a sensitizer were dissolved in propion carbonate, and the sulfosulfonium salt compound was added so as to be 1 part as a pure component. A formulation was prepared. 0.5 g of each of these compounds was placed in a sample bottle, placed in an oven at 130 ° C., and the time until curing was measured. At this time, the cured product was not colored and was marked with a circle, and the colored product was marked with a cross, and the results are shown in Table 5. [Table 5] As described above, the curable composition of the present invention is problematic in a conventional system using an aromatic compound as a curing catalyst. Due to, for example, coloring occurs over time, or may be colored even when exposed to a high temperature state,
Further, the present invention solves the problem that hardening of a thick film by light irradiation is difficult because absorption in an effective wavelength region becomes large. That is, the curable composition of the present invention contains light,
It is possible to cure from an extremely thin film to a thick film in a short time by irradiating an active energy ray such as an electron beam or an X-ray or heating, and the cured product has good transparency and excellent physical properties. It has.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 2/00 - 2/60 C08G 59/00 - 59/72 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08F 2/00-2/60 C08G 59/00-59/72

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記のA成分、B成分及びC成分を含有
し、かつC成分100部に対し、A成分を0.1〜1部
含有する硬化組成物を用いて硬化させることを特徴とす
る硬化物着色防止方法。 A成分:一般式化1で表されるスルホニウム塩化合物 【化1】 〔式中、R1は、硫黄原子のα位に置換されていてもよ
いフェニル基又はエステル基を有するアルキル基を表
し、R2,R3は、それぞれ置換基を有していてもよいア
ルキル基を表し、Xは、SbF6,AsF6,PF6又は
BF4を表す〕 B成分:増感剤 C成分:脂肪族系のカチオン重合性化合物
(57) [Claim 1] A cured composition containing the following components A, B and C, and 0.1 to 1 part of component A per 100 parts of component C Characterized by being cured using
Cured product coloring prevention method . A component: a sulfonium salt compound represented by the general formula 1 [Wherein, R 1 represents an alkyl group having a phenyl group or an ester group which may be substituted at the α-position of the sulfur atom, and R 2 and R 3 each represent an alkyl group which may have a substituent. X represents SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or BF 4 ] B component: sensitizer C component: aliphatic cationic polymerizable compound
JP29737593A 1993-11-02 1993-11-02 Curable composition Expired - Fee Related JP3496256B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29737593A JP3496256B2 (en) 1993-11-02 1993-11-02 Curable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29737593A JP3496256B2 (en) 1993-11-02 1993-11-02 Curable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07126313A JPH07126313A (en) 1995-05-16
JP3496256B2 true JP3496256B2 (en) 2004-02-09

Family

ID=17845678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29737593A Expired - Fee Related JP3496256B2 (en) 1993-11-02 1993-11-02 Curable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3496256B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101545931B1 (en) 2007-08-07 2015-08-20 가부시키가이샤 아데카 Aromatic sulfonium salt compound
JP5448157B2 (en) * 2009-03-13 2014-03-19 株式会社Adeka Aromatic sulfonium salt compounds
JP5697406B2 (en) * 2010-11-09 2015-04-08 キヤノン株式会社 Hydrophilic film forming method, hydrophilic film, ink jet recording head manufacturing method, and ink jet recording head

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07126313A (en) 1995-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0262414B1 (en) Photocurable blends of 2-Methoxytetrahydropyran and cycloaliphatic epoxides
EP0846681B1 (en) Novel sulfonium salt compounds, polymerization initiator, curable composition, and curing method
JPWO2017154428A1 (en) Active energy ray-curable composition and cured product thereof
US4914004A (en) Two-layer system
CA1057997A (en) Radiation curable composition containing prepolymer with bonded hydroxyalkyl ester and halo substituted anhydride
JPH09118663A (en) New sulfonium salt compound, polymerization initiator, curable composition containing the same compound and curing
CA1338955C (en) Process for forming images
JPH10195117A (en) Photocurable composition and method for curing
JP3496256B2 (en) Curable composition
JPH05230189A (en) Curable composition containing sulfonium compound and sensitizer
JP4286570B2 (en) Photoradical polymerization initiator and photosensitive resin composition
JPH10245378A (en) New sulfonium salt and photopolymerization initiator and energy ray curing composition comprising the same
JP4463649B2 (en) Photoradical polymerization initiator, photosensitive resin composition, and article
JPH08325225A (en) New sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing them
JP3326775B2 (en) Polymerization initiator composition
JPS6049665B2 (en) Curable paint composition
JPH01123805A (en) Photocurable resin composition
JP3315562B2 (en) Curable resin composition
JPS61197614A (en) Curable resin composition
JP4463648B2 (en) Photoradical generator, photosensitive resin composition, and article
JP3309419B2 (en) Curable composition containing nitrogen-containing cationic polymerization catalyst and sulfur-containing cationic polymerization catalyst
JPH07300504A (en) New sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing the same
JPH07300505A (en) New sulfonium salt compound and polymerization initiator
JPH0321629A (en) Photocurable resin composition
JPS61136506A (en) Phosphate ester of acrylated glycidyl ester copolymer

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20030527

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20031028

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees