JP3492908B2 - 磁気記録再生方法 - Google Patents
磁気記録再生方法Info
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- JP3492908B2 JP3492908B2 JP09407698A JP9407698A JP3492908B2 JP 3492908 B2 JP3492908 B2 JP 3492908B2 JP 09407698 A JP09407698 A JP 09407698A JP 9407698 A JP9407698 A JP 9407698A JP 3492908 B2 JP3492908 B2 JP 3492908B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/102—Manufacture of housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6011—Control of flying height
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、剛性基板上に磁性
薄膜を有するいわゆるハードタイプの磁気記録媒体を用
いた磁気記録再生方法に関する。
薄膜を有するいわゆるハードタイプの磁気記録媒体を用
いた磁気記録再生方法に関する。
【0002】
【従来の技術】計算機等に用いられる磁気ディスク記録
再生装置では、剛性基板上に磁性層を設層したハードタ
イプの磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとが用いられて
いる。
再生装置では、剛性基板上に磁性層を設層したハードタ
イプの磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとが用いられて
いる。
【0003】浮上型磁気ヘッドは、空気ベアリング作用
により浮力を発生するスライダを有する磁気ヘッドであ
り、コアがスライダと一体化されたコンポジットタイプ
のもの、あるいはコアがスライダを兼ねるモノリシック
タイプのものが通常用いられる。
により浮力を発生するスライダを有する磁気ヘッドであ
り、コアがスライダと一体化されたコンポジットタイプ
のもの、あるいはコアがスライダを兼ねるモノリシック
タイプのものが通常用いられる。
【0004】そして、最近では、高密度記録が可能であ
ることから、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが実用され
ている。
ることから、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが実用され
ている。
【0005】浮上型薄膜磁気ヘッドは、非磁性の基体上
に磁極層、ギャップ層、コイル層などを気相成膜法等に
より形成したものである。このような浮上型薄膜磁気ヘ
ッドでは、基体がスライダとしてはたらく。
に磁極層、ギャップ層、コイル層などを気相成膜法等に
より形成したものである。このような浮上型薄膜磁気ヘ
ッドでは、基体がスライダとしてはたらく。
【0006】一方、磁気ディスクとしては、従来、塗布
型の磁気ディスクが用いられてきた。
型の磁気ディスクが用いられてきた。
【0007】しかし、磁気ディスクの大容量化に伴い、
磁気特性、記録密度等の点で有利なことから、スパッタ
法等の気相成膜法等により設層される連続薄膜型の磁性
薄膜を有する薄膜型の磁気ディスクが用いられてきてい
る。
磁気特性、記録密度等の点で有利なことから、スパッタ
法等の気相成膜法等により設層される連続薄膜型の磁性
薄膜を有する薄膜型の磁気ディスクが用いられてきてい
る。
【0008】塗布型磁気ディスクでは磁性層厚が1〜2
μm 程度と比較的厚いため、ディスク媒体の表面性は基
板の表面性に著しく影響されるということはない。
μm 程度と比較的厚いため、ディスク媒体の表面性は基
板の表面性に著しく影響されるということはない。
【0009】これに対して、薄膜型磁気ディスクでは、
磁性層厚が0.5μm 以下と薄いため、基板の表面性が
ディスク媒体の表面性に著しく影響を及ぼす。従って、
表面精度の優れた基板を用いることにより、薄膜型磁気
ディスク媒体の表面性を向上させることができる。
磁性層厚が0.5μm 以下と薄いため、基板の表面性が
ディスク媒体の表面性に著しく影響を及ぼす。従って、
表面精度の優れた基板を用いることにより、薄膜型磁気
ディスク媒体の表面性を向上させることができる。
【0010】その結果、磁気ヘッドの浮上量を減少させ
ることができ、スペーシングロスを減少でき、出力が向
上し、しかも記録密度が向上する。
ることができ、スペーシングロスを減少でき、出力が向
上し、しかも記録密度が向上する。
【0011】薄膜型磁気ディスクにおいては、1例とし
て、アルミ合金上に50μm 程度のNi−Pめっき層を
形成し、この表面を研磨したもの、あるいは、アルミ合
金表面を陽極酸化して厚さ2μm 程度のアルマイト硬化
層を形成し、さらにアルマイト表面を研磨したものを基
板としているものがある。
て、アルミ合金上に50μm 程度のNi−Pめっき層を
形成し、この表面を研磨したもの、あるいは、アルミ合
金表面を陽極酸化して厚さ2μm 程度のアルマイト硬化
層を形成し、さらにアルマイト表面を研磨したものを基
板としているものがある。
【0012】これらの基板では、表面粗さRmax が0.
15μm 程度の表面が得られる。
15μm 程度の表面が得られる。
【0013】これらの基板上に磁性薄膜を形成する場
合、例えばCo−Niを主成分とする磁性薄膜を形成す
る場合には、基板上にCrをスパッタ成膜し、この上に
Co−Niを主成分とする磁性薄膜を1000A 程度ス
パッタし、さらにC等の保護潤滑膜を200A 程度形成
する。
合、例えばCo−Niを主成分とする磁性薄膜を形成す
る場合には、基板上にCrをスパッタ成膜し、この上に
Co−Niを主成分とする磁性薄膜を1000A 程度ス
パッタし、さらにC等の保護潤滑膜を200A 程度形成
する。
【0014】このようにして得られた媒体の表面は、基
板の表面性が反映されて、表面粗さRmax が0.15μ
m 程度である。
板の表面性が反映されて、表面粗さRmax が0.15μ
m 程度である。
【0015】また、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を形
成する場合には、Feを主成分とするターゲットをAr
+O2 雰囲気中でスパッタし、α−Fe2 O3 あるいは
Fe3 O4 を主成分とするスパッタ膜を基板上に200
0A 程度成膜する。
成する場合には、Feを主成分とするターゲットをAr
+O2 雰囲気中でスパッタし、α−Fe2 O3 あるいは
Fe3 O4 を主成分とするスパッタ膜を基板上に200
0A 程度成膜する。
【0016】α−Fe2 O3 の場合には、これを還元性
雰囲気中で300℃程度に加熱し、Fe3 O4 とする。
雰囲気中で300℃程度に加熱し、Fe3 O4 とする。
【0017】次に、酸化性雰囲気中で300℃程度に加
熱して、Fe3 O4 を酸化して、γ−Fe2 O3 を主成
分とする膜とする。
熱して、Fe3 O4 を酸化して、γ−Fe2 O3 を主成
分とする膜とする。
【0018】そして、この上に更に保護潤滑膜を形成し
媒体としている。
媒体としている。
【0019】このようにして得られた媒体表面も、基板
の表面性が反映されて、表面粗さRmax が0.15μm
程度である。
の表面性が反映されて、表面粗さRmax が0.15μm
程度である。
【0020】しかし、アルミ合金上にNi−Pめっき層
を形成し、この表面を研磨した基板においては、Ni−
Pめっきを行なう前にアルミ合金表面を活性化処理する
必要があり、基板形成の工程が複雑となる。また、活性
化処理以降の工程が基板価格の50%以上を占め、基板
がコスト高になる。
を形成し、この表面を研磨した基板においては、Ni−
Pめっきを行なう前にアルミ合金表面を活性化処理する
必要があり、基板形成の工程が複雑となる。また、活性
化処理以降の工程が基板価格の50%以上を占め、基板
がコスト高になる。
【0021】さらにNi−Pめっき層は150℃以上に
加熱すると結晶化して磁性を持つようになるため、磁性
酸化鉄膜を形成する時のように加熱工程が必要な場合は
この基板を使用することができない。
加熱すると結晶化して磁性を持つようになるため、磁性
酸化鉄膜を形成する時のように加熱工程が必要な場合は
この基板を使用することができない。
【0022】アルミ合金上にアルマイト皮膜を形成した
基板は、熱処理を行なった場合、アルミ合金とアルマイ
ト皮膜との熱膨張係数の差により発生する応力のため
に、アルマイト皮膜にクラックが生じやすいという欠点
がある。
基板は、熱処理を行なった場合、アルミ合金とアルマイ
ト皮膜との熱膨張係数の差により発生する応力のため
に、アルマイト皮膜にクラックが生じやすいという欠点
がある。
【0023】そのため磁性酸化鉄膜を形成する際の加熱
温度は300℃程度以下に限定されてしまう。
温度は300℃程度以下に限定されてしまう。
【0024】さらに、アルマイト皮膜には多数の通電孔
が存在し、多孔質構造となっている。そのためこの基板
上に磁性薄膜を形成した場合には、通電孔の部分に磁気
的欠陥が生じやすく、また表面粗さもRmax が0.15
μm 程度と充分なものではない。
が存在し、多孔質構造となっている。そのためこの基板
上に磁性薄膜を形成した場合には、通電孔の部分に磁気
的欠陥が生じやすく、また表面粗さもRmax が0.15
μm 程度と充分なものではない。
【0025】このようなRmax の大きな基板上に磁性薄
膜を形成すると、磁性薄膜のRmaxも大きなものとな
る。そして、その際、浮上量を減少させると、媒体表面
の突起に磁気ヘッドが接触して磁性薄膜が削りとられた
り、磁気ヘッドが破損されてしまったりする。
膜を形成すると、磁性薄膜のRmaxも大きなものとな
る。そして、その際、浮上量を減少させると、媒体表面
の突起に磁気ヘッドが接触して磁性薄膜が削りとられた
り、磁気ヘッドが破損されてしまったりする。
【0026】すなわち媒体の超精密表面性は、磁気ヘッ
ドを安定に浮上させ、この浮上量をどの程度まで小さく
できるかを決める重要なポイントとなる。
ドを安定に浮上させ、この浮上量をどの程度まで小さく
できるかを決める重要なポイントとなる。
【0027】そこで、米国特許第3,516,860号
明細書には、ガラス基板を用いた磁気ディスクが開示さ
れている。ガラス基板を用いれば、磁性薄膜形成の際の
加熱工程に支障もない。
明細書には、ガラス基板を用いた磁気ディスクが開示さ
れている。ガラス基板を用いれば、磁性薄膜形成の際の
加熱工程に支障もない。
【0028】また、同明細書には、ガラス表面をできる
だけ平滑にすることが好ましい旨が開示されている。
だけ平滑にすることが好ましい旨が開示されている。
【0029】しかし、ガラス基板の表面粗さおよび磁性
薄膜の表面粗さについては開示がなく、表面をあまりに
も平滑にしたときには、ヘッドが磁性薄膜表面に吸着す
る。
薄膜の表面粗さについては開示がなく、表面をあまりに
も平滑にしたときには、ヘッドが磁性薄膜表面に吸着す
る。
【0030】より具体的には、吸着現象が生じると、磁
気ディスクの回転開始時に磁気ヘッドが短時間に浮上せ
ず、磁気ヘッドスライダ面が磁性薄膜表面に接触したま
まディスクが回転することになり、磁性薄膜表面および
磁気ヘッドスライダ面が破損される。
気ディスクの回転開始時に磁気ヘッドが短時間に浮上せ
ず、磁気ヘッドスライダ面が磁性薄膜表面に接触したま
まディスクが回転することになり、磁性薄膜表面および
磁気ヘッドスライダ面が破損される。
【0031】また吸着の著しい場合には磁気ヘッドスラ
イダ面が磁性薄膜表面に吸着したまま動かず、磁気ディ
スクの回転起動が不能となるなどの問題が生じる。
イダ面が磁性薄膜表面に吸着したまま動かず、磁気ディ
スクの回転起動が不能となるなどの問題が生じる。
【0032】従って、吸着は、それ自体重大な事故であ
るとともに、さらに後述のCSS耐久性にも影響を与え
るものである。
るとともに、さらに後述のCSS耐久性にも影響を与え
るものである。
【0033】そこで、本発明者らは、表面粗さRmax が
100A 以下、好ましくは50A 以下となるように、超
精密表面加工されたガラス基板上、あるいは少なくとも
一部分を強化し、表面粗さRmax が100A 以下、好ま
しくは50A 以下となるように超精密表面加工されたガ
ラス基板上に、磁気記録用磁性薄膜を形成する旨を提案
している(特開昭62−43819号)。
100A 以下、好ましくは50A 以下となるように、超
精密表面加工されたガラス基板上、あるいは少なくとも
一部分を強化し、表面粗さRmax が100A 以下、好ま
しくは50A 以下となるように超精密表面加工されたガ
ラス基板上に、磁気記録用磁性薄膜を形成する旨を提案
している(特開昭62−43819号)。
【0034】この提案では、例えば、ガラス基板のR
max を90A とし、磁性薄膜のRmaxを100A とした
例と、ガラス基板のRmax を40A とし、磁性薄膜のR
max を45A とした例とを示している。
max を90A とし、磁性薄膜のRmaxを100A とした
例と、ガラス基板のRmax を40A とし、磁性薄膜のR
max を45A とした例とを示している。
【0035】そして、これにより、ヘッド浮上量を0.
1〜0.2μm 程度に減少させることができる。
1〜0.2μm 程度に減少させることができる。
【0036】また、本発明者らは、特開昭63−175
219号公報において、基板のRma x を40A 未満、好
ましくは20A 以下、磁性薄膜のRmax を40〜100
A 、好ましくは50〜80A とする旨を提案している。
219号公報において、基板のRma x を40A 未満、好
ましくは20A 以下、磁性薄膜のRmax を40〜100
A 、好ましくは50〜80A とする旨を提案している。
【0037】この提案によれば、ヘッドの浮上安定性が
向上し、浮上量を減少させることができるとともに、ヘ
ッドの吸着が抑制される。
向上し、浮上量を減少させることができるとともに、ヘ
ッドの吸着が抑制される。
【0038】このように、本発明者らのこれらの提案で
は、いずれもヘッド浮上量を0.1〜0.2μm 程度に
減少させたとき、安定な浮上特性を得ることができる。
また後の提案におけるように、このような浮上量では、
ヘッド吸着の発生もある程度抑制できる。
は、いずれもヘッド浮上量を0.1〜0.2μm 程度に
減少させたとき、安定な浮上特性を得ることができる。
また後の提案におけるように、このような浮上量では、
ヘッド吸着の発生もある程度抑制できる。
【0039】しかし、本発明者らのその後の研究によれ
ば、ヘッド浮上量を0.2μm 以下とし、くり返し多数
回のコンタクト・スタート・アンド・ストップ(CS
S)を行うと、出力低下が生じ、耐久性の点で不十分で
あることが判明した。
ば、ヘッド浮上量を0.2μm 以下とし、くり返し多数
回のコンタクト・スタート・アンド・ストップ(CS
S)を行うと、出力低下が生じ、耐久性の点で不十分で
あることが判明した。
【0040】そして、このようなCSS耐久性は、例え
ば5〜15℃程度の低温下ではきわめて低いものとなっ
てしまう。
ば5〜15℃程度の低温下ではきわめて低いものとなっ
てしまう。
【0041】また、浮上量0.1μm 以下では、本発明
者らの後の提案でも吸着防止能は不十分となることがあ
ることが判明した。
者らの後の提案でも吸着防止能は不十分となることがあ
ることが判明した。
【0042】そこで、本発明者らは検討を重ねたとこ
ろ、ガラス基板のRmax と、磁性薄膜側表面のRmax を
それぞれ所定の値に制御すると、特に、臨界的にCSS
耐久性が向上することを見出した。
ろ、ガラス基板のRmax と、磁性薄膜側表面のRmax を
それぞれ所定の値に制御すると、特に、臨界的にCSS
耐久性が向上することを見出した。
【0043】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、ヘッド浮上量が小さい場合でも、浮上安定性が高
く、ヘッド吸着も少なく、CSS耐久性の高い磁気記録
再生方法を提供することにある。
は、ヘッド浮上量が小さい場合でも、浮上安定性が高
く、ヘッド吸着も少なく、CSS耐久性の高い磁気記録
再生方法を提供することにある。
【0044】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(4)のいずれかの構成により達成される。 (1) 磁気ディスクを回転し、この磁気ディスク上に
磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う磁気記録再生方
法において、前記磁気ディスクがガラス基板上に磁性薄
膜を有し、このガラス基板の表面粗さRmax が45〜8
0A であり、前記磁気ディスクの磁性薄膜側表面粗さR
max が90〜150A であり、前記磁気ヘッドの浮上量
が0.2μm 以下であり、前記磁気ヘッドのフロント面
のRmax が200A 以下である磁気記録再生方法。 (2) 前記磁性薄膜側表面粗さを熱処理により得る上
記(1)の磁気記録再生方法。 (3) 前記磁性薄膜上に、水との接触角が70°以上
の潤滑膜を有する上記(1)または(2)の磁気記録再
生方法。 (4) 前記磁性薄膜が磁性酸化鉄膜であり、ガラス基
板表面に形成されている上記(1)〜(3)のいずれか
の磁気記録再生方法。
(1)〜(4)のいずれかの構成により達成される。 (1) 磁気ディスクを回転し、この磁気ディスク上に
磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う磁気記録再生方
法において、前記磁気ディスクがガラス基板上に磁性薄
膜を有し、このガラス基板の表面粗さRmax が45〜8
0A であり、前記磁気ディスクの磁性薄膜側表面粗さR
max が90〜150A であり、前記磁気ヘッドの浮上量
が0.2μm 以下であり、前記磁気ヘッドのフロント面
のRmax が200A 以下である磁気記録再生方法。 (2) 前記磁性薄膜側表面粗さを熱処理により得る上
記(1)の磁気記録再生方法。 (3) 前記磁性薄膜上に、水との接触角が70°以上
の潤滑膜を有する上記(1)または(2)の磁気記録再
生方法。 (4) 前記磁性薄膜が磁性酸化鉄膜であり、ガラス基
板表面に形成されている上記(1)〜(3)のいずれか
の磁気記録再生方法。
【0045】
【作用】本発明に従い、ガラス基板表面のRmax と、磁
性薄膜側表面のRmax をそれぞれ所定の範囲に制御する
ことによって、低浮上量駆動での高い浮上安定性と良好
な吸着防止能とを確保した上で、臨界的にCSS耐久
性、特に低温でのCSS耐久性が向上する。
性薄膜側表面のRmax をそれぞれ所定の範囲に制御する
ことによって、低浮上量駆動での高い浮上安定性と良好
な吸着防止能とを確保した上で、臨界的にCSS耐久
性、特に低温でのCSS耐久性が向上する。
【0046】このような臨界的効果を与える本発明にお
けるガラス基板および磁性薄膜側表面のRmax は従来の
特許および文献には一切開示されていない範囲のもので
ある。
けるガラス基板および磁性薄膜側表面のRmax は従来の
特許および文献には一切開示されていない範囲のもので
ある。
【0047】なお、米国特許第4,608,283号明
細書には、セラミック製基板を用い、この基板上にAl
2 O3 等の50A 以下の表面粗さの絶縁膜を形成し、こ
の上に磁性薄膜を形成する旨が示されているが、このも
のには、磁性薄膜の表面粗さおよびそれに基づく吸着や
CSS耐久性などについては一切開示がない。
細書には、セラミック製基板を用い、この基板上にAl
2 O3 等の50A 以下の表面粗さの絶縁膜を形成し、こ
の上に磁性薄膜を形成する旨が示されているが、このも
のには、磁性薄膜の表面粗さおよびそれに基づく吸着や
CSS耐久性などについては一切開示がない。
【0048】しかも、このものと比較して、本発明で
は、下地層を形成する必要がないという製造上のメリッ
トをもつ。
は、下地層を形成する必要がないという製造上のメリッ
トをもつ。
【0049】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明の磁気記録媒体1は、基板2
上に連続薄膜型の磁性薄膜3を有する。
て詳細に説明する。本発明の磁気記録媒体1は、基板2
上に連続薄膜型の磁性薄膜3を有する。
【0050】本発明で用いる基板は、下地層などを設層
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、ガラス
を用いる。
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、ガラス
を用いる。
【0051】アルミ合金上にNi−Pめっき層を設けた
基板あるいはアルマイト層を設けた基板では加熱温度に
制約があるが、ガラス基板では400℃程度までは充分
に使用可能なため、磁性酸化鉄膜を形成する場合のよう
に加熱工程が必要な場合は特に有効である。
基板あるいはアルマイト層を設けた基板では加熱温度に
制約があるが、ガラス基板では400℃程度までは充分
に使用可能なため、磁性酸化鉄膜を形成する場合のよう
に加熱工程が必要な場合は特に有効である。
【0052】ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学
強化法による表面強化ガラスを用いることが好ましい。
強化法による表面強化ガラスを用いることが好ましい。
【0053】一般的に、表面化学強化ガラスは、ガラス
転移温度以下の温度にて、ガラス表面付近のアルカリイ
オンを外部から供給される他種のアルカリイオンに置換
し、これらのイオンの占有容積の差によりガラス表面に
圧縮応力が発生することを利用したものである。
転移温度以下の温度にて、ガラス表面付近のアルカリイ
オンを外部から供給される他種のアルカリイオンに置換
し、これらのイオンの占有容積の差によりガラス表面に
圧縮応力が発生することを利用したものである。
【0054】イオンの置換は、アルカリイオンの溶融塩
中にガラスを浸漬することにより行なわれる。塩として
は硝酸塩、硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度は350
〜650℃程度、浸漬時間は1〜24時間程度である。
中にガラスを浸漬することにより行なわれる。塩として
は硝酸塩、硫酸塩等が用いられ、溶融塩の温度は350
〜650℃程度、浸漬時間は1〜24時間程度である。
【0055】より詳細には、アルカリ溶融塩としてKN
O3 を用い、Kイオンとガラス中のNaイオンと交換す
る方法や、NaNO3 を用い、ガラス中のLiイオンと
交換する方法等が挙げられる。また、ガラス中のNaイ
オンおよびLiイオンを同時に交換してもよい。
O3 を用い、Kイオンとガラス中のNaイオンと交換す
る方法や、NaNO3 を用い、ガラス中のLiイオンと
交換する方法等が挙げられる。また、ガラス中のNaイ
オンおよびLiイオンを同時に交換してもよい。
【0056】このようにして得られる強化層、すなわち
圧縮応力層はガラス基板の表面付近だけに存在するた
め、表面強化ガラスとなる。圧縮応力層の厚さは、10
〜200μm 、特に50〜150μm とすることが好ま
しい。
圧縮応力層はガラス基板の表面付近だけに存在するた
め、表面強化ガラスとなる。圧縮応力層の厚さは、10
〜200μm 、特に50〜150μm とすることが好ま
しい。
【0057】なお、このような表面強化ガラスは、米国
特許第3,287,200号明細書、特開昭62−43
819号公報、同63−175219号公報に記載され
ている。
特許第3,287,200号明細書、特開昭62−43
819号公報、同63−175219号公報に記載され
ている。
【0058】表面強化する部分としては、磁気ディスク
で考えると、内径縁部、内径縁部周辺、外径縁部、外径
縁部周辺、これらの適当な組合せ、全面などいずれであ
ってもよい。
で考えると、内径縁部、内径縁部周辺、外径縁部、外径
縁部周辺、これらの適当な組合せ、全面などいずれであ
ってもよい。
【0059】ガラス基板の表面粗さRmax は、45〜8
0A である。
0A である。
【0060】Rmax が45A 未満、および80A より大
となると、磁性薄膜のRmax を80〜150A に制御し
ても、低浮上量としたときのCSS耐久性、特に低温で
のCSS耐久性が臨界的に低下する。
となると、磁性薄膜のRmax を80〜150A に制御し
ても、低浮上量としたときのCSS耐久性、特に低温で
のCSS耐久性が臨界的に低下する。
【0061】この場合、ガラス基板のRmax は、45〜
60A となると、より一層好ましい結果を得る。
60A となると、より一層好ましい結果を得る。
【0062】なお、Rmax はJISBO601に従い測
定すればよい。
定すればよい。
【0063】このようなガラス基板の表面粗さは、例え
ば、特開昭62−43819号公報、同63−1752
19号公報に記載されているようなメカノケミカルポリ
ッシングなどの各種ポリッシング条件を制御することに
より得ることができる。ポリッシング後には基板を洗浄
する。
ば、特開昭62−43819号公報、同63−1752
19号公報に記載されているようなメカノケミカルポリ
ッシングなどの各種ポリッシング条件を制御することに
より得ることができる。ポリッシング後には基板を洗浄
する。
【0064】ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウ
ケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チ
タンケイ酸ガラス等のガラスから適当に選択することが
できるが、機械的強度が高いことから、特にアルミノケ
イ酸ガラスを用いることが好ましい。
ケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チ
タンケイ酸ガラス等のガラスから適当に選択することが
できるが、機械的強度が高いことから、特にアルミノケ
イ酸ガラスを用いることが好ましい。
【0065】なお、ガラス基板の表面平滑化を、特開昭
62−43819号公報等に記載されているようなメカ
ノケミカルポリッシングにより行なう場合、結晶質を含
まないガラスを用いることが好ましい。これは、メカノ
ケミカルポリッシングにより結晶粒界が比較的早く研磨
されてしまい、上記のようなRmax が達成できないから
である。
62−43819号公報等に記載されているようなメカ
ノケミカルポリッシングにより行なう場合、結晶質を含
まないガラスを用いることが好ましい。これは、メカノ
ケミカルポリッシングにより結晶粒界が比較的早く研磨
されてしまい、上記のようなRmax が達成できないから
である。
【0066】ガラス基板の形状および寸法に特に制限は
ないが、通常、ディスク状とされ、厚さは0.5〜5mm
程度、直径は25〜300mm程度である。
ないが、通常、ディスク状とされ、厚さは0.5〜5mm
程度、直径は25〜300mm程度である。
【0067】ガラス基板2上には、連続薄膜型の磁性薄
膜3が成膜される。
膜3が成膜される。
【0068】連続薄膜型の磁性薄膜に特に制限はない
が、本発明は、酸化鉄(γ-Fe2O3)を主成分とする磁性
薄膜を有する磁気記録媒体に適用した場合、特に高い効
果を発揮する。以下、この場合について説明する。
が、本発明は、酸化鉄(γ-Fe2O3)を主成分とする磁性
薄膜を有する磁気記録媒体に適用した場合、特に高い効
果を発揮する。以下、この場合について説明する。
【0069】γ-Fe2O3を主成分とする磁性薄膜は、まず
Fe3O4 を形成し、このFe3O4 を酸化してγ-Fe2O3とする
ことにより形成されることが好ましい。
Fe3O4 を形成し、このFe3O4 を酸化してγ-Fe2O3とする
ことにより形成されることが好ましい。
【0070】Fe3O4 を形成する方法は、直接法であって
も間接法であってもよいが、工程が簡素になることなど
から、直接法を用いることが好ましい。
も間接法であってもよいが、工程が簡素になることなど
から、直接法を用いることが好ましい。
【0071】直接法は、反応性スパッタ法を用いて基板
上にFe3O4 を直接形成する方法である。直接法には、タ
ーゲットにFeを用いて酸化性雰囲気にて行なう酸化
法、ターゲットにα-Fe2O3を用いて還元性雰囲気にて行
なう還元法、ターゲットにFe3O4 を用いる中性法が挙げ
られるが、スパッタ制御が容易であること、成膜速度が
高いことなどから、本発明では酸化法を用いることが好
ましい。
上にFe3O4 を直接形成する方法である。直接法には、タ
ーゲットにFeを用いて酸化性雰囲気にて行なう酸化
法、ターゲットにα-Fe2O3を用いて還元性雰囲気にて行
なう還元法、ターゲットにFe3O4 を用いる中性法が挙げ
られるが、スパッタ制御が容易であること、成膜速度が
高いことなどから、本発明では酸化法を用いることが好
ましい。
【0072】なお、間接法は、ターゲットにFeを用い
て酸化性雰囲気にてα-Fe2O3を形成した後、還元してFe
3O4 を得るものである。本発明では、この方法によって
磁性薄膜を形成してもよい。
て酸化性雰囲気にてα-Fe2O3を形成した後、還元してFe
3O4 を得るものである。本発明では、この方法によって
磁性薄膜を形成してもよい。
【0073】スパッタ法により成膜されたFe3O4 は、γ
-Fe2O3にまで酸化される。
-Fe2O3にまで酸化される。
【0074】この酸化は、大気中熱処理によって行なわ
れることが好ましい。熱処理は200〜400℃にて1
0分〜10時間程度行えばよい。
れることが好ましい。熱処理は200〜400℃にて1
0分〜10時間程度行えばよい。
【0075】なお、磁性薄膜中には必要に応じてCo、
Ti、Cu等を添加させてもよく、また、成膜雰囲気中
に含まれるAr等が含有されていてもよい。
Ti、Cu等を添加させてもよく、また、成膜雰囲気中
に含まれるAr等が含有されていてもよい。
【0076】上記した方法の詳細は、電子通信学会論文
誌'80/9 Vol.J63-C No.9 p.609 616に記載されており、
これに準じて磁性層の形成を行なうことが好ましい。
誌'80/9 Vol.J63-C No.9 p.609 616に記載されており、
これに準じて磁性層の形成を行なうことが好ましい。
【0077】この他に、磁性薄膜としては、Co−N
i、Co−Ni−Cr、Co−Cr、Co−Ni−P、
Co−Zn−P、Co−Ni−Mn−Re−P等の各種
合金の気相成長ないしめっき膜であってもよい。ただ、
耐食性、耐久性の点では、酸化鉄を主成分とする磁性薄
膜が好適である。
i、Co−Ni−Cr、Co−Cr、Co−Ni−P、
Co−Zn−P、Co−Ni−Mn−Re−P等の各種
合金の気相成長ないしめっき膜であってもよい。ただ、
耐食性、耐久性の点では、酸化鉄を主成分とする磁性薄
膜が好適である。
【0078】なお、Co−Ni等においてはCr等の中
間層を設けることが好ましい。
間層を設けることが好ましい。
【0079】磁性薄膜の層厚は、生産性、磁気特性等を
考慮して、500〜3000A 程度とすることが好まし
い。
考慮して、500〜3000A 程度とすることが好まし
い。
【0080】なお、前記のとおり本発明では、気相成膜
法の他、蒸着法、めっき法により酸化鉄を主成分とする
薄膜を形成する方法、あるいは薄膜形成後に熱処理を施
す方法等によって磁性薄膜を設層してもよい。
法の他、蒸着法、めっき法により酸化鉄を主成分とする
薄膜を形成する方法、あるいは薄膜形成後に熱処理を施
す方法等によって磁性薄膜を設層してもよい。
【0081】このような磁性薄膜3上には、潤滑膜4が
設けられることが好ましい。
設けられることが好ましい。
【0082】潤滑膜は有機化合物を含有することが好ま
しく、特に極性基ないし親水性基、あるいは親水性部分
を有する有機化合物を含有することが好ましい。
しく、特に極性基ないし親水性基、あるいは親水性部分
を有する有機化合物を含有することが好ましい。
【0083】用いる有機化合物に特に制限はなく、ま
た、液体であっても固体であってもよく、フッ素系有機
化合物、例えば欧州特許公開第0165650号および
その対応日本出願である特開昭61−4727号公報、
欧州特許公開第0165649号およびその対応日本出
願である特開昭61−155345号公報等に記載され
ているようなパーフルオロポリエーテル、あるいは公知
の各種脂肪酸、各種エステル、各種アルコール等から適
当なものを選択すればよい。
た、液体であっても固体であってもよく、フッ素系有機
化合物、例えば欧州特許公開第0165650号および
その対応日本出願である特開昭61−4727号公報、
欧州特許公開第0165649号およびその対応日本出
願である特開昭61−155345号公報等に記載され
ているようなパーフルオロポリエーテル、あるいは公知
の各種脂肪酸、各種エステル、各種アルコール等から適
当なものを選択すればよい。
【0084】潤滑膜の成膜方法に特に制限はなく、塗布
法等を用いればよい。
法等を用いればよい。
【0085】潤滑膜の表面は、水との接触角が70°以
上、特に90°以上であることが好ましい。このような
接触角を有することにより、磁気ヘッドと媒体との吸着
防止能が向上する。
上、特に90°以上であることが好ましい。このような
接触角を有することにより、磁気ヘッドと媒体との吸着
防止能が向上する。
【0086】潤滑膜の厚さは、成膜方法および使用化合
物によっても異なるが、4〜300A 程度であることが
好ましい。
物によっても異なるが、4〜300A 程度であることが
好ましい。
【0087】4A 以上とすると耐久性が向上し、300
A 以下とすると吸着や磁気ヘッドのクラッシュが減少す
る。なお、より好ましい膜厚は4〜100A であり、さ
らに好ましい膜厚は4〜80A である。
A 以下とすると吸着や磁気ヘッドのクラッシュが減少す
る。なお、より好ましい膜厚は4〜100A であり、さ
らに好ましい膜厚は4〜80A である。
【0088】このような磁気記録媒体の磁性薄膜側の表
面粗さRmax は、80〜150A である。
面粗さRmax は、80〜150A である。
【0089】磁性薄膜側のRmax を上記範囲内とすれ
ば、媒体表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離(浮
上量)を、例えば0.1μm以下としても、安定に記録
再生を行なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと磁
気記録媒体との吸着が発生せず、高密度記録が可能とな
る。
ば、媒体表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離(浮
上量)を、例えば0.1μm以下としても、安定に記録
再生を行なうことができ、しかも浮上型磁気ヘッドと磁
気記録媒体との吸着が発生せず、高密度記録が可能とな
る。
【0090】そして、この際、特に低温でのCSS耐久
性が格段と向上するものである。この場合、ガラス基板
のRmax が45〜80A であっても、磁性薄膜側のR
max が90A 未満あるいは150A より大となると、特
に低浮上量での低温でのCSS耐久性は臨界的に低下し
てしまう。
性が格段と向上するものである。この場合、ガラス基板
のRmax が45〜80A であっても、磁性薄膜側のR
max が90A 未満あるいは150A より大となると、特
に低浮上量での低温でのCSS耐久性は臨界的に低下し
てしまう。
【0091】この場合、磁性薄膜のRmax は、通常、ガ
ラス基板のRmax 以上である。
ラス基板のRmax 以上である。
【0092】なお、磁性薄膜のRmax が、90〜120
A となるとより一層好ましい結果を得る。
A となるとより一層好ましい結果を得る。
【0093】また、このような磁性薄膜側のRmax を得
るためには、例えば酸化鉄を主成分とする磁性薄膜の場
合には、前記のFe3 O4 からγ−Fe2 O3 への酸化
を行う大気中の熱処理の熱処理温度と時間をかえてR
max を調整すればよい。
るためには、例えば酸化鉄を主成分とする磁性薄膜の場
合には、前記のFe3 O4 からγ−Fe2 O3 への酸化
を行う大気中の熱処理の熱処理温度と時間をかえてR
max を調整すればよい。
【0094】あるいは、金属磁性薄膜の場合には、構成
層成膜後100〜500℃にて、10分〜10時間程
度、不活性雰囲気中で熱処理して、所定のRmax を得れ
ばよい。
層成膜後100〜500℃にて、10分〜10時間程
度、不活性雰囲気中で熱処理して、所定のRmax を得れ
ばよい。
【0095】本発明の磁気記録媒体は、公知のコンポジ
ット型の浮上型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型磁
気ヘッド等により記録再生を行なった場合に効果を発揮
するが、特に、薄膜型の浮上型磁気ヘッドと組合せて使
用された場合に、極めて高い効果を示す。
ット型の浮上型磁気ヘッド、モノリシック型の浮上型磁
気ヘッド等により記録再生を行なった場合に効果を発揮
するが、特に、薄膜型の浮上型磁気ヘッドと組合せて使
用された場合に、極めて高い効果を示す。
【0096】図2に、本発明の磁気ヘッドの好適実施例
である薄膜型の浮上型磁気ヘッドの1例を示す。
である薄膜型の浮上型磁気ヘッドの1例を示す。
【0097】図2に示される浮上型磁気ヘッド10は、
基体20上に、絶縁層31、下部磁極層41、ギャップ
層50、絶縁層33、コイル層60、絶縁層35、上部
磁極層45および保護層70を順次有する。また、この
ような浮上型磁気ヘッド10の少なくともフロント面、
すなわち浮揚面には、必要に応じ、前記と同様の潤滑膜
を設けることもできる。
基体20上に、絶縁層31、下部磁極層41、ギャップ
層50、絶縁層33、コイル層60、絶縁層35、上部
磁極層45および保護層70を順次有する。また、この
ような浮上型磁気ヘッド10の少なくともフロント面、
すなわち浮揚面には、必要に応じ、前記と同様の潤滑膜
を設けることもできる。
【0098】なお、本発明では、フロント面のRmax
は、200A 以下、好ましくは50〜150A である。
このようなRmax を有する磁気ヘッドと上記したRmax
を有する磁気記録媒体とを組み合わせて使用することに
より、本発明の効果はより一層向上する。
は、200A 以下、好ましくは50〜150A である。
このようなRmax を有する磁気ヘッドと上記したRmax
を有する磁気記録媒体とを組み合わせて使用することに
より、本発明の効果はより一層向上する。
【0099】コイル層60の材質には特に制限はなく、
通常用いられるAl、Cu等の金属を用いればよい。
通常用いられるAl、Cu等の金属を用いればよい。
【0100】コイルの巻回パターンや巻回密度について
も制限はなく、公知のものを適宜選択使用すればよい。
例えば巻回パターンについては図示のスパイラル型の
他、積層型、ジグザグ型等いずれであってもよい。
も制限はなく、公知のものを適宜選択使用すればよい。
例えば巻回パターンについては図示のスパイラル型の
他、積層型、ジグザグ型等いずれであってもよい。
【0101】また、コイル層60の形成にはスパッタ法
等の各種気相被着法を用いればよい。
等の各種気相被着法を用いればよい。
【0102】基体20はMn−Znフェライト等の公知
の材料から構成されてもよい。
の材料から構成されてもよい。
【0103】本発明の磁気ヘッドを、酸化鉄を主成分と
する連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体に対して
用いる場合、基体20は、ビッカース硬度1000以
上、特に1000〜3000程度のセラミックス材料か
ら構成されることが好ましい。このように構成すること
により、本発明の効果はさらに顕著となる。
する連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体に対して
用いる場合、基体20は、ビッカース硬度1000以
上、特に1000〜3000程度のセラミックス材料か
ら構成されることが好ましい。このように構成すること
により、本発明の効果はさらに顕著となる。
【0104】ビッカース硬度1000以上のセラミック
ス材料としては、Al2 O3 −TiCを主成分とするセ
ラミックス、ZrO2 を主成分とするセラミックス、S
iCを主成分とするセラミックスまたはAlNが好適で
ある。また、これらには、添加物としてMg、Y、Zr
O2 、TiO2 等が含有されていてもよい。
ス材料としては、Al2 O3 −TiCを主成分とするセ
ラミックス、ZrO2 を主成分とするセラミックス、S
iCを主成分とするセラミックスまたはAlNが好適で
ある。また、これらには、添加物としてMg、Y、Zr
O2 、TiO2 等が含有されていてもよい。
【0105】これらのうち、本発明に特に好適なもの
は、Al2 O3 −TiCを主成分とするセラミックス、
SiCを主成分とするセラミックスまたはAlNを主成
分とするセラミックスであり、これらのうち最も好適な
ものは、酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関
係が最適であることから、Al2 O3 −TiCを主成分
とするセラミックスである。
は、Al2 O3 −TiCを主成分とするセラミックス、
SiCを主成分とするセラミックスまたはAlNを主成
分とするセラミックスであり、これらのうち最も好適な
ものは、酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関
係が最適であることから、Al2 O3 −TiCを主成分
とするセラミックスである。
【0106】下部および上部磁極層41、45の材料と
しては、従来公知のものはいずれも使用可能であり、例
えばパーマロイ、センダスト、Co系非晶質磁性合金等
を用いることができる。
しては、従来公知のものはいずれも使用可能であり、例
えばパーマロイ、センダスト、Co系非晶質磁性合金等
を用いることができる。
【0107】磁極は通常、図示のように下部磁極層41
および上部磁極層45として設けられ、下部磁極層41
および上部磁極層45の間にはギャップ層50が形成さ
れる。
および上部磁極層45として設けられ、下部磁極層41
および上部磁極層45の間にはギャップ層50が形成さ
れる。
【0108】ギャップ層50は、Al2 O3 、SiO2
等公知の材料であってよい。
等公知の材料であってよい。
【0109】これら磁極層41、45およびギャップ層
50のパターン、膜厚等は公知のいずれのものであって
もよい。
50のパターン、膜厚等は公知のいずれのものであって
もよい。
【0110】さらに、図示例ではコイル層60は、いわ
ゆるスパイラル型として、スパイラル状に上部および下
部磁極層41、45間に配設されており、コイル層60
と上部および下部磁極層41、45間には絶縁層33、
35が設層されている。
ゆるスパイラル型として、スパイラル状に上部および下
部磁極層41、45間に配設されており、コイル層60
と上部および下部磁極層41、45間には絶縁層33、
35が設層されている。
【0111】また下部磁極層41と基体21間には絶縁
層31が設層されている。
層31が設層されている。
【0112】絶縁層の材料としては従来公知のものはい
ずれも使用可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法
により行なうときには、SiO2 、ガラス、Al2 O3
等を用いることができる。
ずれも使用可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法
により行なうときには、SiO2 、ガラス、Al2 O3
等を用いることができる。
【0113】また、上部磁極45上には保護層70が設
層されている。保護層の材料としては従来公知のものは
いずれも使用可能であり、例えばAl2 O3 等を用いる
ことができる。また、これらに各種樹脂コート層等を積
層してもよい。
層されている。保護層の材料としては従来公知のものは
いずれも使用可能であり、例えばAl2 O3 等を用いる
ことができる。また、これらに各種樹脂コート層等を積
層してもよい。
【0114】このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製
造工程は、通常、薄膜作成とパターン形成とから構成さ
れる。
造工程は、通常、薄膜作成とパターン形成とから構成さ
れる。
【0115】上記各層を構成する薄膜の作成には、上記
したように、従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着
法、スパッタ法、あるいはメッキ法等を用いればよい。
したように、従来公知の気相被着法、例えば真空蒸着
法、スパッタ法、あるいはメッキ法等を用いればよい。
【0116】浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成
は、従来公知の選択エッチングあるいは選択デポジショ
ンにより行なうことができる。エッチングとしてはウェ
ットエッチングやドライエッチングを用いることができ
る。
は、従来公知の選択エッチングあるいは選択デポジショ
ンにより行なうことができる。エッチングとしてはウェ
ットエッチングやドライエッチングを用いることができ
る。
【0117】このような浮上型磁気ヘッドは、アーム等
の従来公知のアセンブリーと組み合わせて使用される。
の従来公知のアセンブリーと組み合わせて使用される。
【0118】これら、本発明の磁気記録媒体、特に磁気
ディスクを用いて記録再生を行うには、ディスクを回転
させながら、磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う。
ディスクを用いて記録再生を行うには、ディスクを回転
させながら、磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う。
【0119】ディスク回転数は2000〜6000rpm
程度、特に2000〜4000rpmとする。
程度、特に2000〜4000rpmとする。
【0120】また、浮上量は0.2μm 以下、特に0.
15μm 以下、さらには0.1μm以下、例えば0.0
1〜0.09μm とすることができ、このとき良好な浮
上特性およびCSS耐久性を得ることができる。
15μm 以下、さらには0.1μm以下、例えば0.0
1〜0.09μm とすることができ、このとき良好な浮
上特性およびCSS耐久性を得ることができる。
【0121】浮上量の調整は、スライダ巾や、ヘッド荷
重をかえることによって行う。
重をかえることによって行う。
【0122】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 [実施例1] 〈γ-Fe2O3磁性薄膜を有する磁気ディスクの作製〉外径
130mm、内径40mm、厚さ1.9mmのアルミノケイ酸
ガラス基板を研磨し、さらに化学強化処理を施した。化
学強化処理は、450℃の溶融硝酸カリウムに10時間
浸漬することにより行なった。
する。 [実施例1] 〈γ-Fe2O3磁性薄膜を有する磁気ディスクの作製〉外径
130mm、内径40mm、厚さ1.9mmのアルミノケイ酸
ガラス基板を研磨し、さらに化学強化処理を施した。化
学強化処理は、450℃の溶融硝酸カリウムに10時間
浸漬することにより行なった。
【0123】次いで、このガラス基板表面をメカノケミ
カルポリッシングにより平滑化した。
カルポリッシングにより平滑化した。
【0124】メカノケミカルポリッシングには、コロイ
ダルシリカを含む研磨液を用いた。研磨後のガラス基板
の表面粗さ(Rmax )は50A であった。
ダルシリカを含む研磨液を用いた。研磨後のガラス基板
の表面粗さ(Rmax )は50A であった。
【0125】メカノケミカルポリッシング後に、ガラス
基板を洗浄した。
基板を洗浄した。
【0126】洗浄された各ガラス基板表面に、下記のよ
うにして磁性薄膜を形成した。
うにして磁性薄膜を形成した。
【0127】まず、Feをターゲットとし、Ar:O2
=90:10の10-3Torrの雰囲気中において反応性ス
パッタを行ない、2000A のマグネタイト(Fe3O4)薄
膜を成膜した。
=90:10の10-3Torrの雰囲気中において反応性ス
パッタを行ない、2000A のマグネタイト(Fe3O4)薄
膜を成膜した。
【0128】次に、空気中で310℃にて1時間酸化を
行ない、γ-Fe2O3の磁性薄膜とした。
行ない、γ-Fe2O3の磁性薄膜とした。
【0129】さらに、磁性層上に潤滑膜を成膜した。
【0130】潤滑膜は、分子量2000の下記の化合物
の0.1wt% 溶液を用いて、スピンコート法により厚さ
20A に成膜して形成した。この潤滑膜表面の水との接
触角(水を滴下して30秒後)は、100°であった。
の0.1wt% 溶液を用いて、スピンコート法により厚さ
20A に成膜して形成した。この潤滑膜表面の水との接
触角(水を滴下して30秒後)は、100°であった。
【0131】
【化1】
【0132】このディスク表面のRmax は100A であ
った。
った。
【0133】このようにして得られた磁気ディスクサン
プルNo.1について、下記の磁気ヘッドを使用して、
下記のCSS耐久性、吸着および浮上安定性の測定を行
なった。
プルNo.1について、下記の磁気ヘッドを使用して、
下記のCSS耐久性、吸着および浮上安定性の測定を行
なった。
【0134】(1)使用磁気ヘッド
ビッカース硬度2200のAl2O3-TiC 基体上に薄膜磁気
ヘッド素子を形成した後、磁気ヘッド形状に加工し、支
持バネ(ジンバル)に取りつけ、空気ベアリング型の浮
上型磁気ヘッドを作製した。
ヘッド素子を形成した後、磁気ヘッド形状に加工し、支
持バネ(ジンバル)に取りつけ、空気ベアリング型の浮
上型磁気ヘッドを作製した。
【0135】浮揚面のRmax は130A であった。
【0136】フライングハイトは、スライダ幅、ジンバ
ル荷重を調整し、0.05μm 、0.1μm および0.
22μm になるようにした。
ル荷重を調整し、0.05μm 、0.1μm および0.
22μm になるようにした。
【0137】(2)CSS耐久性
上記磁気ヘッドを使用し、25℃、相対湿度50%およ
び5℃、相対湿度50%にて、CSS試験を行なった。
び5℃、相対湿度50%にて、CSS試験を行なった。
【0138】CSSは図3に示すサイクルの繰り返しで
行なった。CSS耐久性は、記録再生出力が初期の半分
以下になるまでのCSS回数で測定し、下記の5段階評
価を行った。
行なった。CSS耐久性は、記録再生出力が初期の半分
以下になるまでのCSS回数で測定し、下記の5段階評
価を行った。
【0139】
◎:10万回以上
○:5万回以上10万回未満
△:2万回以上5万回未満
×:1万回以上2万回未満
××:1万回未満
【0140】(3)吸着
30℃、相対湿度70%にて、磁気ヘッドを媒体表面に
載置して放置後、媒体を起動して、吸着の状態を評価し
た。評価は以下のとおりである。
載置して放置後、媒体を起動して、吸着の状態を評価し
た。評価は以下のとおりである。
【0141】
○:吸着なし
△:起動できたが、起動トルクが必要であった。
×:起動不能
【0142】(4)浮上安定性
アコースティックエミッション(AE)センサにて、ヘ
ッド、磁性薄膜の衝突音を検出し、浮上安定性を評価し
た。評価は下記のとおりである。
ッド、磁性薄膜の衝突音を検出し、浮上安定性を評価し
た。評価は下記のとおりである。
【0143】
○:安定浮上、AE出力なし
△:AE出力検出
×:AE出力が測定レンジのスケールオーバー
【0144】表1、表2および表3のとおり、ガラス基
板とディスクの磁性薄膜側表面とのRmax をかえ、0.
1μm 、0.05μm および0.22μm のそれぞれの
浮上量にて表1、表2および表3に示される結果を得
た。
板とディスクの磁性薄膜側表面とのRmax をかえ、0.
1μm 、0.05μm および0.22μm のそれぞれの
浮上量にて表1、表2および表3に示される結果を得
た。
【0145】なお、磁性薄膜のRmax は、磁性薄膜の大
気中熱処理の温度および時間を表1、表2および表3に
示されるようにかえて調製した。
気中熱処理の温度および時間を表1、表2および表3に
示されるようにかえて調製した。
【0146】
【表1】
【0147】
【表2】
【0148】
【表3】
【0149】表1に示される浮上量0.1μm の場合に
は本発明のガラス基板および媒体表面のRmax を選択す
ると、吸着が発生せず、しかも浮上安定性が確保され、
しかも低温、常温ともきわめて高いCSS耐久性を示
す。
は本発明のガラス基板および媒体表面のRmax を選択す
ると、吸着が発生せず、しかも浮上安定性が確保され、
しかも低温、常温ともきわめて高いCSS耐久性を示
す。
【0150】これに対し、ガラス基板および媒体表面の
Rmax がいずれか一方でも本発明の範囲外となると、特
に低温でのCSS耐久性が臨界的に劣化してしまう。
Rmax がいずれか一方でも本発明の範囲外となると、特
に低温でのCSS耐久性が臨界的に劣化してしまう。
【0151】このような効果は、表2に示される浮上量
0.05μm の場合にはより一層顕著となり、ガラス基
板および媒体表面のRmax がいずれか一方でも本発明の
範囲外となると、CSS耐久性におけるCSS回数は常
温、低温とも50%以上、特に著しい場合にはCSS回
数で1桁以上低下する。
0.05μm の場合にはより一層顕著となり、ガラス基
板および媒体表面のRmax がいずれか一方でも本発明の
範囲外となると、CSS耐久性におけるCSS回数は常
温、低温とも50%以上、特に著しい場合にはCSS回
数で1桁以上低下する。
【0152】なお、表3に示される浮上量0.22μm
の場合では、このようなRmax の効果は、それほど顕著
ではないことがわかる。
の場合では、このようなRmax の効果は、それほど顕著
ではないことがわかる。
【0153】さらに、サンプルNo.1について、各浮
上量における再生出力が半分になる記録密度D50(KFCI/
Kilo Flux Change per Inch)を下記表4に示す。
上量における再生出力が半分になる記録密度D50(KFCI/
Kilo Flux Change per Inch)を下記表4に示す。
【0154】
【表4】
【0155】表4に示される結果から、浮上量を0.2
μm 以下、特に0.1μm 以下とすると記録密度が格段
と向上し、このような高密度記録において、本発明はき
わめて好ましい結果を与えることがわかる。
μm 以下、特に0.1μm 以下とすると記録密度が格段
と向上し、このような高密度記録において、本発明はき
わめて好ましい結果を与えることがわかる。
【0156】以上から、本発明の効果が明らかである。
【0157】[実施例2]
<Co−Ni合金磁性層を有する磁気ディスクの作製>
実施例1の各サンプルに用いたガラス基板上に、中間
層、磁性層、保護膜および潤滑膜を順次形成し、磁気デ
ィスクサンプルを得た。
実施例1の各サンプルに用いたガラス基板上に、中間
層、磁性層、保護膜および潤滑膜を順次形成し、磁気デ
ィスクサンプルを得た。
【0158】中間層はCr薄膜であり、Ar雰囲気中で
Crをターゲットとしてスパッタ法により3000A 厚
に形成した。
Crをターゲットとしてスパッタ法により3000A 厚
に形成した。
【0159】磁性層はCo−Ni合金薄膜であり、Ar
雰囲気中でCo−20%Ni合金をターゲットとしてス
パッタ法により500A 厚に形成した。
雰囲気中でCo−20%Ni合金をターゲットとしてス
パッタ法により500A 厚に形成した。
【0160】保護膜はカーボン薄膜であり、スパッタ法
により150A に形成した。
により150A に形成した。
【0161】潤滑膜は実施例1と同じものを用いた。
【0162】なお、保護膜成膜後、200〜400℃に
て1〜5時間熱処理を行い、種々のRmax をもつディス
クを得た。
て1〜5時間熱処理を行い、種々のRmax をもつディス
クを得た。
【0163】これらの磁気ディスクサンプルについて、
実施例1と同様な測定を行なったところ、実施例1と同
様な結果が得られた。
実施例1と同様な測定を行なったところ、実施例1と同
様な結果が得られた。
【0164】
【発明の効果】本発明によれば低浮上量にて良好な浮上
安定性がえられ、また吸着の発生がなく、きわめて高い
CSS耐久性がえられる。
安定性がえられ、また吸着の発生がなく、きわめて高い
CSS耐久性がえられる。
【図1】本発明の磁気記録媒体の部分断面図である。
【図2】本発明に用いる磁気ヘッドの部分断面図であ
る。
る。
【図3】CSS試験におけるCSS1サイクルのプロフ
ィールを示すグラフである。
ィールを示すグラフである。
1 磁気記録媒体
2 ガラス基板
3 磁性薄膜
10 磁気ヘッド
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 江▲崎▼ 城一朗
東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ
ィーディーケイ株式会社内
(56)参考文献 特開 昭63−175219(JP,A)
特開 昭62−43819(JP,A)
特開 昭63−209082(JP,A)
特開 昭62−256214(JP,A)
特開 昭62−256215(JP,A)
特開 昭62−256216(JP,A)
特開 昭59−193580(JP,A)
特開 昭61−222024(JP,A)
特開 昭64−55702(JP,A)
特開 昭64−89018(JP,A)
Claims (4)
- 【請求項1】 磁気ディスクを回転し、この磁気ディス
ク上に磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う磁気記録
再生方法において、 前記磁気ディスクがガラス基板上に磁性薄膜を有し、 このガラス基板の表面粗さRmax が45〜80A であ
り、 前記磁気ディスクの磁性薄膜側表面粗さRmax が90〜
150A であり、 前記磁気ヘッドの浮上量が0.2μm 以下であり、 前記磁気ヘッドのフロント面のRmax が200A 以下で
ある磁気記録再生方法。 - 【請求項2】 前記磁性薄膜側表面粗さを熱処理により
得る請求項1の磁気記録再生方法。 - 【請求項3】 前記磁性薄膜上に、水との接触角が70
°以上の潤滑膜を有する請求項1または2の磁気記録再
生方法。 - 【請求項4】 前記磁性薄膜が磁性酸化鉄膜であり、ガ
ラス基板表面に形成されている請求項1〜3のいずれか
の磁気記録再生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09407698A JP3492908B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 磁気記録再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09407698A JP3492908B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 磁気記録再生方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1110390A Division JP2816472B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10228601A JPH10228601A (ja) | 1998-08-25 |
JP3492908B2 true JP3492908B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=14100414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09407698A Expired - Lifetime JP3492908B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | 磁気記録再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3492908B2 (ja) |
-
1998
- 1998-03-23 JP JP09407698A patent/JP3492908B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10228601A (ja) | 1998-08-25 |
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