JP3473108B2 - Holder positioning method - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、イオンドーピング装置（非質量分離型イオン注入装
置）、イオンビームエッチング装置等のようにイオンビ
ームを用いて基板を処理するイオン処理装置、更にはそ
の他の装置に用いられるものであって、基板を保持した
ホルダを、定常回転速度で回転させた後にその回転方向
の原点位置に位置決めするホルダ位置決め方法に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】図３は、イオン注入装置の一例を部分的
に示す図である。このイオン注入装置は、基板１８にイ
オンビーム６を照射してイオン注入を行うための処理室
２と、それに真空弁８を介して隣接されていて、基板１
８を搬送する搬送ロボット（図示省略。但し、１２はそ
のアームを示す。）が設けられた搬送室１０とを備えて
おり、処理室２の側壁部には、イオンビーム６を水平方
向に射出するイオン源４が取り付けられている。 【０００３】処理室２内には、基板１８を保持するもの
であって、ホルダベース２１、環状のクランパー２２、
圧縮コイルばね２３、複数の支持ピン２４を有するホル
ダ２０が設けられている。基板１８およびホルダ２０の
平面形状は、例えば矩形であるがそれに限らない。 【０００４】基板１８へのイオン注入は、基板１８に対
するパーティクル（微小なゴミ）付着防止等のために、
図３に示すようにホルダ２０をほぼ垂直状態に立てて行
い、注入前後の基板１８の搬送は、図４に示すようにホ
ルダ２０をほぼ水平状態に戻してアーム１２によって行
う。そのため、ホルダ２０はチルト軸２８に支持されて
おり、このチルト軸２８は処理室２外のサーボモータ５
０によってベルト５４を介して矢印Ｅのように約９０度
往復回転させられる。２６は真空シール部である。 【０００５】また、基板１８に対する注入均一性を向上
させるために、注入中はホルダ２０を例えば矢印Ｆ方向
に回転させる。そのため、ホルダ２０は回転軸３４に支
持されており、この回転軸３４は処理室２外のサーボモ
ータ４０によって、回転軸３０および１対１のギヤ比の
傘歯車３２、３３を介して回転させられる。３６は真空
シール部である。 【０００６】両サーボモータ４０および５０は、制御装
置６４からドライバ６０および６２を経由して与えられ
る駆動パルスによって回転させられ、その原点位置を含
む回転位置は、位置検出器４２および５２によってそれ
ぞれ検出され、制御装置６４にフィードバックされる。
位置検出器４２および５２は、例えばエンコーダであ
る。 【０００７】回転軸３０には、スリット（図示省略）を
有する円板４６が取り付けられており、その近傍に設け
た第１の近点センサ４８によって、ホルダ２０の矢印Ｆ
方向の回転位置がその予め定められた原点位置の手前近
くに来たことを検出する。近点センサ４８は、例えばフ
ォトセンサである。傘歯車３２、３３のギヤ比が１対１
であるため、円板４６の回転位置とホルダ２０の回転位
置は１対１の関係にある。 【０００８】チルト軸２８には、スリット（図示省略）
を有する円板５６が取り付けられており、その近傍に設
けた第２の近点センサ５８によって、ホルダ２０の矢印
Ｅ方向のチルト位置がその予め定められた原点位置の手
前近くに来たことを検出する。近点センサ５８は、例え
ばフォトセンサである。 【０００９】ホルダ２０は、基板１８への注入時は前述
したように回転させている。そのため、注入後は、アー
ム１２等による基板１８の搬送に都合が良いように、ホ
ルダ２０をその回転方向の原点位置に位置決めしなけれ
ばならない。これは、基板１８が矩形の場合に限らず、
基板１８が円形等の場合においても、ホルダ２０の支持
ピン２４とアーム１２とが衝突しないようにする等の理
由から必要である。 【００１０】そのための従来のホルダ位置決め方法を、
主として図５を参照して説明する。なお、この図５およ
び後述する図１に示すような制御は、制御装置６４によ
って行われる。 【００１１】まずホルダ２０の回転を開始し、定常回転
速度（例えば３０ｒｐｍ）に達したら、一定時間Ｔ
₁ （例えば１秒）だけ余裕を見て、ホルダ２０上の基板
１８にイオンビーム６を照射してイオン注入を開始す
る。 【００１２】基板１８に対する注入量（ドーズ量）は、
ホルダ２０の近傍に設けたファラデーカップ６５で計測
するイオンビーム６のビーム電流を用いてビーム電流積
算器６６によって積算されており、規定のドーズ量に達
すると、このビーム電流積算器６６から注入完了信号Ｓ
₁ が出力され、イオン注入を終了する。この注入完了信
号Ｓ₁ は、この例ではホルダ２０の回転停止を指令する
停止指令信号としても使用されており、それが出された
後一定時間Ｔ₁ （例えば１秒）だけ余裕を見てサーボモ
ータ４０に駆動パルスを与えるのを止め、ホルダ２０の
回転駆動を切る。これによって、ホルダ２０は惰性回転
後に停止する。この停止位置は不定である。なぜなら、
注入完了信号Ｓ₁ が出力されるタイミングは、イオンビ
ーム６のビーム電流、基板１８に対するドーズ量等によ
って異なり不定だからである。 【００１３】その後、ホルダ２０を定常回転速度よりも
低速の原点復帰速度（例えば５ｒｐｍ）で回転させ、近
点センサ４８がオンしてそれから検出信号Ｓ₂ が出力さ
れると、更に低速のクリープ速度（１ｒｐｍ）でホルダ
２０を回転させ、サーボモータ４０の位置検出器４２か
ら原点信号Ｓ₃ が出力されると、サーボモータ４０に駆
動パルスを与えるのを止め、これによってホルダ２０の
原点復帰、即ちホルダ２０の回転方向の位置決めが完了
する。 【００１４】なお、原点復帰動作時に、ホルダ２０を原
点復帰速度とクリープ速度という２段階の速度で回転さ
せるのは、ホルダ２０の原点位置への位置決め精度をよ
り高めるためである。 【００１５】 【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な従来のホルダ位置決め方法においては、注入完了後に
ホルダ２０を一旦停止させるときに、前述したような理
由から、ホルダ２０がその回転方向（０度〜３６０度）
の内のどこに停止するかが定まっておらず、時には例え
ば図６中に２点鎖線で示すように、近点センサオン位置
Ｂを少し過ぎた所で停止する場合もある。なお、図６中
に実線で示すホルダ２０は、その原点位置Ａで停止した
状態を示す。 【００１６】ホルダ２０が２点鎖線で示すような位置に
停止した場合は、近点センサオン位置Ｂまでホルダ２０
を原点復帰速度（例えば前述したように５ｒｐｍ）で３
６０度近く回転させなければならず、それには約１２
（＝６０×１／５）秒もかかってしまう。そのため、従
来のホルダ位置決め方法では、ホルダ２０を回転方向の
原点位置に位置決めするのに要する位置決め時間が長く
かかり、しかもホルダ２０が一旦停止する位置が不定で
あるため、この位置決め時間のばらつきが非常に大きい
という問題がある。 【００１７】ちなみに、ホルダ２０の位置決め時間が長
くかかると、次の基板搬送動作に速やかに入れないの
で、イオン注入装置等の装置のスループットが低下す
る。 【００１８】そこでこの発明は、ホルダの原点位置への
位置決め時間を短縮することができ、かつ当該時間のば
らつきを小さくすることができるホルダ位置決め方法を
提供することを主たる目的とする。 【００１９】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のホルダ位置決め方法は、基板を保持する
回転式のホルダを定常回転速度で回転させた後にその回
転方向の原点位置に位置決めするに際し、ホルダの回転
位置がその原点位置の手前近くに来たことを検出する近
点センサを用い、ホルダの回転停止を指令する停止指令
信号を受けた後、近点センサから検出信号が出力されか
つその後一定時間が経過するまで、ホルダを定常回転速
度で回転させ、その後ホルダの回転駆動を切ってホルダ
を一旦停止させ、このときの停止位置が近点センサによ
る検出位置の手前近くになるように前記一定時間を予め
設定しておき、そして前記一旦停止後更に、定常回転速
度よりも低速でホルダを回転させてその原点位置に位置
決めすることを特徴とする。 【００２０】 【作用】上記方法によれば、停止指令信号を受けた後、
その停止指令信号がどのようなタイミングで出されて
も、ホルダが常に近点センサによる検出位置の手前近く
で一旦停止するように、ホルダは定常回転速度でしばら
く回転させられる。従って、一旦停止後に更に行う低速
の位置決め動作は、短時間で、かつほぼ一定の時間で終
了する。 【００２１】しかも、上記の停止指令信号を受けた後に
ホルダをそれが所定位置に停止するように回転させると
きの速度は、その後の位置決め速度よりも高速の定常回
転速度であるので、その回転に要する時間は短くて済
み、かつ停止指令信号が出されるタイミングの違いによ
る当該時間のばらつきも小さい。 【００２２】これらの結果、ホルダの原点位置への位置
決め時間を短縮することができ、かつ当該時間のばらつ
きを小さくすることができる。 【００２３】 【実施例】図１は、この発明に係るホルダ位置決め方法
の一例を示すタイムチャートである。以下においては図
５の従来例との相違点を主に説明する。また、この位置
決め方法を実施する装置の構成は、例えば先に図３で説
明したものと同様であるので、それを参照するものと
し、ここではその重複説明を省略する。 【００２４】まず、従来例の場合と同様に、ホルダ２０
の回転を開始し、定常回転速度（例えば前述したように
３０ｒｐｍ）に達したら、一定時間Ｔ₁ （例えば前述し
たように１秒）だけ余裕を見て、ホルダ２０上の基板１
８にイオンビーム６を照射してイオン注入を開始する。 【００２５】規定のドーズ量に達すると、ビーム電流積
算器６６から注入完了信号Ｓ₁ （この信号はこの例では
前述したようにホルダ２０の停止を指令する停止指令信
号としても使用されている）が出力されるが、その後
は、従来のように一定時間Ｔ₁だけ待って停止動作に入
るのではなく、近点センサ４８がオンしてそれから検出
信号Ｓ₂ が出力され、かつその後、予め定められた一定
時間Ｔ₂ が経過するまで、ホルダ２０を定常回転速度で
回転させ、その後サーボモータ４０に駆動パルスを与え
るのを止め、ホルダ２０の回転駆動を切る。これによっ
て、ホルダ２０は惰性回転後に一旦停止する。 【００２６】このときのホルダ２０の一旦停止位置Ｃ
が、図２中に２点鎖線で示すように、近点センサオン位
置（即ち近点センサ４８がオンしてそれから検出信号Ｓ
₂ が出力される位置）Ｂの手前近くになるように、予め
実験等によって上記一定時間Ｔ ₂ を決定し、これを制御
装置６４に設定しておく。例えば、近点センサオン位置
Ｂから一旦停止位置Ｃまでの回転速度θが３５５度程度
になるように一定時間Ｔ₂ を予め設定しておく。このよ
うなことは、ホルダ２０の定常回転速度が一定であり、
かつホルダ２０を回転させる機械系の慣性モーメントお
よび摩擦力等もほぼ一定であるので、一旦停止位置Ｃが
多少ばらつくとしても可能である。 【００２７】ホルダ２０を上記のようにして一旦停止さ
せた後は、従来例と同様にして、原点復帰動作を行う。
即ち、ホルダ２０を定常回転速度よりも低速の原点復帰
速度（例えば前述したように５ｒｐｍ）で回転させ、近
点センサ４８がオンするのを待つ。上記回転角度θが３
５５度程度の場合は、この間の回転角度は５度程度であ
るので、近点センサ４８はすぐにオンする。 【００２８】近点センサ４８がオンすると、更に低速の
クリープ速度（例えば前述したように１ｒｐｍ）でホル
ダ２０を回転させ、サーボモータ４０の位置検出器４２
から原点信号Ｓ₃ が出力されると、サーボモータ４０に
駆動パルスを与えるのを止め、これによってホルダ２０
の原点復帰、即ちホルダ２０の原点位置Ａへの位置決め
が完了する。その状態を図２中に実線で示す。 【００２９】上記方法によれば、注入完了信号Ｓ₁ を受
けた後、その注入完了信号Ｓ₁ がどのようなタイミング
で出されても、ホルダ２０が常に近点センサオン位置Ｂ
の手前近くの位置Ｃで一旦停止するように、ホルダ２０
は定常回転速度でしばらく回転させられる。従って、一
旦停止後に更に行う低速での位置決め動作は、短時間
で、かつほぼ一定の時間で終了する。例えば、原点復帰
開始後、近点センサ４８がオンするまでの時間は、１秒
程度以下となる。 【００３０】しかも、上記の注入完了信号Ｓ₁ を受けた
後にホルダ２０をそれが所定の一旦停止位置Ｃに停止す
るように回転させるときの速度は、その後の原点復帰速
度よりも高速の定常回転速度であるので、その回転に要
する時間は短くて済み、かつ注入完了信号Ｓ₁ が出され
るタイミングの違いによる当該時間のばらつきも小さ
い。 【００３１】これらの結果、ホルダ２０の原点位置への
位置決め時間を短縮することができ、かつ当該時間のば
らつきを小さくすることができる。その結果、このホル
ダ位置決め方法を用いたイオン注入装置等の装置のスル
ープットを向上させることができる。 【００３２】例えば、図１の方法と図５の方法の相違点
を比較すると、図５の場合は、前述したように、注入完
了から回転停止動作に入るまでの一定時間Ｔ₁ は約１秒
であり、原点復帰速度で回転させる最大時間は約１２秒
であり、両者の合計は最大で約１３秒になる。これに対
して、図１の場合は、最長の場合を考えて、近点センサ
オン位置Ｂの直後に注入完了信号Ｓ₁ が出されたとする
と、それから回転停止動作に入るまでにホルダ２０は３
０ｒｐｍで１回転以上（但し２回転未満）するから、こ
れを１．５回転と仮定するとその間の時間は約３（＝６
０×１．５／３０）秒であり、原点復帰速度で回転させ
る時間は前述したように１秒以下であるから、両者の合
計は最大で約４秒になる。従って、この実施例によれ
ば、位置決め時間を従来例に比べて最大で約９秒短縮す
ることができる。 【００３３】なお、上記例ではビーム電流積算器６６か
ら出力される注入完了信号Ｓ₁ をホルダ２０の回転を停
止させる停止指令信号として用いているが、それ以外の
信号を停止指令信号としても良い。例えば、上位の制御
装置から制御装置６４に停止指令信号を与えても良い。 【００３４】また、以上はこのホルダ位置決め方法を図
３に示したようなイオン注入装置に用いた例を示した
が、このホルダ位置決め方法は、その他のイオン注入装
置、あるいは前述したようなイオン処理装置、更にはそ
の他の装置に広く用いることができる。 【００３５】 【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、停止指
令信号を受けた後、ホルダが常に近点センサによる検出
位置の手前近くで一旦停止するように、ホルダを定常回
転速度でしばらく回転させるようにしたので、ホルダの
原点位置への位置決め時間を短縮することができ、かつ
当該時間のばらつきを小さくすることができる。その結
果、このホルダ位置決め方法を用いた装置のスループッ
トを向上させることができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
, Ion doping equipment (non-mass separation type ion implantation equipment
), Ion beam etching equipment, etc.
Ion processing equipment that processes substrates using
Is used for other devices, and holds a substrate.
After rotating the holder at a steady rotation speed, the rotation direction
Related to the holder positioning method for positioning the
You. [0002] 2. Description of the Related Art FIG. 3 shows an example of an ion implantation apparatus partially.
FIG. This ion implantation device
Processing chamber for performing ion implantation by irradiating on-beam 6
2 and the substrate 1 adjacent thereto via a vacuum valve 8
A transfer robot (not shown; 12 is provided)
Of the arm. ) Provided with a transfer chamber 10
The ion beam 6 is placed horizontally on the side wall of the processing chamber 2.
An ion source 4 that emits in the opposite direction is attached. The processing chamber 2 holds a substrate 18 therein.
A holder base 21, an annular clamper 22,
A holder having a compression coil spring 23 and a plurality of support pins 24
A damper 20 is provided. Of the substrate 18 and the holder 20
The planar shape is, for example, a rectangle, but is not limited thereto. [0004] Ion implantation into the substrate 18 is
In order to prevent particles (fine dust) from adhering,
As shown in FIG. 3, the holder 20 is set up almost vertically.
The transfer of the substrate 18 before and after the injection is performed as shown in FIG.
The cylinder 20 is returned to a substantially horizontal state, and
U. Therefore, the holder 20 is supported by the tilt shaft 28
The tilt shaft 28 is connected to the servo motor 5 outside the processing chamber 2.
0 through the belt 54 about 90 degrees as shown by the arrow E
Reciprocating rotation. 26 is a vacuum seal part. [0005] In addition, the uniformity of implantation into the substrate 18 is improved.
During the injection, the holder 20 is moved, for example, in the direction of arrow F.
Rotate to. Therefore, the holder 20 is supported by the rotating shaft 34.
The rotating shaft 34 is provided with a servo motor outside the processing chamber 2.
The rotating shaft 30 and the gear ratio of 1: 1
It is rotated via bevel gears 32 and 33. 36 is vacuum
It is a seal part. [0006] Both servo motors 40 and 50 have a control device.
Provided from the driver 64 via the drivers 60 and 62
Is rotated by the drive pulse
The rotational position is determined by the position detectors 42 and 52.
Each is detected and fed back to the control device 64.
The position detectors 42 and 52 are, for example, encoders.
You. The rotating shaft 30 has a slit (not shown).
Disk 46 is attached and provided near it.
Arrow F of the holder 20 by the first near point sensor 48
The rotational position in the direction is close to the predetermined origin position.
Detect that you came. The near point sensor 48 is, for example,
Photo sensor. Gear ratio of bevel gears 32 and 33 is 1: 1
Therefore, the rotational position of the disk 46 and the rotational position of the holder 20 are
The positions are in a one-to-one relationship. The tilt shaft 28 has a slit (not shown).
A disk 56 having
The second proximity point sensor 58 allows the arrow
The tilt position in the E direction is the hand of the predetermined origin position.
Detect that you are near. The near point sensor 58 is, for example,
For example, it is a photo sensor. [0009] The holder 20 is described above when it is injected into the substrate 18.
Rotating as you did. Therefore, after injection,
In order to facilitate the transfer of the substrate 18 by the
The cylinder 20 must be positioned at the origin in the direction of rotation.
Must. This is not limited to the case where the substrate 18 is rectangular,
Even when the substrate 18 has a circular shape or the like, the holder 20 can be supported.
Reasons such as preventing collision between the pin 24 and the arm 12
Necessary for some reason. [0010] A conventional holder positioning method for that purpose is as follows.
This will be mainly described with reference to FIG. FIG. 5 and FIG.
The control as shown in FIG.
It is done. First, the rotation of the holder 20 is started, and the
When the speed (for example, 30 rpm) is reached, a certain time T
₁(For example, for 1 second)
Irradiation of the ion beam 6 with 18 starts ion implantation.
You. The injection amount (dose amount) to the substrate 18 is
Measured with a Faraday cup 65 provided near the holder 20
Current product using the beam current of the ion beam 6
Accumulated by the calculator 66 and reaches the specified dose
Then, the injection completion signal S from the beam current integrator 66 is output.
₁Is output to terminate the ion implantation. This injection completion signal
No. S₁Commands the rotation stop of the holder 20 in this example.
Also used as a stop command signal, it was issued
After a certain time T₁(For example, 1 second)
Of the holder 20 is stopped.
Turn off the rotary drive. As a result, the holder 20 rotates by inertia.
Stop later. This stop position is undefined. Because
Injection completion signal S₁Is output at the ion beam
Beam 6 and the dose to the substrate 18
Because it is indefinite. After that, the holder 20 is moved to a speed lower than the steady rotational speed.
Rotate at a low origin return speed (for example, 5 rpm)
When the point sensor 48 is turned on, the detection signal S_TwoIs output
The holder at a lower creep speed (1 rpm)
20 is rotated, and the position detector 42 of the servomotor 40 is
Origin signal S_ThreeIs output to the servo motor 40
To stop the application of the dynamic pulse,
Return to origin, that is, positioning of the holder 20 in the rotation direction is completed
I do. Note that the holder 20 is not
Rotation at two speeds, point return speed and creep speed
The reason for this is to improve the positioning accuracy of the holder 20 to the home position.
It is to raise. [0015] However, as described above,
Conventional conventional holder positioning method,
When the holder 20 is temporarily stopped, the above-described processing is performed.
For this reason, the direction of rotation of the holder 20 (0 to 360 degrees)
Where to stop is not fixed, sometimes even
For example, as shown by a two-dot chain line in FIG.
In some cases, the vehicle stops just after B. Note that in FIG.
Is stopped at its origin position A.
Indicates the status. When the holder 20 is in a position shown by a two-dot chain line,
When stopped, the holder 20 is moved to the near point sensor ON position B.
At the origin return speed (for example, 5 rpm as described above).
Must be rotated close to 60 degrees, which is about 12
It takes (= 60 ×）) seconds. Therefore,
In the conventional holder positioning method, the holder 20 is rotated in the rotation direction.
Long positioning time required for positioning at the home position
And the position where the holder 20 temporarily stops is undefined.
Because of this, the variation of this positioning time is very large
There is a problem. Incidentally, the positioning time of the holder 20 is long.
Do not enter the next board transfer operation immediately
Reduces the throughput of an apparatus such as an ion implantation apparatus.
You. Therefore, the present invention provides a method for adjusting the position of the holder to the home position.
Positioning time can be reduced, and
Holder positioning method that can reduce fluctuation
Its primary purpose is to provide. [0019] Means for Solving the Problems To achieve the above object,
Therefore, the holder positioning method of the present invention holds the substrate
After rotating the rotary holder at a steady rotational speed,
Rotation of the holder when positioning to the home position in the rotation direction
Near to detect that the position is near the origin position
Stop command to stop rotation of holder using point sensor
After receiving the signal, is the detection signal output from the near point sensor?
The holder at a constant rotational speed until a certain time elapses.
And then turn off the drive to rotate the holder.
Is temporarily stopped, and the stop position at this time is determined by the near point sensor.
The predetermined time is set in advance so that
After setting, and after the stop,
Rotate the holder at a speed lower than the degree and place it at its home position
It is characterized by deciding. [0020] According to the above method, after receiving the stop command signal,
At what timing the stop command signal is issued
Is always near the position detected by the near point sensor
Hold the holder at a steady rotational speed
Rotated. Therefore, low speed that is performed once after stopping
Positioning operation can be completed in a short time and almost constant time.
Complete. Moreover, after receiving the above stop command signal,
When you rotate the holder so that it stops in place
Speed is higher than the subsequent positioning speed.
The rotation speed is short, so the time required for the rotation is short.
And when the stop command signal is issued
The variation in the time is small. As a result, the position of the holder to the origin position
Decided time can be shortened and the time varies
Can be reduced. [0023] 1 shows a holder positioning method according to the present invention.
6 is a time chart showing an example of the above. In the following the figure
5 will be mainly described below. Also, this position
The configuration of the device for implementing the determination method is described, for example, earlier in FIG.
It is the same as the one described,
Here, the duplicate description is omitted. First, as in the case of the conventional example, the holder 20
Start rotating at a steady rotational speed (for example, as described above)
30rpm), a certain time T₁(For example,
(1 second) as shown in FIG.
8 is irradiated with the ion beam 6 to start ion implantation. When the specified dose is reached, the beam current product
The injection completion signal S from the arithmetic unit 66₁(This signal is
The stop command signal for commanding the stop of the holder 20 as described above.
Is also output), but then
Is a fixed time T₁Just wait and enter stop operation
Rather, the near point sensor 48 turns on and then detects
Signal S_TwoIs output, and thereafter, a predetermined constant
Time T_TwoThe holder 20 is rotated at a steady rotational speed until
And then apply a drive pulse to the servomotor 40
The rotation of the holder 20 is stopped. By this
Thus, the holder 20 temporarily stops after the inertial rotation. The temporary stop position C of the holder 20 at this time
However, as shown by a two-dot chain line in FIG.
(That is, the near point sensor 48 is turned on and then the detection signal S
_TwoIs output).
The above-mentioned fixed time T _TwoDetermine and control this
It is set in the device 64. For example, near point sensor ON position
The rotation speed θ from B to the temporary stop position C is about 355 degrees
Constant time T so that_TwoIs set in advance. This
That is, the steady rotation speed of the holder 20 is constant,
And the moment of inertia of the mechanical system for rotating the holder 20
And the frictional force and the like are almost constant.
It is possible even if there is some variation. The holder 20 is once stopped as described above.
After that, the origin return operation is performed in the same manner as in the conventional example.
That is, the holder 20 is returned to the home position at a speed lower than the steady rotation speed.
Rotate at speed (eg 5 rpm as described above)
Wait for the point sensor 48 to turn on. The rotation angle θ is 3
In the case of about 55 degrees, the rotation angle during this period is about 5 degrees.
Therefore, the near point sensor 48 is immediately turned on. When the near point sensor 48 is turned on, a lower speed
Hold at creep speed (eg, 1 rpm as described above).
The servo motor 40 is rotated by the
From origin signal S_ThreeIs output to the servo motor 40
The application of the drive pulse is stopped.
Of origin, that is, positioning of the holder 20 to the origin position A
Is completed. This state is shown by a solid line in FIG. According to the above method, the injection completion signal S₁Receiving
After the injection, the injection completion signal S₁What timing
The holder 20 is always at the near point sensor ON position B
So that the holder 20 temporarily stops at a position C near this side.
Is rotated at a steady rotational speed for a while. Therefore, one
The positioning operation at low speed that is performed after the
And ends in a substantially constant time. For example, return to origin
After starting, the time until the near point sensor 48 is turned on is 1 second.
Or less. In addition, the injection completion signal S₁Received
Later, the holder 20 is stopped at a predetermined temporary stop position C.
The speed at which the motor is rotated
Speed is higher than the normal rotation speed.
And the injection completion signal S₁Is issued
Time variation due to differences in the timing
No. As a result, the position of the holder 20 relative to the home position is
Positioning time can be reduced, and
Fluctuation can be reduced. As a result,
Of an apparatus such as an ion implantation apparatus using a positioning method.
Put can be improved. For example, the difference between the method of FIG. 1 and the method of FIG.
5 shows that in the case of FIG.
Time T from the end to the start of rotation stop operation₁Is about 1 second
The maximum time to rotate at the home return speed is about 12 seconds
And the total of both is about 13 seconds at the maximum. Against this
Then, in the case of FIG. 1, considering the longest case,
Immediately after the ON position B, the injection completion signal S₁Is issued
And the holder 20 is 3
Because it rotates more than 1 rotation at 0 rpm (but less than 2 rotations),
Assuming that this is 1.5 rotations, the time between them is about 3 (= 6
0 × 1.5 / 30) sec.
As described above, the time is less than 1 second,
The total is up to about 4 seconds. Therefore, according to this embodiment,
For example, the positioning time can be reduced by up to about 9 seconds compared to the conventional example.
Can be In the above example, the beam current integrator 66
Complete signal S output from₁Stop rotation of holder 20
It is used as a stop command signal to stop
The signal may be a stop command signal. For example, upper control
A stop command signal may be given from the device to the control device 64. Further, the above is a description of this holder positioning method.
An example of use in an ion implanter as shown in FIG.
However, this method of positioning the holder depends on other ion implantation equipment.
Or an ion treatment device as described above, or
Can be widely used for other devices. [0035] As described above, according to the present invention, the stop finger
Holder always detects by near point sensor after receiving command signal
Rotate the holder so that it stops temporarily before the position.
It was rotated for a while at the rotation speed, so the holder
Positioning time to the home position can be reduced, and
Variations in the time can be reduced. The result
As a result, the throughput of the apparatus using this holder positioning method is reduced.
Can be improved.

【図面の簡単な説明】 【図１】この発明に係るホルダ位置決め方法の一例を示
すタイムチャートである。 【図２】ホルダの回転位置の一例を示す図である。 【図３】イオン注入装置の一例を部分的に示す図であ
る。 【図４】ホルダを水平状態にした図である。 【図５】従来のホルダ位置決め方法の一例を示すタイム
チャートである。 【図６】ホルダ回転位置の他の例を示す図である。 【符号の説明】 ４ イオン源 ６ イオンビーム １８ 基板 ２０ ホルダ ４０ サーボモータ ４２ 位置検出器 ４６ 円板 ４８ 近点センサ ６４ 制御装置 ６６ ビーム電流積算器BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a time chart showing an example of a holder positioning method according to the present invention. FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a rotational position of a holder. FIG. 3 is a diagram partially showing an example of an ion implantation apparatus. FIG. 4 is a view showing a holder in a horizontal state. FIG. 5 is a time chart showing an example of a conventional holder positioning method. FIG. 6 is a diagram showing another example of a holder rotation position. [Description of Signs] 4 Ion source 6 Ion beam 18 Substrate 20 Holder 40 Servo motor 42 Position detector 46 Disk 48 Proximity sensor 64 Controller 66 Beam current integrator

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−309967（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−308084（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−78841（ＪＰ，Ａ) 特公 平３−2949（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平５−77746（ＪＰ，Ｂ２) 実公 平３−48648（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C23C 14/50 H01L 21/68 Continuation of the front page (56) References JP-A-1-309967 (JP, A) JP-A-4-308084 (JP, A) JP-A-5-78841 (JP, A) JP-A-3-2949 (JP) , B2) Japanese Patent Publication No. 5-77746 (JP, B2) Japanese Utility Model Publication No. 3-48648 (JP, Y2) (58) Fields investigated (Int. Cl. ⁷ , DB name) C23C 14/50 H01L 21/68

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板を保持する回転式のホルダを定常回
転速度で回転させた後にその回転方向の原点位置に位置
決めするに際し、ホルダの回転位置がその原点位置の手
前近くに来たことを検出する近点センサを用い、ホルダ
の回転停止を指令する停止指令信号を受けた後、近点セ
ンサから検出信号が出力されかつその後一定時間が経過
するまで、ホルダを定常回転速度で回転させ、その後ホ
ルダの回転駆動を切ってホルダを一旦停止させ、このと
きの停止位置が近点センサによる検出位置の手前近くに
なるように前記一定時間を予め設定しておき、そして前
記一旦停止後更に、定常回転速度よりも低速でホルダを
回転させてその原点位置に位置決めすることを特徴とす
るホルダ位置決め方法。(57) [Claim 1] When a rotary holder for holding a substrate is rotated at a steady rotational speed and then positioned at the origin position in the rotation direction, the rotation position of the holder is changed to the origin position. After receiving a stop command signal for commanding to stop the rotation of the holder using a near point sensor that detects that it is near the front of the holder, until the detection signal is output from the near point sensor and a certain time has elapsed thereafter, the holder Is rotated at a steady rotational speed, and then the rotation of the holder is turned off to temporarily stop the holder.The predetermined time is set in advance so that the stop position at this time is near the position detected by the near point sensor. And a step of rotating the holder at a speed lower than the steady rotational speed after the suspension and positioning the holder at its original position.